JPH0739623B2 - 高強度リードフレーム用金属板の製造方法 - Google Patents
高強度リードフレーム用金属板の製造方法Info
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- JPH0739623B2 JPH0739623B2 JP17566489A JP17566489A JPH0739623B2 JP H0739623 B2 JPH0739623 B2 JP H0739623B2 JP 17566489 A JP17566489 A JP 17566489A JP 17566489 A JP17566489 A JP 17566489A JP H0739623 B2 JPH0739623 B2 JP H0739623B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B3/00—Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、強度と熱放散性および電気伝導性のバランス
に優れたリードフレーム用金属板、または銀メッキを省
略して金、銅線のワイヤーボンドを行う技術(以下ベア
ボンベと略す)を可能にする低コストIC、LSI用リード
フレーム用金属板、その他コンデンサなど高強度リード
フレーム用金属板の製造方法に関する。
に優れたリードフレーム用金属板、または銀メッキを省
略して金、銅線のワイヤーボンドを行う技術(以下ベア
ボンベと略す)を可能にする低コストIC、LSI用リード
フレーム用金属板、その他コンデンサなど高強度リード
フレーム用金属板の製造方法に関する。
[従来の技術] IC、LSIなどのリードフレーム材としては、たとえば特
開昭59-198741号公報に記載されている鉄に26〜30重量
%ニッケル、11〜16重量%コバルトを含む合金(コバー
ル合金)、また特開昭60-111447号公報に記載されてい
る鉄に30〜55重量%ニッケルを含む合金(42Ni合金が代
表的成分)等がガラス封止剤やSiと熱膨張特性がマッチ
ングしている理由で用いられているが、コバール合金や
42Ni合金は強度、耐熱性は優れているが、熱・電気伝導
性が悪くコストが高いために近年ICの高集積化に伴う熱
放散性に対する要求から安価で熱・電気伝導性の良い銅
合金への移行が加速している。
開昭59-198741号公報に記載されている鉄に26〜30重量
%ニッケル、11〜16重量%コバルトを含む合金(コバー
ル合金)、また特開昭60-111447号公報に記載されてい
る鉄に30〜55重量%ニッケルを含む合金(42Ni合金が代
表的成分)等がガラス封止剤やSiと熱膨張特性がマッチ
ングしている理由で用いられているが、コバール合金や
42Ni合金は強度、耐熱性は優れているが、熱・電気伝導
性が悪くコストが高いために近年ICの高集積化に伴う熱
放散性に対する要求から安価で熱・電気伝導性の良い銅
合金への移行が加速している。
しかしながら、一般に銅合金は耐熱性ならびに強度が劣
るために、たとえばCA−195合金、あるいは特開昭60-21
8442号公報記載の合金はその欠点を改善するために錫、
鉄、珪素、燐、ニッケル、クロム、チタン、コバルトな
どを添加したものであるが、これらの元素添加により合
金コストの上昇や熱・電気伝導性を劣化させる問題があ
る以外に、今日のICパッケージアセンブルニーズの銀メ
ッキ省略またはベアボンドで安定な接合強度が得られ難
く、コストダウンができないことや、今後金ワイヤーか
ら銅ワイヤーに変化した時にもベアボンドできないなど
の問題がある。また、特開昭62-9657、特開昭62-9658、
特開昭62-18744、特開昭63-120451、特開昭63-202050号
公報など記載の銅合金表面に所定の銅メッキを施す技術
は製造プロセスの簡略化すなわちベアボンドにより信頼
性向上と同時にコストダウンを図ることを目的としたも
のであるが、母材に銅合金を用いるため強度が低い問題
がある。一方それを改善した析出型銅合金に銅メッキを
施すのでは母材の価格が高いためベアボンドのメリット
が消えてしまう。
るために、たとえばCA−195合金、あるいは特開昭60-21
8442号公報記載の合金はその欠点を改善するために錫、
鉄、珪素、燐、ニッケル、クロム、チタン、コバルトな
どを添加したものであるが、これらの元素添加により合
金コストの上昇や熱・電気伝導性を劣化させる問題があ
る以外に、今日のICパッケージアセンブルニーズの銀メ
ッキ省略またはベアボンドで安定な接合強度が得られ難
く、コストダウンができないことや、今後金ワイヤーか
ら銅ワイヤーに変化した時にもベアボンドできないなど
の問題がある。また、特開昭62-9657、特開昭62-9658、
特開昭62-18744、特開昭63-120451、特開昭63-202050号
公報など記載の銅合金表面に所定の銅メッキを施す技術
は製造プロセスの簡略化すなわちベアボンドにより信頼
性向上と同時にコストダウンを図ることを目的としたも
のであるが、母材に銅合金を用いるため強度が低い問題
がある。一方それを改善した析出型銅合金に銅メッキを
施すのでは母材の価格が高いためベアボンドのメリット
が消えてしまう。
またこれらの強度とコストの面を考慮した特開昭58-191
456、特開昭59-58833、特開昭63-55968号公報の記載技
術があるが、これは今日のIC、LSIの大きな要求特性で
ある熱・電気伝導性への要求に応えていない問題や、鉄
系基材への銅メッキはメッキ安定性、密着性を充分満足
させるためには、ニッケル下地メッキ処理やラインの能
力向上などの考慮が必要になり、母材の価格メリットが
消滅してしまうなどの問題がある。
456、特開昭59-58833、特開昭63-55968号公報の記載技
術があるが、これは今日のIC、LSIの大きな要求特性で
ある熱・電気伝導性への要求に応えていない問題や、鉄
系基材への銅メッキはメッキ安定性、密着性を充分満足
させるためには、ニッケル下地メッキ処理やラインの能
力向上などの考慮が必要になり、母材の価格メリットが
消滅してしまうなどの問題がある。
[発明が解決しようとする課題] 本発明はこれらのリードフレーム用金属板として優れた
特性と低コストを実現しようとするものである。鉄銅ク
ロム合金が具備すべき条件を明らかにするために、発明
者らは種々の組合せの合金を用いて問題点解決のため多
くの研究を行い、鉄中にクロムの含有する相(以下鉄相
と略す)と銅相を均一分散した形態で結晶粒度番号10番
以上にすることと、その後に科学的に鉄相を選択エッチ
ングして銅相のみを残して、その後の加工により鉄相の
空孔を展延性のある銅相で被覆し、また密着性、緻密性
を上げるために50%以上の一時冷間圧延を施し、さらに
引き続く焼鈍時の拡散反応により緻密性をより向上させ
た銅薄膜層を板面全体に設けることによる半田性に優れ
た高強度リードフレーム用金属板または、銅メッキする
ことにより優れたメッキ安定性ならびに平滑性を有する
金・銅線のベアボンドを可能にする銅メッキ被覆高強度
リードフレーム用金属板の製造方法を発明するに至っ
た。
特性と低コストを実現しようとするものである。鉄銅ク
ロム合金が具備すべき条件を明らかにするために、発明
者らは種々の組合せの合金を用いて問題点解決のため多
くの研究を行い、鉄中にクロムの含有する相(以下鉄相
と略す)と銅相を均一分散した形態で結晶粒度番号10番
以上にすることと、その後に科学的に鉄相を選択エッチ
ングして銅相のみを残して、その後の加工により鉄相の
空孔を展延性のある銅相で被覆し、また密着性、緻密性
を上げるために50%以上の一時冷間圧延を施し、さらに
引き続く焼鈍時の拡散反応により緻密性をより向上させ
た銅薄膜層を板面全体に設けることによる半田性に優れ
た高強度リードフレーム用金属板または、銅メッキする
ことにより優れたメッキ安定性ならびに平滑性を有する
金・銅線のベアボンドを可能にする銅メッキ被覆高強度
リードフレーム用金属板の製造方法を発明するに至っ
た。
[課題を解決するための手段] すなわち、本発明が構成するところは、銅を20重量%以
上95重量%以下、残部が不可避的不純物以外は鉄および
クロムであり、かつクロムが鉄に対し6重量%以上12重
量%以下の比率からなる組成を持つ合金金属板が完全凝
固するまでの表面冷却速度を100℃/秒以上で鋳造し、
続いて酸洗処理で表面酸化皮膜の除去と鉄相を選択エッ
チングしてから、圧下率50%以上で一時冷間圧延後、焼
鈍・時効処理を施してから圧下率5%以上50%以下の二
次冷間圧延を施すことを特徴とする高強度リードフレー
ム用金属板の製造方法である。
上95重量%以下、残部が不可避的不純物以外は鉄および
クロムであり、かつクロムが鉄に対し6重量%以上12重
量%以下の比率からなる組成を持つ合金金属板が完全凝
固するまでの表面冷却速度を100℃/秒以上で鋳造し、
続いて酸洗処理で表面酸化皮膜の除去と鉄相を選択エッ
チングしてから、圧下率50%以上で一時冷間圧延後、焼
鈍・時効処理を施してから圧下率5%以上50%以下の二
次冷間圧延を施すことを特徴とする高強度リードフレー
ム用金属板の製造方法である。
また、本発明は、上記発明において、二次冷間圧延後、
銅メッキすることが好ましい。
銅メッキすることが好ましい。
さらに、本発明は、上記の合金の組成がさらにSi,Al,T
i,Ni,Zn,Sn,Nb,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wの1種ま
たは2種以上をAl,Ti,Ni,Nb,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,Be,
Mg,Wは0.5重量%以下、Zn,Siは1重量%以下、Ni,Snは
4重量%以下の範囲で添加したものとすることが望まし
い。
i,Ni,Zn,Sn,Nb,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wの1種ま
たは2種以上をAl,Ti,Ni,Nb,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,Be,
Mg,Wは0.5重量%以下、Zn,Siは1重量%以下、Ni,Snは
4重量%以下の範囲で添加したものとすることが望まし
い。
[作用] 以下本構成要件の限定理由を説明する。
まず、合金の化学組成の限定理由は以下の通りである。
熱・電気伝導性を向上させるためには銅の含有量が高い
ほど好ましいが、リードフレームの強度要求に対しては
鉄の含有量を制御して目的とする熱・電気伝導性と強度
のバランスを得ることが望ましく第1図に示すように銅
含有量が20重量%未満ではリードフレームとして必要な
熱・電気伝導性が得られず、強度への効果しか得られな
いのでこれを下限とする。また上限を95重量%以下とす
るのは、鉄およびクロムの総含有量が5重量%未満では
組織の微細化ならびに強度に有効に働くクロムを含む鉄
相の分布が不十分になり、本合金の特徴とする強度と導
電性のバランスが得られなくなる。
ほど好ましいが、リードフレームの強度要求に対しては
鉄の含有量を制御して目的とする熱・電気伝導性と強度
のバランスを得ることが望ましく第1図に示すように銅
含有量が20重量%未満ではリードフレームとして必要な
熱・電気伝導性が得られず、強度への効果しか得られな
いのでこれを下限とする。また上限を95重量%以下とす
るのは、鉄およびクロムの総含有量が5重量%未満では
組織の微細化ならびに強度に有効に働くクロムを含む鉄
相の分布が不十分になり、本合金の特徴とする強度と導
電性のバランスが得られなくなる。
つぎに、クロムを鉄に対して6重量%以上添加するのは
素材での保存中やアセンブル過程、パッケージング後の
赤錆の発生を防止するものであり、6.0重量%未満では
その効果が充分でない。また、上限を12重量%とするの
は12重量%を越えると耐錆性への効果が飽和する上、
銅、ニッケルなどのメッキ性が悪くなることや、半田付
け性が劣化するからである。
素材での保存中やアセンブル過程、パッケージング後の
赤錆の発生を防止するものであり、6.0重量%未満では
その効果が充分でない。また、上限を12重量%とするの
は12重量%を越えると耐錆性への効果が飽和する上、
銅、ニッケルなどのメッキ性が悪くなることや、半田付
け性が劣化するからである。
さらにSi,Al,Ti,Ni,Zn,Sn,Nb,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,B
e,Mg,Wの1種または2種以上をAl,Ti,Ni,Nb,Zr,P,La,C
e,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wは0.5重量%以下、Zn,Siは1重量
%以下、Ni,Snは4重量%以下の範囲で添加すること
は、鋳造組織制御や強度向上、加工性、メッキ性ならび
に半田耐候性(半田付けした後の150℃で1000時間以上
の長時間加熱剥離性)などの改善に役立つので必要に応
じて添加したほうが好ましい。とくに鉄中のCr含有量が
8重量%を超える成分では鋳造組織の制御のためにP,L
a,Ce,Si,Ti,Al,Nb,Zn,Ni,Sn,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wなどを
0.05重量%以上上記範囲内で添加することはクロムを含
む鉄相と銅相が均一に分散して結晶粒度番号10番以上の
組織を得る上で重要である。上記以外は原料および溶製
時に不可避的に混入される不純物元素とする。
e,Mg,Wの1種または2種以上をAl,Ti,Ni,Nb,Zr,P,La,C
e,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wは0.5重量%以下、Zn,Siは1重量
%以下、Ni,Snは4重量%以下の範囲で添加すること
は、鋳造組織制御や強度向上、加工性、メッキ性ならび
に半田耐候性(半田付けした後の150℃で1000時間以上
の長時間加熱剥離性)などの改善に役立つので必要に応
じて添加したほうが好ましい。とくに鉄中のCr含有量が
8重量%を超える成分では鋳造組織の制御のためにP,L
a,Ce,Si,Ti,Al,Nb,Zn,Ni,Sn,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wなどを
0.05重量%以上上記範囲内で添加することはクロムを含
む鉄相と銅相が均一に分散して結晶粒度番号10番以上の
組織を得る上で重要である。上記以外は原料および溶製
時に不可避的に混入される不純物元素とする。
本発明では双ロール法などの急冷凝固的手法によって鋳
造するものであり、組織を細粒化すると同時に、冷延と
焼鈍の繰り返しなどでは得られないクロムを含む鉄相と
銅相が微細に均一分散した形態を可能にするものであ
る。またさらに本プロセスにより熱間加工性が乏しい鉄
銅クロム合金において熱間加工工程を省略できること
や、歩留り向上のメリットも有する。
造するものであり、組織を細粒化すると同時に、冷延と
焼鈍の繰り返しなどでは得られないクロムを含む鉄相と
銅相が微細に均一分散した形態を可能にするものであ
る。またさらに本プロセスにより熱間加工性が乏しい鉄
銅クロム合金において熱間加工工程を省略できること
や、歩留り向上のメリットも有する。
そしてこのときの冷却速度は金属板が完全凝固するまで
表面で100℃/秒以上にすることが重要である。冷却速
度と結晶粒度番号の関係は第2図に示す通りである。
表面で100℃/秒以上にすることが重要である。冷却速
度と結晶粒度番号の関係は第2図に示す通りである。
第2図にように凝固時の冷却速度を大きくすると、凝固
組織のサイズは微細化する。また本プロセスで結晶粒度
番号10番以上を得るためには100度/秒以上にすること
が必要であり、この時クロムを含む鉄相と銅相が均一分
散した組織が得られる。またその後冷間圧延と焼鈍を行
ってもその効果が、さらに凝固冷却時の過飽和度の向上
による時効処理時のクロムを含む鉄相と銅相の微細分散
効果が得られることにより強度向上、時効時間短縮の効
果も得られる。
組織のサイズは微細化する。また本プロセスで結晶粒度
番号10番以上を得るためには100度/秒以上にすること
が必要であり、この時クロムを含む鉄相と銅相が均一分
散した組織が得られる。またその後冷間圧延と焼鈍を行
ってもその効果が、さらに凝固冷却時の過飽和度の向上
による時効処理時のクロムを含む鉄相と銅相の微細分散
効果が得られることにより強度向上、時効時間短縮の効
果も得られる。
また本発明においては銅メッキを行うことによる銀メッ
キ省略およびベアボンド性付与が目的であることによ
り、メッキの安定性と密着性ならびに平滑性が大きなポ
イントであり、前処理として化学的に銅薄膜層を生成さ
せる処理を行う。この処理は結晶粒度番号10番以上で鉄
相と銅相が均一分散した状態で鉄相のみ薄帯の酸化皮膜
除去を兼ねて硫酸、硝酸、塩酸などの5から50体積%の
水溶液を40から60℃に加熱して選択エッチングして銅薄
膜層形成の下地をつくる。またこの処理は通常の酸洗ラ
インで処理することでこの効果が充分得られるため、生
産性が良く、新規設備投資を必要としない。
キ省略およびベアボンド性付与が目的であることによ
り、メッキの安定性と密着性ならびに平滑性が大きなポ
イントであり、前処理として化学的に銅薄膜層を生成さ
せる処理を行う。この処理は結晶粒度番号10番以上で鉄
相と銅相が均一分散した状態で鉄相のみ薄帯の酸化皮膜
除去を兼ねて硫酸、硝酸、塩酸などの5から50体積%の
水溶液を40から60℃に加熱して選択エッチングして銅薄
膜層形成の下地をつくる。またこの処理は通常の酸洗ラ
インで処理することでこの効果が充分得られるため、生
産性が良く、新規設備投資を必要としない。
引続いて一時冷間圧延を行う。これはリードフレームに
必要な板厚を得ることと強度と加工性を付与することを
目的とするが、ここではさらに先に鉄相を選択エッチン
グして銅相のみを残してあるので、50%以上に一次冷間
圧延を実施することにより銅自身の展延性を利用して表
面全体に銅薄膜層を形成させるものである。50%以上の
冷間圧延を施すのは焼鈍時の回復・再結晶に必要な加工
歪の導入と、残っている銅相がエッチングされた鉄相を
充分被覆するために必要な加工率および銅メッキ後表面
粗度Rmaxで0.8μm以下を得るための下限である。
必要な板厚を得ることと強度と加工性を付与することを
目的とするが、ここではさらに先に鉄相を選択エッチン
グして銅相のみを残してあるので、50%以上に一次冷間
圧延を実施することにより銅自身の展延性を利用して表
面全体に銅薄膜層を形成させるものである。50%以上の
冷間圧延を施すのは焼鈍時の回復・再結晶に必要な加工
歪の導入と、残っている銅相がエッチングされた鉄相を
充分被覆するために必要な加工率および銅メッキ後表面
粗度Rmaxで0.8μm以下を得るための下限である。
次に、強度・加工性の付与および調整ならびに表面銅薄
膜層の緻密性を充分にするための拡散処理を目的とする
焼鈍を実施する。焼鈍の方法としては一次冷間圧延で蓄
積した加工歪の解放だけで強度を重視して、加工性や異
方性を多少犠牲にした方法としての徐加熱、徐冷却処理
で時効処理も兼ねる方法と、また一次冷間圧延で蓄積し
た加工歪により再結晶を生じさせ加工性が良好で異方性
の小さい材料を得る。さらにこの場合には焼鈍後または
冷却途中で時効処理を行う。時効処理は熱・電気伝導性
を向上させるために製造工程上必須のものであり、化学
組成と前工程条件により適正な温度を選定すべきであ
り、第3図のような時効条件と導電性ならびに硬度の関
係より低温過ぎると析出物の周りに歪が生じるため母材
の特性としての導電性の劣化や伸びの低下が生じること
や、目的の導電性を得るための加熱時間が長くなるため
設備制約や製造効率に影響してコスト増なる。また高温
過ぎると析出量が少なくなり高い導電性が得られないこ
とと、析出が粗大化して強度が低下するため450〜650℃
で500分以下の時効処理が適性条件である。合わせてそ
れらの処理中に銅の拡散処理を行うことで表面銅薄膜層
の緻密性を向上させる。
膜層の緻密性を充分にするための拡散処理を目的とする
焼鈍を実施する。焼鈍の方法としては一次冷間圧延で蓄
積した加工歪の解放だけで強度を重視して、加工性や異
方性を多少犠牲にした方法としての徐加熱、徐冷却処理
で時効処理も兼ねる方法と、また一次冷間圧延で蓄積し
た加工歪により再結晶を生じさせ加工性が良好で異方性
の小さい材料を得る。さらにこの場合には焼鈍後または
冷却途中で時効処理を行う。時効処理は熱・電気伝導性
を向上させるために製造工程上必須のものであり、化学
組成と前工程条件により適正な温度を選定すべきであ
り、第3図のような時効条件と導電性ならびに硬度の関
係より低温過ぎると析出物の周りに歪が生じるため母材
の特性としての導電性の劣化や伸びの低下が生じること
や、目的の導電性を得るための加熱時間が長くなるため
設備制約や製造効率に影響してコスト増なる。また高温
過ぎると析出量が少なくなり高い導電性が得られないこ
とと、析出が粗大化して強度が低下するため450〜650℃
で500分以下の時効処理が適性条件である。合わせてそ
れらの処理中に銅の拡散処理を行うことで表面銅薄膜層
の緻密性を向上させる。
次に表面粗度と形状調整ならびに強度向上を図るために
二次冷間圧延を行うが、第4図に表面粗度と強度および
伸びの圧下率依存性を示した。表面粗度調整には5%以
上の冷間圧延が必要であり、50%を超えて冷間圧延を行
うと加工性が大幅に劣化してしまうから上限を50%とす
る。
二次冷間圧延を行うが、第4図に表面粗度と強度および
伸びの圧下率依存性を示した。表面粗度調整には5%以
上の冷間圧延が必要であり、50%を超えて冷間圧延を行
うと加工性が大幅に劣化してしまうから上限を50%とす
る。
上記金属板は、コイルまたはスリット状で銅メッキを施
した後パンチングまたはエッチングされる場合と、先に
リードフレームとしてパンチングまたはエッチングした
後に銅メッキを施し使用される。予め銅メッキする場合
も、パンチング、エッチングなどの加工後であっても銅
メッキは以下の条件で行う。
した後パンチングまたはエッチングされる場合と、先に
リードフレームとしてパンチングまたはエッチングした
後に銅メッキを施し使用される。予め銅メッキする場合
も、パンチング、エッチングなどの加工後であっても銅
メッキは以下の条件で行う。
銅メッキはかかる素板に弱アルカリ系脱脂剤を用いて電
解脱脂を行い、さらに弱酸により表面を活性化した後に
硫酸銅、ピロリン酸銅、シアン銅、ホウフッ化銅浴など
を用いて銅メッキを行う。厚みと密着性、厚み安定性な
らびに経済性からは0.2〜10μm程度が良好な範囲で0.2
0〜3.0μmの範囲が最良である。これは第5図に示すよ
うに厚過ぎると半田耐候性が劣化する。すなわち150℃
で1000時間あるいは1500時間で剥離するからである。
解脱脂を行い、さらに弱酸により表面を活性化した後に
硫酸銅、ピロリン酸銅、シアン銅、ホウフッ化銅浴など
を用いて銅メッキを行う。厚みと密着性、厚み安定性な
らびに経済性からは0.2〜10μm程度が良好な範囲で0.2
0〜3.0μmの範囲が最良である。これは第5図に示すよ
うに厚過ぎると半田耐候性が劣化する。すなわち150℃
で1000時間あるいは1500時間で剥離するからである。
また連続処理ラインとしては、他の連続電気、無電解メ
ッキラインによる処理が可能であり、新規設備投資がい
らないメリットがある。
ッキラインによる処理が可能であり、新規設備投資がい
らないメリットがある。
[実施例] (実施例1) 第1表に本発明の成分範囲の合金A〜E、J〜D′と比
較の成分範囲の比較材F〜Iの化学組成を示す。
較の成分範囲の比較材F〜Iの化学組成を示す。
第2表には得られた合金の材質特性を示す。ここで試料
番号1〜30は双ロール鋳造機を用いて、3.2〜102℃/秒
の冷却速度で板厚2.2mmと、試料番号31は本発明の範囲
外の10×10-1℃/秒の冷却速度で板厚10.0mmに水平連続
鋳造機により鋳造したものである。また冷間圧延時の割
れ対策として鋳片に800℃で1時間の軟化焼鈍を施して
から10体積%の硝酸水溶液を50℃に加熱した1.5mの槽中
を1m/minの速度で通板して鉄相を選択エッチング処理し
て一次冷間圧延を85%行い、焼鈍を550℃で3時間行い
引続く冷却途中で時効を480℃で3時間行い100℃まで50
℃/時間で冷却して抽出し、さらに二次冷間圧延を8%
行った。
番号1〜30は双ロール鋳造機を用いて、3.2〜102℃/秒
の冷却速度で板厚2.2mmと、試料番号31は本発明の範囲
外の10×10-1℃/秒の冷却速度で板厚10.0mmに水平連続
鋳造機により鋳造したものである。また冷間圧延時の割
れ対策として鋳片に800℃で1時間の軟化焼鈍を施して
から10体積%の硝酸水溶液を50℃に加熱した1.5mの槽中
を1m/minの速度で通板して鉄相を選択エッチング処理し
て一次冷間圧延を85%行い、焼鈍を550℃で3時間行い
引続く冷却途中で時効を480℃で3時間行い100℃まで50
℃/時間で冷却して抽出し、さらに二次冷間圧延を8%
行った。
結晶粒度番号はASTM、引張強さ・全伸びはJIS 13号B、
導電率は4端子法、耐食性は塩水噴霧試験48時間による
赤錆発生率でFe−42Niレベルを基準にした。また半田性
は濡れ面積率95%以上を合格とし、Cuメッキ性はCuメッ
キを2μm施した後大気中で350℃において5分処理後
表面の膨れ発生の有り無しで判定した。表中にはFe−42
Ni、リン青銅、CDA194の特性も比較に加えた。
導電率は4端子法、耐食性は塩水噴霧試験48時間による
赤錆発生率でFe−42Niレベルを基準にした。また半田性
は濡れ面積率95%以上を合格とし、Cuメッキ性はCuメッ
キを2μm施した後大気中で350℃において5分処理後
表面の膨れ発生の有り無しで判定した。表中にはFe−42
Ni、リン青銅、CDA194の特性も比較に加えた。
また、ここで試料番号7はCu添加量が20重量%以下の場
合であり、リン青銅なみの低い導電性しか得られていな
い。試料番号8はCu添加量が95重量%以上の場合で鉄の
添加量が少ないため強度が低い。試料番号9は鉄に対し
てのCrの添加量が6重量%以下の場合であって耐食性が
不十分であり、試料番号10はCrが12重量%以上の場合半
田性・銅メッキ性が劣り、試料番号24は冷却速度が本発
明の範囲外の小さい場合で結晶粒度10以下で半田性・銅
メッキ性が劣り、さらに強度も低く本発明の特性が優れ
ていることは明らかである。
合であり、リン青銅なみの低い導電性しか得られていな
い。試料番号8はCu添加量が95重量%以上の場合で鉄の
添加量が少ないため強度が低い。試料番号9は鉄に対し
てのCrの添加量が6重量%以下の場合であって耐食性が
不十分であり、試料番号10はCrが12重量%以上の場合半
田性・銅メッキ性が劣り、試料番号24は冷却速度が本発
明の範囲外の小さい場合で結晶粒度10以下で半田性・銅
メッキ性が劣り、さらに強度も低く本発明の特性が優れ
ていることは明らかである。
(実施例2) 第3表では、第1表のD試料を用いて双ロール鋳造機を
用いて3.2×102℃/秒の冷却速度で2.2mmに鋳造して、
冷間圧延時の割れ対策として鋳片に800℃で1時間の軟
化焼鈍を施してから10体積%の硝酸水溶液を50℃に加熱
した1.5mの槽中を1m/minの速度処理して一次冷間圧延を
35,55,85%の3水準で行い、焼鈍を550℃で3時間行い
引続く冷却途中で時効を480℃で3時間行い100℃まで50
℃/時間で冷却して抽出した。さらに二次冷間圧延を8
%行った。評価は実施例1と同様に行った。結果より明
らかなように試料番号33の一次冷間圧延率の低いものは
表面銅薄膜層の密着性、緻密性が充分でないため、耐食
性・Cuメッキ性が悪く、表面粗度も大きい。
用いて3.2×102℃/秒の冷却速度で2.2mmに鋳造して、
冷間圧延時の割れ対策として鋳片に800℃で1時間の軟
化焼鈍を施してから10体積%の硝酸水溶液を50℃に加熱
した1.5mの槽中を1m/minの速度処理して一次冷間圧延を
35,55,85%の3水準で行い、焼鈍を550℃で3時間行い
引続く冷却途中で時効を480℃で3時間行い100℃まで50
℃/時間で冷却して抽出した。さらに二次冷間圧延を8
%行った。評価は実施例1と同様に行った。結果より明
らかなように試料番号33の一次冷間圧延率の低いものは
表面銅薄膜層の密着性、緻密性が充分でないため、耐食
性・Cuメッキ性が悪く、表面粗度も大きい。
(実施例3) 第4表では、第1表のB,D,E試料を用いて双ロール鋳造
機を用いて3.2×102℃/秒の冷却速度で2.2mmに鋳造し
て、冷間圧延時の割れ対策として鋳片に800℃で1時間
の軟化焼鈍を施してから10体積%の硝酸水溶液を50℃に
加熱した1.5mの槽中を1m/minの速度処理して一次冷間圧
延を85%で行い、焼鈍を550℃で3時間行い引続く冷却
途中で時効を480℃で3時間行い100℃まで50℃/時間で
冷却して抽出した。さらに二次冷間圧延を8%行った。
さらにそのコイルにピロリン酸銅メッキ浴中で電流密度
2A/cmの条件で2μm厚の銅メッキを施し、そのコイル
を25.64mmにスリットしてDIP−16Pin用にパンチングし
てSiチップをダイボンディングした後に25μmΦのAu線
を雰囲気超音波熱圧着法によりワイヤーボンドを行っ
た。ボンディングの条件は雰囲気10%H2−N2、リードフ
レーム温度195℃、ファーストボンディング圧50g、セカ
ンドボンディング圧90gで実施した。
機を用いて3.2×102℃/秒の冷却速度で2.2mmに鋳造し
て、冷間圧延時の割れ対策として鋳片に800℃で1時間
の軟化焼鈍を施してから10体積%の硝酸水溶液を50℃に
加熱した1.5mの槽中を1m/minの速度処理して一次冷間圧
延を85%で行い、焼鈍を550℃で3時間行い引続く冷却
途中で時効を480℃で3時間行い100℃まで50℃/時間で
冷却して抽出した。さらに二次冷間圧延を8%行った。
さらにそのコイルにピロリン酸銅メッキ浴中で電流密度
2A/cmの条件で2μm厚の銅メッキを施し、そのコイル
を25.64mmにスリットしてDIP−16Pin用にパンチングし
てSiチップをダイボンディングした後に25μmΦのAu線
を雰囲気超音波熱圧着法によりワイヤーボンドを行っ
た。ボンディングの条件は雰囲気10%H2−N2、リードフ
レーム温度195℃、ファーストボンディング圧50g、セカ
ンドボンディング圧90gで実施した。
接合性の評価はプルテスターにてボンディング強度測定
し、さらにボンディングしたリードフレームをエポキシ
樹脂でモールドして、130℃でプレッシャークッカーに2
00時間、12V印加で保定して断線および短絡の確率を測
定した。その結果は第4表に示した通りである。無酸素
銅なみの優れた特性を有する。
し、さらにボンディングしたリードフレームをエポキシ
樹脂でモールドして、130℃でプレッシャークッカーに2
00時間、12V印加で保定して断線および短絡の確率を測
定した。その結果は第4表に示した通りである。無酸素
銅なみの優れた特性を有する。
(実施例4) 第1表のB,D,E試料のCuメッキコイルを25.64mmにスリッ
トしてDIP−16Pin用にパンチングしてSiチップをダイボ
ンディングした後に25μmΦのCu線を雰囲気超音波熱圧
着法によりワイヤーボンドを行った。ボンディングの条
件は雰囲気10%H2−N2、リードフレーム温度195℃、フ
ァーストボンディング圧50g、セカンドボンディング圧9
0gで実施した。その結果を第5表に示す。
トしてDIP−16Pin用にパンチングしてSiチップをダイボ
ンディングした後に25μmΦのCu線を雰囲気超音波熱圧
着法によりワイヤーボンドを行った。ボンディングの条
件は雰囲気10%H2−N2、リードフレーム温度195℃、フ
ァーストボンディング圧50g、セカンドボンディング圧9
0gで実施した。その結果を第5表に示す。
接合性の評価はプルテスターにてホンディング強度測定
し、さらにボンディングしたリードフレームをエポキシ
樹脂でモールドして、130℃でプレッシャークッカーに2
00時間、12V印加で保定して断線および短絡の確率を測
定した。その結果は第5表に示した通りであり、無酸素
銅なみの優れた特性を有する。
し、さらにボンディングしたリードフレームをエポキシ
樹脂でモールドして、130℃でプレッシャークッカーに2
00時間、12V印加で保定して断線および短絡の確率を測
定した。その結果は第5表に示した通りであり、無酸素
銅なみの優れた特性を有する。
[発明の効果] 本発明方法によれば、従来よりIC、LSI、トランジスタ
およびコンデンサーに用いられてきた、リードフレーム
用金属板に代わり、鉄銅クロム合金とその製造方法の組
合せにより、従来材を上回る高強度と導電性のバランス
ならびにベアボンドを可能にした、安価な高強度リード
フレームを得ることができる。
およびコンデンサーに用いられてきた、リードフレーム
用金属板に代わり、鉄銅クロム合金とその製造方法の組
合せにより、従来材を上回る高強度と導電性のバランス
ならびにベアボンドを可能にした、安価な高強度リード
フレームを得ることができる。
【図面の簡単な説明】 第1図は鉄に銅を添加した時の添加量を変化させた時
の、強度と導電性の関係を示すグラフ、第2図は鋳片表
面冷却速度と結晶粒度番号の関係を示すグラフ、第3図
は時効処理時の温度と時間におよぼす導電性と硬度(強
度)の関係を示すグラフ、第4図は二次冷間圧延率と強
度および伸びの関係を示すグラフ、第5図は半田耐候性
とCuメッキ厚みの関係を示すグラフである。
の、強度と導電性の関係を示すグラフ、第2図は鋳片表
面冷却速度と結晶粒度番号の関係を示すグラフ、第3図
は時効処理時の温度と時間におよぼす導電性と硬度(強
度)の関係を示すグラフ、第4図は二次冷間圧延率と強
度および伸びの関係を示すグラフ、第5図は半田耐候性
とCuメッキ厚みの関係を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B22D 11/124 L 7362−4E C21D 9/46 P C22C 9/00 38/00 302 Z 38/20 C23F 1/00 A 8417−4K H01G 4/228 H01L 23/50 V
Claims (3)
- 【請求項1】銅を20重量%以上95重量%以下、残部が不
可避的不純物以外は鉄およびクロムであり、かつクロム
が鉄に対し6重量%以上12重量%以下の比率からなる組
成を持つ合金金属板が完全凝固するまでの表面冷却速度
を100℃/秒以上で鋳造し、続いて酸洗処理で表面酸化
皮膜の除去と鉄相を選択エッチングしてから、圧下率50
%以上で一次冷間圧延後、焼鈍・時効処理を施してから
圧下率5%以上50%以下の二次冷間圧延を施すことを特
徴とする高強度リードフレーム用金属板の製造方法。 - 【請求項2】二次冷間圧延後、銅メッキすることを特徴
とする請求項1記載の高強度リードフレーム用金属板の
製造方法。 - 【請求項3】合金の組成がさらにSi,Al,Ti,Ni,Zn,Sn,N
b,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wの1種または2種以上
をAl,Ti,Ni,Nb,Zr,P,La,Ce,Y,Mn,V,Ca,Be,Mg,Wは0.5重
量%以下、Zn,Siは1重量%以下、Ni,Snは4重量%以下
の範囲で添加したものであることを特徴とする請求項1
又は2記載の高強度リードフレーム用金属板の製造方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14527989 | 1989-06-09 | ||
JP1-145279 | 1989-06-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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