JPH0736380B2 - 基板露光装置のステ−ジ - Google Patents
基板露光装置のステ−ジInfo
- Publication number
- JPH0736380B2 JPH0736380B2 JP61254883A JP25488386A JPH0736380B2 JP H0736380 B2 JPH0736380 B2 JP H0736380B2 JP 61254883 A JP61254883 A JP 61254883A JP 25488386 A JP25488386 A JP 25488386A JP H0736380 B2 JPH0736380 B2 JP H0736380B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- stage
- index
- mounting surface
- guide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板露光装置におけるステージに関し、特
に、位置合せ指標の配設されたステージに関する。
に、位置合せ指標の配設されたステージに関する。
従来のこの種装置は、例えば特開昭60−130742号に開示
あるように、集積回路（IC）を製造するために、ステー
ジの基板載置面に基板としてのウェハを載置し、ウェハ
にレチクルのパターンを露光し、焼付ける基板露光装置
が知られており、このものでは、レチクルの位置決めを
行なうレチクル顕微鏡と基板の位置決めを行なう基板顕
微鏡との相対的位置を合わせるため、及び基板顕微鏡に
対するステージの回転方向の補正を行うために使用する
位置合せ指標を基板載置面外のステージ上に設けてい
る。
あるように、集積回路（IC）を製造するために、ステー
ジの基板載置面に基板としてのウェハを載置し、ウェハ
にレチクルのパターンを露光し、焼付ける基板露光装置
が知られており、このものでは、レチクルの位置決めを
行なうレチクル顕微鏡と基板の位置決めを行なう基板顕
微鏡との相対的位置を合わせるため、及び基板顕微鏡に
対するステージの回転方向の補正を行うために使用する
位置合せ指標を基板載置面外のステージ上に設けてい
る。
従来の技術に於いては、ステージに指標を配設するため
の領域を必要とし、ステージを大型化すること及びステ
ージの移動範囲を大きくすることが避けられない。
の領域を必要とし、ステージを大型化すること及びステ
ージの移動範囲を大きくすることが避けられない。
本発明はこの様な従来の問題点を鑑みてなされたもの
で、指標を配設したために大型化することなくかつ、移
動範囲を減少させたステージを得ることを目的とする。
で、指標を配設したために大型化することなくかつ、移
動範囲を減少させたステージを得ることを目的とする。
上記問題点の解決の為に本発明では、被露光基板を載置
する基板載置面が設けられると共に、位置合せ指標の配
設された基板露光装置のステージに、前記基板載置面内
に前記位置合せ指標を配設する一方、前記基板載置面内
に基板が載置されるときには該基板と干渉しない位置に
前記指標を退避手段を設けた。
する基板載置面が設けられると共に、位置合せ指標の配
設された基板露光装置のステージに、前記基板載置面内
に前記位置合せ指標を配設する一方、前記基板載置面内
に基板が載置されるときには該基板と干渉しない位置に
前記指標を退避手段を設けた。
本発明に於いては、指標を基板載置面内に置けるので、
指標を設けることによるステージの大型化を避けること
ができると共に、ステージの移動範囲も小さくてすむ。
基板の載置に先立って、ステージを移動してレチクル顕
微鏡と基板顕微鏡との相対的位置を合せたり、基準望遠
鏡に対するステージの回転方向の補正を行ない、その
後、基板を載置する。しかしながら、そのままでは基板
とセンサとが干渉するので、退避手段によってセンサを
基板と干渉しない位置に退避させる。
指標を設けることによるステージの大型化を避けること
ができると共に、ステージの移動範囲も小さくてすむ。
基板の載置に先立って、ステージを移動してレチクル顕
微鏡と基板顕微鏡との相対的位置を合せたり、基準望遠
鏡に対するステージの回転方向の補正を行ない、その
後、基板を載置する。しかしながら、そのままでは基板
とセンサとが干渉するので、退避手段によってセンサを
基板と干渉しない位置に退避させる。
（実施例） 第１図は本発明の一実施例の上面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ′矢視図である。
Ａ−Ａ′矢視図である。
ステージ１の中心付近には不図示の投影レンズの光軸方
向（第２図の矢印Ｚ方向）に穴10が形成され、そこには
第１のガイド金物11と第２のガイド金物12とが設けられ
ている。第１のガイド金物11はガイド部11aと、不図示
のエア配管に接続される孔11bと、シリンダ部11cとを有
し、第２のガイド金物12はガイド部12aと不図示のエア
配管に接続される孔12bとシリンダ部12cとを有してい
る。指標取付金物13は、第１のガイド金物11のガイド部
11aと第２のガイド金物12のガイド部12aによって矢印Ｚ
方向へ案内され、かつ孔11b、12bを通して、シリンダ部
11c,12cに交互にエアを供給することによりＺ方向の推
力が与えられる。指標取付金物13の上端には指標14が取
付けられている。そして、指標取付金物13が上昇位置に
あるときに、指標14が、ステージ１上の基板載置面２
（第１図）に載置される基板３（第２図）の表面と同じ
高さになるように、また、指標取付金物13が下降位置に
あるときは、ステージ１の基板載置面２上に基板３が載
置されても、基板３と干渉しない位置に指標14が退避す
るように、ガイド金物11の、シリンダ部11c内を移動す
るエア受用つば部13aと、シリンダ11cの上下端との位置
関係が定められている。
向（第２図の矢印Ｚ方向）に穴10が形成され、そこには
第１のガイド金物11と第２のガイド金物12とが設けられ
ている。第１のガイド金物11はガイド部11aと、不図示
のエア配管に接続される孔11bと、シリンダ部11cとを有
し、第２のガイド金物12はガイド部12aと不図示のエア
配管に接続される孔12bとシリンダ部12cとを有してい
る。指標取付金物13は、第１のガイド金物11のガイド部
11aと第２のガイド金物12のガイド部12aによって矢印Ｚ
方向へ案内され、かつ孔11b、12bを通して、シリンダ部
11c,12cに交互にエアを供給することによりＺ方向の推
力が与えられる。指標取付金物13の上端には指標14が取
付けられている。そして、指標取付金物13が上昇位置に
あるときに、指標14が、ステージ１上の基板載置面２
（第１図）に載置される基板３（第２図）の表面と同じ
高さになるように、また、指標取付金物13が下降位置に
あるときは、ステージ１の基板載置面２上に基板３が載
置されても、基板３と干渉しない位置に指標14が退避す
るように、ガイド金物11の、シリンダ部11c内を移動す
るエア受用つば部13aと、シリンダ11cの上下端との位置
関係が定められている。
このような構造であるから、ステージ１の基板載置面２
に基板を載置する前に、第２のガイド金物12の孔12bか
らエアを供給して指標取付金物13の下端に上方への推力
を与えると共に、第１のガイド金物11の孔11bからエア
を吸引して、エア受用つば部13aを第１のガイド金物11
のシリンダ部11cの上端に当接させる。それによって指
標14は、ステージ１上に基板が載置されたときに基板の
表面のある位置まで上昇し、その位置に固定される（第
２図実線位置）。この状態で、レチクルの位置決めを行
うレチクル顕微鏡と基板の位置決めを行なう基板顕微鏡
の相対的な位置合わせを行なった基板顕微鏡に対するス
テージの回転方向の補正を行なしために、指標14を用い
る。必要ならばステージ１を移動する。
に基板を載置する前に、第２のガイド金物12の孔12bか
らエアを供給して指標取付金物13の下端に上方への推力
を与えると共に、第１のガイド金物11の孔11bからエア
を吸引して、エア受用つば部13aを第１のガイド金物11
のシリンダ部11cの上端に当接させる。それによって指
標14は、ステージ１上に基板が載置されたときに基板の
表面のある位置まで上昇し、その位置に固定される（第
２図実線位置）。この状態で、レチクルの位置決めを行
うレチクル顕微鏡と基板の位置決めを行なう基板顕微鏡
の相対的な位置合わせを行なった基板顕微鏡に対するス
テージの回転方向の補正を行なしために、指標14を用い
る。必要ならばステージ１を移動する。
位置合わせ、回転補正が行なわれると、それらの終了信
号によってステージ１の基板載置面２が基板を載置する
初期位置にくるようにステージ１が移動するが、それと
共に、第２のガイド金物12の孔12bからエアが吸引さ
れ、同時に、第１のガイド金物11の孔11bへのエア供給
が行なわれる。それによって、指標14は基板が載置され
ても基板と干渉しない位置に退避する（第２図２点鎖線
位置）。
号によってステージ１の基板載置面２が基板を載置する
初期位置にくるようにステージ１が移動するが、それと
共に、第２のガイド金物12の孔12bからエアが吸引さ
れ、同時に、第１のガイド金物11の孔11bへのエア供給
が行なわれる。それによって、指標14は基板が載置され
ても基板と干渉しない位置に退避する（第２図２点鎖線
位置）。
そして、マイクロスイッチ等でこの退避完が検出される
と、その検出信号によってステージ１の基板載置面２に
基板が載置される。
と、その検出信号によってステージ１の基板載置面２に
基板が載置される。
なお、以上の実施例では指標取付金物13の移動をエアに
よって行なったが、モータ等、他の駆動装置を用いても
良いことは勿論である。
よって行なったが、モータ等、他の駆動装置を用いても
良いことは勿論である。
また、上述の実施例では、ステージ１のほぼ中心に指標
14が上下するような構成であった。
14が上下するような構成であった。
しかしながら、ステージが初期位置（基準位置）にある
場合において、指標14を観察するための顕微鏡の光軸の
通る位置に指標14を上下するように配設すれば、ステー
ジ１の移動量が少なくてすみ好都合であるし、さらに、
基板載置面２内から指標をどこに設けても、従来のもの
に比し、ステージの小型化、移動量を減少を達成でき
る。
場合において、指標14を観察するための顕微鏡の光軸の
通る位置に指標14を上下するように配設すれば、ステー
ジ１の移動量が少なくてすみ好都合であるし、さらに、
基板載置面２内から指標をどこに設けても、従来のもの
に比し、ステージの小型化、移動量を減少を達成でき
る。
以上の様に本発明によれば、指標を露光される基板の載
置面内に設置しているので、指標を基板載置面外へ設置
する従来の場合よりステージを小型化できる効果があ
る。又、指標が基板載置面内にあるのでステージ司動範
囲が短縮される。更に、ステージ司動範囲が基板載置面
より少なくても可能であり、この効用として、ステージ
を走査して行なわれるアライメント時間の短縮も可能と
なる。
置面内に設置しているので、指標を基板載置面外へ設置
する従来の場合よりステージを小型化できる効果があ
る。又、指標が基板載置面内にあるのでステージ司動範
囲が短縮される。更に、ステージ司動範囲が基板載置面
より少なくても可能であり、この効用として、ステージ
を走査して行なわれるアライメント時間の短縮も可能と
なる。
第１図は、本発明によるステージの平面図である。第２
図は第１図のＡ−Ａ′矢視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２……基板載置面 10……穴 11……第１のガイド金物 12……第２のガイド金物 13……指標取付金物 14……指標
図は第１図のＡ−Ａ′矢視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２……基板載置面 10……穴 11……第１のガイド金物 12……第２のガイド金物 13……指標取付金物 14……指標
Claims (1)
- 【請求項１】被露光基板を載置する基板載置面が設けら
れると共に、位置合せ指標の配設された基板露光装置の
ステージにおいて、 前記基板載置面内に前記位置合せ指標を配設する一方、
前記基板載置面内に基板が載置されるときには該基板と
干渉しない位置に前記指標を退避させる退避手段を設け
たことを特徴とする基板露光装置のステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61254883A JPH0736380B2 (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 基板露光装置のステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61254883A JPH0736380B2 (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 基板露光装置のステ−ジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63108718A JPS63108718A (ja) | 1988-05-13 |
| JPH0736380B2 true JPH0736380B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=17271158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61254883A Expired - Lifetime JPH0736380B2 (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 基板露光装置のステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0736380B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5920378A (en) * | 1995-03-14 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
-
1986
- 1986-10-27 JP JP61254883A patent/JPH0736380B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63108718A (ja) | 1988-05-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |