JPH07326781A - 薄膜光電変換素子の製造装置 - Google Patents
薄膜光電変換素子の製造装置Info
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- JPH07326781A JPH07326781A JP6120942A JP12094294A JPH07326781A JP H07326781 A JPH07326781 A JP H07326781A JP 6120942 A JP6120942 A JP 6120942A JP 12094294 A JP12094294 A JP 12094294A JP H07326781 A JPH07326781 A JP H07326781A
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- roll
- substrate
- photoelectric conversion
- conversion element
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】可撓性基板を基板面が鉛直面内にあるようにし
て搬送し、その上に各層の成膜を行うことは、装置スペ
ースの縮小、メンテナンス作業の容易化の点で有利であ
るが、基板が下方へずれ、たわみが生ずる問題があるの
で、それを解決する。 【構成】基板を搬送するための送りロールあるいは巻き
取りロールに近接してアイドルロールを設置して、送り
ロールあるいは巻き取りロールの円柱面へ基板が広い面
積で密着するようにして下方へのずれを防ぐ。さらには
上方が送り室側に向いて傾いた軸をもつロールの円柱面
に沿って基板を移動させることにより、下方へのずれの
防止をさらに確実にする。
て搬送し、その上に各層の成膜を行うことは、装置スペ
ースの縮小、メンテナンス作業の容易化の点で有利であ
るが、基板が下方へずれ、たわみが生ずる問題があるの
で、それを解決する。 【構成】基板を搬送するための送りロールあるいは巻き
取りロールに近接してアイドルロールを設置して、送り
ロールあるいは巻き取りロールの円柱面へ基板が広い面
積で密着するようにして下方へのずれを防ぐ。さらには
上方が送り室側に向いて傾いた軸をもつロールの円柱面
に沿って基板を移動させることにより、下方へのずれの
防止をさらに確実にする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、送り室から巻き取り室
へ向けて搬送される可撓性基板上に各層を成膜する薄膜
光電変換素子の製造装置に関する。
へ向けて搬送される可撓性基板上に各層を成膜する薄膜
光電変換素子の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ａ−Ｓｉを主材料とした光電変換層を含
む各層を長尺の高分子材料あるいはステンレス鋼などの
金属からなる可撓性基板 (以下単に基板と記す) 上に形
成して薄膜光電変換素子を製造する方法は、生産性の点
ですぐれている。長尺の基板上に複数の層を成膜する方
式として、各成膜室内を移動する基板上に成膜するロー
ルツーロール方式と、成膜室内で停止させた基板上に成
膜したのち成膜の終わった基板部分を成膜室外へ送り出
すステッピングロール方式とがある。図３、図４は、ス
テッピングロール方式で成膜を行う従来の薄膜光電変換
素子の製造装置の正面断面図および平面断面図である。
図に示すように基板１は、送り室２１中に水平にセット
されたコア３１から引き出され、複数 (この場合に二
つ) の成膜室２２、２３を通って巻取り室２４中に水平
にセットされたコア３２へ巻き取られる。送り室２１、
巻き取り室２４には、それぞれコア３１、３２を保持す
る一対のテーパコーン５１、５２があり、このテーパコ
ーン５１、５２を締め付けてコアを水平に保持する。基
板１は、送り室２１と巻き取り室２４の間で、アイドル
ロール３３で方向を変えられ、送りロール３４と巻き取
りロール３５の上をそれぞれ押さえロール３６で押さえ
られて通過する。送り室２１と巻き取り室２４は、いず
れも架台２５の上に設置されている。各成膜室２２、２
３には、いずれも水平にセットされた高電圧電極４１と
ヒータを内蔵した接地電極４２とが上下に対向し、接地
電極４２とそれを囲む上部壁体４３は、下降して停止し
ている基板１を高電圧電極４２を囲む下部壁体４４上部
のトッププレート４５に密着させ、高電圧電極４２の上
に放電空間７を形成する。放電空間に生ずる放電によ
り、原料化合物が分解され基板上に所期の膜が形成され
る。
む各層を長尺の高分子材料あるいはステンレス鋼などの
金属からなる可撓性基板 (以下単に基板と記す) 上に形
成して薄膜光電変換素子を製造する方法は、生産性の点
ですぐれている。長尺の基板上に複数の層を成膜する方
式として、各成膜室内を移動する基板上に成膜するロー
ルツーロール方式と、成膜室内で停止させた基板上に成
膜したのち成膜の終わった基板部分を成膜室外へ送り出
すステッピングロール方式とがある。図３、図４は、ス
テッピングロール方式で成膜を行う従来の薄膜光電変換
素子の製造装置の正面断面図および平面断面図である。
図に示すように基板１は、送り室２１中に水平にセット
されたコア３１から引き出され、複数 (この場合に二
つ) の成膜室２２、２３を通って巻取り室２４中に水平
にセットされたコア３２へ巻き取られる。送り室２１、
巻き取り室２４には、それぞれコア３１、３２を保持す
る一対のテーパコーン５１、５２があり、このテーパコ
ーン５１、５２を締め付けてコアを水平に保持する。基
板１は、送り室２１と巻き取り室２４の間で、アイドル
ロール３３で方向を変えられ、送りロール３４と巻き取
りロール３５の上をそれぞれ押さえロール３６で押さえ
られて通過する。送り室２１と巻き取り室２４は、いず
れも架台２５の上に設置されている。各成膜室２２、２
３には、いずれも水平にセットされた高電圧電極４１と
ヒータを内蔵した接地電極４２とが上下に対向し、接地
電極４２とそれを囲む上部壁体４３は、下降して停止し
ている基板１を高電圧電極４２を囲む下部壁体４４上部
のトッププレート４５に密着させ、高電圧電極４２の上
に放電空間７を形成する。放電空間に生ずる放電によ
り、原料化合物が分解され基板上に所期の膜が形成され
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図３、図４に示した製
造装置では、図４から分かるように、各室２１〜２４は
基板の幅以上の幅を必要とするため、装置の設置面積が
広くなる問題がある。また成膜に用いる電極４１、４２
は、成膜を進めていくと表面に反応生成物が付着し、定
期的な洗浄あるいは部品の交換等のメンテナンス作業を
必要とする。このようなメンテナンス作業のためには、
下部の電極４１とその付属機構からなるユニットを受け
取り、装置外へ台車で引き出す。これには高価な台車設
備が必要となる、台車の保管スペースが必要となってス
ペースファクタを悪くする、あるいは台車自体の操作と
電極ユニットの取りはずし、取り付けの作業に１時間前
後の時間がかかるなどの問題がある。もうひとつの問題
として、電極ユニットを取りはずす際、装置の下にはい
りねじはずし作業を行なわなければならず、狭いスペー
スでの力作業が必要となり、困難な作業内容となる。取
り付け作業についても同じである。上部電極４２のユニ
ットのメンテナンス作業は、高電圧電極ユニットを引き
出せば、下からの作業は可能であるが、狭いスペースへ
入り、上向きに作業するのは実際的ではない。従って、
上部電極ユニット全体を上へ上昇させる設備が必要とな
り、この設備費がかかり、装置価格は上昇する。言いか
えると成膜コストの上昇をもたらす。また、上部電極ユ
ニットは１００ｋｇを超える重量物のため、その上昇装
置の移動スピードも早くできず時間がかかる。そして上
昇させてもメンテナンス作業姿勢が上向きであることは
変わらず、容易でない作業である。さらに、成膜室壁面
あるいは上部電極に付着した反応生成物基板裏面上に落
下すると、コア３２に巻き取られる際、基板裏面上に形
成された膜面に接触し、膜に損傷を与えるおそれがあ
る。
造装置では、図４から分かるように、各室２１〜２４は
基板の幅以上の幅を必要とするため、装置の設置面積が
広くなる問題がある。また成膜に用いる電極４１、４２
は、成膜を進めていくと表面に反応生成物が付着し、定
期的な洗浄あるいは部品の交換等のメンテナンス作業を
必要とする。このようなメンテナンス作業のためには、
下部の電極４１とその付属機構からなるユニットを受け
取り、装置外へ台車で引き出す。これには高価な台車設
備が必要となる、台車の保管スペースが必要となってス
ペースファクタを悪くする、あるいは台車自体の操作と
電極ユニットの取りはずし、取り付けの作業に１時間前
後の時間がかかるなどの問題がある。もうひとつの問題
として、電極ユニットを取りはずす際、装置の下にはい
りねじはずし作業を行なわなければならず、狭いスペー
スでの力作業が必要となり、困難な作業内容となる。取
り付け作業についても同じである。上部電極４２のユニ
ットのメンテナンス作業は、高電圧電極ユニットを引き
出せば、下からの作業は可能であるが、狭いスペースへ
入り、上向きに作業するのは実際的ではない。従って、
上部電極ユニット全体を上へ上昇させる設備が必要とな
り、この設備費がかかり、装置価格は上昇する。言いか
えると成膜コストの上昇をもたらす。また、上部電極ユ
ニットは１００ｋｇを超える重量物のため、その上昇装
置の移動スピードも早くできず時間がかかる。そして上
昇させてもメンテナンス作業姿勢が上向きであることは
変わらず、容易でない作業である。さらに、成膜室壁面
あるいは上部電極に付着した反応生成物基板裏面上に落
下すると、コア３２に巻き取られる際、基板裏面上に形
成された膜面に接触し、膜に損傷を与えるおそれがあ
る。
【０００４】これらの問題の対策には、基板面を鉛直面
内に立てて、搬送すれば良いことは明白である。しかし
その場合、基板の質量により下方への基板のたわみおよ
び下方へのずれが発生し、これが結果的に基板の巻きず
れとなる。基板のたわみおよび巻きずれは、成膜パター
ンにもずれを引きおこし、製造される薄膜光電変換素子
の特性に著しい低下をまねく。
内に立てて、搬送すれば良いことは明白である。しかし
その場合、基板の質量により下方への基板のたわみおよ
び下方へのずれが発生し、これが結果的に基板の巻きず
れとなる。基板のたわみおよび巻きずれは、成膜パター
ンにもずれを引きおこし、製造される薄膜光電変換素子
の特性に著しい低下をまねく。
【０００５】本発明の目的は、このような問題を解決
し、基板面を鉛直面内に立てて搬送する基板のたわみ、
巻きずれを防止して、良好な特性をもつ薄膜光電変換素
子を製造することのできる装置を提供することにある。
し、基板面を鉛直面内に立てて搬送する基板のたわみ、
巻きずれを防止して、良好な特性をもつ薄膜光電変換素
子を製造することのできる装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、送り室から巻き取り室へ回転駆動され
る搬送ロールと押さえロールとの間を通して面が鉛直面
内にあるようにして搬送される基板の表面上に、一つあ
るいは複数の成膜室内で基板をはさんで対向する電極間
に電圧を印加して成膜する薄膜光電変換素子の製造装置
において、搬送ロールの少なくとも一方の側に、基板が
搬送ロールの円柱面に円周方向に所定の距離だけ密着し
て通過するように、可撓性基板の搬送方向を円柱面に沿
って変える回動自在のロールを備えたものとする。基板
が上方が送り室側に傾いた軸をもつ回動自在のロールの
円柱面に沿って搬送されることも有効である。その場
合、上方が基板が送り室側に傾いた軸をもつ二つの回動
自在のロールの間を通して搬送されることも良い。その
ような二つのロールを通る基板に対して加圧する手段を
備えたことも良い。ロール軸の傾き角度を搬送される可
撓性基板の上下の位置に対応して制御する制御手段を備
えたことも良い。ロール軸の傾き角度の制御のためにロ
ールを支持する軸受を基板の搬送方向に移動させる駆動
手段を備えたことも良い。傾いた軸をもつロールを巻取
り室の側に配置された搬送ロールの直前に、あるいは成
膜室の中間に備えたことが良い。電極が成膜室の搬送さ
れる基板の面に平行な壁体の一部となる開閉可能の扉に
取り付けられたことが良い。
めに、本発明は、送り室から巻き取り室へ回転駆動され
る搬送ロールと押さえロールとの間を通して面が鉛直面
内にあるようにして搬送される基板の表面上に、一つあ
るいは複数の成膜室内で基板をはさんで対向する電極間
に電圧を印加して成膜する薄膜光電変換素子の製造装置
において、搬送ロールの少なくとも一方の側に、基板が
搬送ロールの円柱面に円周方向に所定の距離だけ密着し
て通過するように、可撓性基板の搬送方向を円柱面に沿
って変える回動自在のロールを備えたものとする。基板
が上方が送り室側に傾いた軸をもつ回動自在のロールの
円柱面に沿って搬送されることも有効である。その場
合、上方が基板が送り室側に傾いた軸をもつ二つの回動
自在のロールの間を通して搬送されることも良い。その
ような二つのロールを通る基板に対して加圧する手段を
備えたことも良い。ロール軸の傾き角度を搬送される可
撓性基板の上下の位置に対応して制御する制御手段を備
えたことも良い。ロール軸の傾き角度の制御のためにロ
ールを支持する軸受を基板の搬送方向に移動させる駆動
手段を備えたことも良い。傾いた軸をもつロールを巻取
り室の側に配置された搬送ロールの直前に、あるいは成
膜室の中間に備えたことが良い。電極が成膜室の搬送さ
れる基板の面に平行な壁体の一部となる開閉可能の扉に
取り付けられたことが良い。
【０００７】
【作用】装置の設置スペースの節減、反応生成物の基板
面への付着などの問題を解決する基板面を鉛直面内に立
てて成膜する場合に問題となる基板のたわみ、下方のず
れは、基板の搬送ロール面への密着面積をそのロールに
近接配置した回動自在ロールによる基板の方向変更によ
り増大させることにより防止できる。さらに、その回動
自在ロールのように基板がその円柱面に沿って移動する
ロールの軸の上方を送り室側に傾けることにより基板を
上方へ持ち上げれば、基板は下方へずれにくくなり、基
板のずれの防止が一層確実になる。そして、ロール軸の
傾斜角を、ロール軸を支持する軸受を移動させるなどの
方法で基板の上下位置に対応して制御することにより、
ずれの防止効果は一層強くなる。そのほか、基板をはさ
んで対向する電極を成膜室の前面あるいは背面に設ける
開閉扉に取り付けておけば、扉を開いて電極およびその
周辺の清掃、洗浄などのメンテナンス作業を容易に行う
ことができる。
面への付着などの問題を解決する基板面を鉛直面内に立
てて成膜する場合に問題となる基板のたわみ、下方のず
れは、基板の搬送ロール面への密着面積をそのロールに
近接配置した回動自在ロールによる基板の方向変更によ
り増大させることにより防止できる。さらに、その回動
自在ロールのように基板がその円柱面に沿って移動する
ロールの軸の上方を送り室側に傾けることにより基板を
上方へ持ち上げれば、基板は下方へずれにくくなり、基
板のずれの防止が一層確実になる。そして、ロール軸の
傾斜角を、ロール軸を支持する軸受を移動させるなどの
方法で基板の上下位置に対応して制御することにより、
ずれの防止効果は一層強くなる。そのほか、基板をはさ
んで対向する電極を成膜室の前面あるいは背面に設ける
開閉扉に取り付けておけば、扉を開いて電極およびその
周辺の清掃、洗浄などのメンテナンス作業を容易に行う
ことができる。
【０００８】
【実施例】以下、図３、図４を含めて共通の部分に同一
の符号を付した図を引用して本発明の実施例について述
べる。図１に正面断面図、図２に平面断面図で示す本発
明の一実施例は薄膜光電変換素子製造装置においては、
それぞれ架台２５上に設置した送り室２１および巻き取
り室２４の中にコア３１および３２が軸を鉛直にして保
持されており、そのため下部に真空シールを備えた軸受
５３があって、基準テーパコーン５１を軸を鉛直にして
保持している。そして、基準テーパコーン５１の軸には
室外に配置したコア駆動モータ５４が直結されている。
基準テーパコーン５１の直上には従動テーパコーン５２
が対向している。従動テーパコーン５２は、その上のコ
アアセット機構５５により上下に移動させることができ
る。基板１をコア３１からコア３２まで搬送するため
に、送り室２１には送りロール３４が、巻き取り室２４
には巻き取りロール３５が配置され、それぞれ室外の駆
動モータ５７が直結されている。その回転軸は真空シー
ルされた軸受５６により支持され、送りロール３４、巻
き取りロール３５には基板とずれないように密着させる
ための押さえロール３６が対向すると共に両側に基板の
向きを変える中心軸の周りに回動自在のアイドルロール
３３を備え、送りロール３４あるいは巻き取りロール３
５、押さえロール３６、各アイドルロール３３の上部
は、上部支持軸受５８で支持し、アイドルロール３３、
押さえロール３６の下端は、それぞれ下部支持軸受５９
で保持している。送り室２１、巻き取り室２２にはそれ
ぞれ前面に矢印６３の方向に開く扉６１、６２を備え、
この扉６１、６２を用いてコア３１、３２の出し入れ、
基板１のセットを行う。成膜室２２、２３における基板
１への成膜は、基板１を図示しない機構で高電圧電極４
１を囲む壁体４４上部のトッププレート４５へ押し付
け、接地電極４２に内蔵され、交流電源４６に接続され
たヒータで基板１を加熱し、基板１と高電圧電極４１の
間に生ずる放電室間７にガス７１を導入し、ＲＦ電源４
７により高電圧電極４１に電圧を印加して成膜空間７に
プラズマを発生させて行う。膜はトッププレートの開口
部４８に面した基板１上に形成される。高電圧電極４１
は扉７２に取り付けられており、扉７２を矢印７３の方
向に開いて電極のメンテナンス作業を行うことができ
る。接地電極４２も同様に扉に取り付けて、メンテナン
ス作業を容易にすることができる。
の符号を付した図を引用して本発明の実施例について述
べる。図１に正面断面図、図２に平面断面図で示す本発
明の一実施例は薄膜光電変換素子製造装置においては、
それぞれ架台２５上に設置した送り室２１および巻き取
り室２４の中にコア３１および３２が軸を鉛直にして保
持されており、そのため下部に真空シールを備えた軸受
５３があって、基準テーパコーン５１を軸を鉛直にして
保持している。そして、基準テーパコーン５１の軸には
室外に配置したコア駆動モータ５４が直結されている。
基準テーパコーン５１の直上には従動テーパコーン５２
が対向している。従動テーパコーン５２は、その上のコ
アアセット機構５５により上下に移動させることができ
る。基板１をコア３１からコア３２まで搬送するため
に、送り室２１には送りロール３４が、巻き取り室２４
には巻き取りロール３５が配置され、それぞれ室外の駆
動モータ５７が直結されている。その回転軸は真空シー
ルされた軸受５６により支持され、送りロール３４、巻
き取りロール３５には基板とずれないように密着させる
ための押さえロール３６が対向すると共に両側に基板の
向きを変える中心軸の周りに回動自在のアイドルロール
３３を備え、送りロール３４あるいは巻き取りロール３
５、押さえロール３６、各アイドルロール３３の上部
は、上部支持軸受５８で支持し、アイドルロール３３、
押さえロール３６の下端は、それぞれ下部支持軸受５９
で保持している。送り室２１、巻き取り室２２にはそれ
ぞれ前面に矢印６３の方向に開く扉６１、６２を備え、
この扉６１、６２を用いてコア３１、３２の出し入れ、
基板１のセットを行う。成膜室２２、２３における基板
１への成膜は、基板１を図示しない機構で高電圧電極４
１を囲む壁体４４上部のトッププレート４５へ押し付
け、接地電極４２に内蔵され、交流電源４６に接続され
たヒータで基板１を加熱し、基板１と高電圧電極４１の
間に生ずる放電室間７にガス７１を導入し、ＲＦ電源４
７により高電圧電極４１に電圧を印加して成膜空間７に
プラズマを発生させて行う。膜はトッププレートの開口
部４８に面した基板１上に形成される。高電圧電極４１
は扉７２に取り付けられており、扉７２を矢印７３の方
向に開いて電極のメンテナンス作業を行うことができ
る。接地電極４２も同様に扉に取り付けて、メンテナン
ス作業を容易にすることができる。
【０００９】基板１の搬送は、送りロール３４、巻き取
りロール３５および基準テーパコーン５１の各々の駆動
モータ５７、５４を外部に設けた制御装置でサーボ制御
することで、基板面が鉛直面内にあるようにして行う。
図５、図６に示した実施例では、成膜室２１および２２
の中間で基板１をはさむようにアイドルロール３７とそ
れに対向する保持ロール３８を設け、その両ロール３
７、３８の軸の上方を送り室２１の側に向けて平行に傾
け、基板１が自重で下の方へずれてくるのを防止する。
保持ロール３８は、図７に示すように、弾性支持体３９
により、ほぼ一定の力で基板１をアイドルロール３７に
押し付ける。図５、図６に示すように巻取りロール３５
の直前のアイドルロールを同様に傾けたアイドルロール
３７とし、保持ロール３８を対向させることも効果があ
り、基板１の種類あるいは搬送速度により実施する。成
膜室の中間に設置した傾斜アイドルロール３７および保
持ロール３８は、送り室２１と巻き取り室２２の間の距
離が長くなると、複数対必要になる。
りロール３５および基準テーパコーン５１の各々の駆動
モータ５７、５４を外部に設けた制御装置でサーボ制御
することで、基板面が鉛直面内にあるようにして行う。
図５、図６に示した実施例では、成膜室２１および２２
の中間で基板１をはさむようにアイドルロール３７とそ
れに対向する保持ロール３８を設け、その両ロール３
７、３８の軸の上方を送り室２１の側に向けて平行に傾
け、基板１が自重で下の方へずれてくるのを防止する。
保持ロール３８は、図７に示すように、弾性支持体３９
により、ほぼ一定の力で基板１をアイドルロール３７に
押し付ける。図５、図６に示すように巻取りロール３５
の直前のアイドルロールを同様に傾けたアイドルロール
３７とし、保持ロール３８を対向させることも効果があ
り、基板１の種類あるいは搬送速度により実施する。成
膜室の中間に設置した傾斜アイドルロール３７および保
持ロール３８は、送り室２１と巻き取り室２２の間の距
離が長くなると、複数対必要になる。
【００１０】図８、図９に示す実施例では、アイドルロ
ール３７の両端に図８に示すようにアンギュラ構造の上
部支持軸受８１、下部支持軸受８２を設け、それぞれア
クチュエータ８３により前後に移動させることによりア
イドルロール３３の軸を傾斜させることができる。この
傾斜角を、レベルセンサ８４により基板１の上下へのず
れを検出し、図９に示すように外部に設置した制御器８
５でアクチュエータ８３を制御することにより調整し、
基板１の下方へのずれを防止する。
ール３７の両端に図８に示すようにアンギュラ構造の上
部支持軸受８１、下部支持軸受８２を設け、それぞれア
クチュエータ８３により前後に移動させることによりア
イドルロール３３の軸を傾斜させることができる。この
傾斜角を、レベルセンサ８４により基板１の上下へのず
れを検出し、図９に示すように外部に設置した制御器８
５でアクチュエータ８３を制御することにより調整し、
基板１の下方へのずれを防止する。
【００１１】図１０に示す実施例では、アイドルロール
３３の上部にのみアクチュエータ８３を設けて基板１の
ずれ防止を行う。アイドルロール３３の下部は球面軸受
８６で支持している。この実施例では、アイドルロール
３３の傾斜角度が大きくできないので、搬送スパンの短
い場合に適し、装置の低価格化に有利である。なお、ア
クチュエータにより移動させる軸受を下部においてもよ
い。
３３の上部にのみアクチュエータ８３を設けて基板１の
ずれ防止を行う。アイドルロール３３の下部は球面軸受
８６で支持している。この実施例では、アイドルロール
３３の傾斜角度が大きくできないので、搬送スパンの短
い場合に適し、装置の低価格化に有利である。なお、ア
クチュエータにより移動させる軸受を下部においてもよ
い。
【００１２】上記の実施例は、ステッピングロール方式
でプラズマＣＶＤにより成膜する薄膜光電変換素子の製
造装置であるが、本発明はこれに限定されず、ロールツ
ーロール方式での成膜あるいはスパッタリングによる成
膜を行う装置においても同様に実施できる。
でプラズマＣＶＤにより成膜する薄膜光電変換素子の製
造装置であるが、本発明はこれに限定されず、ロールツ
ーロール方式での成膜あるいはスパッタリングによる成
膜を行う装置においても同様に実施できる。
【００１３】
【発明の効果】基板面を鉛直面内にして搬送する基板上
に成膜する薄膜光電変換素子の製造装置は、従来の基板
面を水平面内にして搬送して成膜する装置に比べ、装置
の設置スペースが半分以下にでき、省スペース効果と建
家償却費も軽減でき、送り室、巻き取り室等の外郭も小
型化ができることにより、装置のコストダウンが可能と
なる。このことは成膜コストを低下させ、安価な薄膜光
電変換素子を提供できるようになる。また、水平搬送の
装置で必要であった電極等のメンテナンス機構も不用に
なり、装置外壁に開閉可能に取り付けた扉の開閉のみで
メンテナンス作業ができる構造により、メンテナンス時
間も１／３以下に低減できるようになる。このことも基
板への成膜を低コストにできる効果となる。また、実作
業の面より考えると、狭いスペースでのボルトをはずす
作業、台車を操作する作業および重量物となる電極支持
構造の取り扱いもなくなり、大幅な作業性の改善を図る
ことができる。また、メンテナンス用台車の保管スペー
スも不用となる。
に成膜する薄膜光電変換素子の製造装置は、従来の基板
面を水平面内にして搬送して成膜する装置に比べ、装置
の設置スペースが半分以下にでき、省スペース効果と建
家償却費も軽減でき、送り室、巻き取り室等の外郭も小
型化ができることにより、装置のコストダウンが可能と
なる。このことは成膜コストを低下させ、安価な薄膜光
電変換素子を提供できるようになる。また、水平搬送の
装置で必要であった電極等のメンテナンス機構も不用に
なり、装置外壁に開閉可能に取り付けた扉の開閉のみで
メンテナンス作業ができる構造により、メンテナンス時
間も１／３以下に低減できるようになる。このことも基
板への成膜を低コストにできる効果となる。また、実作
業の面より考えると、狭いスペースでのボルトをはずす
作業、台車を操作する作業および重量物となる電極支持
構造の取り扱いもなくなり、大幅な作業性の改善を図る
ことができる。また、メンテナンス用台車の保管スペー
スも不用となる。
【００１４】このような多くの効果をもつ基板を立てて
成膜する装置も、基板の下方へのずれ、たわみにより実
用化に困難があった。本発明によれば、基板を搬送ロー
ル面の稜線に接触させて搬送するのではなく、かなりの
面積で搬送ロールの円柱面に密着させて搬送することに
より、基板のずれを防止することができた。さらに、上
方が送り室の方へ傾いた軸をもつロールの円柱面に沿っ
て搬送することにより基板が上方へ持ち上げられ、基板
の下方へのずれの防止をより確実にすることができ、良
品率の一層の向上をはかることができた。
成膜する装置も、基板の下方へのずれ、たわみにより実
用化に困難があった。本発明によれば、基板を搬送ロー
ル面の稜線に接触させて搬送するのではなく、かなりの
面積で搬送ロールの円柱面に密着させて搬送することに
より、基板のずれを防止することができた。さらに、上
方が送り室の方へ傾いた軸をもつロールの円柱面に沿っ
て搬送することにより基板が上方へ持ち上げられ、基板
の下方へのずれの防止をより確実にすることができ、良
品率の一層の向上をはかることができた。
【図１】本発明の一実施例の薄膜光電変換素子の製造装
置の正面部分断面図
置の正面部分断面図
【図２】図１の薄膜光電変換素子の製造装置の平面断面
図
図
【図３】従来の薄膜光電変換素子の製造装置の正面断面
図
図
【図４】図３の薄膜光電変換素子の製造装置の平面断面
図
図
【図５】本発明の別の実施例の薄膜光電変換素子の製造
装置の正面断面図
装置の正面断面図
【図６】図５の薄膜光電変換素子の製造装置の平面断面
図
図
【図７】図６のＡ−Ａ線矢視断面図
【図８】本発明のさらに別の実施例の薄膜光電変換素子
の製造装置の正面断面図
の製造装置の正面断面図
【図９】図８の一部拡大図
【図１０】本発明の他の実施例の薄膜光電変換素子の製
造装置の正面断面図
造装置の正面断面図
１ 可撓性基板 ２１ 送り室 ２２、２３ 成膜室 ２４ 巻き取り室 ３１、３２ コア ３３、３７ アイドルロール ３４ 送りロール ３５ 巻き取りロール ３６ 押さえロール ３８ 保持ロール ３９ 弾性支持体 ４１ 高電圧電極 ４２ 接地電極 ５１ 基準テーパコーン ５２ 従動テーパコーン ５８、８１ 上部支持軸受 ５９、８２ 下部支持軸受 ６１、６２、７２ 扉 ７ 放電空間 ８３ アクチュエータ ８４ レベルセンサ ８５ 制御器
Claims (9)
- 【請求項１】送り室から巻き取り室へ回転駆動される搬
送ロールと押さえロールとの間を通して面が鉛直面内に
あるようにして搬送される可撓性基板の表面上に、一つ
あるいは複数の成膜室内で基板をはさんで対向する電極
間に電圧を印加して成膜するものにおいて、搬送ロール
の少なくとも一方の側に、可撓性基板が搬送ロールの円
柱面に円周方向に所定の距離だけ密着して通過するよう
に、可撓性基板の搬送方向を円柱面に沿って変える回動
自在のロールを備えたことを特徴とする薄膜光電変換素
子の製造装置。 - 【請求項２】可撓性基板が上方が送り室側に傾いた軸を
もつ回動自在のロールの円柱面に沿って搬送される請求
項１記載の薄膜光電変換素子の製造装置。 - 【請求項３】可撓性基板が上方が送り室側に平行に傾い
た軸をもつ二つの回動自在のロールの間を通して搬送さ
れる請求項２記載の薄膜光電変換素子の製造装置。 - 【請求項４】二つのロールをその間を通る可撓性基板に
対して加圧する手段を備えた請求項３記載の薄膜光電変
換素子の製造装置。 - 【請求項５】ロール軸の傾き角度を搬送される可撓性基
板の上下の位置に対応して制御する制御手段を備えた請
求項２ないし４のいずれかに記載の薄膜光電変換素子の
製造装置。 - 【請求項６】ロール軸の傾き角度の制御のためにロール
を支持する軸受を可撓性基板の搬送方向に移動させる駆
動手段を備えた請求項５記載の薄膜光電変換素子の製造
装置。 - 【請求項７】傾いた軸をもつロールを巻取り室の側に配
置された搬送ロールの直前に備えた請求項２ないし６の
いずれかに記載の薄膜光電変換素子の製造装置。 - 【請求項８】傾いた軸をもつロールを成膜室の中間に備
えた請求項２ないし６のいずれかに記載の薄膜光電変換
素子の製造装置。 - 【請求項９】電極が成膜室の搬送される可撓性基板の面
に平行な壁体の一部をなす開閉可能の扉に取り付けられ
た請求項１ないし８のいずれかに記載の薄膜光電変換素
子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6120942A JP2902944B2 (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6120942A JP2902944B2 (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07326781A true JPH07326781A (ja) | 1995-12-12 |
| JP2902944B2 JP2902944B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=14798788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6120942A Expired - Fee Related JP2902944B2 (ja) | 1994-06-02 | 1994-06-02 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2902944B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001303249A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | 帯状シート材の表面処理装置 |
| JP2007311417A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 薄膜製造装置および薄膜製造方法 |
| JP2009188232A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 薄膜積層体の製造装置 |
| JP2009191326A (ja) * | 2008-02-15 | 2009-08-27 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 薄膜積層体の製造装置 |
| JP2010150599A (ja) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Fuji Electric Systems Co Ltd | 薄膜形成装置 |
| US8431439B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-04-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film laminated body manufacturing apparatus and method |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5109301B2 (ja) * | 2006-07-27 | 2012-12-26 | 富士電機株式会社 | 成膜装置および成膜方法 |
-
1994
- 1994-06-02 JP JP6120942A patent/JP2902944B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2001303249A (ja) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hirano Koon Kk | 帯状シート材の表面処理装置 |
| JP2007311417A (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-29 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 薄膜製造装置および薄膜製造方法 |
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| US8431439B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-04-30 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film laminated body manufacturing apparatus and method |
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|---|---|
| JP2902944B2 (ja) | 1999-06-07 |
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