JPH07307319A - 基板整列装置及び方法 - Google Patents

基板整列装置及び方法

Info

Publication number
JPH07307319A
JPH07307319A JP9676594A JP9676594A JPH07307319A JP H07307319 A JPH07307319 A JP H07307319A JP 9676594 A JP9676594 A JP 9676594A JP 9676594 A JP9676594 A JP 9676594A JP H07307319 A JPH07307319 A JP H07307319A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
aligning
substrates
holding
aligned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9676594A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Araki
浩之 荒木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP9676594A priority Critical patent/JPH07307319A/ja
Publication of JPH07307319A publication Critical patent/JPH07307319A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の表面対向配置を効率良く実現する。 【構成】 基板配列装置は、2つのカセットCに収納さ
れた表裏面を有するウエハWを表面対向で整列させる装
置であって、回転テーブル20,21と基板受け部2
2,23とを含む基板移載部3と、第1,第2基板搬送
ロボット8,9と、基板挿入部4とを備えている。基板
移載部3は、2つのカセットCを回転テーブル20,2
1で互いに逆方向に90度回転させて、2つのカセット
Cに収納されたウエハWを逆向きに整列させるととも
に、ウエハWを基板受け部22,23によりカセットC
から取り出す。取り出されたウエハWは、2つの基板搬
送ロボット8,9で搬送されて基板挿入部4に搬送され
る。基板挿入部4は、最初に搬送されたウエハWの間に
次に搬送されたウエハWを挿入して、ウエハWを表面対
向で整列させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、保持部に保持された表
裏面を有する基板を整列させる基板整列装置及び基板整
列方法に関する。
【0002】
【従来の技術及びその課題】半導体ウエハや液晶表示装
置用のガラス基板等の基板は、裏面と電気回路が形成さ
れる表面とを有している。表面には各種の電気回路がた
とえばフォトプロセスで形成されるため、表面へのパー
ティクルの付着による基板の汚染を極力低減する必要が
ある。
【0003】基板の汚染を低減する基板処理方法とし
て、特開平4−151833号公報に開示されたものが
知られている。この基板処理方法では、表面対向(基板
の表面と表面、裏面と裏面とを対向させること)で基板
をカセットに収納して基板処理を行う。ここでは、表面
同士、裏面同士を対向させることにより、汚染度が表面
に比べて著しく高い裏面から表面にパーティクルが転写
されるのを防止している。
【0004】前記従来方法を実施する場合、基板を1枚
おきにカセットから取り出し、取り出した基板を順次表
裏反転して再度カセットに収納する構成が考えられる。
しかし、基板を1枚おきに取り出して表裏反転させる構
成では、基板を大量に処理する場合には長時間を要し、
実際に採用するのは困難である。本発明の目的は、基板
を効率良く表面対向で整列させることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る本発明の
基板整列装置は、保持部に保持されたそれぞれ表裏面を
有する2組の基板を整列させる基板整列装置であって、
2組の基板を、所定間隔でそれぞれ一方の組の基板の表
面が一方向を向き他方の組の基板の裏面が一方向に向く
ように整列させる整列手段と、整列手段で整列された一
方の組の基板に整列手段で整列された他方の組の基板を
挿入する基板挿入手段とを備えている。
【0006】請求項2に係る本発明の基板整列装置は、
2つの保持部に保持された表裏面を有する基板を整列さ
せる装置であって、第1整列手段と第2整列手段と基板
挿入手段とを備えている。第1整列手段は、一方の保持
部に保持された基板を、その表面が一方向を向くように
所定間隔で整列させる。第2整列手段は、他方の保持部
に保持された基板を、その裏面が一方向を向くように所
定間隔で整列させる。基板挿入手段は、第1整列手段で
整列させられた基板の間に第2整列手段で整列させられ
た基板を挿入する。
【0007】請求項3に係る本発明の基板整列装置で
は、前記第1及び第2整列手段は、2つの前記保持部を
互いに逆方向に90度回転させる2つの回転テーブルを
有している。請求項4に係る本発明の基板整列装置で
は、前記基板挿入手段は、各回転テーブルで回転させら
れた基板を保持部から所定間隔で一括して取り出す基板
取り出し手段と、所定間隔の半分の間隔の基板保持溝を
有し、基板取り出し手段で取り出された基板を保持する
基板保持部とを含む。
【0008】請求項5に係る本発明の基板整列方法は、
保持部に保持されたそれぞれ表裏面を有する2組の基板
を整列させる基板整列方法であって、2組の基板を、所
定間隔でそれぞれ一方の組の基板の表面が一方向を向き
他方の組の基板の裏面が一方向に向くように整列させる
整列工程と、整列工程で整列された一方の組の基板に整
列工程で整列された他方の組の基板を挿入する基板挿入
工程とを含んでいる。
【0009】請求項6に係る本発明の基板整列方法は、
2つの保持部に保持された表裏面を有する基板を整列さ
せる方法であって、第1整列工程と第2整列工程と基板
挿入工程とを含んでいる。第1整列工程では、一方の保
持部に保持された基板を、その表面が一方向を向くよう
に所定間隔で整列させる。第2整列工程では、他方の保
持部に保持された基板を、その裏面が一方向を向くよう
に所定間隔で整列させる。基板挿入工程では、第1整列
工程で整列させられた基板の間に第2整列工程で整列さ
せられた基板を挿入する。
【0010】請求項7に係る本発明の基板整列方法で
は、前記第1及び第2整列工程では、2つの保持部に保
持された基板を互いに逆方向に90度回転させる。請求
項8に係る本発明の基板整列方法では、前記基板挿入工
程は、互いに逆方向に90度回転させられた基板を保持
部から所定間隔で一括して取り出す基板取り出し工程
と、所定間隔の半分の間隔で2つの保持部から取り出さ
れた基板を交互に保持する基板保持工程とを含む。
【0011】
【作用】請求項1に係る本発明の基板整列装置では、整
列手段が、保持部に保持されたそれぞれ表裏面を有する
2組の基板を、所定間隔でそれぞれ一方の組の基板の表
面が一方向を向き他方の組の基板の裏面が一方向に向く
ように整列させる。そして、基板挿入手段が整列手段で
整列された一方の組の基板に整列手段で整列された他方
の組の基板を挿入する。この結果、整列手段で整列され
た2組の基板が表面対向で整列される。
【0012】したがって、保持部に保持された2組の基
板を互いに逆方向に向けて整列させ、表面が一方向を向
くように整列させた1組の基板に裏面が一方向に向くよ
うに整列させた他方の組の基板を挿入するという簡単な
構成で一括して2組の基板の表面対向を実現できる。こ
のため、2組の基板を効率よく表面対向で整列させるこ
とができる。
【0013】請求項2に係る本発明の基板整列装置で
は、第1整列手段が、一方の保持部に保持された基板
を、その表面が一方向を向くように所定間隔で整列させ
る。また、第2整列手段が他方の保持部に保持された基
板を、その裏面が一方向を向くように所定間隔で整列さ
せる。そして、基板挿入手段が、第1整列手段で整列さ
せられた基板の間に第2整列手段で整列させられた基板
を挿入する。この結果、第1整列手段で整列せられた基
板と第2整列手段で整列させられた基板とが表面対向で
整列される。
【0014】したがって、2つの保持部に保持された基
板を互いに逆方向に向けて整列させ、表面が一方向を向
くように整列させた基板に裏面が一方向に向くように整
列させた基板を挿入するという簡単な構成で一括して基
板の表面対向を実現できる。このため、基板を効率よく
表面対向で整列させることができる。請求項3に係る本
発明の基板整列装置では、第1及び第2整列手段が2つ
の回転テーブルを有しているので、逆方向に回転させる
という制御だけで、同一構造のテーブルで容易に基板を
逆方向に整列できる。
【0015】請求項4に係る本発明の基板整列装置で
は、前記基板挿入手段が基板取り出し手段と基板保持部
とを含んでいるので、簡単な制御で一括して表面対向を
実現できる。請求項5に係る本発明の基板整列方法で
は、整列工程で保持部に保持されたそれぞれ表裏面を有
する2組の基板を、所定間隔でそれぞれ一方の組の基板
が一方向を向き他方の組の基板の裏面が一方向に向くよ
うに整列させる。そして、基板挿入工程で、整列工程で
整列された一方の組の基板に整列工程で整列された他方
の組の基板を挿入する。この結果、整列工程で整列され
た2組の基板が表面対向で整列される。
【0016】したがって、保持部に保持された2組の基
板を互いに逆方向に向けて整列させ、表面が一方向を向
くように整列させた1組の基板に裏面が一方向に向くよ
うに整列させた他方の組の基板を挿入するという簡単な
工程で一括して2組の基板の表面対向を実現できる。こ
のため、2組の基板を効率よく表面対向で整列させるこ
とができる。
【0017】請求項6に係る本発明の基板整列方法で
は、第1整列工程で一方の保持部に保持された基板を、
その表面が一方向を向くように所定間隔で整列させる。
また、第2整列工程で他方の保持部に保持された基板
を、その裏面が一方向を向くように所定間隔で整列させ
る。そして、基板挿入工程で第1整列工程で整列させら
れた基板の間に第2整列工程で整列させられた基板を挿
入する。この結果、第1整列工程で整列せられた基板と
第2整列工程で整列させられた基板とが表面対向で整列
される。
【0018】したがって、2つの保持部に保持された基
板を互いに逆方向に向けて整列させ、表面が一方向を向
くように整列させた基板に裏面が一方向に向くように整
列させた基板を挿入するという簡単な工程で一括して基
板の表面対向を実現できる。このため、基板を効率よく
表面対向で整列させることができる。請求項7に係る本
発明の基板整列方法では、第1及び第2整列工程で2つ
の保持部に保持された基板を互いに逆方向に90度回転
させると、逆方向に回転させるという制御だけで容易に
基板を逆方向に整列できる。
【0019】請求項8に係る本発明の基板整列方法で
は、前記基板挿入工程が基板取り出し工程と基板保持工
程とを含んでいるので、簡単な制御で一括して表面対向
を実現できる。
【0020】
【実施例】図1において、本発明の一実施例を採用した
基板処理装置1は、ウエハ(基板の一例)Wの表面処理
を行う装置である。この基板処理装置1は、カセットC
の搬入搬出部2と、カセットCからのウエハWの取り出
しまたはカセットCへのウエハWの装填を行う基板移載
部3と、ウエハWのハーフピッチ変換を行う基板挿入部
4と、ウエハWの表面処理を行う基板処理部5と、処理
済のウエハWを乾燥させる基板乾燥部6とを有してい
る。搬入搬出部2と基板移載部3との間には、その間で
カセットCを搬送するためのカセット移載ロボット7が
設けられている。また、基板移載部3と基板挿入部4と
の間には、それらの間でウエハWを搬送するための第
1,第2基板搬送ロボット8,9が設けられている。さ
らに、基板挿入部4と基板乾燥部6との間には、その間
でウエハWを一括して搬送するための第3基板搬送ロボ
ット10が設けられている。
【0021】搬入搬出部2は、図2に示すように、2つ
のカセットCを位置決めするための位置決め突起11を
有している。この搬入搬出部2では、図示しない搬送ロ
ボットまたはオペレーターがカセットCの下部の隅部を
この位置決め用突起11に係合させて載置する。ここで
取り扱われるカセットCは、たとえば図3に示すような
形状であり、その内面には、n本のガイド溝12aが一
定のピッチPで平行に形成されている。このピッチP
は、たとえばSEMI規格で定められたピッチである。
このカセットCには、ウエハWの外縁がこのガイド溝1
2aに挿入されて、一定の間隔をおいて垂直に整列した
まま収納され得る。カセットCの上面部には、両側方に
広がる鍔12bが設けられており、この鍔12bの下面
が搬送用の係止部となっている。また底面部には、開口
12cが形成されており、基板移載部3においてウエハ
Wを下方から取り出し得るようになっている。
【0022】カセット搬送ロボット7は、図2に示すよ
うに、上下方向(z方向)と前後方向(y方向)に移動
する支柱13と、支柱13上に設けられた本体14と、
本体14の側面に開閉自在に突出して設けられた1対の
アーム15とを有している。本体14は支柱13に対し
て垂直軸回りに回動可能である。このアーム15でカセ
ットCの鍔部12bの下面を係止して、カセットCを搬
入搬出部2と基板移載部3との間で搬送する。
【0023】基板移載部3は、図1及び図2に示すよう
に、1対の回転テーブル20,21と、回転テーブル2
0,21の下方に配置された基板受け部22,23とを
有している。回転テーブル20,21は、それぞれ逆方
向に90度回転可能である。回転テーブル20,21の
中心には、矩形の開口20a,21a(一方のみ図示)
が形成されている。この開口20a,21aの下方に基
板受け部22,23が配置されている。基板受け部2
2,23は、n枚のウエハWをカセットCから抜き取る
ためのウエハ保持部25と、ウエハ保持部25を上下動
させる昇降機構26とをそれぞれ有している。
【0024】第1及び第2基板搬送ロボット8,9は、
基板処理装置1の両側に対向配置された同一構造のもの
である。ここでは第1基板搬送ロボット8について説明
する。第1基板搬送ロボット8は、図2に示すように、
装置の左右方向(x方向)に移動可能かつz方向に昇降
可能な支柱30と、支柱30上に固定された本体31
と、本体31からy方向に突出する1対の保持アーム3
2と、保持アーム32に開閉可能に支持された保持ヘッ
ド33とを有している。保持アーム32に支持された保
持ヘッド33は、本体31に対して180°回転可能で
ある。
【0025】保持ヘッド33には、図4に示すように、
両面にピッチPで保持溝34が形成されている。保持溝
34の間には、同じくピッチPで通過溝35が形成され
ている。この通過溝35は基板挿入部4での基板挿入時
に、既に基板挿入部4に載置されたウエハWとの干渉を
避けるためであり、ウエハWの外径に当接しないように
保持溝34より深く形成されている。なお保持溝34及
び通過溝35を保持ヘッド33の両面に設けたのは、保
持ヘッド33を180°回転させることで処理前と処理
後とで別の面でウエハWを保持し、処理済のウエハWの
汚染を防止するためである。
【0026】基板挿入部4は、図1及び図2に示すよう
に基板保持部40を有している。基板保持部40は、駆
動機構41により図2のy方向に移動可能である。基板
保持部40上には、図5に示すように、ウエハを保持す
るための保持溝42がピッチP/2で形成されている。
なお、第一基板搬送ロボット8、9をz方向に昇降可能
な構成とする代わりに基板挿入部4の基板保持部40を
z方向に昇降可能な構成としてもよい。第3基板搬送ロ
ボット10は、図6に示すように、装置のx方向及びz
方向に移動可能な支柱45と、支柱45上に固定された
本体46と、本体46に基端が固定された搬送アーム4
7とを有している。搬送アーム47は、y方向に延びる
部材であり、その下面には、下方に延びる基板吸着アー
ム48が基板配列方向(y方向)にピッチPで並べて設
けられている。各基板吸着アーム48は、ピッチP/2
からウエハWの厚みを引いた厚みの板状部材であり、そ
の下部には、図7に示すように、両面に開口する吸着孔
49が形成されている。吸着孔49は、上方に延びる吸
着経路50を介して搬送アーム47内に水平に延びる吸
着経路51に一括して連結されている。基板吸着アーム
48の両面には、図6に示すように、吸着孔49に連通
する田字状の吸着溝52が形成されている。第3基板搬
送ロボット10は図7に示すように、吸着経路51を負
圧にすることで、各吸着孔49を負圧にし、吸着溝52
により表面MFが対向配置されたウエハWの裏面BFを
吸着保持する。
【0027】また、第3基板搬送ロボット10を図8及
び図9に示す変形例のように構成してもよい。この変形
例では、搬送アーム47をy方向において相互に逆向き
に出入自在な左右1対の搬送アーム47A、47Bにて
構成し、基板吸着アーム48をピッチP/2からウエハ
Wの厚みを引いた厚みよりさらに薄い厚みを有しその下
部に片面のみ開口する吸着孔49が形成された板状部材
48A、48Bにて構成する。そして、後述するように
ウエハWの搬送時においてウエハWの裏面間に挿入した
際には、図9(A)に示すようにウエハWと板状部材4
8A、48Bとには間隙が存在するため挿入動作が支障
なく行われる。次に、図9(B)に示すように搬送アー
ム47A、47Bをy方向において相互に逆向きに伸縮
させ吸着孔49を介してウエハWの裏面を吸着保持す
る。
【0028】基板処理部5は、図10に示すように、オ
ーバーフロー型の基板処理槽55を有している。基板処
理槽55は、1対の立壁56と、立壁56の下端から斜
め下方に延びるに1対の傾斜壁58と、傾斜壁58の下
端を結ぶ底壁60とを有する断面が変形家型状のもので
ある。基板処理槽55の立壁56には、ウエハWの側端
部を保持するための保持部材57が紙面直交方向(y方
向)に並べて設けられている。また、傾斜壁58には、
ウエハWの側端部を斜め下方から保持する保持部材59
が紙面直交方向に並べて設けられている。これらの保持
部材57,59にはピッチP/2で基板保持溝57a,
59aが形成されている。また基板処理槽55の底壁6
0には、洗浄効果を増大させるための超音波振動子61
が取り付けられている。超音波振動子61を挟んで底壁
60と傾斜壁59との間には、処理液を導入するための
1対の導入管62が設けられている。導入管62には、
保持されたウエハWの間に処理液を供給するための処理
液供給口63が形成されている。この導入管62には、
電磁切り換え弁からなる液切り換え部64が接続されて
いる。液切り換え部64には、第1薬液供給部65、第
2薬液供給部66及び洗浄液供給部67が接続されてい
る。これらの各供給部65,66,67はそれぞれ内部
に処理液の供給ポンプと貯留タンクとを有している。
【0029】また、各供給部の処理液の供給に関して、
これとは別にN2 加圧系と加圧タンク等の圧送手段によ
って供給する構成としてもよい。基板処理装置1は、図
11に示す制御部70を有している。制御部70は、C
PU,RAM,ROMを含むマイクロコンピュータを有
している。制御部70には、カセット搬送ロボット7、
回転テーブル20,21、基板受け部22,23、基板
挿入部4、第1〜第3基板搬送ロボット8〜10、基板
処理部5、基板乾燥部6及び他の入出力部が接続されて
いる。
【0030】次に、上述の実施例の動作を、図12の制
御フローチャートにしたがって説明する。まず、ステッ
プS1で2つのカセットC1,C2が位置決め用突起1
1に位置決めされて搬入搬出部2に載置されるのを待
つ。この判断は搬入搬出部2に設けられたセンサ(図示
せず)により行う。ステップS1で2つのカセットC
1,C2が載置されたと判断するとステップS2に移行
する。ステップS2では、搬入搬出部2に載置された一
方のカセットC1をカセット搬送ロボット7により基板
移載部3の回転テーブル20上に移載する。ステップS
3では他方のカセットC2を回転テーブル21上に移載
する。
【0031】ステップS4では、回転テーブル20をモ
ータ24により時計回りに90度(以下、+90°とい
う)回転させる。ステップS5では、回転テーブル21
を反時計回りに90度(以下、−90度という)回転さ
せる。この結果、カセットC1に収納されたウエハW1
とカセットC2に収納されたウエハW1との表裏が反転
する。たとえば、カセットC1に収納されたウエハW1
の表面が図2の手前側に配置され、カセットC2に収納
されたウエハW2の表面が奥側に配置される。
【0032】ステップS6では、基板挿入部4の基板保
持部40を駆動機構41により回転テーブル20に対向
配置した状態で、カセットC1に収納されたウエハW1
を基板受け部22で取り出し、第1基板搬送ロボット8
で基板挿入部4に搬送して基板保持部40上に載置す
る。ここでは、図5に示す基板保持部40の保持溝42
に1ピッチおき、つまりピッチPでウエハW1が載置さ
れる。ステップS7では、基板挿入部4の基板保持部4
0を駆動機構41により回転テーブル21に対向配置す
る。なおこのとき、回転テーブル20に対向配置したと
きよりピッチP/2だけずらして配置する。ステップS
8では、カセットC2に収納されたウエハW2を基板受
け部23で取り出し、第2基板搬送ロボット9で基板挿
入部4に搬送して基板保持部40上に載置する。この載
置時に、図4に示すように、第2基板搬送ロボット9の
保持ヘッド33には通過溝35が形成されているので、
既に基板保持部40に載置されたウエハW1に保持ヘッ
ド33が干渉しない。この結果、隣り合うウエハW1,
W2が表面対向で整列される。またそのピッチは、カセ
ット収納時のピッチPの半分のP/2となり、表面対向
されたウエハ占有容積が2つのカセット収納時の占有容
積と同等になり、実質的に占有容積が半分になる。
【0033】ステップS9では、第3基板搬送ロボット
10で基板挿入部4から基板処理部5の基板処理槽55
にウエハWを搬送する。この搬送時において、第3基板
搬送ロボット10は、基板吸着アーム48をウエハWの
裏面間に挿入してウエハWの裏面を吸着保持する。この
結果、アーム開閉動作が不要になりウエハWの搬送時に
基板吸着アーム48がウエハWの側端からはみ出すこと
はない。したがってコンパクトな構成でパーティクルの
発生を抑えてウエハWを搬送できる。搬送されたウエハ
Wは、基板処理槽55内の保持部材57,59に移載さ
れる。この基板移載時において、第3基板搬送ロボット
10は、基板吸着アーム48を開閉することなくウエハ
Wを受け渡すことができる。従って、基板処理槽55の
断面積をウエハWの断面積よりやや大きい程度に小さく
でき、ウエハW収納空間以外のスペースを小さくでき
る。この結果、処理液の消費を抑え、装置サイズもコン
パクトにできるとともに、処理液の還流を低減して処理
の均一性を向上できる。
【0034】ステップS10では基板処理を行う。この
基板処理時には、液切り換え部64により、まず第1薬
液供給部65から基板処理槽55に薬液を供給して第1
薬液処理を行う。第1薬液処理が終了すると、次に洗浄
液供給部67から洗浄液を供給し、洗浄処理を行う。ま
たウエハWの種類によっては最初に第2薬液供給部66
から薬液を供給して第2薬液処理を行い、続いて洗浄液
供給部67から洗浄液を供給して洗浄処理を行う。
【0035】基板処理が終了するとステップS11に移
行する。ステップS11では、処理が終わったウエハW
を基板乾燥部6に搬送する。ステップS12では、基板
乾燥部6による乾燥処理を行う。乾燥処理が終了すると
ステップS13に移行する。ステップS13では、第3
基板搬送ロボット10により基板乾燥部6から基板挿入
部4にウエハWを搬送する。ステップS14では、基板
挿入部4に搬送されたウエハWのうち、1つおきのウエ
ハW2を第2基板搬送ロボット9で基板移載部3に搬送
し、ウエハW2を基板受け部23に渡し、回転テーブル
21に載置されたカセットC2に収納する。ステップS
15では、基板挿入部4を回転テーブル20に対向する
位置に配置し、ステップS16では、基板挿入部4に残
ったウエハW1を、第1基板搬送ロボット8及び基板受
け部22により、カセットC1に収納する。ステップS
17では、回転テーブル20を−90度回転させる。ス
テップS18では、回転テーブル21を+90度回転さ
せる。ステップS19では、カセットC1をカセット移
載ロボット7により搬入搬出部2に移載する。ステップ
S20ではカセットC2をカセット搬送ロボット7によ
り搬入搬出部2に移載する。ステップS21では、図示
しない搬送ロボットによりカセットC1,C2が取り出
されるのを待つ。カセットC1,C2が共に取り出され
るとステップS1に戻る。
【0036】ここでは、回転テーブル20,21を互い
に逆方向に90度回転させることにより、2つのカセッ
トC1,C2に収納された基板の向きを表面対向するよ
うに配置し、それを基板挿入部4上でハーフピッチに変
換して整列させているで、ウエハWの表面対向を容易に
行えるとともに、その占有容積を小さくできる。図13
は本発明に係る別の実施例が採用された基板処理装置の
斜視部分図である。この実施例では、上述の実施例とは
異なり、基板移載部3をそれぞれ1対の回転テーブル2
0、21、基板受け部22、23で構成せずに単一の1
80°回転する回転テーブル21、基板受け部23のみ
で構成し、さらに基板搬送ロボット8、9も基板処理装
置の両側に一対にて対向配置する構成を採用せず、単一
の基板搬送ロボット9を基板処理装置の片側に配置した
構成を採用する。
【0037】次に、本実施例の動作を図14の制御フロ
ーチャートに従って説明する。まず、ステップP1で2
つのカセットC1、C2が位置決め用突起11に位置決
めされて搬入搬出部2に載置されるのを待つ。この判断
は搬入搬出部2に設けられたセンサ(図示せず)により
行う。ステップP1で2つのカセットC1、C2が載置
されたと判断するとステップP2に移行する。ステップ
P2では、搬入搬出部2に載置された一方のカセットC
1をカセット搬送ロボット7により基板移載部3の回転
テーブル21上に移載する。ステップP3では、回転テ
ーブル21をモータ24により時計回りに90度(以
下、+90°という)回転させる。ステップP4では、
基板挿入部4の基板保持部40を駆動機構41により回
転テーブル21に対向配置した状態で、カセットC1に
収納されたウエハW1を基板受け部23で取り出し、基
板搬送ロボット9で基板保持部40上に載置する。この
結果、前述した実施例と同じく基板保持部40の保持溝
42に1ピッチおき、すなわちピッチPでウエハW1が
載置される。ステップP5では、回転テーブル21をモ
ータ24により反時計回りに90度(以下、−90°と
いう)回転させ、ウエハW1が取り出されたカセットC
1をカセット搬送ロボット7により回転テーブル21上
から搬入搬出部2の元の載置位置に搬送し、他方のカセ
ットC2をカセット搬送ロボット7により基板移載部3
の回転テーブル21上に移載する。ステップP6では回
転テーブル21をモータ24により−90°回転させ
る。ステップP7では、基板挿入部4の基板保持部40
を駆動機構41により回転テーブル21にステップP4
で載置位置よりP/2ピッチだけずらし対向配置した状
態で、カセットC2に収納されたウエハW2を基板受け
部23で取り出し、基板搬送ロボット9で基板保持部4
0上に載置する。この結果、隣合うウエハW1、W2が
表面対向で整列される。
【0038】次に、前記実施例におけるステップS9〜
S14と同様にステップP8〜P13において、搬送ロ
ボット10で基板挿入部4から基板処理部5の基板処理
槽55にウエハWを搬送した後、基板処理槽55で基板
処理を行い基板処理を終了してから基板乾燥部6に搬送
し乾燥処理を行い、乾燥処理が終了した後に基板搬送ロ
ボット9によって基板乾燥部6から基板挿入部4にウエ
ハWを搬送し、引き続き基板搬送部4に搬送されたウエ
ハWのうち1つおきのウエハW2を基板搬送ロボット9
で基板移載部3に搬送し、ウエハW2を基板受け部23
に渡し、回転テーブル21に載置されたカセットC2に
収納する。
【0039】ステップP14で回転テーブル21をモー
タ24により+90°回転させる。ステップP15では
カセットC2をカセット搬送ロボット7により搬入搬出
部2に移載する。ステップP16でカセットC1を搬入
搬出部2からカセット搬送ロボット7により基板移載部
3の回転テーブル21上に移載する。ステップP17で
は、回転テーブル21をモータ24により+90°回転
させる。ステップP18では基板挿入部4をP/2ピッ
チだけずらして回転テーブル21に対向配置し、ステッ
プP19では、基板挿入部4に残ったウエハW1を基板
搬送ロボット9及び基板受け部23により、カセットC
1に収納する。ステップP20では、回転テーブル21
をモータ24により−90°回転させる。ステップP2
1では、カセットC1をカセット搬送ロボット7により
搬入搬出部2に移載する。ステップP22では、図示し
ない搬送ロボットによりカセットC1、C2が共に取り
出されるとステップP1に戻る。
【0040】なお、この実施例では2つのカセットC
1、C2にそれぞれウエハW1、W2を収納して移載す
る構成を採用しているが、いずれか1つのカセットのみ
を用いてW1、W2を収納して移載する構成を採用して
もよい。また、この実施例でも基板搬送ロボット9をz
方向に昇降可能な構成とする代わりに基板挿入部4の基
板保持部40をz方向に昇降可能な構成としてもよい。
【0041】〔他の実施例〕 (a) 回転テーブル20,21で90°回転させる構
成に代えて、基板搬送ロボット8,9による搬送時に9
0°反転するようにしてもよい。 (b) ハーフピッチで基板を挿入する構成は、前記実
施例に限定されるものではない。 (c) 丸型のウエハWを取り扱う構成に代えて、液晶
表示装置用の角型基板を取り扱う構成にも本発明を適用
できる。
【0042】
【発明の効果】請求項1に係る本発明の基板整列装置で
は、保持部に保持された2組の基板を互いに逆方向に向
けて整列させ、表面が一方向を向くように整列させた1
組の基板に裏面が一方向に向くように整列させた他方の
組の基板を挿入するという簡単な構成で一括して2組の
基板の表面対向を実現できる。このため、2組の基板を
効率よく表面対向で整列させることができる。
【0043】請求項2に係る本発明の基板整列装置で
は、2つの保持部に保持された基板を互いに逆方向に向
けて整列させ、表面が一方向を向くように整列させた基
板に裏面が一方向に向くように整列させた基板を挿入す
るという簡単な構成で一括して基板の表面対向を実現で
きる。このため、基板を効率よく表面対向で整列させる
ことができる。
【0044】請求項3に係る本発明の基板整列装置で
は、第1及び第2整列手段が2つの回転テーブルを有し
ているので、逆方向に回転させるという簡単な制御だけ
で、同一構造の回転テーブルで効率良く基板を逆方向に
整列できる。請求項4に係る本発明の基板整列装置で
は、前記基板挿入手段が、基板取り出し手段と基板保持
部とを含んでいるので、簡単な制御で一括して効率良く
表面対向を実現できる。
【0045】請求項5に係る本発明の基板整列方法で
は、保持部に保持された2組の基板を互いに逆方向に向
けて整列させ、表面が一方向を向くように整列させた1
組の基板に裏面が一方向に向くように整列させ他方の組
の基板を挿入するという簡単な工程で一括して2組の基
板の表面対向を実現できる。このため、2組の基板を効
率よく表面対向で整列させることができる。
【0046】請求項5に係る本発明の基板整列方法で
は、2つの保持部に保持された基板を互いに逆方向に向
けて整列させ、表面が一方向を向くように整列させた基
板に裏面が一方向に向くように整列させた基板を挿入す
るという簡単な工程で一括して基板の表面対向を実現で
きる。このため、基板を効率よく表面対向で整列させる
ことができる。
【0047】請求項7に係る本発明の基板整列方法で
は、第1及び第2整列工程で2つの保持部に保持された
基板を互いに逆方向に90度回転させると、逆方向に回
転させるという制御だけで容易に基板を逆方向に整列で
きる。請求項8に係る本発明の基板整列方法では、前記
基板挿入工程が基板取り出し工程と基板保持工程とを含
んでいるので、簡単な制御で一括して表面対向を実現で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例が採用された基板処理装置の
断面模式図。
【図2】その斜視部分図。
【図3】カセットの斜視図。
【図4】基板搬送ロボットの保持ヘッドの断面部分図。
【図5】基板挿入部の基板保持部の断面部分図。
【図6】第3基板搬送ロボットの斜視図。
【図7】そのアームの断面部分図。
【図8】第3基板搬送ロボットの変形例の斜視図。
【図9】そのアームの断面部分図。
【図10】基板処理部の断面図。
【図11】制御系の構成を示すブロック図。
【図12】その制御フローチャート。
【図13】本発明の他の実施例が採用された基板処理装
置の断面模式図。
【図14】本発明の他の実施例が採用された基板処理装
置の制御のフローチャート。
【符号の説明】
1 基板処理装置 3 基板移載部 4 基板挿入部 8,9 第1,第2基板搬送ロボット 20,21 回転テーブル 22,23 基板受け部

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】保持部に保持されたそれぞれ表裏面を有す
    る2組の基板を整列させる基板整列装置であって、 前記2組の基板を、所定間隔でそれぞれ一方の組の前記
    基板の表面が一方向を向き他方の組の前記基板の裏面が
    前記一方向に向くように整列させる整列手段と、 前記整列手段で整列された前記一方の組の基板に前記整
    列手段で整列された前記他方の組の基板を挿入する基板
    挿入手段と、を備えた基板整列装置。
  2. 【請求項2】2つの保持部に保持された表裏面を有する
    基板を整列させる基板整列装置であって、 一方の前記保持部に保持された前記基板を、その表面が
    一方向を向くように所定間隔で整列させる第1整列手段
    と、 他方の前記保持部に保持された前記基板を、その裏面が
    前記一方向を向くように前記所定間隔で整列させる第2
    整列手段と、 前記第1整列手段で整列させられた基板の間に前記第2
    整列手段で整列させられた基板を挿入する基板挿入手段
    と、を備えた基板整列装置。
  3. 【請求項3】前記第1及び第2整列手段は、2つの前記
    保持部を互いに逆方向に90度回転させる2つの回転テ
    ーブルを有する、請求項2に記載の基板整列装置。
  4. 【請求項4】前記基板挿入手段は、前記各回転テーブル
    で回転させられた基板を前記保持部から前記所定間隔で
    一括して取り出す基板取り出し手段と、前記所定間隔の
    半分の間隔の基板保持溝を有し、前記基板取り出し手段
    で取り出された基板を保持する基板保持部とを含む、請
    求項3に記載の基板整列装置。
  5. 【請求項5】保持部に保持されたそれぞれ表裏面を有す
    る2組の基板を整列させる基板整列方法であって、 前記2組の基板を、所定間隔でそれぞれ一方の組の前記
    基板の表面が一方向を向き他方の組の前記基板の裏面が
    前記一方向に向くように整列させる製列工程と、 前記整列工程で整列された前記一方の組の基板に前記整
    列工程で整列された前記他方の組の基板を挿入する基板
    挿入工程と、を含む基板整列方法。
  6. 【請求項6】2つの保持部に保持された表裏面を有する
    基板を整列させる基板整列方法であって、 一方の前記保持部に保持された前記基板を、その表面が
    一方向を向くように所定間隔で整列させる第1整列工程
    と、 他方の前記保持部に保持された前記基板を、その裏面が
    前記一方向を向くように前記所定間隔で整列させる第2
    整列工程と、 前記第1整列工程で整列させられた基板の間に前記第2
    整列工程で整列させられた基板を挿入する基板挿入工程
    と、を含む基板整列方法。
  7. 【請求項7】前記第1及び第2整列工程では、2つの前
    記保持部に保持された基板を互いに逆方向に90度回転
    させる、請求項6に記載の基板整列方法。
  8. 【請求項8】前記基板挿入工程は、互いに逆方向に90
    度回転させられた基板を前記保持部から前記所定間隔で
    一括して取り出す基板取り出し工程と、前記所定間隔の
    半分の間隔で前記2つの保持部から取り出された基板を
    交互に保持する基板保持工程とを含む、請求項7に記載
    の基板整列方法。
JP9676594A 1994-05-10 1994-05-10 基板整列装置及び方法 Pending JPH07307319A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9676594A JPH07307319A (ja) 1994-05-10 1994-05-10 基板整列装置及び方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9676594A JPH07307319A (ja) 1994-05-10 1994-05-10 基板整列装置及び方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07307319A true JPH07307319A (ja) 1995-11-21

Family

ID=14173737

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9676594A Pending JPH07307319A (ja) 1994-05-10 1994-05-10 基板整列装置及び方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07307319A (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2823188A1 (fr) * 2001-04-06 2002-10-11 R2D Ingenierie Methode et manipulateur pour le transfert de supports de composants electroniques et/ou informatiques conformes en disques
EP1925577A1 (de) * 2006-11-24 2008-05-28 Jonas & Redmann Automationstechnik GmbH Verfahren zum Bilden von Stapeln einseitig zu dotierender Wafer, insbesondere Solarwafer, und Handhabungssystem zum Beschicken eines Prozessbootes mit Waferchargen
KR101027051B1 (ko) * 2008-09-19 2011-04-11 주식회사 에스에프에이 태양전지용 웨이퍼의 이송장치
KR101108484B1 (ko) * 2009-03-17 2012-01-31 주식회사 포틱스 솔라 셀 웨이퍼 트랜스퍼 시스템의 엘리베이터 및 트랜스퍼장치
WO2013088899A1 (ja) * 2011-12-16 2013-06-20 株式会社フラスコ 薄板部材移載装置
JP2014222748A (ja) * 2013-05-14 2014-11-27 株式会社ディスコ 加工装置
TWI668787B (zh) * 2016-09-29 2019-08-11 日商斯庫林集團股份有限公司 基板排列裝置及基板排列方法
KR20230020675A (ko) * 2021-08-04 2023-02-13 주식회사 에스에프에이 릴 이적재 시스템

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2823188A1 (fr) * 2001-04-06 2002-10-11 R2D Ingenierie Methode et manipulateur pour le transfert de supports de composants electroniques et/ou informatiques conformes en disques
EP1925577A1 (de) * 2006-11-24 2008-05-28 Jonas & Redmann Automationstechnik GmbH Verfahren zum Bilden von Stapeln einseitig zu dotierender Wafer, insbesondere Solarwafer, und Handhabungssystem zum Beschicken eines Prozessbootes mit Waferchargen
WO2008061806A1 (de) * 2006-11-24 2008-05-29 Jonas & Redmann Automationstechnik Gmbh Verfahren zum bilden einer in einem prozessboot zu positionierenden back-to-back wafercharge und handhabungssystem zum bilden der btb-wafercharge
JP2010510681A (ja) * 2006-11-24 2010-04-02 ヨナス アンド レードマン アウトマーツィオーンズテヒニク ゲーエムベーハー 一方の面にドーピングされるウエハ、特にソーラウエハのスタックの形成方法、及びプロセスボートに複数のウエハバッチを積み込むハンドリングシステム
KR101027051B1 (ko) * 2008-09-19 2011-04-11 주식회사 에스에프에이 태양전지용 웨이퍼의 이송장치
KR101108484B1 (ko) * 2009-03-17 2012-01-31 주식회사 포틱스 솔라 셀 웨이퍼 트랜스퍼 시스템의 엘리베이터 및 트랜스퍼장치
WO2013088899A1 (ja) * 2011-12-16 2013-06-20 株式会社フラスコ 薄板部材移載装置
JP2013125919A (ja) * 2011-12-16 2013-06-24 Frasco Co Ltd 薄板部材移載装置
CN103999206A (zh) * 2011-12-16 2014-08-20 福来斯科精密机械有限公司 薄板部件移载装置
CN103999206B (zh) * 2011-12-16 2017-04-26 福来斯科精密机械有限公司 薄板部件移载装置
JP2014222748A (ja) * 2013-05-14 2014-11-27 株式会社ディスコ 加工装置
TWI668787B (zh) * 2016-09-29 2019-08-11 日商斯庫林集團股份有限公司 基板排列裝置及基板排列方法
US10395962B2 (en) 2016-09-29 2019-08-27 SCREEN Holdings Co., Ltd. Substrate arrangement apparatus and substrate arrangement method
TWI719532B (zh) * 2016-09-29 2021-02-21 日商斯庫林集團股份有限公司 基板排列裝置及基板排列方法
KR20230020675A (ko) * 2021-08-04 2023-02-13 주식회사 에스에프에이 릴 이적재 시스템

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2867194B2 (ja) 処理装置及び処理方法
TWI447837B (zh) 基板處理裝置
JP4280159B2 (ja) 基板処理装置
JPH07307319A (ja) 基板整列装置及び方法
JPH11354604A (ja) 基板移載装置およびそれを用いた基板処理装置
JP3745064B2 (ja) 基板搬送装置およびそれを用いた基板搬送方法ならびに基板姿勢変換装置
JP2005317826A (ja) 縦収納型カセット及びそれを備えた基板収納システム
JPH07307374A (ja) 基板保持チャック、基板保持ユニット及び基板処理装置
KR101768519B1 (ko) 기판 처리 설비
KR101817216B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP3446158B2 (ja) 基板搬送処理装置
JP3662154B2 (ja) 基板処理システム
KR100706381B1 (ko) 기판반송장치
JP3352636B2 (ja) 処理装置及びその方法
JP3710979B2 (ja) 基板処理装置
KR100665662B1 (ko) 수직형 다중 기판 처리 시스템 및 그 처리 방법
JP2564432Y2 (ja) 基板移載用調整治具
JP2926592B2 (ja) 基板処理装置
KR102400829B1 (ko) 반도체 기판의 이송 장치 및 기판 처리 장치
JP2003100840A (ja) 基板処理装置
JP3246659B2 (ja) レジスト処理装置及び液処理装置及び基板処理装置
JP2004266283A (ja) 基板処理装置
JP3413567B2 (ja) 基板搬送処理装置及び基板搬送処理方法
JP2782408B2 (ja) 基板処理装置
JP2001044257A (ja) 真空処理装置