JPH07330472A - 回転式の釉及び装飾を施す、特にセラミック・タイル用の装置 - Google Patents
回転式の釉及び装飾を施す、特にセラミック・タイル用の装置Info
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- JPH07330472A JPH07330472A JP6313824A JP31382494A JPH07330472A JP H07330472 A JPH07330472 A JP H07330472A JP 6313824 A JP6313824 A JP 6313824A JP 31382494 A JP31382494 A JP 31382494A JP H07330472 A JPH07330472 A JP H07330472A
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- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
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- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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Abstract
(57)【要約】
【目的】タイルの生産速度以上の速度で連続転写可能で
タイルの角にも釉の転移可能な装置を得る。 【構成】タイルの支持面が、エラストマ材料製でその上
に夫々少量の釉を受容し得る微細な窪みを有する母型が
刻まれている滑らかな外側の肌を有する弾性的変形可能
な外周部分を有する母型シリンダの下を同期して通っ
て、タイルの表面は母型シリンダから釉の転移を受け
る。肌と接触するように配置されたドクタは、過剰な釉
及び肌上にある挟雑物も擦り取ると共に、釉を混ぜて新
しくした釉で窪みを少なくとも部分的に再充填する。母
型シリンダは支持面上に配置されて、タイルが支持面上
を移動する時にタイルの上方表面上を引摺ることなしに
その上で回転する。
タイルの角にも釉の転移可能な装置を得る。 【構成】タイルの支持面が、エラストマ材料製でその上
に夫々少量の釉を受容し得る微細な窪みを有する母型が
刻まれている滑らかな外側の肌を有する弾性的変形可能
な外周部分を有する母型シリンダの下を同期して通っ
て、タイルの表面は母型シリンダから釉の転移を受け
る。肌と接触するように配置されたドクタは、過剰な釉
及び肌上にある挟雑物も擦り取ると共に、釉を混ぜて新
しくした釉で窪みを少なくとも部分的に再充填する。母
型シリンダは支持面上に配置されて、タイルが支持面上
を移動する時にタイルの上方表面上を引摺ることなしに
その上で回転する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はタイルのための可動な支
持面を具備し、その上で、エラストマ材料で作られ、そ
の上に微小な窪みの形状で母型が刻まれる滑らかな外側
の肌を有する弾性的に変形可能な外周部分を有する、母
型シリンダを作動させる。肌に触れるように配置される
ドクタは、肌の上に堆積した余分な釉及び何等かの挟雑
物を擦り取る作業と、更に加えて釉を再び混合して、新
しくした釉で少なくとも部分的に窪みを再び満たす作業
を行う。母型シリンダは支持面の上に配置され、タイル
が支持面上で移動する時にタイルの上方表面上で引摺る
ことなしに回転する。
持面を具備し、その上で、エラストマ材料で作られ、そ
の上に微小な窪みの形状で母型が刻まれる滑らかな外側
の肌を有する弾性的に変形可能な外周部分を有する、母
型シリンダを作動させる。肌に触れるように配置される
ドクタは、肌の上に堆積した余分な釉及び何等かの挟雑
物を擦り取る作業と、更に加えて釉を再び混合して、新
しくした釉で少なくとも部分的に窪みを再び満たす作業
を行う。母型シリンダは支持面の上に配置され、タイル
が支持面上で移動する時にタイルの上方表面上で引摺る
ことなしに回転する。
【０００２】
【従来の技術】本発明は、セラミック・タイルに釉を与
え且つ装飾を施すための回転式装置、及びそのための方
法に関する。
え且つ装飾を施すための回転式装置、及びそのための方
法に関する。
【０００３】今日、セラミック・タイルに装飾的に釉を
施すために、シルク・スクリーン方法或いはフレキソ印
刷方法の何れかが使用される。
施すために、シルク・スクリーン方法或いはフレキソ印
刷方法の何れかが使用される。
【０００４】平らな或いは回転円筒型のスクリーンの何
れかを使用するシルク・スクリーン方法には数多くの欠
点がある。例えば、ハーフ・トーンを得ることは難し
く、スクリーンが平らであっても或いは円筒型であって
も、その構造のために、上方表面が側部表面と接するタ
イルの縁部上に装飾を印刷することは不可能である。こ
の欠点は、装飾パターンの良い複写が、タイルとの良い
接触が保証される縁部から離れた所でのみ完璧になり得
るという従来の技術に於て特に明白である。
れかを使用するシルク・スクリーン方法には数多くの欠
点がある。例えば、ハーフ・トーンを得ることは難し
く、スクリーンが平らであっても或いは円筒型であって
も、その構造のために、上方表面が側部表面と接するタ
イルの縁部上に装飾を印刷することは不可能である。こ
の欠点は、装飾パターンの良い複写が、タイルとの良い
接触が保証される縁部から離れた所でのみ完璧になり得
るという従来の技術に於て特に明白である。
【０００５】上記の方法の別の欠点は、仕事場で作業の
連続性を有すること、装置の能率を制御すること、及び
スクリーンそれら自身をきれいにすることが必要とされ
ることである。
連続性を有すること、装置の能率を制御すること、及び
スクリーンそれら自身をきれいにすることが必要とされ
ることである。
【０００６】別の欠点は、スクリーンの限定された寿命
及び連続した印刷スクリーンにできないことである。
及び連続した印刷スクリーンにできないことである。
【０００７】フレキソ印刷方法も、上記の欠点の幾つか
を持ち、更に加えてそれ固有の幾つかの不都合も示す：
例えば非常に少量の釉のみを使って印刷することは不可
能であり、また印刷工程を頻繁に行いすぎると、タイ
ル、特に未だ窯焼きされていないタイルの破損を実際に
もたらす。
を持ち、更に加えてそれ固有の幾つかの不都合も示す：
例えば非常に少量の釉のみを使って印刷することは不可
能であり、また印刷工程を頻繁に行いすぎると、タイ
ル、特に未だ窯焼きされていないタイルの破損を実際に
もたらす。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主な目的は、
高速で且つ生産ラインの速度を制限しないものであり、
且つ最終の装飾の質を検査することと、印刷表面をきれ
いに保ち、それらを保護してスクリーンが長い生産寿命
を有し得るようにするための作業者を常時備える必要が
ない、セラミック・タイルに装飾を施し釉を与えるため
の、回転式装置を提供することによって従来の技術の上
記で説明された欠点を除去することである。
高速で且つ生産ラインの速度を制限しないものであり、
且つ最終の装飾の質を検査することと、印刷表面をきれ
いに保ち、それらを保護してスクリーンが長い生産寿命
を有し得るようにするための作業者を常時備える必要が
ない、セラミック・タイルに装飾を施し釉を与えるため
の、回転式装置を提供することによって従来の技術の上
記で説明された欠点を除去することである。
【０００９】本発明は、高レベルの印刷の質を維持しつ
つ、窯焼きされていない及び変形したタイルにも破損を
もたらすことなしに装飾を施す。
つ、窯焼きされていない及び変形したタイルにも破損を
もたらすことなしに装飾を施す。
【００１０】本発明の別の長所の特徴は：それが連続的
にハーフ・トーンの印刷ができることと；それが、印刷
スクリーンを損傷することなしに、上部表面が側部表面
に接する、タイルの縁部の表面に装飾を印刷することで
ある。
にハーフ・トーンの印刷ができることと；それが、印刷
スクリーンを損傷することなしに、上部表面が側部表面
に接する、タイルの縁部の表面に装飾を印刷することで
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】可動支持面の上でセラミ
ック・タイルが予め設定された方向に運ばれる前記タイ
ルのための前記可動支持面と；前記支持面上に配置さ
れ、母型シリンダの軸の周りを回転して動くことがで
き、複数の窪みからできている母型がその上に刻まれ
た、エラストマ材料で作られた滑らかなシリンダ型の外
側表面の肌を周囲に持つ少なくとも１つの弾性的変形可
能な部分を有する前記母型シリンダを具備する回転式の
装飾及び釉を施す器具と；母型シリンダの肌と接触して
それを擦り、その上に堆積されてそれに付着した釉の過
剰分をそこから取り除くように働らく少なくとも１つの
第１のドクタと；を具備し：前記母型シリンダを、その
軸の周りで回転でき、前記肌が前記支持面上で移動する
タイルの表面を引摺ることなしに、その表面上に予め設
定された圧力を加えて回転するように支持面に対して調
節可能とする装置により本発明の目的とする装飾及び釉
を施すための、特にセラミック・タイル用の、回転式装
置が得られる。
ック・タイルが予め設定された方向に運ばれる前記タイ
ルのための前記可動支持面と；前記支持面上に配置さ
れ、母型シリンダの軸の周りを回転して動くことがで
き、複数の窪みからできている母型がその上に刻まれ
た、エラストマ材料で作られた滑らかなシリンダ型の外
側表面の肌を周囲に持つ少なくとも１つの弾性的変形可
能な部分を有する前記母型シリンダを具備する回転式の
装飾及び釉を施す器具と；母型シリンダの肌と接触して
それを擦り、その上に堆積されてそれに付着した釉の過
剰分をそこから取り除くように働らく少なくとも１つの
第１のドクタと；を具備し：前記母型シリンダを、その
軸の周りで回転でき、前記肌が前記支持面上で移動する
タイルの表面を引摺ることなしに、その表面上に予め設
定された圧力を加えて回転するように支持面に対して調
節可能とする装置により本発明の目的とする装飾及び釉
を施すための、特にセラミック・タイル用の、回転式装
置が得られる。
【００１２】更に、前記肌によって覆われた前記弾性的
変形可能な周囲の部分に、高弾性変形能力を有する海綿
状の内側層と、より密に詰って、同じく弾性的変形可能
な外側層とを具備させたり、内側層をシリコーン気泡体
で作り、外側層がシリコーン・ゴムで作ったり、母型
を、少量の釉をその中に受容するようにされた複数の窪
みから構成し、その窪みが、ほぼ一定の幅深さ比を有す
るようにしたり、第１のドクタを、母型シリンダの軸に
平行して交番して振動させ、且つ母型シリンダの肌に対
する傾斜を色々に調節でき；前記第１のドクタが、擦り
取ってきれいにする働きと、母型シリンダの各回転で、
少なくとも部分的に窪みを釉で再充填する釉の再混合の
働きとを兼ね備えるようにしたり、母型シリンダの回転
での第１のドクタの上流に配置される第２のドクタを具
備させたり、母型シリンダの弾性的変形可能な周囲の部
分が、シリンダ型中央部の両端部に固着され前記肌と同
じ外側直径を有し且つそれと同軸である２つのクラウン
を有する前記シリンダ型中央部に固定され；クラウンの
夫々が少なくとも１つの外側の環状溝を有するようにし
たり、夫々のクラウンの外側の環状溝の下向き側部の下
方に予め配置されており、下方に位置する容器に通じて
いる収集パイプを下方に持つ釉収集槽を具備し、前記容
器から供給パイプが釉を出口を通って第１のドクタと隣
接する肌の部分との間の領域の直ぐ上の領域へ運び支給
させたり、前記容器を取り外し可能であり、ホイールの
上に装着したりする装置も課題が解決できる。
変形可能な周囲の部分に、高弾性変形能力を有する海綿
状の内側層と、より密に詰って、同じく弾性的変形可能
な外側層とを具備させたり、内側層をシリコーン気泡体
で作り、外側層がシリコーン・ゴムで作ったり、母型
を、少量の釉をその中に受容するようにされた複数の窪
みから構成し、その窪みが、ほぼ一定の幅深さ比を有す
るようにしたり、第１のドクタを、母型シリンダの軸に
平行して交番して振動させ、且つ母型シリンダの肌に対
する傾斜を色々に調節でき；前記第１のドクタが、擦り
取ってきれいにする働きと、母型シリンダの各回転で、
少なくとも部分的に窪みを釉で再充填する釉の再混合の
働きとを兼ね備えるようにしたり、母型シリンダの回転
での第１のドクタの上流に配置される第２のドクタを具
備させたり、母型シリンダの弾性的変形可能な周囲の部
分が、シリンダ型中央部の両端部に固着され前記肌と同
じ外側直径を有し且つそれと同軸である２つのクラウン
を有する前記シリンダ型中央部に固定され；クラウンの
夫々が少なくとも１つの外側の環状溝を有するようにし
たり、夫々のクラウンの外側の環状溝の下向き側部の下
方に予め配置されており、下方に位置する容器に通じて
いる収集パイプを下方に持つ釉収集槽を具備し、前記容
器から供給パイプが釉を出口を通って第１のドクタと隣
接する肌の部分との間の領域の直ぐ上の領域へ運び支給
させたり、前記容器を取り外し可能であり、ホイールの
上に装着したりする装置も課題が解決できる。
【００１３】回転式で装飾及び釉を施す、特にセラミッ
ク・タイルのための、方法は、またシリンダ形で弾性的
変形可能な滑らかな肌の一部分に刻まれた複数の窪みか
ら構成される母型に釉を施すことと；少なくとも１つの
第１のドクタを使うことによる、肌に刻まれた母型の上
に堆積された過剰な釉の除去で；前記少なくとも１つの
第１のドクタが、釉を連続的に再混合し、窪みに留めら
れた釉に少なくとも部分的に再補充する働きも有するこ
とと；肌に付けられた母型を引摺ることなしに回転する
ことによる直接接触によって窪みの中に入れられた釉を
移動しているタイルの上方表面上に移転すること：との
ステップで行われる。
ク・タイルのための、方法は、またシリンダ形で弾性的
変形可能な滑らかな肌の一部分に刻まれた複数の窪みか
ら構成される母型に釉を施すことと；少なくとも１つの
第１のドクタを使うことによる、肌に刻まれた母型の上
に堆積された過剰な釉の除去で；前記少なくとも１つの
第１のドクタが、釉を連続的に再混合し、窪みに留めら
れた釉に少なくとも部分的に再補充する働きも有するこ
とと；肌に付けられた母型を引摺ることなしに回転する
ことによる直接接触によって窪みの中に入れられた釉を
移動しているタイルの上方表面上に移転すること：との
ステップで行われる。
【００１４】本発明の別の特徴及び長所は、添付の図面
の非限定的な実施例として示される、本発明の実施例
の、下記の詳細な説明からより良く示されるであろう。
の非限定的な実施例として示される、本発明の実施例
の、下記の詳細な説明からより良く示されるであろう。
【００１５】
【実施例】図面を参照すると、参照番号１は、セラミッ
ク・タイル２のための可動支持面、即ちその上でタイル
を矢印15によって指示される方向に搬送するものを略図
で示す。
ク・タイル２のための可動支持面、即ちその上でタイル
を矢印15によって指示される方向に搬送するものを略図
で示す。
【００１６】支持面１は、それに沿ってベルトの上方の
部分が面22によって下方で支持されて摺動する従来のコ
ンベヤ・ベルトであり得る。支持面１は、図面に於て参
照番号17で指示される、例えばベルト型の、一般的なタ
イルの搬送ラインの中に挿入される。
部分が面22によって下方で支持されて摺動する従来のコ
ンベヤ・ベルトであり得る。支持面１は、図面に於て参
照番号17で指示される、例えばベルト型の、一般的なタ
イルの搬送ラインの中に挿入される。
【００１７】回転式の塗装の及び施釉の器具は支持台１
上に配置され、矢印18によって指示される方向にそれ自
身の軸の周りを回転する母型シリンダ３を具備し、その
母型シリンダ３は、滑らかなシリンダ型の肌30によって
外側周囲を被覆された弾性的変形可能な外周層を外側に
持つ中央部34を具備する。特に弾性的変形可能な部分
は、柔軟な海綿状の内側層32と、同じく弾性的変形可能
であるが、内側層32よりもより密に詰った外側層33とを
具備する。
上に配置され、矢印18によって指示される方向にそれ自
身の軸の周りを回転する母型シリンダ３を具備し、その
母型シリンダ３は、滑らかなシリンダ型の肌30によって
外側周囲を被覆された弾性的変形可能な外周層を外側に
持つ中央部34を具備する。特に弾性的変形可能な部分
は、柔軟な海綿状の内側層32と、同じく弾性的変形可能
であるが、内側層32よりもより密に詰った外側層33とを
具備する。
【００１８】内側層32はシリコーンの気泡体からできて
おり、一方、外側層33は、好ましい実施例に於ては重付
加反応によって重合されたシリコーン・ゴムで作られ
る。
おり、一方、外側層33は、好ましい実施例に於ては重付
加反応によって重合されたシリコーン・ゴムで作られ
る。
【００１９】中央部34は、その端部に肌30と同じ外側直
径を有し、且つそれに対して同軸の２つのクラウン35及
び36を有する。母型シリンダ３の全体は、図示されてい
ないシャフトによって支持される。
径を有し、且つそれに対して同軸の２つのクラウン35及
び36を有する。母型シリンダ３の全体は、図示されてい
ないシャフトによって支持される。
【００２０】外側の均一な断面の環状溝37は、両方のク
ラウン35及び36上に具備され、その全周に亘って延在す
る。
ラウン35及び36上に具備され、その全周に亘って延在す
る。
【００２１】器具の下に配置され且つ供給パイプ９によ
ってシリンダに供給される釉のための受容器としても働
く容器８に通じている釉収集パイプ７を具備する、釉収
集槽５及び６が、クラウン35及び36の夫々の環状溝37の
下方に向いている側面の下に配置される。
ってシリンダに供給される釉のための受容器としても働
く容器８に通じている釉収集パイプ７を具備する、釉収
集槽５及び６が、クラウン35及び36の夫々の環状溝37の
下方に向いている側面の下に配置される。
【００２２】母型シリンダ３の滑らかな肌30上に付けら
れる母型は、それらの全てが僅かな量の釉を保留する複
数の微細な窪み31を具備する。窪み31は肌30上の全体に
均等に分布され、それらがほぼ一定の幅深さ比を有する
ことを特徴とする。
れる母型は、それらの全てが僅かな量の釉を保留する複
数の微細な窪み31を具備する。窪み31は肌30上の全体に
均等に分布され、それらがほぼ一定の幅深さ比を有する
ことを特徴とする。
【００２３】ピボット13によってフレーム12上で支持さ
れるドクタ４は、母型シリンダ３と接触し且つそれの母
線に沿って配置される。
れるドクタ４は、母型シリンダ３と接触し且つそれの母
線に沿って配置される。
【００２４】ドクタ４とフレーム12との間で働くねじ装
置14によって、ドクタ４の刃が母型シリンダ３の肌30を
押すための圧力の調節が可能になる。
置14によって、ドクタ４の刃が母型シリンダ３の肌30を
押すための圧力の調節が可能になる。
【００２５】ドクタ４は、図２に明白に示されるよう
に、肌30だけでなく、クラウン35及び36の同軸の外側の
シリンダ表面とも接触する。ドクタ４は母型シリンダ３
の軸と平行する方向で交番して振動し、その動きは公知
の型の装置（図示されていない）によってフレーム12に
伝達される。フレーム12は、母型シリンダ３の軸に平行
する軸の周りを回転可能な支持腕部21上に支持される。
このようにしてドクタ４は母型シリンダ３の肌30に対し
て色々な傾斜で配置されることができ、その結果窪み31
を満たすための及び肌30をきれいにするための最も良い
配置が見付け出され得る。
に、肌30だけでなく、クラウン35及び36の同軸の外側の
シリンダ表面とも接触する。ドクタ４は母型シリンダ３
の軸と平行する方向で交番して振動し、その動きは公知
の型の装置（図示されていない）によってフレーム12に
伝達される。フレーム12は、母型シリンダ３の軸に平行
する軸の周りを回転可能な支持腕部21上に支持される。
このようにしてドクタ４は母型シリンダ３の肌30に対し
て色々な傾斜で配置されることができ、その結果窪み31
を満たすための及び肌30をきれいにするための最も良い
配置が見付け出され得る。
【００２６】ドクタ４は、釉を連続的に混合することに
よって、実際にそれを攪拌するという更に非常に重要な
機能を有し、更に特に回転中に窪み31内に既に入れられ
た釉の全てがタイル上に施されない時に、窪み31内の釉
を部分的に新しくする。ドクタ４の更に別の機能は、あ
らゆる挟雑物或いは外に付着したものを、そのような屑
片を肌30の縁部へ移動することによって、そこから除去
することである。
よって、実際にそれを攪拌するという更に非常に重要な
機能を有し、更に特に回転中に窪み31内に既に入れられ
た釉の全てがタイル上に施されない時に、窪み31内の釉
を部分的に新しくする。ドクタ４の更に別の機能は、あ
らゆる挟雑物或いは外に付着したものを、そのような屑
片を肌30の縁部へ移動することによって、そこから除去
することである。
【００２７】図６に示される別の実施例に於て、第２の
ドクタ25は第１のドクタ４の上流に配置され、窪み31の
次の再充填を容易にするように、肌30の第１の擦り取り
の機能を有する。
ドクタ25は第１のドクタ４の上流に配置され、窪み31の
次の再充填を容易にするように、肌30の第１の擦り取り
の機能を有する。
【００２８】釉は、適切な領域に出口が配置された供給
パイプ９を通って、ドクタ４と隣接する肌30の領域との
間の空間へ運ばれる。
パイプ９を通って、ドクタ４と隣接する肌30の領域との
間の空間へ運ばれる。
【００２９】釉は、余分な釉が環状の溝37を通って送り
込まれる前記の容器８から取出される。上述の外に付着
した物も、釉と共に環状の溝37から送られ、それと共に
槽５及び６内に入れられ、そこから釉は収集パイプ７を
通り、支持面１の下に配置され且つ移動可能であり、ホ
イール10上に装着され、フロア上に乗っている容器８へ
流れ落ちる。
込まれる前記の容器８から取出される。上述の外に付着
した物も、釉と共に環状の溝37から送られ、それと共に
槽５及び６内に入れられ、そこから釉は収集パイプ７を
通り、支持面１の下に配置され且つ移動可能であり、ホ
イール10上に装着され、フロア上に乗っている容器８へ
流れ落ちる。
【００３０】母型シリンダ３は、支持面１の側面のそば
に配置されるモータ・ヘッド20によって回わされる。モ
ータ・ヘッド20は垂直方向に動くことができて、タイル
２を搬送する支持面１に対する母型シリンダ３の高さの
調節を可能にする。
に配置されるモータ・ヘッド20によって回わされる。モ
ータ・ヘッド20は垂直方向に動くことができて、タイル
２を搬送する支持面１に対する母型シリンダ３の高さの
調節を可能にする。
【００３１】母型シリンダ３を回転させる原動機（図示
されていない）は、支持面１上でタイル２を前進させる
原動機と連結され、その結果肌30は引き摺ることなしに
回転し、支持面１上で搬送されているタイルの上方表面
上に予め設定された圧力を加える。
されていない）は、支持面１上でタイル２を前進させる
原動機と連結され、その結果肌30は引き摺ることなしに
回転し、支持面１上で搬送されているタイルの上方表面
上に予め設定された圧力を加える。
【００３２】正常の速度で作業する時、タイル２は互い
から正確に離間して、供給パイプ９の出口で釉を供給さ
れる母型シリンダ３の下に移動する。ドクタ４は肌30を
擦り、窪み31の内側に、少なくとも部分的に、釉を配分
し、それを連続的に再混合することによって、“それを
新しくする”。
から正確に離間して、供給パイプ９の出口で釉を供給さ
れる母型シリンダ３の下に移動する。ドクタ４は肌30を
擦り、窪み31の内側に、少なくとも部分的に、釉を配分
し、それを連続的に再混合することによって、“それを
新しくする”。
【００３３】肌30とタイル２の表面とが接触する時、窪
み31内に含まれる釉は押し出され、前記タイル表面上に
堆積させられ、母型を構成する肌30上に分布された窪み
31の分布を平面図として再現する。
み31内に含まれる釉は押し出され、前記タイル表面上に
堆積させられ、母型を構成する肌30上に分布された窪み
31の分布を平面図として再現する。
【００３４】外側の層33及び内側の層32の弾性変形能力
のおかげで、タイル表面の如何なる偶発的な不規則性も
釉の移転を妨害せず、従って釉は上方表面が側面と接す
るタイルの縁部にさえも置かれ得る。
のおかげで、タイル表面の如何なる偶発的な不規則性も
釉の移転を妨害せず、従って釉は上方表面が側面と接す
るタイルの縁部にさえも置かれ得る。
【００３５】タイル表面への釉の配置は、肌30上の窪み
31の配置を完璧に再現するであろう：明白に、より大き
い直径の窪み31はタイルの表面上により大量の釉を堆積
し、一方でより小さい直径のものはより少ない量を堆積
して、ハーフ・トーンを出す優れた条件を導出す。
31の配置を完璧に再現するであろう：明白に、より大き
い直径の窪み31はタイルの表面上により大量の釉を堆積
し、一方でより小さい直径のものはより少ない量を堆積
して、ハーフ・トーンを出す優れた条件を導出す。
【００３６】こうしてこの装飾装置は、特にセラミック
・タイルの装飾及び施釉の方法を具現し、この方法は： −シリンダ形で弾性的に変形可能な滑らかな肌30の一部
分に刻まれた複数の窪み31を有する母型上に釉を施すこ
とと； −ドクタ４を使用して、肌30に刻まれた母型に堆積され
た過剰な釉を除去することと；前記ドクタ４が、更に連
続的に釉を再混合し、窪み31内に留まった釉を少なくと
も部分的に取除くように働くこと； −直接接触によって、即ち肌30に着けられた母型を引摺
ることなしに回すことによって窪み31内に入っている釉
を搬送中のタイル表面上に移転すること、を具備するこ
とを特徴とする。
・タイルの装飾及び施釉の方法を具現し、この方法は： −シリンダ形で弾性的に変形可能な滑らかな肌30の一部
分に刻まれた複数の窪み31を有する母型上に釉を施すこ
とと； −ドクタ４を使用して、肌30に刻まれた母型に堆積され
た過剰な釉を除去することと；前記ドクタ４が、更に連
続的に釉を再混合し、窪み31内に留まった釉を少なくと
も部分的に取除くように働くこと； −直接接触によって、即ち肌30に着けられた母型を引摺
ることなしに回すことによって窪み31内に入っている釉
を搬送中のタイル表面上に移転すること、を具備するこ
とを特徴とする。
【００３７】色々な大きさの窪み31によって堆積される
色々な分量の釉を堆積することによってハーフ・トーン
を連続的に獲得できることとは別に、本発明は母型シリ
ンダ３の周囲の部分の弾性的変形能力のおかげで、作業
中にタイルを破損する危険を犯すことなしに、窯焼きさ
れていないタイルに装飾を施すことも可能である。
色々な分量の釉を堆積することによってハーフ・トーン
を連続的に獲得できることとは別に、本発明は母型シリ
ンダ３の周囲の部分の弾性的変形能力のおかげで、作業
中にタイルを破損する危険を犯すことなしに、窯焼きさ
れていないタイルに装飾を施すことも可能である。
【００３８】本発明の別の長所は、装置が自身できれい
にすることである：タイルと接触するようになる前に、
ドクタ４はシリンダ３を擦り、こうして同時に肌30をき
れいにして、窪み31を充填する。
にすることである：タイルと接触するようになる前に、
ドクタ４はシリンダ３を擦り、こうして同時に肌30をき
れいにして、窪み31を充填する。
【００３９】更に別の長所は、タイル製造ラインの速度
を全く制限しない、装置の作業速度である。
を全く制限しない、装置の作業速度である。
【図面の簡単な説明】
【図１】垂直側面略図。
【図２】図１の上から見た平面略図。
【図３】図２の線II−IIに沿う拡大部分断面略図。
【図４】図３の拡大詳細図。
【図５】図４の詳細図を上から見た平面略図。
【図６】別の実施例に関する、図３の断面略図の詳細
図。
図。
１…支持面、２…タイル、３…母型シリンダ、４，25…
ドクタ、５，６…槽、７…収集パイプ、８…容器、９…
供給パイプ、12…フレーム、13…ピボット、15，18…矢
印、17…移動ライン、20…モータ・ヘッド、22…面、30
…肌、31…窪み、32…内側層、33…外側層、34…中心
部、35，36…クラウン、37…環状溝。
ドクタ、５，６…槽、７…収集パイプ、８…容器、９…
供給パイプ、12…フレーム、13…ピボット、15，18…矢
印、17…移動ライン、20…モータ・ヘッド、22…面、30
…肌、31…窪み、32…内側層、33…外側層、34…中心
部、35，36…クラウン、37…環状溝。
Claims (10)
- 【請求項１】 可動支持面の上でセラミック・タイル
が予め設定された方向に運ばれる前記タイルのための前
記可動支持面と；前記支持面上に配置され、母型シリン
ダの軸の周りを回転して動くことができ、複数の窪みか
らできている母型がその上に刻まれた、エラストマ材料
で作られた滑らかなシリンダ型の外側表面の肌を周囲に
持つ少なくとも１つの弾性的変形可能な部分を有する前
記母型シリンダを具備する回転式の装飾及び釉を施す器
具と；母型シリンダの肌と接触してそれを擦り、その上
に堆積されてそれに付着した釉の過剰分をそこから取り
除くように働らく少なくとも１つの第１のドクタと；を
具備し：前記母型シリンダは、その軸の周りで回転で
き、前記肌が前記支持面上で移動するタイルの表面を引
摺ることなしに、その表面上に予め設定された圧力を加
えて回転するように支持面に対して調節可能である、装
飾及び釉を施すための、特にセラミック・タイル用の、
回転式装置。 - 【請求項２】 前記肌によって覆われた前記弾性的変形
可能な周囲の部分が、高弾性変形能力を有する海綿状の
内側層と、より密に詰って、同じく弾性的変形可能な外
側層とを具備する、請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 内側層がシリコーン気泡体で作られ、外
側層がシリコーン・ゴムで作られる、請求項２記載の装
置。 - 【請求項４】 母型が、少量の釉をその中に受容するよ
うにされた複数の窪みから構成され、その窪みが、ほぼ
一定の幅深さ比を有する、請求項１記載の装置。 - 【請求項５】 第１のドクタが、母型シリンダの軸に平
行して交番的に振動し、且つ母型シリンダの肌に対する
傾斜を色々に調節でき；前記第１のドクタが、擦り取っ
てきれいにする働きと、母型シリンダの各回転で、少な
くとも部分的に窪みを釉で再充填する釉の再混合の働き
とを兼ね備える、請求項１記載の装置。 - 【請求項６】 母型シリンダの回転での第１のドクタの
上流に配置される第２のドクタを具備する、請求項１記
載の装置。 - 【請求項７】 母型シリンダの弾性的変形可能な周囲の
部分が、シリンダ型中央部の両端部に固着され前記肌と
同じ外側直径を有し且つそれと同軸である２つのクラウ
ンを有する前記シリンダ型中央部に固定され；クラウン
の夫々が少なくとも１つの外側の環状溝を有する、請求
項１の装置。 - 【請求項８】 夫々のクラウンの外側の環状溝の下向き
側部の下方にあらかじめ配置されており、下方に位置す
る容器に通じている収集パイプを下方に持つ釉収集槽を
具備し、前記容器から供給パイプが釉を出口を通って第
１のドクタと隣接する肌の部分との間の領域の直ぐ上の
領域へ運び支給する、請求項６記載の装置。 - 【請求項９】 前記容器が取り外し可能であり、ホイー
ルの上に装着されている、請求項７記載の装置。 - 【請求項１０】 シリンダ形で弾性的変形可能な滑ら
かな肌の一部分に刻まれた複数の窪みから構成される母
型に釉を施すことと；少なくとも１つの第１のドクタを
使うことによる、肌に刻まれた母型の上に堆積された過
剰な釉の除去で；前記少なくとも１つの第１のドクタ
が、釉を連続的に再混合し、窪みに留められた釉に少な
くとも部分的に再補充する働きも有することと；肌に付
けられた母型を引き摺ることなしに、回転することによ
る直接接触によって窪みの中に入れられた釉を移動して
いるタイルの上方表面上に移転することと：を具備す
る、回転式で装飾及び釉を施す、特にセラミック・タイ
ルのための、方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT94000044 | 1994-03-29 | ||
| IT1994MO000044A IT1268920B1 (it) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | Macchina rotativa per la decorazione-smaltatura in particolare dipiastrelle ceramiche. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07330472A true JPH07330472A (ja) | 1995-12-19 |
| JP2886789B2 JP2886789B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=11385614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (11)
| Country | Link |
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| EP (1) | EP0677364B1 (ja) |
| JP (1) | JP2886789B2 (ja) |
| CN (1) | CN1047342C (ja) |
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| BR (1) | BR9500230A (ja) |
| DE (1) | DE69410592T2 (ja) |
| ES (1) | ES2120597T3 (ja) |
| IT (1) | IT1268920B1 (ja) |
| SI (1) | SI0677364T1 (ja) |
| TW (1) | TW300858B (ja) |
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