JPH0734224A - 珪素酸化物蒸着用材料及び蒸着フィルム - Google Patents
珪素酸化物蒸着用材料及び蒸着フィルムInfo
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Abstract
酸化物蒸着用材料において、金属珪素粉末及び二酸化珪
素粉末それぞれの平均粒径が20μm以下であり、かつ
これらの珪素原子と酸素原子との原子比が1:1.2〜
1.7であることを特徴とする珪素酸化物蒸着用材料。 【効果】 本発明の珪素酸化物蒸着用材料は、電子ビー
ム加熱法により蒸着した場合、パワーを上げてもスプラ
ッシュ現象などが生じないので、パワーを上げて蒸着速
度を向上させることができ、しかもバリア性と透明性に
優れた珪素酸化物薄膜を与えることができる。
Description
優れた珪素酸化物薄膜を電子ビーム加熱方式による真空
蒸着により生産性良く形成することができ、例えば食品
包装用プラスチックフィルム上に真空蒸着するために好
適に用いられる珪素酸化物蒸着用材料、及び該蒸着用材
料が蒸着された蒸着フィルムに関する。
プラスチックフィルム表面に珪素酸化物薄膜を蒸着させ
た透明バリアフィルムは、特公昭53−12953号公
報、特開平1−253434号公報等に開示されてい
る。
熱法のほか、最近は膜特性の向上を図るためスパッタリ
ング法や電子ビーム加熱法などが用いられるようになっ
てきた。
らより低コストの金属珪素と二酸化珪素の混合材料へ移
行しつつある。
子ビーム加熱法は、電子ビームのエネルギーを局部的に
集中し、効率よく蒸発できる利点はあるが、反面、特開
平3−15526号公報に記載されているように、金属
酸化物を蒸発させる場合、真空度の低下や蒸着速度が不
安定になり易く、電子ビームのパワーを上げていくと電
子のチャージアップによりビームが乱れたり、蒸発材料
が気化せず、粒状のまま飛散するスプラッシュ現象が発
生し、膜特性が劣化するなどの問題がある。
の金属を混合する等の方法がとられてきたが、透明のプ
ラスチックフィルムに金属珪素と二酸化珪素との混合物
を蒸着した場合、完全な無色透明性とバリア性を兼備し
た薄膜を得ることができなかった。
金属珪素と二酸化珪素の混合物の蒸着は、かえって抵抗
加熱法や誘導加熱法に比べて蒸着速度が低く、生産性が
悪いという問題があった。
で、電子ビーム加熱法により蒸着した場合、電子ビーム
のパワーを上げても安定な蒸発状態を維持でき、歩留ま
り良い上、蒸着速度が速いため生産性が良好で、かつ透
明性とバリア性に優れた珪素酸化物薄膜を形成すること
ができる珪素酸化物蒸着用材料及び該蒸着用材料が蒸着
された蒸着フィルムを提供することを目的とする。
記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、金属珪素
粉末と二酸化珪素粉末とを含む珪素酸化物蒸着用材料と
して、金属珪素粉末及び二酸化珪素粉末のそれぞれの平
均粒径が20μm以下であり、かつこれらの珪素原子と
酸素原子との原子比が1:1.2〜1:1.7とするこ
とが有効であることを知見した。
末とを用いる蒸着用材料粉末は、その平均粒径が数百μ
m〜数mm程度のものであったが、これを20μm以下
と極めて微細で表面積を大きくすることにより、電子ビ
ーム加熱法で蒸着した場合、電子のチャージアップを抑
制し、電子ビームのパワーを上げても安定な蒸発状態を
維持でき、このため歩留まりが良く、更にパワーを上げ
て蒸発させることができ、蒸発速度を高くし得るので生
産性が向上すると共に、珪素原子と酸素原子との原子比
を上記範囲とすることにより、透明性とバリア性との両
方を兼備した珪素酸化物薄膜が得られること、この珪素
酸化物薄膜が形成された蒸着フィルムは透明性とバリア
性とに優れていることを見い出し、本発明をなすに至っ
たものである。
珪素粉末とを含む珪素酸化物蒸着用材料において、金属
珪素粉末及び二酸化珪素粉末それぞれの平均粒径が20
μm以下であり、かつこれらの珪素原子と酸素原子との
原子比が1:1.2〜1:1.7であることを特徴とす
る珪素酸化物蒸着用材料、及び該珪素酸化物蒸着用材料
が蒸着されてなること特徴とする蒸着フィルムを提供す
る。
と、本発明の珪素酸化物蒸着用材料は、上述したよう
に、金属珪素粉末と二酸化珪素粉末とを用いるものであ
る。
末の平均粒径として20μm以下のもの、好ましくは1
0μm以下のものを使用する。平均粒径が20μmより
大きいと、電子ビーム加熱法により蒸発させる場合、電
子ビームのパワー変動が大きく、スプラッシュ現象が発
生し、このためパワーを上げることが困難であり、蒸発
速度が遅くなって、本発明の目的を達成できない。
二酸化珪素粉末中の珪素原子と酸素原子との原子比が
1:1.2〜1:1.7、好ましくは1:1.3〜1:
1.6の範囲とするものである。この比が1.2より低
いと蒸着膜が薄い黄色を呈し、透明性に劣り、一方、
1.7より高いとバリア性が著しく劣化し、いずれも本
発明の目的を達成できない。
は、上述したような金属珪素粉末と二酸化珪素粉末を用
いるものであるが、これらの純度及びその他の物性につ
いては従来用いられているものと同様とすることができ
る。
上記金属珪素粉末と二酸化珪素粉末とからのみ構成して
も良いが、必要に応じて他の成分、例えば一酸化珪素、
窒化珪素、炭化珪素等の粉末などを本発明の目的を損な
わない範囲で添加することもできる。
子ビーム加熱蒸着用として透明プラスチックフィルムの
蒸着に好適であり、透明性、バリア性に優れた珪素酸化
物薄膜を形成することができる。そのため耐電子レンジ
加熱用の食品用ラップフィルムの珪素酸化物薄膜形成な
どの用途に好適である。
着する場合、通常のピアス式や偏向型などの電子銃を用
いた電子線加熱による蒸着法を用いることができ、その
装置や蒸着方法は特に制限されず、これまでの装置、方
法をそのまま使用することが可能である。
ビーム加熱法により蒸着した場合、パワーを上げてもス
プラッシュ現象などが生じないので、パワーを上げて蒸
着速度を向上させることができ、しかもバリア性と透明
性に優れた珪素酸化物薄膜を与えることができる。ま
た、本発明の蒸着フィルムは、該珪素酸化物薄膜が形成
されているので、バリア性と透明性に優れる。
的に示すが、本発明は下記の実施例に制限されるもので
はない。
す粒径の金属珪素粉末と二酸化珪素粉末とを同表に示す
酸素原子/珪素原子比となるように混合し、金型プレス
にて40mm×50mm×15mmの角型に成形した。
ム加熱により、厚さ12μmのポリエステルフィルムに
真空蒸着した。真空蒸着の際、安定した蒸発が維持でき
る最大パワーを入射し、蒸着膜の膜厚がほぼ500Åと
なるように蒸着時間を調整した。
プラッシュ現象が発生しない最大パワー入射時における
蒸着速度を求め、この蒸着速度が1000Å/sec以
上を良好、1000Å/sec未満を不良と判定した。
(JIS Z 0208)により測定し、5g/m2・
day未満を良好と判定した。
Ubest−35)を用いて可視光領域の光の透過率
を測定し、その透過率が未蒸着のポリエステルフィルム
(12μm厚)とほぼ同等の場合に良品(○印)、明ら
かに低下している場合に不良品(×印)と判定した。こ
の光透過率測定結果の一例を図1に示す。不良品の場
合、黄色を示す300〜500nmの波長において、透
過率が低下しているが、良品は可視光全域にわたって未
蒸着フィルムと同等の透過率を示していることが明らか
である。
末のいずれかが20μmより平均粒径が大きい場合(比
較例1、2)は蒸着速度が低く、これらの平均粒径が2
0μm以下であっても酸素/珪素比が1.2より小さい
場合(比較例3)は得られる珪素酸化物膜の透明性が悪
く、この比が1.7より大きい場合(比較例4)はバリ
ア性が悪いことが認められる。
着速度が高く、かつバリア性、透明性に優れた珪素酸化
物膜が得られることが認められる。
光透過率測定のチャートである。
Claims (2)
- 【請求項1】 金属珪素粉末と二酸化珪素粉末とを含む
珪素酸化物蒸着用材料において、金属珪素粉末及び二酸
化珪素粉末のそれぞれの平均粒径が20μm以下であ
り、かつこれらの珪素原子と酸素原子との原子比が1:
1.2〜1:1.7であることを特徴とする珪素酸化物
蒸着用材料。 - 【請求項2】 請求項1記載の珪素酸化物蒸着用材料が
蒸着されてなることを特徴とする蒸着フィルム。
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DE69403145T DE69403145T2 (de) | 1993-07-20 | 1994-07-19 | Quellen für Siliziumoxidbeschichtung |
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Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5803617A (en) * | 1996-02-23 | 1998-09-08 | Nsk Ltd. | Rolling bearing unit with seal device |
JP2006278170A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sanyo Electric Co Ltd | リチウム二次電池用電極の製造方法 |
DE102007057306A1 (de) | 2006-11-29 | 2008-07-03 | Nsk Ltd. | Radlager-Wälzlagereinheit mit Dichtring |
JP2010235966A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Toppan Printing Co Ltd | SiOx成形体、およびガスバリア性フィルム |
JP2011063826A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着材料 |
JP2012052154A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着用材料とガスバリア性蒸着フィルム |
JP2012087390A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着用材料 |
JP2012184496A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着フィルム |
JP2013213280A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-10-17 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着用材料、ガスバリア性蒸着フィルムおよびガスバリア性蒸着フィルムの製造方法 |
WO2014021371A1 (ja) * | 2012-08-01 | 2014-02-06 | 株式会社 高千穂 | シラス構造体およびシラス構造体の製造方法 |
US9534635B2 (en) | 2005-10-04 | 2017-01-03 | Ntn Corporation | Wheel bearing apparatus |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2729131B1 (fr) * | 1995-01-09 | 1997-02-14 | Pechiney Electrometallurgie | Silicium et ferrosilicium metallurgique a basse teneur en oxygene |
CA2281265C (en) * | 1998-09-22 | 2003-12-16 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a nonlinear optical thin film |
US6003632A (en) * | 1998-09-25 | 1999-12-21 | Miller; Carlos Wayne | Tree stand ladder adapter |
EP1008443A1 (de) * | 1998-12-08 | 2000-06-14 | Alusuisse Technology & Management AG | Sterilisierbarer Folienverbund für Verpackungszwecke |
US20030150377A1 (en) * | 2000-08-31 | 2003-08-14 | Nobuhiro Arimoto | Silicon monoxide vapor deposition material, process for producing the same, raw material for producing the same, and production apparatus |
US20060266472A1 (en) * | 2005-05-06 | 2006-11-30 | Kipp Michael D | Vacuum bagging methods and systems |
US20080008836A1 (en) * | 2006-05-01 | 2008-01-10 | Kipp Michael D | Method for extending the useful life of mold type tooling |
US20080105997A1 (en) * | 2006-10-17 | 2008-05-08 | Ridges Michael D | Method for enhancing the sealing potential of formable, disposable tooling materials |
US20080106007A1 (en) * | 2006-10-17 | 2008-05-08 | Kipp Michael D | Resin infusion process utilizing a reusable vacuum bag |
WO2008070110A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-06-12 | American Consulting Technology & Research, Inc. | Shrinkable film barrier for mandrel tooling members |
EP2335138A4 (en) | 2008-08-15 | 2012-12-19 | Qualcomm Inc | ENHANCED MULTIPOINT DETECTION |
US9142804B2 (en) * | 2010-02-09 | 2015-09-22 | Samsung Display Co., Ltd. | Organic light-emitting device including barrier layer and method of manufacturing the same |
US20120067842A1 (en) * | 2010-03-19 | 2012-03-22 | Keller Timothy P | Oxygen regulation mechanism for a beverage gasket |
US10571619B2 (en) * | 2014-10-16 | 2020-02-25 | Toppan Printing Co., Ltd. | Quantum dot protective film, quantum dot film using same, and backlight unit |
US11745484B2 (en) * | 2020-10-08 | 2023-09-05 | Polymeric Film & Bags, Inc. | Pet sandwich layer |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD152120A1 (de) * | 1980-07-11 | 1981-11-18 | Rudolf Tuemmler | Verfahren zur herstellung von siliziumoxid als aufdampfmaterial |
DD159003A3 (de) * | 1981-02-12 | 1983-02-16 | Heinz Schicht | Verfahren zur herstellung von aufdampfmaterial zur erzeugung von siliziummonoxidschichten durch vakuumverdampfung |
US4671123A (en) * | 1984-02-16 | 1987-06-09 | Rainin Instrument Co., Inc. | Methods and apparatus for pipetting and/or titrating liquids using a hand held self-contained automated pipette |
US4563303A (en) * | 1984-04-14 | 1986-01-07 | Judicial Foundation The Chemosero-Therapeutic Research Institute | Method for purification of filamentous hemagglutinin |
US5085904A (en) * | 1990-04-20 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Barrier materials useful for packaging |
JPH0428858A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 蒸着用材料の製造方法 |
-
1993
- 1993-07-20 JP JP5200318A patent/JP2900759B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-07-15 US US08/276,058 patent/US5532063A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-19 EP EP94305279A patent/EP0636589B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-19 DE DE69403145T patent/DE69403145T2/de not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5803617A (en) * | 1996-02-23 | 1998-09-08 | Nsk Ltd. | Rolling bearing unit with seal device |
JP2006278170A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Sanyo Electric Co Ltd | リチウム二次電池用電極の製造方法 |
US7727580B2 (en) | 2005-03-29 | 2010-06-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing electrode for lithium secondary batteries |
US9534635B2 (en) | 2005-10-04 | 2017-01-03 | Ntn Corporation | Wheel bearing apparatus |
DE102006047014B4 (de) | 2005-10-04 | 2023-01-19 | Ntn Corp. | Radlagervorrichtung |
US9797453B2 (en) | 2005-10-04 | 2017-10-24 | Ntn Corporation | Wheel bearing apparatus |
DE102007057306A1 (de) | 2006-11-29 | 2008-07-03 | Nsk Ltd. | Radlager-Wälzlagereinheit mit Dichtring |
US7758249B2 (en) | 2006-11-29 | 2010-07-20 | Nsk Ltd. | Wheel support rolling bearing unit with seal ring |
JP2010235966A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Toppan Printing Co Ltd | SiOx成形体、およびガスバリア性フィルム |
JP2011063826A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-31 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着材料 |
JP2012052154A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着用材料とガスバリア性蒸着フィルム |
JP2012087390A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着用材料 |
JP2012184496A (ja) * | 2011-03-08 | 2012-09-27 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着フィルム |
JP2013213280A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-10-17 | Toppan Printing Co Ltd | 蒸着用材料、ガスバリア性蒸着フィルムおよびガスバリア性蒸着フィルムの製造方法 |
JP2014043644A (ja) * | 2012-08-01 | 2014-03-13 | Takachiho:Kk | シラス構造体およびシラス構造体の製造方法 |
WO2014021371A1 (ja) * | 2012-08-01 | 2014-02-06 | 株式会社 高千穂 | シラス構造体およびシラス構造体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69403145D1 (de) | 1997-06-19 |
DE69403145T2 (de) | 1998-02-05 |
EP0636589A1 (en) | 1995-02-01 |
US5532063A (en) | 1996-07-02 |
JP2900759B2 (ja) | 1999-06-02 |
EP0636589B1 (en) | 1997-05-14 |
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