JPH0739787A - 集塵器 - Google Patents
集塵器Info
- Publication number
- JPH0739787A JPH0739787A JP18455193A JP18455193A JPH0739787A JP H0739787 A JPH0739787 A JP H0739787A JP 18455193 A JP18455193 A JP 18455193A JP 18455193 A JP18455193 A JP 18455193A JP H0739787 A JPH0739787 A JP H0739787A
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- JP
- Japan
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- dust
- plate member
- dust collector
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electrostatic Separation (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】静電気を利用した集塵器において、近傍空間か
らの塵埃を引付け再汚染を起すことないとともに塵埃の
もつ極性の如何にかかわらず被除塵物から塵埃を吸着除
去できる。 【構成】正電荷を帯るプラス帯電部材２の複数個と負電
荷を帯る帯電部材３の複数個とを同一面に設ける板部材
１を有し、帯電によって生ずる電界の及ぼす距離内にこ
の板部材１を除塵物面に近ずけ、被除塵面に付着する塵
埃を引付け吸着する。そして電界の及ぼす距離および電
界強度は、帯電部材の大きさおよび個数によって任意に
制御できることを特徴としている。
らの塵埃を引付け再汚染を起すことないとともに塵埃の
もつ極性の如何にかかわらず被除塵物から塵埃を吸着除
去できる。 【構成】正電荷を帯るプラス帯電部材２の複数個と負電
荷を帯る帯電部材３の複数個とを同一面に設ける板部材
１を有し、帯電によって生ずる電界の及ぼす距離内にこ
の板部材１を除塵物面に近ずけ、被除塵面に付着する塵
埃を引付け吸着する。そして電界の及ぼす距離および電
界強度は、帯電部材の大きさおよび個数によって任意に
制御できることを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被除塵物に接触するこ
となく除塵できる集塵器に関し、特に静電気を利用した
集塵器に関する。
となく除塵できる集塵器に関し、特に静電気を利用した
集塵器に関する。
【０００２】
【従来の技術】図６（ａ）〜（ｃ）は従来の集塵器の例
を示す図である。従来、静電気を用いたこの種の集塵器
は非接触で塵埃を収集できることから、半導体ウェーハ
など精密な電子部品である被除塵物の除塵などに用いら
ていた。例えば、図６（ａ）に示すように、正電荷およ
び負電荷を帯電させたフィルターを積層し、この積層部
材に塵埃を含んだ空気を通過させ、プラスの電気を帯び
た塵埃を負電荷を帯びたフィルターにマイナスの電気を
帯びた塵埃を正電荷を帯びたフィルターにそれぞれ吸着
させ、その他の中性の塵埃はいずれかのフィルターに吸
着させ空気中の塵埃を除去していた。この集塵器は、塵
埃を含む空気を送風する装置を必要とし、装置としては
大掛がりになり使用用途が制限されるものの、塵埃とを
直接接触するか近接するためその集塵効果が高く優れて
いることを特徴としていた。
を示す図である。従来、静電気を用いたこの種の集塵器
は非接触で塵埃を収集できることから、半導体ウェーハ
など精密な電子部品である被除塵物の除塵などに用いら
ていた。例えば、図６（ａ）に示すように、正電荷およ
び負電荷を帯電させたフィルターを積層し、この積層部
材に塵埃を含んだ空気を通過させ、プラスの電気を帯び
た塵埃を負電荷を帯びたフィルターにマイナスの電気を
帯びた塵埃を正電荷を帯びたフィルターにそれぞれ吸着
させ、その他の中性の塵埃はいずれかのフィルターに吸
着させ空気中の塵埃を除去していた。この集塵器は、塵
埃を含む空気を送風する装置を必要とし、装置としては
大掛がりになり使用用途が制限されるものの、塵埃とを
直接接触するか近接するためその集塵効果が高く優れて
いることを特徴としていた。
【０００３】また、上述した集塵器と異なり送風装置を
必要とせず単に静電気を帯びた部材で除塵する方法もあ
る。例えば、その一例として特開昭６１ー１５９７３０
号公報に開示されている方法がある。この方法は、図６
（ｂ）に示すように、針状の工具７にプラスもしくはマ
イナスの電荷を帯電させ、被除塵物である表面が柔かな
フォトマスクの塵埃５を顕微鏡で観察し、工具７を接近
させ塵埃５を吸着し取除く方法である。この方法は柔か
なマスクの表面に疵を付けないように非接触で行なうこ
とを特徴としている。さらに、他の例として特開昭６２
ー５５９３９号公報に開示されている。この方法は、図
６（ｃ）に示すように、プラスまたはマイナスの電荷を
帯電させたウェーハ状部材８をベルト搬送装置で装置内
に搬入し、装置内部の塵埃５を吸着する方法である。こ
の方法は前者と同じように塵埃を吸着して除去する方法
であるが、装置の内壁と被除塵物と間隔が広く内壁の塵
埃の総てを除去することを考量すると、前者の工具に比
べより強力な電荷をウェーハ状部材８にもたせる必要が
ある。
必要とせず単に静電気を帯びた部材で除塵する方法もあ
る。例えば、その一例として特開昭６１ー１５９７３０
号公報に開示されている方法がある。この方法は、図６
（ｂ）に示すように、針状の工具７にプラスもしくはマ
イナスの電荷を帯電させ、被除塵物である表面が柔かな
フォトマスクの塵埃５を顕微鏡で観察し、工具７を接近
させ塵埃５を吸着し取除く方法である。この方法は柔か
なマスクの表面に疵を付けないように非接触で行なうこ
とを特徴としている。さらに、他の例として特開昭６２
ー５５９３９号公報に開示されている。この方法は、図
６（ｃ）に示すように、プラスまたはマイナスの電荷を
帯電させたウェーハ状部材８をベルト搬送装置で装置内
に搬入し、装置内部の塵埃５を吸着する方法である。こ
の方法は前者と同じように塵埃を吸着して除去する方法
であるが、装置の内壁と被除塵物と間隔が広く内壁の塵
埃の総てを除去することを考量すると、前者の工具に比
べより強力な電荷をウェーハ状部材８にもたせる必要が
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
従来の集塵器および除塵方法では、種々の問題点を含ん
でいる。まず、前者のフィルター層を積層した集塵器で
は、空気を送り込む装置を必要とし、小型化が図れない
ことと、設置場所が制限されるという問題がある。ま
た、電荷を帯びた工具を近ずけて塵埃を吸着する除塵方
法は、プラスもしくはマイナスどちらか一方の電気を帯
びているので同極に帯電した塵埃は吸着され難いという
問題がある。さらに、このような小さな工具で塵埃を一
つず吸着することは工数がかかるばかりか作業が煩わし
いという欠点がある。一方、後者の除塵方法は、単一の
極のみの静電気を帯びている場合は、吸着力が距離の二
乗分の一に比例して減少するもののその吸着力は遠くま
でおよび、遠方の塵埃を引き付け吸着途中にある精密部
品などに落下し汚染させる問題を含んでいる。
従来の集塵器および除塵方法では、種々の問題点を含ん
でいる。まず、前者のフィルター層を積層した集塵器で
は、空気を送り込む装置を必要とし、小型化が図れない
ことと、設置場所が制限されるという問題がある。ま
た、電荷を帯びた工具を近ずけて塵埃を吸着する除塵方
法は、プラスもしくはマイナスどちらか一方の電気を帯
びているので同極に帯電した塵埃は吸着され難いという
問題がある。さらに、このような小さな工具で塵埃を一
つず吸着することは工数がかかるばかりか作業が煩わし
いという欠点がある。一方、後者の除塵方法は、単一の
極のみの静電気を帯びている場合は、吸着力が距離の二
乗分の一に比例して減少するもののその吸着力は遠くま
でおよび、遠方の塵埃を引き付け吸着途中にある精密部
品などに落下し汚染させる問題を含んでいる。
【０００５】従って、本発明の目的は、遠方からの塵埃
を引付け再汚染を起すことないとともに塵埃のもつ極性
の如何にかかわらず被除塵物から塵埃を吸着除去できる
集塵器を提供することである。
を引付け再汚染を起すことないとともに塵埃のもつ極性
の如何にかかわらず被除塵物から塵埃を吸着除去できる
集塵器を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、正電荷
を帯電する複数のプラス誘電板部材と負電荷を帯電する
複数のマイナス誘電板部材とを同一面に並べ配置される
塵埃吸着板部材を備え、該誘電板部材の電界が及ぼす距
離以内に被除塵物と該塵埃吸着板部材とを置き該被除塵
物をより塵埃を収集する集塵器である。
を帯電する複数のプラス誘電板部材と負電荷を帯電する
複数のマイナス誘電板部材とを同一面に並べ配置される
塵埃吸着板部材を備え、該誘電板部材の電界が及ぼす距
離以内に被除塵物と該塵埃吸着板部材とを置き該被除塵
物をより塵埃を収集する集塵器である。
【０００７】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【０００８】図１は本発明の集塵器の一実施例を示す平
面図である。この集塵器は、図１に示すように、正電荷
を帯電する複数のプラス帯電部材２と負電荷を帯電する
マイナス帯電部材３とを同一面に並べ配置し構成する板
部材１を有している。
面図である。この集塵器は、図１に示すように、正電荷
を帯電する複数のプラス帯電部材２と負電荷を帯電する
マイナス帯電部材３とを同一面に並べ配置し構成する板
部材１を有している。
【０００９】この集塵器は、例えば、正電荷を誘電する
ナイロン板のプラス帯電部材２と負電荷を誘電するテフ
ロン板のマイナス帯電部材３を互いに側面を接着して一
枚の板部材１に形成するかあるいは図１の板部材１と略
同じかやや小さい絶縁板にプラス帯電部材２とマイナス
帯電部材３を貼付けて組立られる。そして、この板部材
１の吸着面をアセテートなどの布で摩擦し目的の電荷を
帯電させる。
ナイロン板のプラス帯電部材２と負電荷を誘電するテフ
ロン板のマイナス帯電部材３を互いに側面を接着して一
枚の板部材１に形成するかあるいは図１の板部材１と略
同じかやや小さい絶縁板にプラス帯電部材２とマイナス
帯電部材３を貼付けて組立られる。そして、この板部材
１の吸着面をアセテートなどの布で摩擦し目的の電荷を
帯電させる。
【００１０】また、摩擦以外に帯電させる方法として、
公知技術であるエレクトロレット（Ｅｌｅｃｔｒｅｔ）
による方法を用いても良い。例えば、カルナバロウと松
脂の等量混合物を軟化点以上まで加熱したところで、１
０ｋＶ／ｃｍ以上の直流電圧を印加したところで冷却し
て製作される熱エレクトロレットがある。また、このカ
ルナバロウと松脂の等温混合物は、表面電荷が安定した
跡ではプラス電極に接した面にプラス電荷をもち、マイ
ナスの電極に接していた面にマイナスの電荷をもつホモ
エレクトロレットである。その他、ポリ４弗化エチレ
ン、ポリ６弗化プロピレンフィルム表面にコロナ放電さ
せてつくるエレクトロエレクトロレットがある。
公知技術であるエレクトロレット（Ｅｌｅｃｔｒｅｔ）
による方法を用いても良い。例えば、カルナバロウと松
脂の等量混合物を軟化点以上まで加熱したところで、１
０ｋＶ／ｃｍ以上の直流電圧を印加したところで冷却し
て製作される熱エレクトロレットがある。また、このカ
ルナバロウと松脂の等温混合物は、表面電荷が安定した
跡ではプラス電極に接した面にプラス電荷をもち、マイ
ナスの電極に接していた面にマイナスの電荷をもつホモ
エレクトロレットである。その他、ポリ４弗化エチレ
ン、ポリ６弗化プロピレンフィルム表面にコロナ放電さ
せてつくるエレクトロエレクトロレットがある。
【００１１】図２は図１の集塵器における一対の帯電部
材でなる極板数と距離および電界強度の関係を示すグラ
フである。ここで、図１の集塵器である板部材１を分割
してなるプラスおよびマイナスの帯電部材の対数によっ
て電界強度と距離の関係を調査してみた。この結果、図
２に示すように、極板数が増加するにつれ電界の及ぼす
距離が減じ、１０極板になると急激に電界が及ぼす距離
も短くなり面内一定になることが判明した。このこと
は、集塵効果が及ぼす距離を制御できることを示唆して
いる。例えば、プラスおよびマイナスの帯電部材対が１
０対以上になるように板部材１を分割し正負の電荷を帯
電させ集塵器とし、この集塵器の板部材１と半導体ウェ
ーハとを電界が及ぶ距離以内に近ずけ配置すれば、塵埃
が帯電する極性にかかわらず塵埃を吸着できる。また、
電界の及ぼさない空間部からの塵埃を引き付け再汚染を
起すことがない。
材でなる極板数と距離および電界強度の関係を示すグラ
フである。ここで、図１の集塵器である板部材１を分割
してなるプラスおよびマイナスの帯電部材の対数によっ
て電界強度と距離の関係を調査してみた。この結果、図
２に示すように、極板数が増加するにつれ電界の及ぼす
距離が減じ、１０極板になると急激に電界が及ぼす距離
も短くなり面内一定になることが判明した。このこと
は、集塵効果が及ぼす距離を制御できることを示唆して
いる。例えば、プラスおよびマイナスの帯電部材対が１
０対以上になるように板部材１を分割し正負の電荷を帯
電させ集塵器とし、この集塵器の板部材１と半導体ウェ
ーハとを電界が及ぶ距離以内に近ずけ配置すれば、塵埃
が帯電する極性にかかわらず塵埃を吸着できる。また、
電界の及ぼさない空間部からの塵埃を引き付け再汚染を
起すことがない。
【００１２】図３（ａ）および（ｂ）は図１の帯電部材
の形状の変形を示す平面図である。前述の実施例におけ
る帯電部材の形状は矩形であるが、図３（ａ）に示すよ
うに、三角形の形状でも良い、この場合はプラス帯電部
材２とマイナス帯電部材３とを対が一つの正方形に組込
まれ多くの極板数をとれる利点がある。また、図３
（ｂ）に示すように、プラス帯電部材２とマイナス帯電
部材の形状を六角形にすれば、吸着面積効率を高くする
ことができるという利点がある。
の形状の変形を示す平面図である。前述の実施例におけ
る帯電部材の形状は矩形であるが、図３（ａ）に示すよ
うに、三角形の形状でも良い、この場合はプラス帯電部
材２とマイナス帯電部材３とを対が一つの正方形に組込
まれ多くの極板数をとれる利点がある。また、図３
（ｂ）に示すように、プラス帯電部材２とマイナス帯電
部材の形状を六角形にすれば、吸着面積効率を高くする
ことができるという利点がある。
【００１３】図４（ａ）および（ｂ）は図１の集塵器を
マスクケースに適用した例を示す斜視図および断面部分
図である。この露光装置のマスクを保管するマスクケー
スは、図４（ａ）に示すように、箱体１０の底板として
図１の集塵器である板部材１を吸着面を上にして取付
け、箱体１０の開口を塞ぐ蓋９を開閉できるように設け
ている。このマスクケースに使用済みのマスクを保管す
る場合は、マスク面と板部材１とを電界の及ぼす距離以
内に離間して箱体１０に入れ、蓋９を閉め保管すれば、
次回の使用時には完全に塵埃は取り去られている。
マスクケースに適用した例を示す斜視図および断面部分
図である。この露光装置のマスクを保管するマスクケー
スは、図４（ａ）に示すように、箱体１０の底板として
図１の集塵器である板部材１を吸着面を上にして取付
け、箱体１０の開口を塞ぐ蓋９を開閉できるように設け
ている。このマスクケースに使用済みのマスクを保管す
る場合は、マスク面と板部材１とを電界の及ぼす距離以
内に離間して箱体１０に入れ、蓋９を閉め保管すれば、
次回の使用時には完全に塵埃は取り去られている。
【００１４】ちなみに、正方形の帯電部材の一辺の大き
さが２〜１０ｍｍで、プラスの帯電部材をナイロンでマ
イナスの帯電部材をテフロンでそれぞれ製作し板部材１
に組立て、アセテートで吸着面を摩擦して電荷を帯びさ
せ、図４（ａ）に示すように、予じめ１０乃至５０ミク
ロン程度の塵埃５を付着したマスク４を箱体１０に入れ
板部材１とマスク４との間隔を変え塵埃の除去状況を調
査したところ、５ｍｍ程度のときが最適であった。
さが２〜１０ｍｍで、プラスの帯電部材をナイロンでマ
イナスの帯電部材をテフロンでそれぞれ製作し板部材１
に組立て、アセテートで吸着面を摩擦して電荷を帯びさ
せ、図４（ａ）に示すように、予じめ１０乃至５０ミク
ロン程度の塵埃５を付着したマスク４を箱体１０に入れ
板部材１とマスク４との間隔を変え塵埃の除去状況を調
査したところ、５ｍｍ程度のときが最適であった。
【００１５】図５（ａ）および（ｂ）は図１の集塵器を
ウェーハケースに適用した例を示す斜視図および断面図
である。ウェーハを保管するウェーハケースは、図５
（ａ）に示すように、内部に所定の間隔をおいて複数の
溝が形成された棚付き箱体１１である。そしてこの棚付
き箱体１１の溝にウェーハ６と集塵器の板部材１とを交
互に並べ収納し、図５（ｂ）に示すように、板部材１の
吸着面に対応するウェーハ６の面より塵埃５を引付け集
塵する。
ウェーハケースに適用した例を示す斜視図および断面図
である。ウェーハを保管するウェーハケースは、図５
（ａ）に示すように、内部に所定の間隔をおいて複数の
溝が形成された棚付き箱体１１である。そしてこの棚付
き箱体１１の溝にウェーハ６と集塵器の板部材１とを交
互に並べ収納し、図５（ｂ）に示すように、板部材１の
吸着面に対応するウェーハ６の面より塵埃５を引付け集
塵する。
【００１６】このウェーハケースの場合は、出来るだけ
多くのウェーハ６を収納できることを目的としているの
で、帯電部材の大きさは小さくし板部材１とウェーハ６
との間隔を小さくする。ウェーハケースの棚付き箱体１
１におけるウェーハ６の出し入れ口には蓋を設けていな
ので、開口を介して塵埃を引き付けないように許容範囲
内で間隔を狭くする必要がある。ちなみに、間隔が１．
５乃至３ｍｍ程度のウェーハケースを試作したところ、
集塵器の板部材１におけるナイロンおよびテフロンの正
方形状の帯電部材の大きさは０．３から３ｍｍという小
さくする必要があった。
多くのウェーハ６を収納できることを目的としているの
で、帯電部材の大きさは小さくし板部材１とウェーハ６
との間隔を小さくする。ウェーハケースの棚付き箱体１
１におけるウェーハ６の出し入れ口には蓋を設けていな
ので、開口を介して塵埃を引き付けないように許容範囲
内で間隔を狭くする必要がある。ちなみに、間隔が１．
５乃至３ｍｍ程度のウェーハケースを試作したところ、
集塵器の板部材１におけるナイロンおよびテフロンの正
方形状の帯電部材の大きさは０．３から３ｍｍという小
さくする必要があった。
【００１７】以上説明した本発明の実施例では、板状の
集塵器で説明したが、被除塵物が円筒であれば、円筒の
被除塵物を包み内面に吸着面をもつ円筒状板部材にする
ば良い。勿論、被除塵物の表面と吸着面との間隔は電界
が及ぼす間隔以内にする必要がある。また、断面が四角
体であれば、その四つの側面に対面する板部材を四枚で
構成すれば良い。要は、プラスおよびマイナス電荷を帯
びる帯電部材を複数対をもつ板部材を電界が及ぼす範囲
内に被除塵物面に倣って配置すれば、被除塵物の形状の
如何にかかわらず除塵できる。
集塵器で説明したが、被除塵物が円筒であれば、円筒の
被除塵物を包み内面に吸着面をもつ円筒状板部材にする
ば良い。勿論、被除塵物の表面と吸着面との間隔は電界
が及ぼす間隔以内にする必要がある。また、断面が四角
体であれば、その四つの側面に対面する板部材を四枚で
構成すれば良い。要は、プラスおよびマイナス電荷を帯
びる帯電部材を複数対をもつ板部材を電界が及ぼす範囲
内に被除塵物面に倣って配置すれば、被除塵物の形状の
如何にかかわらず除塵できる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、被除塵面
に対して電界の及ぼす範囲内に近ずけ正電荷を帯る帯電
部材と負電荷を帯る帯電部材とを同一面に設けることに
よって、塵埃の極性の如何にかかわらず塵埃を吸着し除
塵できるという効果がある。また、帯電部材の大きさに
および個数によって電界強度および電界の及ぼす距離を
制御することができるので、再汚染を引起す空間の塵埃
を引付けることなく被除塵物に付着する塵埃のみ除塵で
きるという効果がある。
に対して電界の及ぼす範囲内に近ずけ正電荷を帯る帯電
部材と負電荷を帯る帯電部材とを同一面に設けることに
よって、塵埃の極性の如何にかかわらず塵埃を吸着し除
塵できるという効果がある。また、帯電部材の大きさに
および個数によって電界強度および電界の及ぼす距離を
制御することができるので、再汚染を引起す空間の塵埃
を引付けることなく被除塵物に付着する塵埃のみ除塵で
きるという効果がある。
【図１】本発明の集塵器の一実施例を示す平面図であ
る。
る。
【図２】図１の集塵器における一対の帯電部材でなる極
板数と距離および電界強度の関係を示すグラフである。
板数と距離および電界強度の関係を示すグラフである。
【図３】図１の帯電部材の形状の変形を示す平面図であ
る。
る。
【図４】図１の集塵器をマスクケースに適用した例を示
す斜視図および断面部分図である。
す斜視図および断面部分図である。
【図５】図１の集塵器をウェーハケースに適用した例を
示す斜視図および断面図である。
示す斜視図および断面図である。
【図６】従来の集塵器の例を示す図である。
１ 板部材 ２ プラス帯電部材 ３ マイナス帯電部材 ４ マスク ５ 塵埃 ６ ウェーハ ７ 治具 ８ ウェーハ状部材 ９ 蓋 １０ 箱体 １１ 棚付き箱体
Claims (3)
- 【請求項１】 正電荷を帯電する複数のプラス誘電板部
材と負電荷を帯電する複数のマイナス誘電板部材とを同
一面に並べ配置される塵埃吸着板部材を備え、該誘電板
部材の電界が及ぼす距離以内に被除塵物と該塵埃吸着板
部材とを置き該被除塵物をより塵埃を収集することを特
徴とする集塵器。 - 【請求項２】 板状被除塵物を収納するとともに該板被
除塵物の被除塵面に対面する前記塵埃吸着板部材をもつ
箱体を備えることを特徴とする請求項１記載の集塵器。 - 【請求項３】 複数の薄板状の被除塵物と複数の前記塵
埃吸着板部材とを所定の間隔をおいて交互に並べ収納す
る収納棚を備えることを特徴とする請求項１記載の集塵
器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18455193A JP2518528B2 (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 集塵器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18455193A JP2518528B2 (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 集塵器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0739787A true JPH0739787A (ja) | 1995-02-10 |
| JP2518528B2 JP2518528B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=16155186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18455193A Expired - Lifetime JP2518528B2 (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 集塵器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2518528B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2015140A1 (en) * | 2007-07-09 | 2009-01-14 | ASML Netherlands BV | Substrates and methods of using those substrates |
| JP2009103694A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-05-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 物体表面の欠陥検査装置および方法 |
| JP2011044553A (ja) * | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Tokyo Electron Ltd | 加熱処理装置及び熱処理装置 |
| JP2011159939A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Canon Inc | 捕獲器、真空容器、処理装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2017051919A (ja) * | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 集塵装置 |
| CN112420555A (zh) * | 2019-08-23 | 2021-02-26 | 细美事有限公司 | 传送单元和包括该传送单元的基板处理装置 |
-
1993
- 1993-07-27 JP JP18455193A patent/JP2518528B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101155069B1 (ko) * | 2007-07-09 | 2012-06-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기판들 및 그 기판들을 이용하는 방법들 |
| CN102305990A (zh) * | 2007-07-09 | 2012-01-04 | Asml荷兰有限公司 | 衬底和使用该衬底的方法 |
| TWI400577B (zh) * | 2007-07-09 | 2013-07-01 | Asml Netherlands Bv | 基底與使用此等基底的方法 |
| JP2011159986A (ja) * | 2007-07-09 | 2011-08-18 | Asml Netherlands Bv | 基板および装置から汚染を除去する方法 |
| EP2015140A1 (en) * | 2007-07-09 | 2009-01-14 | ASML Netherlands BV | Substrates and methods of using those substrates |
| US8482728B2 (en) | 2007-10-04 | 2013-07-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus and method for inspecting defect on object surface |
| JP2009103694A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-05-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 物体表面の欠陥検査装置および方法 |
| US8760643B2 (en) | 2007-10-04 | 2014-06-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Apparatus and method for inspecting defect in object surface |
| JP2011044553A (ja) * | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Tokyo Electron Ltd | 加熱処理装置及び熱処理装置 |
| JP2011159939A (ja) * | 2010-02-04 | 2011-08-18 | Canon Inc | 捕獲器、真空容器、処理装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2017051919A (ja) * | 2015-09-10 | 2017-03-16 | 株式会社東芝 | 集塵装置 |
| CN112420555A (zh) * | 2019-08-23 | 2021-02-26 | 细美事有限公司 | 传送单元和包括该传送单元的基板处理装置 |
| US11456198B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-09-27 | Semes Co., Ltd. | Transfer unit and substrate treating apparatus including ihe same |
| CN112420555B (zh) * | 2019-08-23 | 2024-09-20 | 细美事有限公司 | 传送单元和包括该传送单元的基板处理装置 |
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| Publication number | Publication date |
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