JPH07335616A - ウエハ処理装置 - Google Patents

ウエハ処理装置

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Publication number
JPH07335616A
JPH07335616A JP12291094A JP12291094A JPH07335616A JP H07335616 A JPH07335616 A JP H07335616A JP 12291094 A JP12291094 A JP 12291094A JP 12291094 A JP12291094 A JP 12291094A JP H07335616 A JPH07335616 A JP H07335616A
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JP
Japan
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wafer
chamber
wafer processing
cleaning
processing chamber
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Application number
JP12291094A
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English (en)
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Mineichi Sato
峰一 佐藤
Masamichi Yoshida
正通 吉田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 異物の付着した部品を効率よく洗浄でき、ウ
エハ処理を効率よく行うことができ、さらにクリーン度
が悪化しないウエハ処理装置を提供する。 【構成】 ウエハ１に所定の処理を施すプラズマエッチ
ング室２と、これに隣接して設けられた第１および第２
のプラズマクリーニング室３ａ，３ｂと、これに隣接し
て設けられ、ウエハ１をストックするウエハストック室
４と、前記プラズマクリーニング室３ａ，３ｂをそれぞ
れ経由してプラズマエッチング室２とウエハストック室
４との間を移動可能に設けられ、ウエハ１の処理中にプ
ラズマエッチング室２内に留まる第１および第２のウエ
ハ搬送治具５ａ，５ｂとからなる。一方のウエハ搬送治
具５ａ，５ｂに保持されるウエハ１を処理しているとき
には、処理後のウエハ１をウエハストック室４に戻した
他方のウエハ搬送治具５ａ，５ｂが第１または第２のプ
ラズマクリーニング室３ａ，３ｂで洗浄される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はウエハ処理装置に関し、
特に、反応性ガスプラズマにより半導体ウエハ（以下単
に「ウエハ」という）のエッチング処理をおこなうウエ
ハ処理装置に適用して有効な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にウエハ処理工程と呼ばれる酸化、
ＣＶＤ、イオン注入、エッチング、スパッタリングの各
工程においては、ウエハがウエハ搬送部材に搬送されて
ウエハ処理装置内に導入され、所定の処理が施された後
に再びウエハ搬送部材によって取り出されている。
【０００３】このようなウエハ処理装置の一例としての
エッチング装置を詳しく記載している例としては、たと
えば、プレスジャーナル社発行、「月刊 Ｓｅｍｉｃｏ
ｎｄｕｃｔｏｒ Ｗｏｒｌｄ」１９９３年１０月号、Ｐ
５９〜Ｐ９４がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなウエハ処理
装置にあっては、たとえばエッチング装置のウエハ処理
室内で発生させるプラズマによってポリマーなどの反応
生成物である異物がウエハ周辺の部品に堆積する。異物
を放置するとこれが剥離してウエハが汚染されるおそれ
があるので、たとえば２０〜３０時間おきに装置を停止
して、異物の付着した部品をフロリナートなどの薬液に
浸漬して洗浄したり、あるいはこれを交換したりする必
要がある。
【０００５】このようなクリーニング時間としては一般
に３〜５時間程度が必要となり、一方、ウエハ１枚当た
りの処理時間は約１分程度であるので、１回のクリーニ
ングのために装置がストップしている時間をウエハ処理
枚数に換算すると約１８０〜３００枚になる。したがっ
て、装置のクリーニングサイクルを長くすることができ
れば全体としてクリーニング時間の短縮化になってウエ
ハの処理枚数を増加させることができ、装置の稼働率を
向上させることになる。
【０００６】ウエハ処理室自体をＯ2 プラズマによりク
リーニングすることも考えられるが、このようなクリー
ニングはウエハ処理室内にウエハがない状態で行わなけ
ればならないので、ウエハ処理室を空にする時間をとる
ことが必要となって装置の稼働率を低下させることにつ
ながり、望ましいことではない。
【０００７】プレスジャーナル社発行、「 '９４最新半
導体プロセス技術」（平成５年１１月２５日発行）、Ｐ
１４９においては、現状のエッチング装置に対して、
「（エッチング装置の）稼働率向上のためにはメンテナ
ンス性の向上が不可欠であり、メンテナンス時間の大半
を占めるクリーニング時間の短縮が必須である。チャン
バ分解、組立の行いやすさ、組立後の調整不要など、ま
だまだ不十分である。」と記載されており、上記のよう
なクリーニング時間の短縮による稼働率の向上が要求事
項の一つとして挙げられている。
【０００８】また、ポリマーなどの反応生成物が付着し
た部品がウエハ処理室内に位置していることは、該ウエ
ハ処理室内のクリーン度が悪化する原因になり、このこ
とが処理されたウエハの品質に悪影響を与えるおそれが
ある。
【０００９】そこで、本発明の目的は、異物の付着した
ウエハ処理室内の部品を効率よく洗浄することのできる
ウエハ処理技術を提供することにある。
【００１０】本発明の他の目的は、ウエハ処理室内にお
けるウエハ処理を効率よく行うことのできるウエハ処理
技術を提供することにある。
【００１１】本発明のさらに他の目的は、ウエハ処理室
内のクリーン度を異物によって悪化させることのないウ
エハ処理技術を提供することにある。
【００１２】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を説明すれば、次の通
りである。
【００１４】すなわち、本発明によるウエハ処理装置
は、ウエハに所定の処理を施すウエハ処理室と、このウ
エハ処理室に隣接して設けられた複数の洗浄室と、ウエ
ハ処理室と１つの洗浄室との間をそれぞれ移動可能に設
けられ、ウエハの処理中においてはウエハ処理室内に留
まる複数のウエハ搬送部材とからなるものである。そし
て、１つのウエハ搬送部材に保持されるウエハを搬送し
てウエハ処理室内で処理しているときには、ウエハが取
り出された他のウエハ搬送部材が洗浄室内で洗浄し得る
ようになっている。
【００１５】また、本発明によるウエハ処理装置は、ウ
エハに所定の処理を施すウエハ処理室と、このウエハ処
理室に隣接して設けられた第１および第２の洗浄室と、
ウエハ処理室と第１の洗浄室との間およびウエハ処理室
と第２の洗浄室との間をそれぞれ移動可能に設けられ、
ウエハの処理中においてはウエハ処理室内に留まる第１
および第２のウエハ搬送部材とからなるもので、第１ま
たは第２のウエハ搬送部材に保持されるウエハを搬送し
てウエハ処理室内で処理しているときに、ウエハが取り
出された第１または第２のウエハ搬送部材が洗浄室内で
洗浄し得るようになっている。
【００１６】そして、本発明によるウエハ処理装置は、
ウエハに所定の処理を施すウエハ処理室と、このウエハ
処理室に隣接して設けられた第１および第２の洗浄室
と、第１および第２の洗浄室に隣接して設けられ、ウエ
ハを一時的にストックしておくウエハストック室と、第
１の洗浄室を経由してウエハ処理室とウエハストック室
との間を移動可能に設けられ、ウエハの処理中において
はウエハ処理室内に留まる第１のウエハ搬送部材と、第
２の洗浄室を経由してウエハ処理室とウエハストック室
との間を移動可能に設けられ、ウエハの処理中において
はウエハ処理室内に留まる第２のウエハ搬送部材とから
なるものである。そして、第１または第２のウエハ搬送
部材に保持されるウエハを搬送してウエハ処理室内で処
理しているときに、処理後のウエハをウエハストック室
に戻した前記第１または第２のウエハ搬送部材が洗浄室
内で洗浄し得るようになっている。
【００１７】これらの場合において、前記ウエハ処理室
は下部電極および外周に電極カバーが位置する上部電極
が設けられて反応性ガスプラズマによりウエハをエッチ
ングするプラズマエッチング室であり、前記洗浄室はウ
エハ搬送部材に付着した反応生成物をＯ2 プラズマにて
洗浄するプラズマクリーニング室であり、前記ウエハ搬
送部材はウエハ処理中において下部電極の外周位置に留
まって電極カバーを兼用する環状形状とすることができ
る。さらに、上部電極の外周に位置する電極カバーをプ
ラズマクリーニング室に移動可能として、付着した反応
生成物をＯ2 プラズマにて洗浄することも可能である。
【００１８】
【作用】上記のような構成のウエハ処理装置によれば、
ウエハ処理中においてウエハ処理室内に留まって異物の
付着するウエハ搬送部材が１回のウエハ処理毎に洗浄室
において洗浄されるので、異物によるウエハ処理室内の
汚染の進行を遅らせることができる。したがって、クリ
ーニングサイクルを長くすることで装置の停止時間を減
少させることができ、ウエハ処理を効率よく行うことが
可能になる。
【００１９】また、ウエハ処理室を洗浄するときにおけ
る洗浄部品の点数を減少させることができるので、ウエ
ハ処理室内の汚染部品を効率よく洗浄することができ
る。
【００２０】さらに、異物が付着するウエハ搬送部材が
１回のエッチング処理毎にウエハ処理室から取り出され
て洗浄されるので、ウエハ処理室内のクリーン度の悪化
を防止することが併せて可能になり、エッチング処理に
おける不良品のウエハの発生を未然に阻止することがで
きる。
【００２１】そして、複数のウエハ搬送部材の動作タイ
ミングを異ならせることによって、ウエハ処理室内での
ウエハ処理が次々と行われることになるので、ウエハ処
理室が空の状態になる時間を最小限にすることができ、
装置の稼働率の向上を図ることができる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳
細に説明する。
【００２３】図１は本発明の一実施例であるウエハ処理
装置を示す概略的平面図、図２はそのウエハ処理装置に
用いられたウエハ搬送部材を示す斜視図、図３はそのウ
エハ処理装置の一部を示す説明図である。
【００２４】本実施例のウエハ処理装置は、ウエハ１に
エッチング処理を施すプラズマエッチング装置であり、
図１に示すように、４つの部屋に分割されて構成されて
いるものである。すなわち、図面右上方に位置するプラ
ズマエッチング室（ウエハ処理室）２と、このプラズマ
エッチング室２に隣接するようにして左上方および右下
方に位置する第１および第２のプラズマクリーニング室
（第１および第２の洗浄室）３ａ，３ｂと、第１および
第２のプラズマクリーニング室３ａ，３ｂに隣接するよ
うにして左下方に位置するウエハストック室４である。
【００２５】また、第１のプラズマクリーニング室３ａ
を原点にしてプラズマエッチング室２とウエハストック
室４との間を移動可能に第１のウエハ搬送治具（第１の
ウエハ搬送部材）５ａが設けられ、第２のプラズマクリ
ーニング室３ｂを原点にしてプラズマエッチング室２と
ウエハストック室４との間を移動可能に第２のウエハ搬
送治具（第２のウエハ搬送部材）５ｂが設けられてい
る。たとえばアルミナセラミックにより形成された第１
および第２のウエハ搬送治具５ａ，５ｂは、図２に示す
ように、貫通孔５ａ1,５ｂ1 が開設されて内周に段部５
ａ2,５ｂ2 が形成された環状形状とされており、この段
部５ａ2,５ｂ2 に載置されるようにして１枚のウエハ１
が第１および第２のウエハ搬送治具５ａ，５ｂに支持さ
れるものである。さらに、ウエハストック室４と外部と
の間を移動可能にキャリアカセット６が設けられ、この
キャリアカセット６には複数枚のウエハ１が収容される
ようになっている。そして、ウエハストック室４におい
てキャリアカセット６と第１および第２のウエハ搬送治
具間５ａ，５ｂでウエハ１の受け渡しが行われる。
【００２６】プラズマエッチング室２は反応性ガスプラ
ズマを利用してウエハ１にエッチング処理を施すもの
で、図３に示すように、図面左側に位置するプラズマエ
ッチング室２内の上下に平行平板形の上部電極７ａと下
部電極７ｂとがそれぞれ設けられたコンデンサ形プラズ
マエッチング装置である。そして、たとえばＣＦ4 を反
応ガスとして室内に導いて前記上部および下部電極７
ａ，７ｂによってプラズマを発生させ、ウエハ１の表面
に形成された薄膜をエッチングするようになっている。
【００２７】上部電極７ａの外周には、放電領域を絞る
ための電極カバー８が固定されている。一方、プラズマ
エッチングによって発生するポリマーなどの反応生成物
（異物）９（図３）によって最も汚染される部位である
下部電極７ｂの外周には、電極カバーを兼用する第１お
よび第２のウエハ搬送治具５ａ，５ｂが位置するように
なっている。すなわち、図示するように、ウエハ１をプ
ラズマエッチング室２内に搬入した第１および第２のウ
エハ搬送治具５ａ，５ｂは、そのまま下降して貫通孔５
ａ1,５ｂ1 が下部電極に嵌合し、上部電極７ａの電極カ
バー８と同様に下部電極７ｂの外周に位置するようにな
っている。このとき、第１および第２のウエハ搬送治具
５ａ，５ｂに支持されたウエハ１は、第１および第２の
ウエハ搬送治具５ａ，５ｂが下降して下部電極７ｂに嵌
合するときに、これから取り残されるようにして下部電
極７ｂの上面に載置される。したがって、ウエハ１の処
理中においては、第１および第２のウエハ搬送治具５
ａ，５ｂはプラズマエッチング室２内に留まることにな
り、その上面には多量の反応生成物９が付着することに
なる。
【００２８】なお、プラズマエッチング室２におけるエ
ッチング方式は、このようなコンデンサ形のプラズマエ
ッチング以外にも、誘導コイル形やマイクロウエーブ放
電形によるプラズマエッチング方式、あるいはスパッタ
エッチング、イオンビームエッチングなどの他のドライ
エッチング方式、さらにはスプレーエッチング、ジェッ
トエッチングなどの種々のウェットエッチング方式を採
用することもできる。
【００２９】このプラズマエッチング室２と隣接して設
けられた第１および第２のプラズマクリーニング室３
ａ，３ｂは、反応生成物９の付着した第１および第２の
ウエハ搬送治具５ａ，５ｂを洗浄するためのものであ
り、プラズマエッチング室２と同様の上部電極１０ａお
よび下部電極１０ｂが設けられている。そして、たとえ
ばＯ2 を反応ガスとして室内に導いてＯ2 プラズマを発
生させ、これに付着した反応生成物９を洗浄するように
なっている。
【００３０】そして、第１および第２のプラズマクリー
ニング室３ａ，３ｂに隣接して設けられたウエハストッ
ク室４では、エッチング処理されるウエハ１がキャリア
カセット６に収容されて一時的にストックされるように
なっている。また、前記したように、このウエハストッ
ク室４においては、外部とウエハストック室４との間を
移動するキャリアカセット６と第１または第２のプラズ
マクリーニング室３ａ，３ｂを経由してプラズマエッチ
ング室２とウエハストック室４との間を移動する第１お
よび第２のウエハ搬送治具５ａ，５ｂとの間でウエハ１
の受け渡しが１枚ずつ行われるようになっている。
【００３１】次に、このような構成を有するウエハ処理
装置によるウエハ１の処理手順を第１および第２のウエ
ハ搬送治具５ａ，５ｂの動作を基にして説明する。な
お、第１のウエハ搬送治具５ａと第２のウエハ搬送治具
５ｂとは、動作タイミングが同期していないだけで動作
内容自体はほぼ同様のものである。したがって、以下の
説明においては第１のウエハ搬送治具５ａの動作を中心
に説明し、第２のウエハ搬送治具５ｂについては第１の
ウエハ搬送治具５ａとの関連においてその動作タイミン
グを説明する。
【００３２】外部において複数枚のウエハ１が収容され
てウエハストック室４に移動したキャリアカセット６か
らは、図示しないハンドによってウエハ１が１枚取り出
され、第１のウエハ搬送治具５ａに受け渡される。ウエ
ハ１を保持した第１のウエハ搬送治具５ａは第１のプラ
ズマクリーニング室３ａを通ってプラズマエッチング室
２内に移動し、下降して下部電極７ｂに嵌合して放電領
域を絞る電極カバーとしての機能を付与される。一方、
第１のウエハ搬送治具５ａに搬送されたウエハ１はその
下降動作によって下部電極７ｂの上に載置される。そし
て、交流電源によって上部および下部電極７ａ，７ｂに
電圧が印加され、上部の電極カバー８および下部の第１
のウエハ搬送治具５ａによって放電領域が絞り込まれた
状態でプラズマ放電が行われ、反応ガスであるＣＦ4 に
よってウエハ１の表面に形成された薄膜の所定部分がエ
ッチングされることになる。ここで、ウエハ１のエッチ
ング中においてプラズマエッチング室２内の下部電極７
ｂの外周位置、すなわち最汚染区域に留まる第１のウエ
ハ搬送治具５ａの上面には、図３に示すように、ポリマ
ーなどの反応生成物９が多量に付着する。
【００３３】エッチング処理が終了すると、第１のウエ
ハ搬送治具５ａは上昇してウエハ１を保持し、この状態
で第１のプラズマクリーニング室３ａを通ってウエハス
トック室４内に移動する。ウエハストック室４では、第
１のウエハ搬送治具５ａに搬送されたウエハ１がハンド
によって取り出されて待機しているキャリアカセット６
に収容される。
【００３４】このような一連のウエハ処理工程が完了し
た第１のウエハ搬送治具５ａはウエハストック室４から
隣接する第１のプラズマクリーニング室３ａに戻り、こ
の第１のプラズマクリーニング室３ａの中でＯ2 プラズ
マによって洗浄される。すなわち、前記したように、エ
ッチング中においてプラズマエッチング室２の中に留ま
っていた第１のウエハ搬送治具５ａにはポリマーなどの
反応生成物９が付着しており、これがＯ2 プラズマ雰囲
気中でクリーニングされるものである。
【００３５】このように、第１のウエハ搬送治具５ａに
最汚染区域に位置する電極カバーとしての機能を付与し
てウエハ処理中においてプラズマエッチング室２内に留
まるようにし、第１のプラズマクリーニング室３ａを設
けてこれに付着したポリマーなどの反応生成物９をＯ2
プラズマによって洗浄するようにしたことで、プラズマ
エッチング室２内の汚染部品が効率よく洗浄されること
になる。
【００３６】すなわち、プラズマエッチング室２におい
て最も多く反応生成物９が付着する第１のウエハ搬送治
具５ａを１回のエッチング処理ごとに第１のプラズマク
リーニング室３ａで洗浄することによって、反応生成物
９によるプラズマエッチング室２内の汚染の進行を遅ら
せることができ、これによってクリーニングサイクルを
長くすることが可能になるとともに、プラズマエッチン
グ室２を洗浄するときの洗浄部品の点数を減少させるこ
とができるからである。
【００３７】そして、これによって全体としてのウエハ
１の処理枚数を増加させることができ、ウエハ処理装置
の停止時間の減少を図ることで稼働率を向上させること
が可能になる。
【００３８】また、ポリマーなどの反応生成物９が最も
多く付着する第１のウエハ搬送治具５ａが１回のエッチ
ング処理毎にプラズマエッチング室２から取り出されて
洗浄されるので、プラズマエッチング室２内のクリーン
度の悪化を防止することが併せて可能になり、エッチン
グ処理における不良品のウエハ１の発生を未然に阻止す
ることができる。
【００３９】第１のプラズマクリーニング室３ａからウ
エハストック室４への移動に始まった第１のウエハ搬送
治具５ａの１サイクルは、このような第１のプラズマク
リーニング室３ａにおけるＯ2 プラズマによるクリーニ
ングの終了によってクローズすることになる。
【００４０】ここで、ウエハ１が第１のウエハ搬送治具
５ａに搬送され、プラズマエッチング室２でエッチング
処理を施されているときには、第１のウエハ搬送治具５
ａと異なる動作タイミングでほぼ同様に動作される第２
のウエハ搬送治具５ｂは、エッチング処理の終了した他
のウエハ１をキャリアカセット６に受け渡し、第２のプ
ラズマクリーニング室３ｂにおいて付着したポリマーな
どの反応生成物９が洗浄される。そして、第１のウエハ
搬送治具５ａによるウエハ１のエッチング処理終了から
第１のプラズマクリーニング室３ａによる洗浄動作に対
応して、ウエハストック室４から未処理のさらに他のウ
エハ１をプラズマエッチング室２に搬入するようになっ
ている。
【００４１】したがって、第１のウエハ搬送治具５ａと
第２のウエハ搬送治具５ｂとは、一方がウエハ１をプラ
ズマエッチング室２に搬入してエッチング処理動作を行
っているときに、他方がウエハ１をプラズマエッチング
室２から搬出して自ら洗浄される動作が行われるよう
に、動作タイミングを相互に異ならせて設けられてい
る。そして、このように動作タイミングを異ならせるこ
とによって、プラズマエッチング室２内でのエッチング
処理が第１および第２のウエハ搬送治具５ａ，５ｂによ
って交互に行われることになるので、プラズマエッチン
グ室２が空の状態になる時間を最小限にすることがで
き、ウエハ処理の一工程であるエッチング処理が効率よ
く行われることになる。
【００４２】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００４３】たとえば、前記実施例においては本発明に
よるウエハ処理装置をウエハ１にエッチング処理を施す
装置に適用したものを示したが、このようなウエハ処理
装置以外にも、たとえばＣＶＤ装置やスパッタ装置など
のようなウエハ処理装置に適用することも可能である。
【００４４】また、本実施例においては、２つの第１お
よび第２のプラズマクリーニング室３ａ，３ｂが設けら
れ、これに対応して２つの第１および第２のウエハ搬送
治具５ａ，５ｂが設けられているが、本発明によるプラ
ズマクリーニング室３ａ，３ｂおよびウエハ搬送治具５
ａ，５ｂの数は、これらに限定されるものではなく、複
数である限りそれぞれ必要な数だけ任意に設けることが
できる。さらに、ウエハ１をストックしておくウエハス
トック室４は必須のものではなく、たとえば第１および
第２のウエハ搬送治具５ａ，５ｂによって外部から直接
に第１または第２のプラズマクリーニング室３ａ，３ｂ
を通ってウエハ処理室であるプラズマエッチング室２に
ウエハ１を搬入することもできる。
【００４５】ウエハ搬送治具５ａ，５ｂの材質について
も、本実施例のそれにおいてはアルミナセラミックが用
いられているが、これ以外にもフッ素樹脂やＳＰポリイ
ミド樹脂などの種々の樹脂材、あるいは樹脂コーティン
グのアルミニウムなどを使用することが考えられる。同
様に、反応ガスについてもＣＦ4 以外の他の種々のもの
を用いることが可能である。
【００４６】そして、本実施例においては、ウエハ処理
室であるプラズマエッチング室２の上部電極７ａの回り
に設けられた電極カバー８は固定式となっているが、図
４に示すように、これをいずれかのウエハ搬送治具５
ａ，５ｂと連動させて移動可能とし、洗浄室であるプラ
ズマクリーニング室３ａ，３ｂで洗浄することも考えら
れる。
【００４７】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以
下の通りである。
【００４８】(1).すなわち、本発明のウエハ処理装置に
よれば、ウエハ処理中においてウエハ処理室内に留まっ
て異物の付着するウエハ搬送部材が、１回のウエハ処理
毎に洗浄室において洗浄されるので、異物によるウエハ
処理室内の汚染の進行を遅らせることができる。そし
て、これによってウエハ処理室のクリーニングサイクル
を長くすることが可能になるので、全体として装置の停
止時間を減少させることができ、ウエハの処理枚数の増
加を図ることが、すなわちウエハ処理を効率よく行うこ
とができる。
【００４９】(2).また、ウエハ処理室を洗浄するときに
おける洗浄部品の点数を減少させることができるので、
ウエハ処理室内の汚染部品を効率よく洗浄することがで
きる。
【００５０】(3).異物が付着するウエハ搬送部材が１回
のエッチング処理毎にウエハ処理室から取り出されて洗
浄されるので、ウエハ処理室内のクリーン度の悪化を防
止することが併せて可能になり、エッチング処理におけ
る不良品のウエハの発生を未然に阻止することができ
る。
【００５１】(4).複数のウエハ搬送部材の動作タイミン
グを異ならせることによって、ウエハ処理室内でのウエ
ハ処理が順次連続して行われることになるので、ウエハ
処理室が空の状態になる時間を最小限にすることがで
き、装置の稼働率の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例であるウエハ処理装置を示す
概略的平面図である。
【図２】そのウエハ処理装置に用いられたウエハ搬送部
材を示す斜視図である。
【図３】そのウエハ処理装置の一部を示す説明図であ
る。
【図４】本発明の他の実施例によるウエハ搬送装置の一
部を示す説明図である。
【符号の説明】
１ ウエハ ２ プラズマエッチング室（ウエハ処理室） ３ａ 第１のプラズマクリーニング室（第１の処理
室） ３ｂ 第２のプラズマクリーニング室（第２の処理
室） ４ ウエハストック室 ５ａ 第１のウエハ搬送治具（第１のウエハ搬送部
材） ５ａ1 貫通孔 ５ａ2 段部 ５ｂ 第２のウエハ搬送治具（第２のウエハ搬送部
材） ５ｂ1 貫通孔 ５ｂ2 段部 ６ キャリアカセット ７ａ 上部電極 ７ｂ 下部電極 ８ 電極カバー ９ 反応生成物（異物） １０ａ 上部電極 １０ｂ 下部電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｄ 21/68 Ａ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウエハに所定の処理を施すウエハ処理室
    と、 前記ウエハ処理室に隣接して設けられた複数の洗浄室
    と、 前記ウエハ処理室と１つの前記洗浄室との間をそれぞれ
    移動可能に設けられ、前記ウエハの処理中においては前
    記ウエハ処理室内に留まる複数のウエハ搬送部材とから
    なり、 １つの前記ウエハ搬送部材に保持される前記ウエハを搬
    送して前記ウエハ処理室内で処理しているときに、前記
    ウエハが取り出された他の前記ウエハ搬送部材を前記洗
    浄室内で洗浄し得るようにしたことを特徴とするウエハ
    処理装置。
  2. 【請求項２】 ウエハに所定の処理を施すウエハ処理室
    と、 前記ウエハ処理室に隣接して設けられた第１および第２
    の洗浄室と、前記ウエハ処理室と前記第１の洗浄室との
    間および前記ウエハ処理室と前記第２の洗浄室との間を
    それぞれ移動可能に設けられ、前記ウエハの処理中にお
    いては前記ウエハ処理室内に留まる第１および第２のウ
    エハ搬送部材とからなり、 前記第１または第２のウエハ搬送部材に保持されるウエ
    ハを搬送して前記ウエハ処理室内で処理しているとき
    に、前記ウエハが取り出された前記第１または第２のウ
    エハ搬送部材を前記洗浄室内で洗浄し得るようにしたこ
    とを特徴とするウエハ処理装置。
  3. 【請求項３】 ウエハに所定の処理を施すウエハ処理室
    と、 前記ウエハ処理室に隣接して設けられた第１および第２
    の洗浄室と、 前記第１および第２の洗浄室に隣接して設けられ、前記
    ウエハを一時的にストックしておくウエハストック室
    と、 前記第１の洗浄室を経由して前記ウエハ処理室と前記ウ
    エハストック室との間を移動可能に設けられ、前記ウエ
    ハの処理中においては前記ウエハ処理室内に留まる第１
    のウエハ搬送部材と、 前記第２の洗浄室を経由して前記ウエハ処理室と前記ウ
    エハストック室との間を移動可能に設けられ、前記ウエ
    ハの処理中においては前記ウエハ処理室内に留まる第２
    のウエハ搬送部材とからなり、 前記第１または第２のウエハ搬送部材に保持されるウエ
    ハを搬送して前記ウエハ処理室内で処理しているとき
    に、処理後の前記ウエハを前記ウエハストック室に戻し
    た前記第１または第２のウエハ搬送部材を前記洗浄室内
    で洗浄し得るようにしたことを特徴とするウエハ処理装
    置。
  4. 【請求項４】 前記ウエハ処理室は下部電極および外周
    に電極カバーが位置する上部電極が設けられて反応性ガ
    スプラズマによりウエハをエッチングするプラズマエッ
    チング室であり、 前記洗浄室は前記ウエハ搬送部材に付着した反応生成物
    をＯ2 プラズマにて洗浄するプラズマクリーニング室で
    あり、 前記ウエハ搬送部材はウエハ処理中において前記下部電
    極の外周位置に留まって電極カバーを兼用する環状形状
    とされていることを特徴とする請求項１、２または３記
    載のウエハ処理装置。
  5. 【請求項５】 前記上部電極の外周に位置する前記電極
    カバーが前記プラズマクリーニング室に移動可能とされ
    て、付着した反応生成物がＯ2 プラズマにて洗浄される
    ことを特徴とする請求項４記載のウエハ処理装置。
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