JP2865272B2 - 薄膜光電変換素子の製造装置 - Google Patents
薄膜光電変換素子の製造装置Info
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- JP2865272B2 JP2865272B2 JP6128417A JP12841794A JP2865272B2 JP 2865272 B2 JP2865272 B2 JP 2865272B2 JP 6128417 A JP6128417 A JP 6128417A JP 12841794 A JP12841794 A JP 12841794A JP 2865272 B2 JP2865272 B2 JP 2865272B2
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- Japan
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- film forming
- film
- chamber
- forming chamber
- lid
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、可撓性基板上に各層を
ステッピングロール方式で成膜する薄膜光電変換素子の
製造装置に関する。
ステッピングロール方式で成膜する薄膜光電変換素子の
製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばアモルファスシリコン (以下ａ−
Ｓｉと記す) を主材料とした光電変換層を含む各層を長
尺の高分子材料あるいはステンレス鋼などの金属からな
る可撓性基板上に形成して薄膜光電変換素子を製造する
方法は、生産性の点ですぐれている。長尺の可撓性基板
上に複数の層を成膜する方式として、各成膜室内を長手
方向に移動する基板上に成膜するロールツーロール方式
と、成膜室内で停止させた基板上に成膜したのち成膜の
終わった基板部分を成膜室外へ送り出すステッピングロ
ール方式とがある。プラズマＣＶＤ法を用いて成膜する
ステッピングロール方式では、成膜室開放−基板１フレ
ーム移動−成膜室封止−原料ガス導入−圧力制御−放電
開始−放電終了−原料ガス停止−ガス引き−成膜室開放
の操作がくり返される。
Ｓｉと記す) を主材料とした光電変換層を含む各層を長
尺の高分子材料あるいはステンレス鋼などの金属からな
る可撓性基板上に形成して薄膜光電変換素子を製造する
方法は、生産性の点ですぐれている。長尺の可撓性基板
上に複数の層を成膜する方式として、各成膜室内を長手
方向に移動する基板上に成膜するロールツーロール方式
と、成膜室内で停止させた基板上に成膜したのち成膜の
終わった基板部分を成膜室外へ送り出すステッピングロ
ール方式とがある。プラズマＣＶＤ法を用いて成膜する
ステッピングロール方式では、成膜室開放−基板１フレ
ーム移動−成膜室封止−原料ガス導入−圧力制御−放電
開始−放電終了−原料ガス停止−ガス引き−成膜室開放
の操作がくり返される。
【０００３】このステッピングロール方式を採用した成
膜装置は、通常のロールツーロール成膜に比べ以下の点
で優れている。 (1)隣接する成膜室とのガス相互拡散がない。 (2)装置がコンパクトである。 プラズマＣＶＤ法による成膜作業を行う成膜室は通常上
下二つの部分に分けられ、高電圧電極を収容した下部成
膜室と上部成膜室の各開口部側端面の間に可撓性基板を
はさみ、下部成膜室の上方の開口部を密閉することによ
り、成膜空間を形成し、その空間内に搬送した可撓性基
板上に成膜する。しかし、成膜作業を繰り返すと、反応
生成物が電極の表面に付着し、均一な放電が行われなく
なる。そのため、ときどき下部成膜室を開放して電極の
清掃などのメンテナンス作業を行わなければならない。
メンテナンス作業を容易にするには、開放された上部成
膜室の上方から下部成膜室を移動させなければならな
い。図４ (ａ) 、 (ｂ) は、そのような成膜作業を行う
従来の薄膜光電変換素子の製造装置を示す。高電圧電極
を収容した下部成膜室２１とヒータを内蔵する対向電極
を内蔵した上部成膜室２２とは、マウント２３上に設置
されたアクチュエータ２４により上部成膜室２２を下降
させることにより、双方の開口部側端面で可撓性基板１
をはさむことができる。下部成膜室２１と上部成膜室２
２とは、さらに下部壁体３１とそれＯリング３３を介し
て真空に仕切るフランジ３２とからなる包括真空室に囲
まれている。この真空仕切りフランジ３２には、装置枠
体４上に設置されたアクチュエータ５１のロッド５２の
先端にロータリーブッシュ５３、スラスト軸受５４を介
して回動可能に接続されているジョイントプレート５５
が固定されている。したがって、フランジ３２は、それ
に上下の距離を可変にして接続された上部成膜室２２と
共に、矢印６１に示す上下移動をし、またロータリーブ
ッシュ５３をガイドとして矢印６２のように旋回するこ
とができ、下部成膜室２１の上方から移動することによ
り下部成膜室２１を開放し、下部成膜室２１および上部
成膜室２２のメンテナンス作業を可能にする。
膜装置は、通常のロールツーロール成膜に比べ以下の点
で優れている。 (1)隣接する成膜室とのガス相互拡散がない。 (2)装置がコンパクトである。 プラズマＣＶＤ法による成膜作業を行う成膜室は通常上
下二つの部分に分けられ、高電圧電極を収容した下部成
膜室と上部成膜室の各開口部側端面の間に可撓性基板を
はさみ、下部成膜室の上方の開口部を密閉することによ
り、成膜空間を形成し、その空間内に搬送した可撓性基
板上に成膜する。しかし、成膜作業を繰り返すと、反応
生成物が電極の表面に付着し、均一な放電が行われなく
なる。そのため、ときどき下部成膜室を開放して電極の
清掃などのメンテナンス作業を行わなければならない。
メンテナンス作業を容易にするには、開放された上部成
膜室の上方から下部成膜室を移動させなければならな
い。図４ (ａ) 、 (ｂ) は、そのような成膜作業を行う
従来の薄膜光電変換素子の製造装置を示す。高電圧電極
を収容した下部成膜室２１とヒータを内蔵する対向電極
を内蔵した上部成膜室２２とは、マウント２３上に設置
されたアクチュエータ２４により上部成膜室２２を下降
させることにより、双方の開口部側端面で可撓性基板１
をはさむことができる。下部成膜室２１と上部成膜室２
２とは、さらに下部壁体３１とそれＯリング３３を介し
て真空に仕切るフランジ３２とからなる包括真空室に囲
まれている。この真空仕切りフランジ３２には、装置枠
体４上に設置されたアクチュエータ５１のロッド５２の
先端にロータリーブッシュ５３、スラスト軸受５４を介
して回動可能に接続されているジョイントプレート５５
が固定されている。したがって、フランジ３２は、それ
に上下の距離を可変にして接続された上部成膜室２２と
共に、矢印６１に示す上下移動をし、またロータリーブ
ッシュ５３をガイドとして矢印６２のように旋回するこ
とができ、下部成膜室２１の上方から移動することによ
り下部成膜室２１を開放し、下部成膜室２１および上部
成膜室２２のメンテナンス作業を可能にする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】図４に示した装置で
は、大面積かつ２００ｋｇを超える重量の真空仕切りフ
ランジ３２の上下駆動および鉛直方向のガイドは上下駆
動用アクチュエータ５１のロッド５２のみで行われてい
るので、鉛直方向のガイドをしているロッド５２を大口
径化しなければならない。よって大型のアクチュエータ
を使用することになり、装置枠体４への固定にも強度を
要し、また旋回６２の際には移動空間を必要とするた
め、包括真空室３１幅６３方向に無駄なスペース６４が
必要となり装置が長手方向に大型化となる問題点があ
る。さらに、このような機構では大面積かつ重量物のメ
ンテナンスに対しては作業性および安全性に問題があっ
た。
は、大面積かつ２００ｋｇを超える重量の真空仕切りフ
ランジ３２の上下駆動および鉛直方向のガイドは上下駆
動用アクチュエータ５１のロッド５２のみで行われてい
るので、鉛直方向のガイドをしているロッド５２を大口
径化しなければならない。よって大型のアクチュエータ
を使用することになり、装置枠体４への固定にも強度を
要し、また旋回６２の際には移動空間を必要とするた
め、包括真空室３１幅６３方向に無駄なスペース６４が
必要となり装置が長手方向に大型化となる問題点があ
る。さらに、このような機構では大面積かつ重量物のメ
ンテナンスに対しては作業性および安全性に問題があっ
た。
【０００５】本発明の目的は、上述の問題を解決し、量
産装置における装置のメンテナンスに要する休止時間を
最小限にし、また装置を小型化することで装置専有面積
を縮小化して多数の装置を設置でき、生産性を向上する
ことのできる薄膜光電変換素子の製造装置を提供するこ
とにある。
産装置における装置のメンテナンスに要する休止時間を
最小限にし、また装置を小型化することで装置専有面積
を縮小化して多数の装置を設置でき、生産性を向上する
ことのできる薄膜光電変換素子の製造装置を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、函状の壁体とその上方の開口部を閉鎖
可能の蓋体とからなる真空槽内に、それぞれ函状の壁体
を有する成膜室の上下二つの部分が収容され、真空槽内
に搬送されてくる可撓性基板を両成膜室の壁体の開口側
端面の間に水平に停止させ、蓋体に支持された上下駆動
機構により成膜室の上方部分を下方部分に向けて移動さ
せて両部分壁体の開口側端面間にはさみ、成膜室の両部
分内にそれぞれ配置された電極間に電圧を印加して基板
上に成膜する薄膜光電変換素子の製造装置において、真
空槽蓋体が成膜室の上方部分およびその上下駆動機構と
共に、上下方向および水平方向に独立して移動可能であ
るものとする。成膜室の上下方向に移動可能の部分が水
平軸の周りに回動可能に真空槽蓋体に支持されたことが
有効である。また、真空槽蓋体が水平方向で両側にある
２本の水平移動枠体に固定され、その水平移動枠体に水
平方向のレールに案内されるガイド部材と上下方向のレ
ールに案内されるガイド部材とがそれぞれ結合されたこ
とが有効である。
めに、本発明は、函状の壁体とその上方の開口部を閉鎖
可能の蓋体とからなる真空槽内に、それぞれ函状の壁体
を有する成膜室の上下二つの部分が収容され、真空槽内
に搬送されてくる可撓性基板を両成膜室の壁体の開口側
端面の間に水平に停止させ、蓋体に支持された上下駆動
機構により成膜室の上方部分を下方部分に向けて移動さ
せて両部分壁体の開口側端面間にはさみ、成膜室の両部
分内にそれぞれ配置された電極間に電圧を印加して基板
上に成膜する薄膜光電変換素子の製造装置において、真
空槽蓋体が成膜室の上方部分およびその上下駆動機構と
共に、上下方向および水平方向に独立して移動可能であ
るものとする。成膜室の上下方向に移動可能の部分が水
平軸の周りに回動可能に真空槽蓋体に支持されたことが
有効である。また、真空槽蓋体が水平方向で両側にある
２本の水平移動枠体に固定され、その水平移動枠体に水
平方向のレールに案内されるガイド部材と上下方向のレ
ールに案内されるガイド部材とがそれぞれ結合されたこ
とが有効である。
【０００７】
【作用】成膜室の上方部分の上下駆動機構と共に支持す
る蓋体とを上下方向および水平方向に独立移動可能にす
ることにより、真空槽壁体および成膜室の下方部分の直
上から蓋体等を側方に移動させて成膜室下方部分のメン
テナンス作業あるいは可撓性基板の成膜室への装着作業
を容易に行うことができる。また、成膜室の上方部分を
上方に上昇させて下方からメンテナンス作業を行うこと
も容易にできる。そして、蓋体の移動を軸の周りの回転
によって行わず、また特に蓋体を両側で固定する水平移
動枠体を用いることにより、面積の大きい支持、移動機
構を必要としないので、移動機構のための専有面積を節
減する。
る蓋体とを上下方向および水平方向に独立移動可能にす
ることにより、真空槽壁体および成膜室の下方部分の直
上から蓋体等を側方に移動させて成膜室下方部分のメン
テナンス作業あるいは可撓性基板の成膜室への装着作業
を容易に行うことができる。また、成膜室の上方部分を
上方に上昇させて下方からメンテナンス作業を行うこと
も容易にできる。そして、蓋体の移動を軸の周りの回転
によって行わず、また特に蓋体を両側で固定する水平移
動枠体を用いることにより、面積の大きい支持、移動機
構を必要としないので、移動機構のための専有面積を節
減する。
【０００８】
【実施例】以下、図４と共通の部分に同一の符号を付し
た図を引用して本発明の実施例について述べる。図１、
２、３は本発明の一実施例の薄膜光電変換素子の製造装
置を示し、図１、図３が側面図、図２が平面図である。
包括真空室３１を閉鎖している真空仕切りフランジ３２
は、図２に示すように、両側に設置したヒンジ８１とヒ
ンジピン８２とでスイングアーム８３に連結し、両端の
スイングアーム８３間のディスタンスバー８４に設置し
た押しボルト８５をストッパとしてヒンジピン８２を支
点に矢印６３のようにスイング回転可能に保持されてい
るので、包括真空室３１の開口部側上面とフランジ７の
下面との平行度の調整が容易にできる。これにより包括
真空室３１の開口部のフランジ３２による密閉が確実に
できる。また、ヒンジピン８２とヒンジ８１との嵌合部
は、ヒンジ側を上下方向の長穴にすることにより、Ｏリ
ング３３のつぶし量を鉛直方向に自由に逃がし吸収する
ことができる連結構造となっている。さらにスイングア
ーム８３の両端は、水平移動フレーム８６に固定され
る、第一ガイドレール９１によって案内されるガイドテ
ーブル８７に連結されている。これにより、フランジ３
２は、アクチュエータ２４により上下に移動できる上部
成膜室２２と共に矢印６４の方向に水平移動できる。矢
印６５の方向の上下移動は、装置枠体４上に設置した２
本の鉛直支柱４１にそれぞれ固定される第二ガイドレー
ル９２に案内される第二ガイドテーブル８８を水平移動
フレーム８６に連結することによって行われる。第二ガ
イドテーブル８８の上下駆動のために、２本の鉛直支柱
４１の間に支持された横けた４２の中央上に設置したモ
ータ４３の回転出力をかさ歯車４４を介して回転軸４５
に伝達し、その回転軸４５の両端でカップリング４６を
介してウオーム減速機４７に伝達する。矢印６６で示す
減速された回転は、支柱４１に固定されたベアリング４
８に支持された２本のねじ軸４９に伝達される。そして
ねじ軸４９の回転により、送りナット９３に接続プレー
ト９４を介して結合された水平移動フレーム８６が上下
に移動する。これにより、大面積で２００ｋｇを超える
重量をもつフランジ３２が、対向電極駆動機構と共に包
括真空室３１上部より上方へ引き離すことができる。
この装置のメンテナンス時の操作は次のように行う。下
部成膜室２１内の高電圧電極７１の清掃などのメンテナ
ンスおよび可撓性基板１のセットをする際には、包括真
空室３１および上下部成膜室２１、２２内を大気圧に復
帰し、モータ４３による矢印６５方向の上下駆動によ
り、真空仕切りフランジ３２を包括真空室３１上で高さ
ｈ1 で上昇させて図３にアクチュエータ２４近傍だけ鎖
線で示す中間位置に停め、その高さで手動で包括真空室
３１上部より図１に示す真空包括室の排気口３４に接続
された排気系３５の上部まで矢印６４の方向で水平移動
する。その位置でさらに矢印６５の方向にストロークエ
ンドまで高さｈ2 だけ上昇させ、図３に鎖線で上部成膜
室３２からアクチュエータ２４までの構造部分を示す位
置に移動させる。この位置でメンテナンス作業を行う。
また、上部成膜室２２内部および対向電極７２のメンテ
ナンスを行う場合は、包括真空室３１の上方で上記の中
間位置よりさらに矢印６５の方向にストロークエンドま
で高さｈ2だけ上昇させる。やはり図３に鎖線で示すこ
の位置でメンテナンス作業を行う。
た図を引用して本発明の実施例について述べる。図１、
２、３は本発明の一実施例の薄膜光電変換素子の製造装
置を示し、図１、図３が側面図、図２が平面図である。
包括真空室３１を閉鎖している真空仕切りフランジ３２
は、図２に示すように、両側に設置したヒンジ８１とヒ
ンジピン８２とでスイングアーム８３に連結し、両端の
スイングアーム８３間のディスタンスバー８４に設置し
た押しボルト８５をストッパとしてヒンジピン８２を支
点に矢印６３のようにスイング回転可能に保持されてい
るので、包括真空室３１の開口部側上面とフランジ７の
下面との平行度の調整が容易にできる。これにより包括
真空室３１の開口部のフランジ３２による密閉が確実に
できる。また、ヒンジピン８２とヒンジ８１との嵌合部
は、ヒンジ側を上下方向の長穴にすることにより、Ｏリ
ング３３のつぶし量を鉛直方向に自由に逃がし吸収する
ことができる連結構造となっている。さらにスイングア
ーム８３の両端は、水平移動フレーム８６に固定され
る、第一ガイドレール９１によって案内されるガイドテ
ーブル８７に連結されている。これにより、フランジ３
２は、アクチュエータ２４により上下に移動できる上部
成膜室２２と共に矢印６４の方向に水平移動できる。矢
印６５の方向の上下移動は、装置枠体４上に設置した２
本の鉛直支柱４１にそれぞれ固定される第二ガイドレー
ル９２に案内される第二ガイドテーブル８８を水平移動
フレーム８６に連結することによって行われる。第二ガ
イドテーブル８８の上下駆動のために、２本の鉛直支柱
４１の間に支持された横けた４２の中央上に設置したモ
ータ４３の回転出力をかさ歯車４４を介して回転軸４５
に伝達し、その回転軸４５の両端でカップリング４６を
介してウオーム減速機４７に伝達する。矢印６６で示す
減速された回転は、支柱４１に固定されたベアリング４
８に支持された２本のねじ軸４９に伝達される。そして
ねじ軸４９の回転により、送りナット９３に接続プレー
ト９４を介して結合された水平移動フレーム８６が上下
に移動する。これにより、大面積で２００ｋｇを超える
重量をもつフランジ３２が、対向電極駆動機構と共に包
括真空室３１上部より上方へ引き離すことができる。
この装置のメンテナンス時の操作は次のように行う。下
部成膜室２１内の高電圧電極７１の清掃などのメンテナ
ンスおよび可撓性基板１のセットをする際には、包括真
空室３１および上下部成膜室２１、２２内を大気圧に復
帰し、モータ４３による矢印６５方向の上下駆動によ
り、真空仕切りフランジ３２を包括真空室３１上で高さ
ｈ1 で上昇させて図３にアクチュエータ２４近傍だけ鎖
線で示す中間位置に停め、その高さで手動で包括真空室
３１上部より図１に示す真空包括室の排気口３４に接続
された排気系３５の上部まで矢印６４の方向で水平移動
する。その位置でさらに矢印６５の方向にストロークエ
ンドまで高さｈ2 だけ上昇させ、図３に鎖線で上部成膜
室３２からアクチュエータ２４までの構造部分を示す位
置に移動させる。この位置でメンテナンス作業を行う。
また、上部成膜室２２内部および対向電極７２のメンテ
ナンスを行う場合は、包括真空室３１の上方で上記の中
間位置よりさらに矢印６５の方向にストロークエンドま
で高さｈ2だけ上昇させる。やはり図３に鎖線で示すこ
の位置でメンテナンス作業を行う。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、成膜室を収容する真空
槽の蓋体を、それに支持される成膜室の上方部分などと
共に、上下および水平方向に独立に移動可能にすること
により、成膜室の下方部分の上方を開放してメンテナン
ス作業を行うことが容易にでき、また成膜室の上方部分
を下方部分から引離して上方部分のメンテナンス作業を
行うことも容易にできるようになった。これにより作業
者の労力が軽減し、メンテナンス作業のための装置の休
止時間を短縮できた。さらに、装置上部機構を回動させ
ないので、重量物を回動させる軸部のために要する無効
面積がなくなり、特に両側で蓋体を支持する枠体を用い
ることにより、装置専有面積が縮小して、多数の装置の
設置が可能になった。
槽の蓋体を、それに支持される成膜室の上方部分などと
共に、上下および水平方向に独立に移動可能にすること
により、成膜室の下方部分の上方を開放してメンテナン
ス作業を行うことが容易にでき、また成膜室の上方部分
を下方部分から引離して上方部分のメンテナンス作業を
行うことも容易にできるようになった。これにより作業
者の労力が軽減し、メンテナンス作業のための装置の休
止時間を短縮できた。さらに、装置上部機構を回動させ
ないので、重量物を回動させる軸部のために要する無効
面積がなくなり、特に両側で蓋体を支持する枠体を用い
ることにより、装置専有面積が縮小して、多数の装置の
設置が可能になった。
【図１】本発明の一実施例の薄膜光電変換素子製造装置
の側面図
の側面図
【図２】図１の装置の平面図
【図３】図１の装置のメンテナンス時の状態を示す側面
図
図
【図４】従来の薄膜光電変換素子製造装置を示し、
(ａ) が平面図、 (ｂ) が側面図
(ａ) が平面図、 (ｂ) が側面図
１ 可撓性基板 ２１ 下部専用室 ２２ 上部専用室 ２４ アクチュエータ ３１ 包括真空室 ３２ フランジ ４１ 鉛直支柱 ４３ モータ ７１ 高電圧電極 ７２ 対向電極 ８１ ヒンジ ８２ ヒンジピン ８３ スイングアーム ８６ 水平移動フレーム ８７、８８ ガイドテーブル ９１、９２ ガイドレール
Claims (3)
- 【請求項１】函状の壁体とその上方の開口部を閉鎖可能
の蓋体とからなる真空槽内に、それぞれ函状の壁体を有
する成膜室の上下二つの部分が収容され、真空槽内に搬
送されてくる可撓性基板を両成膜室の壁体の開口側端面
の間に水平に停止させ、蓋体に支持された上下駆動機構
より成膜室の上方部分を下方部分に向けて移動させて基
板を両部分壁体の開口側端面間にはさみ、成膜室の両部
分内にそれぞれ配置された電極間に電圧を印加して基板
上に成膜するものにおいて、真空槽蓋体が成膜室の上方
部分およびその上下駆動機構と共に、上下方向および水
平方向にそれぞれ独立して移動可能であることを特徴と
する薄膜光電変換素子の製造装置。 - 【請求項２】成膜室の上下方向に移動可能の部分が水平
軸の周りに回動可能に真空槽蓋体に支持された請求項１
記載の薄膜光電変換素子の製造装置。 - 【請求項３】真空槽蓋体が水平方向で両側にある２本の
水平移動枠体に固定され、その水平移動枠体に水平方向
のレールに案内されるガイド部材と上下方向のレールに
案内されるガイド部材とがそれぞれ結合された請求項１
あるいは２記載の薄膜光電変換素子の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6128417A JP2865272B2 (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6128417A JP2865272B2 (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07335923A JPH07335923A (ja) | 1995-12-22 |
| JP2865272B2 true JP2865272B2 (ja) | 1999-03-08 |
Family
ID=14984250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6128417A Expired - Fee Related JP2865272B2 (ja) | 1994-06-10 | 1994-06-10 | 薄膜光電変換素子の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2865272B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108722987A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-02 | 佛山鑫达智汇科技有限公司 | 一种方便清洗的新能源汽车配件用清洗装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4576217B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2010-11-04 | 三菱重工業株式会社 | 製膜装置及び製膜装置のメンテナンス方法 |
| TWI283005B (en) | 2005-12-28 | 2007-06-21 | Au Optronics Corp | Low-pressure process apparatus |
| JP5073686B2 (ja) * | 2008-04-22 | 2012-11-14 | アドヴァンスド・ディスプレイ・プロセス・エンジニアリング・コーポレーション・リミテッド | 基板処理装置及び基板処理装置内部の工程空間を開閉する方法 |
| JP6030542B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2016-11-24 | エステック株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
1994
- 1994-06-10 JP JP6128417A patent/JP2865272B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108722987A (zh) * | 2018-05-29 | 2018-11-02 | 佛山鑫达智汇科技有限公司 | 一种方便清洗的新能源汽车配件用清洗装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07335923A (ja) | 1995-12-22 |
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Legal Events
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