JPH0747515B2 - メタライズ用組成物 - Google Patents
メタライズ用組成物Info
- Publication number
- JPH0747515B2 JPH0747515B2 JP61227752A JP22775286A JPH0747515B2 JP H0747515 B2 JPH0747515 B2 JP H0747515B2 JP 61227752 A JP61227752 A JP 61227752A JP 22775286 A JP22775286 A JP 22775286A JP H0747515 B2 JPH0747515 B2 JP H0747515B2
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- JP
- Japan
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- metal layer
- single crystal
- weight
- lithium niobate
- metallized metal
- Prior art date
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はセラミック体にメタライズ金属層を形成するた
めのメタライズ用組成物に関し、より詳細にはニオブ酸
リチウム（LiNbO3）単結晶表面にメタライズ金属層を形
成するためのメタライズ用組成物に関するものである。
めのメタライズ用組成物に関し、より詳細にはニオブ酸
リチウム（LiNbO3）単結晶表面にメタライズ金属層を形
成するためのメタライズ用組成物に関するものである。
従来、セラミック体と金属の接合は生もしくは焼結セラ
ミック体表面に、モリブデン−マンガン（Mo-Mn）、タ
ングステン（Ｗ）等の高融点金属粉末に有機バインダー
及び溶剤を添加し、ペースト状となしたものをスクリー
ン印刷により塗布し、これを還元雰囲気中、約1500℃で
焼成して高融点金属とセラミック体とを焼結一体化させ
メタライズ金属層を被着させる（Mo-Mn法）とともに該
メタライズ金属層上に金属をロウ材を介しロウ付けする
ことによって行われている。
ミック体表面に、モリブデン−マンガン（Mo-Mn）、タ
ングステン（Ｗ）等の高融点金属粉末に有機バインダー
及び溶剤を添加し、ペースト状となしたものをスクリー
ン印刷により塗布し、これを還元雰囲気中、約1500℃で
焼成して高融点金属とセラミック体とを焼結一体化させ
メタライズ金属層を被着させる（Mo-Mn法）とともに該
メタライズ金属層上に金属をロウ材を介しロウ付けする
ことによって行われている。
しかし乍ら、電気エネルギーを機械エネルギーに変換さ
せる振動子に使用されるセラミックとして、ニオブ酸リ
チウム（LiNbO3）単結晶があり、該ニオブ酸リチウム
（LiNbO3）単結晶表面にリード端子等をロウ付けするた
めのメタライズ金属層を従来周知のMo-Mn法を採用して
被着形成させた場合、メタライズ金属層の焼付け温度が
約1500℃であり、ニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶の
キューリ点温度（1150℃）よりも高いことから、その熱
によってニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶が圧電性を
欠ない振動子等としての使用に供しなくなるという欠点
を有していた。
せる振動子に使用されるセラミックとして、ニオブ酸リ
チウム（LiNbO3）単結晶があり、該ニオブ酸リチウム
（LiNbO3）単結晶表面にリード端子等をロウ付けするた
めのメタライズ金属層を従来周知のMo-Mn法を採用して
被着形成させた場合、メタライズ金属層の焼付け温度が
約1500℃であり、ニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶の
キューリ点温度（1150℃）よりも高いことから、その熱
によってニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶が圧電性を
欠ない振動子等としての使用に供しなくなるという欠点
を有していた。
またメタライズ金属層を焼付ける際の雰囲気が還元性で
あることから該雰囲気によってニオブ酸リチウム（LiNb
O3）単結晶が還元され脆くなり、小さな外力印加によっ
ても粉々になるという欠点を有していた。
あることから該雰囲気によってニオブ酸リチウム（LiNb
O3）単結晶が還元され脆くなり、小さな外力印加によっ
ても粉々になるという欠点を有していた。
本発明者等は上記欠点に鑑み種々の実験の結果、銀（A
g）と銅（Cu）にチタンもしくはその水素化物を所定量
添加するとメタライズ金属層の焼付け温度及び雰囲気を
ニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶のキューリ点温度
（1150℃）よりも低い温度で、かつ中性もしくは不活性
の雰囲気を使用することを可能とし、しかもニオブ酸リ
チウム（LiNbO3）単結晶に強固に接合し得ることを知見
した。
g）と銅（Cu）にチタンもしくはその水素化物を所定量
添加するとメタライズ金属層の焼付け温度及び雰囲気を
ニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶のキューリ点温度
（1150℃）よりも低い温度で、かつ中性もしくは不活性
の雰囲気を使用することを可能とし、しかもニオブ酸リ
チウム（LiNbO3）単結晶に強固に接合し得ることを知見
した。
本発明は上記知見に基づき、ニオブ酸リチウム（LiNb
O3）単結晶表面に該ニオブ酸リチウム単結晶の圧電性を
損なうことなくメタライズ金属層を強固に被着形成させ
ることができるメタライズ用組成物を提供することをそ
の目的とするものである。
O3）単結晶表面に該ニオブ酸リチウム単結晶の圧電性を
損なうことなくメタライズ金属層を強固に被着形成させ
ることができるメタライズ用組成物を提供することをそ
の目的とするものである。
本発明のメタライズ用組成物は銀（Ag）28.0乃至90.0重
量％と銅4.0乃至57.0重量％とチタンもしくはその水素
化物5.0乃至30.0重量％とから成ることを特徴とするも
のである。
量％と銅4.0乃至57.0重量％とチタンもしくはその水素
化物5.0乃至30.0重量％とから成ることを特徴とするも
のである。
本発明のメタライズ用組成物においては銀（Ag）の量が
28.0重量％未満あるいは90.0重量％以上、銅（Cu）の量
が4.0重量％未満あるいは57.0重量％以上であるとメタ
ライズ金属層の熱膨張係数とニオブ酸リチウム単結晶の
熱膨張係数とが大きく相違し、メタライズ金属層を焼付
ける際に前記熱膨張係数の相違に起因してメタライズ金
属層に応力が発生し、メタライズ金属層の接合強度が低
下する。
28.0重量％未満あるいは90.0重量％以上、銅（Cu）の量
が4.0重量％未満あるいは57.0重量％以上であるとメタ
ライズ金属層の熱膨張係数とニオブ酸リチウム単結晶の
熱膨張係数とが大きく相違し、メタライズ金属層を焼付
ける際に前記熱膨張係数の相違に起因してメタライズ金
属層に応力が発生し、メタライズ金属層の接合強度が低
下する。
またチタン（Ti）もしくはその水素化物（TiH2）は銀
（Ag）と銅（Cu）の合金をセラミックに強固に接合させ
るための成分であり、その量が5.0重量％未満であると
前記性質は付与されず、また30.0重量％以上であるとチ
タン（Ti）がニオブ酸リチウム単結晶の表面と反応し脆
弱な化合物を生成してメタライズ金属層の接合強度が低
下する。
（Ag）と銅（Cu）の合金をセラミックに強固に接合させ
るための成分であり、その量が5.0重量％未満であると
前記性質は付与されず、また30.0重量％以上であるとチ
タン（Ti）がニオブ酸リチウム単結晶の表面と反応し脆
弱な化合物を生成してメタライズ金属層の接合強度が低
下する。
よって、本発明のメタライズ用組成物においては銀（A
g）は28.0乃至90.0重量％の範囲に、銅（Cu）は4.0乃至
57.0重量％の範囲に、またチタン（Ti）もしくはその水
素化物（TiH2）は5.0乃至30.0重量％の範囲にそれぞれ
特定される。
g）は28.0乃至90.0重量％の範囲に、銅（Cu）は4.0乃至
57.0重量％の範囲に、またチタン（Ti）もしくはその水
素化物（TiH2）は5.0乃至30.0重量％の範囲にそれぞれ
特定される。
次に本発明を実施例に基づき説明する。
まず、出発原料として粒径1.0μｍの銀（Ag）、銅（C
u）、チタン（Ti）もしくはその水素化物（TiH2）を下
表に示すように秤量し、これに有機バインダー、溶剤を
添加するとともに混練機で10時間混練し、メタライズ用
ペーストの試料を得た。
u）、チタン（Ti）もしくはその水素化物（TiH2）を下
表に示すように秤量し、これに有機バインダー、溶剤を
添加するとともに混練機で10時間混練し、メタライズ用
ペーストの試料を得た。
なお試料番号22及び23は本発明品と比較するための比較
試料であり、従来一般に使用されているメタライズ用ペ
ーストである。
試料であり、従来一般に使用されているメタライズ用ペ
ーストである。
かくして得られたメタライズ用ペーストを使用してニオ
ブ酸リチウム（LiNbO3）の表面に直径5mmの円形状のパ
ターン50個を印刷し、次にこれを下表に示す焼付け条件
で焼成し、ニオブ酸リチウム単結晶表面にメタライズ金
属層を被着させる。
ブ酸リチウム（LiNbO3）の表面に直径5mmの円形状のパ
ターン50個を印刷し、次にこれを下表に示す焼付け条件
で焼成し、ニオブ酸リチウム単結晶表面にメタライズ金
属層を被着させる。
そして、次に前記各メタライズ金属層に直径5mm、長さ2
0mmのキュプロニッケル（Cu-Ni合金）から成る円柱体を
銀ロウを介してロウ付けし、しかる後、キュプロニッケ
ル円柱体を垂直方向に引張り、単位面積当たりの接合強
度を調べその平均値を求めた。
0mmのキュプロニッケル（Cu-Ni合金）から成る円柱体を
銀ロウを介してロウ付けし、しかる後、キュプロニッケ
ル円柱体を垂直方向に引張り、単位面積当たりの接合強
度を調べその平均値を求めた。
上記の結果を下表に示す。
〔発明の効果〕 上記実験結果からも判るように従来のメタライズ用組成
物（Mo-Mn,W）を使用したメタライズ金属層は還元雰囲
気中、1500℃というニオブ酸リチウム単結晶のキュリー
点温度より高い温度で焼付けられることからニオブ酸リ
チウム単結晶の有する圧電性が完全に失われて振動子等
の使用に供しなくなるのに対し、本発明品のメタライズ
用組成物を使用したメタライズ金属層はニオブ酸リチウ
ム単結晶のキュリー点温度よりも低い温度で焼付けられ
ニオブ酸リチウム単結晶に圧電性を損なわせることな
く、かつ3.0Kg/mm2以上の接合強度で被着させることが
できる。
物（Mo-Mn,W）を使用したメタライズ金属層は還元雰囲
気中、1500℃というニオブ酸リチウム単結晶のキュリー
点温度より高い温度で焼付けられることからニオブ酸リ
チウム単結晶の有する圧電性が完全に失われて振動子等
の使用に供しなくなるのに対し、本発明品のメタライズ
用組成物を使用したメタライズ金属層はニオブ酸リチウ
ム単結晶のキュリー点温度よりも低い温度で焼付けられ
ニオブ酸リチウム単結晶に圧電性を損なわせることな
く、かつ3.0Kg/mm2以上の接合強度で被着させることが
できる。
特に、銀（Ag）50.0乃至72.0重量％、銅（Cu）17.0乃至
36.0重量％、チタン（Ti）もしくはその水素化物（Ti
H2）10.0乃至15.0重量％から成るメタライズ用組成物を
使用したメタライズ金属層はその接合強度が5.0Kg/mm2
以上と極めて強く、ニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶
表面にメタライズ金属層を形成するメタライズ用組成物
として好適である。
36.0重量％、チタン（Ti）もしくはその水素化物（Ti
H2）10.0乃至15.0重量％から成るメタライズ用組成物を
使用したメタライズ金属層はその接合強度が5.0Kg/mm2
以上と極めて強く、ニオブ酸リチウム（LiNbO3）単結晶
表面にメタライズ金属層を形成するメタライズ用組成物
として好適である。
従って、本発明のメタライズ用組成物は電気エネルギー
を機械エネルギーに変換する振動子等として使用される
ニオブ酸リチウム単結晶表面にリード端子等をロウ付け
するためのメタライズ金属層の形成に極めて有用であ
る。
を機械エネルギーに変換する振動子等として使用される
ニオブ酸リチウム単結晶表面にリード端子等をロウ付け
するためのメタライズ金属層の形成に極めて有用であ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】ニオブ酸リチウム単結晶表面にメタライズ
金属層を形成するためのメタライズ用組成物であって、
銀28.0乃至90.0重量％と、銅4.0乃至57.0重量％とチタ
ンもしくはその水素化物5.0乃至30.0重量％とから成る
ことを特徴とするメタライズ用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61227752A JPH0747515B2 (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | メタライズ用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61227752A JPH0747515B2 (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | メタライズ用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6385077A JPS6385077A (ja) | 1988-04-15 |
| JPH0747515B2 true JPH0747515B2 (ja) | 1995-05-24 |
Family
ID=16865817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61227752A Expired - Fee Related JPH0747515B2 (ja) | 1986-09-25 | 1986-09-25 | メタライズ用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0747515B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5450059B2 (ja) * | 2007-04-25 | 2014-03-26 | 株式会社東芝 | マグネトロン用ステムおよびそれを用いたマグネトロン並びにマグネトロン用ステムの製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5051511A (ja) * | 1973-09-10 | 1975-05-08 | ||
| JPS5940792B2 (ja) * | 1980-07-25 | 1984-10-02 | 出崎 友也 | 金属酸化物の表面金属化方法 |
| JPS6163503A (ja) * | 1984-09-04 | 1986-04-01 | Osamu Kimura | 微粉チタン合金を用いた金属酸化物の表面金属化方法 |
-
1986
- 1986-09-25 JP JP61227752A patent/JPH0747515B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6385077A (ja) | 1988-04-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |