JPS63108718A - 基板露光装置のステ−ジ - Google Patents
基板露光装置のステ−ジInfo
- Publication number
- JPS63108718A JPS63108718A JP61254883A JP25488386A JPS63108718A JP S63108718 A JPS63108718 A JP S63108718A JP 61254883 A JP61254883 A JP 61254883A JP 25488386 A JP25488386 A JP 25488386A JP S63108718 A JPS63108718 A JP S63108718A
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- Japan
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- substrate
- stage
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- guide
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- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、基板露光装置におけるステ゛−ジに関し、特
に、位置合せ指標の配設されたステージに関する。
に、位置合せ指標の配設されたステージに関する。
従来のこの種装置は、例えば特開昭６０−１３０７４２
号に開示あるように、集積回路（ＩＣ）を製造するため
に、ステージの基板載置面に基板としてのウェハを！！
置し、ウェハにレチクルのパターンを露光し、焼付ける
基板露光装置が知られており、このものでは、レチクル
の位置決めを行なうレチクル顕微鏡と基板の位置決めを
行なう基板顕微鏡との相対的位置を合わせるため、及び
基板顕微鏡に対するステージの回転方向の補正を行うた
めに使用する位置合せ指標を基板載置面外のステージ上
に設けている。
号に開示あるように、集積回路（ＩＣ）を製造するため
に、ステージの基板載置面に基板としてのウェハを！！
置し、ウェハにレチクルのパターンを露光し、焼付ける
基板露光装置が知られており、このものでは、レチクル
の位置決めを行なうレチクル顕微鏡と基板の位置決めを
行なう基板顕微鏡との相対的位置を合わせるため、及び
基板顕微鏡に対するステージの回転方向の補正を行うた
めに使用する位置合せ指標を基板載置面外のステージ上
に設けている。
従来の技術に於いては、ステージに指標を配設するため
の領域を必要とし、ステージを大型化すること及びステ
ージの移動範囲を大きくすることが避けられない。
の領域を必要とし、ステージを大型化すること及びステ
ージの移動範囲を大きくすることが避けられない。
本発明はこの様な従来の間コ点を鑑みてなされたもので
、指標を配設したために大型化することなくかつ、移動
範囲を減少させたステージを得ることを目的とする。
、指標を配設したために大型化することなくかつ、移動
範囲を減少させたステージを得ることを目的とする。
上記問題点の解決の為に本発明では、被露光基板をｉａ
置する基板載置面が設けられると共に、位置合せ指標の
配設された基板露光装置のステージに、前記基板載置面
内に前記位置合せ指標を配設する一方、前記基板載置面
内に基板が載置されるときには該基板と干渉しない位置
に前記指標を退避させる退避手段を設けた。
置する基板載置面が設けられると共に、位置合せ指標の
配設された基板露光装置のステージに、前記基板載置面
内に前記位置合せ指標を配設する一方、前記基板載置面
内に基板が載置されるときには該基板と干渉しない位置
に前記指標を退避させる退避手段を設けた。
本発明に於いては、指標を基板載置面内に置けるので、
指標を設けることによるステージの大型化を避けること
ができると共に、ステージの移動範囲も小さくてすむ。
指標を設けることによるステージの大型化を避けること
ができると共に、ステージの移動範囲も小さくてすむ。
基板の載置に先立って、ステージを移動してレチクル顕
微鏡と基板顕微鏡との相対的位置を合せたり、基準望遠
鏡に対するステージの回転方向の補正を行ない、その後
、基板を載置する。しかしながら、そのままでは基板と
センサとが干渉するので、退避手段によってセンサを基
板と干渉しない位置に退避させる。
微鏡と基板顕微鏡との相対的位置を合せたり、基準望遠
鏡に対するステージの回転方向の補正を行ない、その後
、基板を載置する。しかしながら、そのままでは基板と
センサとが干渉するので、退避手段によってセンサを基
板と干渉しない位置に退避させる。
（実扁例）
第１図は本発明の一実施例の上面図、第２図は第１図の
Ａ−Ａ’矢視図である。
Ａ−Ａ’矢視図である。
ステージ１の中心付近には不図示の投影Ｉ／ンズの光軸
方向く第２図の矢印２方向）に穴１０が形成され、そこ
には第１のガイド金物ｌ】と第２のガイド金物１２とが
設けられている。第１のガイド金物１１はガイド部１１
ａと、不図示のエア配管に接続される孔１１ｂと、シリ
ンダ部１１ｃとを有し、第２のガイド金物１２はガイド
部１２ａと不図示のエア配管に接続される孔１２ｂとシ
リンダ部１２ｃとを有している。指標取付金物１３は、
第１のガイド金物１１のガイド部１１ａと第２のガイド
金物１２のガイド部１２ａとによって矢印Ｚ方向へ案内
され、かつ孔１１ｂ、１２ｂを通してシリンダ部１１Ｃ
，１２Ｃに交互にエアを供給することによりＺ方向の推
力が与えられる。
方向く第２図の矢印２方向）に穴１０が形成され、そこ
には第１のガイド金物ｌ】と第２のガイド金物１２とが
設けられている。第１のガイド金物１１はガイド部１１
ａと、不図示のエア配管に接続される孔１１ｂと、シリ
ンダ部１１ｃとを有し、第２のガイド金物１２はガイド
部１２ａと不図示のエア配管に接続される孔１２ｂとシ
リンダ部１２ｃとを有している。指標取付金物１３は、
第１のガイド金物１１のガイド部１１ａと第２のガイド
金物１２のガイド部１２ａとによって矢印Ｚ方向へ案内
され、かつ孔１１ｂ、１２ｂを通してシリンダ部１１Ｃ
，１２Ｃに交互にエアを供給することによりＺ方向の推
力が与えられる。
指標取付金物１３の上端には指標１４が取付けられてい
る。そして、指標取付金物１３が上昇位置にあるときに
、指標１４が、ステージ１上の基板載置面２（第１図）
に載置される基板３（第２図）の表面と同じ高さになる
ように、また、指標取付金物１３が下降位置にあるとき
は、ステージ■の基板載置面２上に基板３が載置されて
も、基板３と干渉しない位置に指標１４が退避するよう
に、ガイド金物１１のシリンダ部１１ｃ内を移動するエ
ア受用つば部１３ａとシリンダＩＩＣの上下端との位置
関係が定められている。
る。そして、指標取付金物１３が上昇位置にあるときに
、指標１４が、ステージ１上の基板載置面２（第１図）
に載置される基板３（第２図）の表面と同じ高さになる
ように、また、指標取付金物１３が下降位置にあるとき
は、ステージ■の基板載置面２上に基板３が載置されて
も、基板３と干渉しない位置に指標１４が退避するよう
に、ガイド金物１１のシリンダ部１１ｃ内を移動するエ
ア受用つば部１３ａとシリンダＩＩＣの上下端との位置
関係が定められている。
このような構造であるから、ス、テージ１の基板載置面
２に基板を載置する前に、第２のガイド金物１２の孔１
２ｂからエアを供給して指標取付金物１３の下端に上方
への推力を与えると共に、第１のガイド金物１１の孔１
１ｂからエアを吸引して、エア受用つば部１３ａを第１
のガイド金物１１のシリンダ部１１ｃの上端に当接させ
る。それによって指標１４は、ステージ１上に基板が載
置されたときに基板の表面のある位置まで上昇し、その
位置に固定される（第２図実線位置）、この状態で、レ
チクルの位置決めを行うレチクル顕微鏡と基板の位置決
めを行なう基板顕微鏡の相対的な位置合わせを行なった
基板顕微鏡に対するステージの回転方向の補正を行なう
ために、指標１４を用いる。必要ならばステージ１を移
動する。
２に基板を載置する前に、第２のガイド金物１２の孔１
２ｂからエアを供給して指標取付金物１３の下端に上方
への推力を与えると共に、第１のガイド金物１１の孔１
１ｂからエアを吸引して、エア受用つば部１３ａを第１
のガイド金物１１のシリンダ部１１ｃの上端に当接させ
る。それによって指標１４は、ステージ１上に基板が載
置されたときに基板の表面のある位置まで上昇し、その
位置に固定される（第２図実線位置）、この状態で、レ
チクルの位置決めを行うレチクル顕微鏡と基板の位置決
めを行なう基板顕微鏡の相対的な位置合わせを行なった
基板顕微鏡に対するステージの回転方向の補正を行なう
ために、指標１４を用いる。必要ならばステージ１を移
動する。
位置合わせ、回転補正が行なわれると、それらの終了信
号によってステージ１の基板載置面２が基板を載置する
初期位置にくるようにステージｌが移動するが、それと
共に、第２のガイド金物１２の孔１２ｂからエアが吸引
され、同時に、第１のガイド金物１１の孔１１ｂへのエ
ア供給が行なわれる。それによって、指標１４は基板が
載置されても基板と干渉しない位置に退避する（第２図
２点鎖線位置）。
号によってステージ１の基板載置面２が基板を載置する
初期位置にくるようにステージｌが移動するが、それと
共に、第２のガイド金物１２の孔１２ｂからエアが吸引
され、同時に、第１のガイド金物１１の孔１１ｂへのエ
ア供給が行なわれる。それによって、指標１４は基板が
載置されても基板と干渉しない位置に退避する（第２図
２点鎖線位置）。
そして、マイクロスイッチ等でこの退避完が検出される
と、その検出信号によって、ステージｌの基板ｉ！載置
面に基板が載置される。
と、その検出信号によって、ステージｌの基板ｉ！載置
面に基板が載置される。
なお、以上の実施例では指標取付金物１３の移動をエア
によって行なったが、モータ等、他の駆動装置を用いて
も良いことは勿論である。
によって行なったが、モータ等、他の駆動装置を用いて
も良いことは勿論である。
また、上述の実施例では、ステージ１のほぼ中心に指標
１４が上下するような構成であった。
１４が上下するような構成であった。
しかしながら、ステージが初期位置（基準位置）にある
場合において、指標１４を観察するための顕微鏡の光軸
の通る位置に主旨標１４を上下するように配設すれば、
ステージ１の移動量が少なくてすみ好都合であるし、さ
らに、基板Ｒ画面２内なら指標をどこに設けても、従来
のものに比し、ステージの小型化、移動量の減少を達成
できる。
場合において、指標１４を観察するための顕微鏡の光軸
の通る位置に主旨標１４を上下するように配設すれば、
ステージ１の移動量が少なくてすみ好都合であるし、さ
らに、基板Ｒ画面２内なら指標をどこに設けても、従来
のものに比し、ステージの小型化、移動量の減少を達成
できる。
以上の様に本発明によれば、指標を露光される基板の載
置面内に設置しているので、指標を基板載置面外へ設置
する従来の場合よりステージを小型化できる効果がある
。又、指標が基板載置面内にあるのでステージ倒動範囲
が短縮される。更に、ステージ倒動範囲が基板載置面よ
り少なくても可能であり、この効用として、ステージを
走査して行なわれるアライメント時間の短縮も可能とな
る。
置面内に設置しているので、指標を基板載置面外へ設置
する従来の場合よりステージを小型化できる効果がある
。又、指標が基板載置面内にあるのでステージ倒動範囲
が短縮される。更に、ステージ倒動範囲が基板載置面よ
り少なくても可能であり、この効用として、ステージを
走査して行なわれるアライメント時間の短縮も可能とな
る。
第１図は、本発明によるステージの平面図である。第２
図は第１図のＡ−Ａ’矢視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２ ・・・・・・ 基板載置面 １０・・・・・・穴 １１ ・・・・・・ 第１のガイド金物１２ ・・・・
・・ 第２のガイド金物１３ ・・・・・・ 指標取付
金物 １４ ・・・・・・ 指標
図は第１図のＡ−Ａ’矢視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 ２ ・・・・・・ 基板載置面 １０・・・・・・穴 １１ ・・・・・・ 第１のガイド金物１２ ・・・・
・・ 第２のガイド金物１３ ・・・・・・ 指標取付
金物 １４ ・・・・・・ 指標
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被露光基板を載置する基板載置面が設けられると共に、
位置合せ指標の配設された基板露光装置のステージにお
いて、 前記基板載置面内に前記位置合せ指標を配設する一方、
前記基板載置面内に基板が載置されるときには該基板と
干渉しない位置に前記指標を退避させる退避手段を設け
たことを特徴とする基板露光装置のステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61254883A JPH0736380B2 (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 基板露光装置のステ−ジ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61254883A JPH0736380B2 (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 基板露光装置のステ−ジ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63108718A true JPS63108718A (ja) | 1988-05-13 |
| JPH0736380B2 JPH0736380B2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=17271158
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61254883A Expired - Lifetime JPH0736380B2 (ja) | 1986-10-27 | 1986-10-27 | 基板露光装置のステ−ジ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0736380B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5920378A (en) * | 1995-03-14 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
-
1986
- 1986-10-27 JP JP61254883A patent/JPH0736380B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5920378A (en) * | 1995-03-14 | 1999-07-06 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0736380B2 (ja) | 1995-04-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |