JPH07307255A - ナンバリング装置 - Google Patents

ナンバリング装置

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JPH07307255A
JPH07307255A JP9944094A JP9944094A JPH07307255A JP H07307255 A JPH07307255 A JP H07307255A JP 9944094 A JP9944094 A JP 9944094A JP 9944094 A JP9944094 A JP 9944094A JP H07307255 A JPH07307255 A JP H07307255A
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JP
Japan
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wafer
reading
manufacturing process
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Withdrawn
Application number
JP9944094A
Other languages
English (en)
Inventor
Goichi Yokoyama
悟一 横山
Masami Ikoda
まさみ 井古田
Kazuya Makabe
一也 真壁
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54493Peripheral marks on wafers, e.g. orientation flats, notches, lot number

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 製造工程の途中で被加工体に固有情報を再印
字することができるようにする。 【構成】 非描画領域のオリエンテーション・フラット
(OF)に固有情報7が記録されているウェハ6に対
し、このウェハ6が製造工程を流れている途中の工程で
固有情報7を読取ヘッド2によって読み取り、この読取
情報を基に前記記録位置と同一場所またはOF以外の非
描画領域上に印字装置1及び印字ヘッド3を用いて第2
の固有情報8を記録し、固有情報の読み取りが最終工程
まで支障なく行えるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は加工途中の製品に対する
ナンバリング技術、特に、半導体ウェハのように何度も
表面処理が行われる製品に固有情報を再印字するために
用いて効果のある技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、本発明者らが関与する半導体製
造の分野では、半導体ウェハ(以下、「ウェハ」とい
う)のオリエンテーション・フラット(OF)部分に数
字と英字の組み合わせによる数桁のウェハ情報を印字し
ている。ウェハ情報は、例えば、ウェハの名称(関係す
る製品名称、プロセス名称、整理番号等)やウェハ番号
(例えば「SEP001」等)がある。このようなウェ
ハ情報のナンバリングは、発明者等の場合、初期のプロ
セス処理工程においてウェハ表面のOF部分に凹凸構造
により形成し、ウェハの識別に用いている。
【0003】また、本発明者等の場合、製造工程におけ
る途中の複数の工程でウェハ情報を読取ヘッド(例え
ば、イメージセンサ)で読み取り、この情報を上位計算
機に送り、該上位計算機により生産管理を行い、或いは
加工内容の指示を出すために用いている。
【0004】更に本発明者等は、ウェハにQC(クオリ
ティ・コントロール)の為の識別ナンバー等(以下「Q
C情報」という)を第2の固有情報として製造途中に記
録し、このQC情報を製品の加工及び検査工程で自動的
に読み取って品質管理を行うことを考えている。この場
合、QC情報は該当製品の処理データ及び検査データと
共に上位システムへ転送し、品質管理の統計処理を行う
ようにするのが望ましい。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ウェハは、複
数の工程を順次経由する間に様々な膜付け、加工工程等
が行われるため、ウェハに記録したウェハ情報やQC情
報の凹凸面が次第に埋められ、段差部の傾斜が緩慢にな
る結果、その読み取りが困難(凹凸構造部と他の平坦部
とのコントラストが無くなるため)になっていくという
問題のあることが本発明者によって見い出された。今
後、多層化が一層進むと思われることから、ウェハやQ
Cの情報を製造途中の工程において、新たに印字(再印
字)が行えるような対策を今から考えておくことが望ま
れる。
【0006】例えば、品質管理に限定して考察すると、
再印字のタイミングとしては、(a)識別ナンバーの読
み取りが製造工程を経るに従って認識率が低下し、或い
は加工処理に起因して読み取りが不可能になる場合、
(b)2種以上の製品を統合(複数のロットから少しづ
つ持ってきて1つの製品を構成)させてその後の製品管
理を新たな識別ナンバーで行う場合、(c)QC結果を
基に新たな識別子を印字し、その識別子を後工程で読み
取り、製品の等級別(QCの値によるランク付け)の分
類を行う場合等である。
【0007】本発明の目的は、製造工程の途中で被加工
体に固有情報を再印字することが可能な技術を提供する
ことにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0010】すなわち、本発明のナンバリング装置は、
表面が平坦な被加工体の特定の位置に記録されている固
有の情報を複数工程から成る製造工程の途中の工程で読
み取る読取手段と、この読取手段による情報を基に前記
特定の位置と同一位置または処理や加工の障害にならな
い他の位置に第2の固有情報を記録する記録手段とを設
けるようにしている。
【0011】
【作用】上記した手段によれば、半導体ウェハ等の被加
工体の表面に初期のプロセス処理工程においてOF部分
に凹凸構造により形成された固有情報に対し、製造工程
の途中で前記固有情報に重ねて、或いは異なる場所に前
記固有情報に基づく第2の固有情報が記録される。これ
により、最終工程まで支障なく固有情報の読み取りが行
えるようになり、被加工体の個々の識別を確実に行うこ
とができる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
しながら説明する。
【0013】図1は本発明によるナンバリング装置の概
略構成を示すブロック図であり、図2は本発明のナンバ
リング装置による処理例を示すフローチャートである。
なお、以下においては、被加工体として、半導体ウェハ
を例に説明する。
【0014】印字装置1はウェハ情報やQC情報(第2
の固有情報)を印字するための制御を行うものであり、
既にウェハ6の特定位置(OF部分)に形成されている
固有情報7の読み取りを行う読取ヘッド2(読取手
段)、及び固有情報7と同一位置または別の非描画形成
位置(例えば、固有情報8の形成位置)にQC情報の如
き第2の固有情報の印字を行うための印字ヘッド3(リ
ソグラフィ技術を用いた専用のヘッド、或いは露光装
置、描画装置等の転用)を有している。更に、印字装置
1には、印字する英数字を入力するためのキーボード4
が接続されている(印字装置1及び印字ヘッド3により
記録手段を構成)。
【0015】この他、読取ヘッド2の出力は上位システ
ム5(例えば、生産管理を行うコンピュータ)に取り込
まれる。また、上位システム5と印字装置1とが接続さ
れ、ロットの組み替え等に伴うナンバリング情報が印字
装置1に与えられるように構成されている。
【0016】以上の構成において、その印字処理を図2
のフローチャート及び図3の説明図を参照して説明す
る。
【0017】まず、図3の(a)に示すようなウェハ6
に対し、初期のプロセス処理工程においてウェハ表面の
OF部分に凹凸構造による固有情報7としてのウェハ情
報及びQC情報(例えば、処理条件や検査条件)を形成
する(ステップ201)。この固有情報7は工程の各段
階の読み取りステージにおいて読取ヘッド2で読み取ら
れ(ステップ202)、その読み取った情報は上位シス
テム5へ送出され、工程の確認等に用いられる。
【0018】このような読み取りは、工程毎(または特
定の工程)に行われ、やがてリソグラフィ工程にウェハ
6が到達すると、このウェハ6は読み取りステージへ搬
入され、読取ヘッド2により固有情報7の読み取りが行
われると共に、その読み取り結果を基に印字装置1によ
って、図3の(d)に示すように、印字ステージに搬入
したウェハ6に対して新たな固有情報8(第2の固有情
報)を印字する(ステップ203)。
【0019】このとき、読み取りと書き込みは同一時点
で行われる。このため、固有情報7部分を読取ヘッド2
が照明を行いながら読み取ると、ウェハ6表面の感光材
料を感光させてしまうことになる。そこで、感光材料を
感光させないような種類のフィルタを読取ヘッド2に装
着して読み取りを行う。
【0020】これにより、製造工程の各々で固有情報を
認識でき、製品の個別管理が可能になる。このとき、製
造途中の品質ばらつきから製品の等級を判定し、新たな
ナンバーを登録すれば、製品の等級別管理が可能にな
る。
【0021】なお、この印字位置は、固有情報7の影響
が現れなければ固有情報7に重ねて行ってもよい。以
後、後段の各工程における読み取りは、図3の(e)の
ように、固有情報8に対して行われる(ステップ20
4)。この結果、製品の完成に到るまで読み取りが確実
に行えるようになり、QC管理も可能になる。
【0022】製造工程の全てを通過すると、ウェハ6に
対する加工は終了し、ウェハが完成する(ステップ20
5)。そして個々のウェハに対するQC管理が上位シス
テム5によって行われる。さらに、完成したウェハに対
しては、テストが行われる(ステップ206)が、この
結果として得られる歩留りの管理もウェハのQC値に基
づいて行うことができる。
【0023】また、必要に応じてロットの組み換えを行
うことができる(ステップ207)。このロット組み換
えは、自動的に行うことも、手動により行うこともでき
る。これに対応した印字は、自動で行う場合、上位シス
テム5からの指示及び情報に基づいて印字装置1を駆動
し、印字ヘッド3により印字ステージ上にセットされた
ウェハ6に、図3の(d)に示すように固有情報8とし
て印字(或いは、固有情報7に重ねて必須の旧情報と共
に印字)する。又、手動の場合には、キーボード4を用
いて識別ナンバーを入力し、印字装置1を動作させ、印
字ヘッド3を駆動して印字する。この場合、ステップ2
03の処理は省略することができる。
【0024】この印字によって、製造途中の工程で製品
群の統廃合があっても、新たなナンバー記録が行えるよ
うになり、製品の個別管理が可能になる。
【0025】なお、図1においては、上位システム5と
印字装置1との間で双方向通信が行える構成としたが、
双方向通信を行わない片側通信のシステムの場合には、
読取ヘッド2で読んだ固有情報と、印字ヘッド3によっ
て新たに書き込んだ固有情報との対応表を印字装置1で
作成し、これを上位システム5へ送る構成にしてもよ
い。このようにすれば、上位システム5と双方向通信で
結ばれていないナンバリング装置であっても、支障なく
QC等の管理を行うことができる。
【0026】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【0027】例えば、上記実施例においては、ウェハ6
がリソグラフィ工程に搬入された際に再書き込みを行う
ものとしたが、それ以前に固有情報7が消滅する恐れが
あるときには、製造工程中に固有情報の書き込みを行う
専用の工程を設けることもできる。
【0028】また、以上の説明では、主として本発明者
によってなされた発明をその利用分野である半導体ウェ
ハの製造管理に適用した場合について説明したが、これ
に限定されるものではなく、例えば、複数の工程を経る
間に固有情報の上に何回も表面処理が行われる様な製品
にも本発明を適用することができる。
【0029】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0030】すなわち、表面が平坦な被加工体の特定の
位置に記録されている固有の情報を複数工程から成る製
造工程の途中の工程で読み取る読取手段と、この読取手
段による情報を基に前記特定の位置と同一位置または処
理や加工の障害にならない他の位置に第2の固有情報を
記録する記録手段とを設けるようにしているので、最終
工程まで支障なく固有情報の読み取りが行えるようにな
り、被加工体の個々の識別を確実に行うことができると
共に、QC管理等も行えるようになる。
【0031】そして、前記第2の固有情報を品質管理に
対応した情報を含む内容にすることで、被加工体毎の品
質管理が可能になる。
【0032】また、前記第2の固有情報をロットの組み
換えに関する情報とすることにより、工程の途中でロッ
トの組み換えが生じても、これに対する対応が容易にと
れるようになる。
【0033】更に、被加工体が半導体ウェハの場合、前
記第2の固有情報の記録を製造工程中のリソグラフィ工
程で行うことにより、別途書き込みの工程を設けること
なく、再書き込みを行うことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるナンバリング装置の概略構成を示
すブロック図である。
【図2】本発明のナンバリング装置による処理例を示す
フローチャートである。
【図3】本発明における固有情報の読み取り及び書き込
みを示す説明図である。
【符号の説明】
1 印字装置 2 読取ヘッド 3 印字ヘッド 4 キーボード 5 上位システム 6 ウェハ 7,8 固有情報
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井古田 まさみ 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 真壁 一也 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面が平坦な被加工体の特定の位置に記
    録されている固有の情報を複数工程から成る製造工程の
    途中の工程で読み取る読取手段と、この読取手段による
    情報を基に前記特定の位置と同一位置または処理や加工
    の障害にならない他の位置に第2の固有情報を記録する
    記録手段とを具備することを特徴とするナンバリング装
    置。
  2. 【請求項2】 前記第2の固有情報は、品質管理に対応
    した情報を含むことを特徴とする請求項1記載のナンバ
    リング装置。
  3. 【請求項3】 前記第2の固有情報は、ロットの組み換
    えに関する情報であることを特徴とする請求項1記載の
    ナンバリング装置。
  4. 【請求項4】 前記被加工体が半導体ウェハである場
    合、前記第2の固有情報の記録は製造工程中のリソグラ
    フィ工程で行うことを特徴とする請求項1,2または3
    記載のナンバリング装置。
JP9944094A 1994-05-13 1994-05-13 ナンバリング装置 Withdrawn JPH07307255A (ja)

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JP9944094A JPH07307255A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 ナンバリング装置

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JP9944094A JPH07307255A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 ナンバリング装置

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JPH07307255A true JPH07307255A (ja) 1995-11-21

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JP9944094A Withdrawn JPH07307255A (ja) 1994-05-13 1994-05-13 ナンバリング装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001196280A (ja) * 1999-10-26 2001-07-19 Komatsu Electronic Metals Co Ltd 半導体ウエハのマーキング方法
JP4626909B2 (ja) * 1999-10-26 2011-02-09 Sumco Techxiv株式会社 半導体ウエハ

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001196280A (ja) * 1999-10-26 2001-07-19 Komatsu Electronic Metals Co Ltd 半導体ウエハのマーキング方法
JP4588860B2 (ja) * 1999-10-26 2010-12-01 Sumco Techxiv株式会社 半導体ウエハのマーキング方法
JP4626909B2 (ja) * 1999-10-26 2011-02-09 Sumco Techxiv株式会社 半導体ウエハ

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Effective date: 20010731