JPH0740276A - 被処理物移送用の吸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 吸引盤の面積より小さい面積で且つ多くの開
口部や通孔がある被処理物でも確実に吸着して移送す
る。 【構成】 ガイドレールに移動自在に懸架された筐体に
はコンプレッサで作動するエアシリンダを設け、エアシ
ンダのプランジャ下端にはブロアで吸引される偏平な筐
体状の吸引盤を設け、吸引盤の下壁は球弁を遊嵌した弁
孔を有する中板と、円形小孔を有する弁座を形成した上
板と、方形孔を設けた下板とを重合して多数の弁機構を
設けたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は被処理物移送用吸着装置
に関し、特に投入部に移送配置された被処理物を吸着し
て持上げ、移送して受取部に下降配置し、次の処理加工
に対処し得る吸着装置に関するものである。

【０００２】

【従来技術】従来電気工学及び機械工学的に自動制御さ
れて移動しながら被処理物を処理加工してゆくシステム
や機構中の移送乃至搬送手段は多くのものが提案されて
いる。移送のための吸着手段はローラコンベアやベルト
コンベアに比較して迅速に走行移動し、受取部の定位置
に位置決め配置し、次の処理加工を即座になすことがで
きる。そして、吸着手段を電子的に制御作動させるため
に高価な附属設備を必要とない。吸着手段で移送される
被処理物は通常偏平筐体、金属板、電子回路基板、紙そ
の他多くのものがある。

【０００３】従来、移送のための吸着装置はガイドレー
ルに移動自在に筐体を懸架し筐体にはプランジャを有す
るエアシリンダと複数の昇降ガイド杆を設け、プランジ
ャ下端とガイド杆の下端には偏平筐体状の吸引盤を設け
る。吸引盤の下面には加工中の多孔被処理物を吸引する
ため複数の吸引管を下方に突設し、しかも被処理物の孔
や開口部のない位置に平行移動して吸引管の下端で被処
理物を吸着するものが提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
上記吸着装置においては被処理物が回路素子を搭載して
いない集積回路基板（ベアボード）の如き多数のスルー
ホール（通孔）を有するものである場合、吸引管を取替
えたり吸引管の位置を正確に平行移動して通孔のない位
置に配置することが要請される。この平行移動をして所
望位置に固定する構造は極めて複雑のものとなってお
り、通孔が相互に接近して多数ある場合は吸込管を小径
なものと取替えなければ吸込管の吸込口内に通孔が配置
されて吸着力を低下し、確実に吸着することが出来ない
ようになり、移送後の受取部の所定位置に位置決め配置
することも不充分となり次の処理加工に影響を及ぼすと
いう問題点があった。

【０００５】本発明は従来技術の問題点に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、吸引盤の下面
で直接的に被処理物を吸着し、被処理物が多孔物であっ
たり、吸引盤の面積より極めて小さい面積のものや吸引
盤の下面より張り出した大きい面積のものであっても吸
着して迅速的確に移送し所定の受取位置に配置する吸着
装置を提案しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明はコンプレッサで作動するエアシリンダのプ
ランジャ下端に偏平筐体状の吸引盤が固設され、案内杆
で水平を保持しながら上下動する吸引盤には負圧状態を
発生させるためブロワがホースを介して接続され、吸引
盤の下壁には気体の吸引力を制御する球弁を具えた多数
の弁孔からなる弁機構を設けた吸着装置を提案しようと
するものである。

【０００７】

【作用】吸着装置は製作コストを考慮して公知の電気的
シーケンス制御回路と該回路で作動する駆動素子により
動作させることが好適である。被処理物は加工処理過程
中のものであり通常部品を装着する開口部や配線用孔部
を有する物体である。このような被処理物を酸性液に浸
漬して熱風乾燥する場合などはベルトコンベアで移送さ
れ、光電管とタイマで投入部の所定位置に停止させる。
そして下降してきた吸引盤が被処理物に接触して停止す
ると、ブロワが始動して吸引盤内は負圧となる。そして
下壁に設けた多数の弁機構の弁孔より外気を吸引しよう
とする。弁機構は下壁の円形弁孔に鋼製の球弁を遊装
し、弁孔の上端は円形小孔を有する弁座を形成し、弁孔
下端部は方形孔を形成する。この方形孔は下降した球弁
を係止して脱落を防止すると共に球弁が係止されても隅
角部より常時気体が流通するようにしたものである。弁
機構をもうけた下壁はその製作を簡易にするため、弁座
を形成した上板と、球弁を遊嵌する弁孔を具えた中板
と、方形孔を有する下板とを別個に形成してこれを重合
することにより下壁を形成することが好ましい。

【０００８】吸引盤が接触して吸引しようとする被処理
物の開口や孔部と整合した弁孔や被処理物の周縁より外
側に配設された弁機構は外気の吸引力で球弁を上昇させ
弁座を閉鎖することにより外気の流入を阻止する。一
方。被処理物の上面の孔部のない位置に接触した弁孔は
外気が流入しないか、極く少量の外気しか流入しないの
で重い球弁を押し上る力がなく弁座は閉鎖されない。こ
れにより被処理物を吸引し続けて吸着する。

【０００９】被処理物を吸着した吸引盤はエアシリンダ
により上昇し、それから、ガイドレールに沿って走行し
たのち、受取部に下降するとブロアガ停止して、被処理
物は所定位置に配置される。配置された被処理物は次の
加工処理がなされる。

【００１０】

【実施例】実施例について図面を参照して説明する。図
１において、長方形状の複数の枠体１の１側縦枠２より
上下一対の腕木３を突設し、腕木３の案内レール４には
滑動自在に装着した案内ローラ５を介して筐体６が配設
される。筐体６の底壁７の中心部にはプランジャ８を有
するエアシリンダ９を設ける。プランジャ８はコンプレ
ッサ（図示せず）に接続された撓曲性ホース１０の圧縮
空気が一対の電磁弁を介して上下動する。プランジャ８
下端には偏平で方形状筐体からなる吸引盤１１の上壁１
２の中央部に取付部材を介して固設される。吸引盤１１
に起立した複数のガイド杆１３は筐体６の底壁にもうけ
た案内筒１４を挿通しているので吸引盤１１を水平状態
で上下動する。吸引盤１１の上壁１２には更にブロワ
（図示せず）の空気吸入側に接続された撓曲性ホース１
５が接続される。吸引盤１１の周壁１６下端縁部に配設
された下壁１７には多数の弁機構１８を構成する弁孔１
９が穿設されている。

【００１０】前記枠体１の手前側には支脚２０上端の台
板２１上に通常３個のＶベルト２２を具えたベルトコン
ベア２３が配設される。このベルトコンベア２３で移送
される被処理物２４は本実施例の場合、回路素子が搭載
されていない電子回路基板（ベアボード）である。この
回路基板２４は前の加工過程で酸性液に浸漬して溝を形
成したり、通孔（スルーホール）を形成して乾燥するの
でベルトコンベアを用いることが好適である。

【００１１】ベルトコンベア２３に載置された回路基板
２４は両者の軸心線が整合されていて、コンベア端の投
入部に到ると光電管とタイマーとで定位置に停止する。
この停止信号よりコンプレッサの圧縮空気はエアシリン
ダ９の上端を開放した電磁弁（図示せず）によりプラン
ジャ８を下降させる。これにより下降する吸引盤１１内
は同時にブロワよりホース１５を介して気体が吸引され
て負圧となっている。回路基板２４上面に沿って光電管
と受光管との間に発射された電子ビームを吸引盤が切っ
たとき該吸引盤は停止して回路基板２４を吸着しようと
する。

【００１２】吸引盤１７の下壁１７は図２に示す如く、
多数の弁機構１８を簡易に形成するため、上板２５と中
板２６、下板２７に分割し、これを図３、図４、図５に
示す如く重合する。中板２６には円形の弁孔１９を穿
ち、この弁孔１９には些かに小径の鋼製球弁２９を遊嵌
する。上板２５の弁孔と整合する位置には球弁２９の約
２分の１の径からなる円形小孔３０を有する弁座３１を
形成する。下板２７の弁孔に整合する位置には対角線の
長さが球弁の径より些かに小さい方形孔３２を穿設す
る。この方形孔３２は多角形孔でもよい。そして、図３
に示す如く、各板２５、２６、２７を重合して周壁１６
の下部内周の切欠部３３に嵌入配置する。何れかの弁孔
よりカラー３４を介挿したボルト３５を挿通し、上壁１
２上よりナット３６を螺着して重合した下壁１７を固定
する。

【００１３】図３、図４において、被処理物である回路
基板２４の周縁より外側の弁機構１８ａや通孔３７と整
合した弁機構１８ｂは外気を遮断するものがなく、吸引
力による大きな流入気体で球弁２９は上昇し、弁座３１
に係合して孔部３０を閉鎖する。

【００１４】図３、図５において、回路基板２４の通孔
３７と整合していない弁機構１８ｃ，１８ｄは回路基板
が下壁１７と密着しているか些かな隙間しかないので、
外気と遮断されていて、流入外気は極めて微弱である。
これにより球弁２９ｃ，２９ｄは自重で下降して方形孔
３２の各辺の中央部で係止される。そして球弁２９、２
９ｃ，２９ｄは下壁より下側への脱落が防止されると共
に流入する微弱な外気は方形孔の隅角部分より常時流通
するものである。このように弁機構の多数の開放された
弁孔からの吸引力で回路基板２４は下壁１７下面に吸着
される。

【００１５】上記の如く、吸引盤１１の下壁１７で回路
基板２４を設定された２秒程度のタイマ作動中に吸着す
ると、電磁弁によりコンプレッサの圧縮空気はエアシリ
ンダ９の下端部に供給されて、吸引盤１１は上昇する。
吸引盤が上限位置に達するとリミットスイッチにより電
磁弁が開放して水平に配設された長大なエアシリンダが
作動し、案内レール４に沿って他端位置まで走行移動す
る。その位置でリミットスイッチにより電磁弁が開放さ
れエアシリンダ９の上端に圧縮空気が供給されて吸引盤
は下降する。そして台またはコンベアの受取部に達する
と光電管と受光管により停止し、ブロワの吸気も停止す
る。このとき、すべての弁機構の球弁２９は下降して方
形孔３２に係止され、回路基板２４は受取部の所定位置
に配置される。このようにして移送を終了した吸引盤は
前記投入部へ帰還する一方、回路基板は次の処理加工の
ために移動するか、他の吸引盤が吸着移送してきた保護
紙を回路基板上に配置するなどの処置をする。

【００１６】

【効果】本発明は、上述のとおり構成されているので、
次に記載する効果を奏する。

【００１７】吸引盤の下壁に設けた多数の吸引孔は弁機
構に形成していて被処理物の開口部やその外側部に配設
されている弁機構は自動的に閉鎖され、開口部のない被
処理物面に配置される弁機構の弁孔は被処理物を吸引し
て、吸着するので、被処理物の大きさや形状に配慮する
ことなく単に吸引盤を接触するだけで吸着移送作業が自
動的になされ、処理加工の能率化を計ることができる。

【００１８】吸引盤の下壁に多数の弁機構を形成するた
め、球弁を遊嵌する弁孔を穿設した中板と、円形小孔を
形成して弁座を有する上板と、常時気体を流通させなが
ら球弁を係止する方形乃至多角形状の孔を有する下板と
を重合して下壁を構成するもので構造が極めて単純であ
り、製作が容易であるばかりでなく、堅牢であって長期
の使用に耐えることができる。しかも、損傷したときは
分解して手軽に部材を取り替えることが可能であるなど
有益な効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】移送機構に設けた吸着装置とコンベア上に被処
理物を配置した状態を示す概略正面図である。

【図２】吸引盤の分解斜視図である。

【図３】被処理物を吸着する吸引盤の部分拡大断面図で
ある。

【図４】球弁が弁座を閉鎖した状態を示す弁機構の要部
拡大断面図である。

【図５】球弁が方形孔に係止されて被処理物を吸着しよ
うとする状態を示す弁機構の要部拡大断面図である。

【符号の説明】

１ 枠体 ３ 腕木 ４ 案内レール ７ 筐体の底壁 ８ プランジャ ９ エアシリンダ １１ 吸引盤 １２ 上壁 １３ ガイド杆 １５ 撓曲性ホース １７ 下壁 １８ 弁機構 １９ 弁孔 ２１ 台板 ２３ ベルトコンベア ２４ 被処理物（回路基板） ２５ 上板 ２６ 中板 ２７ 下板 ２８ 弁孔 ２９ 球弁 ３１ 弁座 ３２ 方形孔

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 移送機構に走行自在に懸架された筐体に
   はプランジャが下向に配置されたエアシリンダを設け、
   該シリンダには撓曲性ホースによってコンプレッサと接
   続し、プランジャ下端には偏平筐体形状の吸引盤が水平
   に設けられ、該吸引盤は撓曲性ホースでブロワに接続
   し、吸引盤の下壁は球弁を遊嵌した多数の弁孔を有する
   中板と、円形小孔を有する弁座を設けた上板と、常時気
   体が流通し且つ球弁を係止する方形孔を設けた下板とを
   重合して多数の弁機構を形成した構成となし、電気的シ
   ーケンス制御回路によって動作するようにしたことを特
   徴とする被処理物移送用の吸着装置。