JPH0730714A - 固体撮像素子 - Google Patents

固体撮像素子

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JPH0730714A
JPH0730714A JP5193009A JP19300993A JPH0730714A JP H0730714 A JPH0730714 A JP H0730714A JP 5193009 A JP5193009 A JP 5193009A JP 19300993 A JP19300993 A JP 19300993A JP H0730714 A JPH0730714 A JP H0730714A
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JP
Japan
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mos transistor
solid
photodiode
transistor
amplifier circuit
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JP5193009A
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English (en)
Inventor
Masayuki Uno
正幸 宇野
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 画素を構成する増幅用MOSトランジスタの
雑音を小さくしても、感度の低下を招かない光電変換検
出セルを備えた固体撮像素子を提供する。 【構成】 フォトダイオード1と、該フォトダイオード
1で発生した光電荷を蓄積する容量素子2と、ソースが
フォトダイオード1に、ドレインが蓄積容量素子2に接
続され、フォトダイオード1で発生した光電荷を蓄積容
量素子2に転送する転送用トランジスタ3と、入力端子
がフォトダイオード1に、出力端子が転送用トランジス
タ3のゲートに接続された反転増幅回路4と、蓄積容量
素子2に蓄積した光電荷をリセットする手段と、蓄積容
量素子2に蓄積した光電荷に対応した増幅出力を発生す
る信号増幅手段6とからなる光電変換検出セルで固体撮
像素子を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、固体撮像素子に関
し、特にフォトダイオードの接合容量の影響による感度
低下を抑えて高感度を実現でき、且つ雑音を低減できる
ようにした増幅型の固体撮像素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、固体撮像素子としては、MOS
型,CCD型の他に、増幅型の固体撮像素子として、A
MI,SIT,CMD,BASIS,FGA,BCMD
等が知られている。これらの増幅型の固体撮像素子は、
画素が小さな場合は問題ないが、比較的大きな画素を必
要とする用途、例えば、カメラ等の自動焦点制御(A
F)に利用されるセンサ等では、次のような問題が生ず
る。
【0003】この問題点をAMI(Amplified MOS Imag
er)を用いて説明する。図10は、通常のAMIの1画素
の構成を示す回路構成図で、101 はフォトダイオード、
Q1は増幅用トランジスタ、Q2,Q3はバイアス用ト
ランジスタ、Q4はリセット用トランジスタ、102 はバ
イアス回路、103 はシフトレジスタからの出力パルスで
駆動されるスイッチング用トランジスタである。このよ
うに構成されたAMIにおいて、光電変換による信号出
力電圧ΔVOUT は、次式(1)で与えられる。 ΔVOUT =IP ・t/Cd ・・・・・(1)
【0004】ここで、IP は光電流、tは積分時間、C
d はフォトダイオード101 の接合容量である。この
(1)式からわかるように、積分時間一定のもとで信号
出力電圧ΔVOUT をあげるには、IP を大きくするかC
d を小さくしなければならない。しかし、IP を大きく
するには画素面積を大きくしなければならず、画素面積
が大きくなるとCd も大きくなる。またCd を小さくす
るためには画素面積を小さくしなければならず、画素面
積を小さくするとIP は小さくなる。このため従来のA
MIの構成のままでは感度の向上を計ることができな
い。
【0005】この問題点を解決するため、図11に示すよ
うな構成が、「A New MOS Imager Using Photodiode as
Current Source 」(IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE-CI
RCUITS, VOL. 26, NO. 8, Aug., 1991)において報告さ
れている。この構成は、転送ゲート用トランジスタQ
5,Q6を追加し、フォトダイオード101 と増幅用トラ
ンジスタQ1との間に蓄積容量Ct を接続したものであ
る。このように構成された固体撮像素子においては、積
分期間中トランジスタQ5をData信号により飽和領域で
動作するようにONさせて、フォトダイオード101 に印
加される電圧が、トランジスタQ5のゲート電圧からゲ
ート・ソース間電圧VGS下がった電圧に固定されるよう
にすることによって、フォトダイオード101 で発生する
光電荷がトランジスタQ5を介して増幅用トランジスタ
Q1のゲートに接続されている蓄積容量Ct に蓄積され
る。したがってフォトダイオード101 の接合容量Cd
影響が遮断され、光電変換による信号出力電圧ΔVOUT
は次式(2)で決まる。 ΔVOUT =IP ・t/Ct ・・・・・(2)
【0006】この(2)式からわかるように、蓄積容量
t を小さくすることにより、信号出力電圧ΔVOUT
大きくすることができる。すなわちフォトダイオードの
接合容量Cd に依存せず、感度を決めることができる。
【0007】しかしながら、この構成の固体撮像素子に
おいては、次のような問題点を有する。すなわち、積分
期間中、入射光量が一定ならば、トランジスタQ5に流
れる電流(光電流IP )は一定であるため、問題はな
い。しかし、積分期間中、入射光量が変化した場合、ト
ランジスタQ5の電流が変化するため、それによりトラ
ンジスタQ5のVGSが変化し、フォトダイオードの接合
容量Cd と蓄積容量Ctの間で電荷の移動が生じ、正し
い光電変換出力が得られなくなるという問題点が発生す
る。
【0008】そこで、この問題を解決するため、本件発
明者は、先に特願平4−36922号において、図12に
示す画素構成をもつ固体撮像素子を提案した。図12にお
いて、111 はフォトダイオードであり、112 はn型MS
Oトランジスタで、ソースを接地し、ドレインに負荷と
して動作するp型MSOトランジスタ113 を接続するこ
とにより、ソース接地型の増幅回路を構成している。そ
して、このソース接地型増幅回路の入力端子、すなわち
n型MOSトランジスタ112 のゲートにフォトダイオー
ド111 を接続し、ソース接地型増幅回路の出力端子、す
なわちn型MOSトランジスタ112 のドレインから入力
端子(n型MOSトランジスタ112 のゲート)に容量素
子114 を接続して帰還をかけると共に、n型MOSトラ
ンジスタ112 のゲートの初期電位を設定するためのリセ
ット用スイッチング素子として動作するn型MSOトラ
ンジスタ115 を容量素子114 と並列に接続する。この構
成のものを光電変換検出セル(画素)とし、この検出セ
ルを1次元又は2次元的に配列したときに、読み出し画
素を選択するための、シフトレジスタパルスで駆動され
るスイッチング用n型MSOトランジスタ116 を設け、
該スイッチング用n型MSOトランジスタ116 をONし
たときに、信号出力線117 にn型MOSトランジスタ11
2 のドレイン電圧が現れるように構成する。
【0009】そして、このような構成の光電変換検出セ
ルを用いることにより、ソース接地型増幅回路のゲイン
を十分大きくすることによって、フォトダイオード111
で発生した光電荷は容量素子114 に蓄積するため、その
容量Ct を小さくすれば感度を上げることができる。ま
た、光電流に対してn型MOSトランジスタ112 に流れ
るバイアス電流を十分大きくすることにより、フォトダ
イオード111 にかかる電位は常に一定となるため、光電
流が変化しても正しい光電変換出力を得ることができる
ようになっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記構成の
固体撮像素子においては、次のような問題点が生ずる。
すなわち、感度を上げていくには容量素子114 の容量C
t を下げればよいが、容量Ct を小さくすると、n型M
OSトランジスタ112 で発生する雑音は、Cd /Ct
に増幅されるため、このn型MOSトランジスタ112 で
発生する雑音が無視できなくなる。このため、n型MO
Sトランジスタ112 の雑音を小さくする必要が生じる。
【0011】一般的に、MOSトランジスタの雑音は、
熱雑音と1/f雑音からなり、MOSトランジスタのチ
ャネル長をL、チャネル幅をWとすると、熱雑音は(L
/W)1/2 に比例し、1/f雑音はL・Wに反比例す
る。したがって、雑音を小さくするにはチャネル長Lを
最小とし、チャネル幅Wを大きく設定すればよいことに
なる。
【0012】しかしながら、チャネル幅Wを大きく設定
すると、図12に示した画素構成におけるn型MOSトラ
ンジスタ112 のゲート・ドレイン間の寄生容量が大きく
なり、これは容量素子114 の容量Ct を大きくしたこと
と等価となり、感度の低下を招いてしまう。
【0013】本発明は、従来あるいは先に提案した固体
撮像素子における上記問題点を解消するためになされた
もので、画素を構成する増幅用MOSトランジスタの雑
音を小さくしても、感度の低下を招かない光電変換検出
セルを備えた固体撮像素子を提供することを目的とす
る。
【0014】
【課題を解決するための手段及び作用】上記問題点を解
決するため、本発明は、フォトダイオードと、該フォト
ダイオードで発生した光電荷を蓄積する容量素子と、ソ
ースが前記フォトダイオードに、ドレインが前記蓄積容
量素子に接続され、前記フォトダイオードで発生した光
電荷を前記蓄積容量素子に転送する転送用トランジスタ
と、入力端子が前記フォトダイオードに、出力端子が前
記転送用トランジスタのゲートに接続された反転増幅回
路と、前記蓄積容量素子に蓄積した光電荷をリセットす
る手段と、前記蓄積容量素子に蓄積した光電荷に対応し
た増幅出力を発生する信号増幅手段を有する光電変換検
出セルを備えて固体撮像素子を構成するものである。
【0015】このように構成した固体撮像素子において
は、光電荷はフォトダイオードに蓄積せず、電荷蓄積用
の容量素子に蓄積するため、その容量値を小さくするこ
とにより感度を高く設定することができる。また主たる
雑音要因はフォトダイオードに入力端子を接続した反転
増幅回路であり、この反転増幅回路は転送用トランジス
タにより蓄積容量素子とは分離されているため、反転増
幅回路の入力部のMOSトランジスタは感度への影響を
考慮せずに自由に設計でき、したがって低雑音化が実現
可能となる。
【0016】
【実施例】次に実施例について説明する。図1は、本発
明に係る固体撮像素子を構成する光電変換検出セルの基
本的な実施例を示すブロック構成図である。図1におい
て、1はフォトダイオード、2は蓄積容量素子、3はフ
ォトダイオード1で発生した光電荷を蓄積容量素子2に
転送する転送用トランジスタ、4はフォトダイオード1
の電位を一定に保つように帰還をかけるための反転増幅
回路、5は蓄積容量素子2をリセットするためのリセッ
ト用スイッチング素子、6は蓄積容量素子2の電位に対
応した増幅出力を発生する信号増幅回路、7はシフトレ
ジスタ等からの印加パルスにより信号出力線8に信号を
出力するための選択用スイッチング素子である。
【0017】このように構成した光電変換検出セルにお
いては、反転増幅回路4と転送用トランジスタ3により
フィードバックループが構成されており、フォトダイオ
ード1のカソード側は低インピーダンスとなっているた
め、フォトダイオード1で発生した光電荷は転送用トラ
ンジスタ3を介して蓄積容量素子2に流れ込む。そして
信号増幅回路6が高入力インピーダンスとすると、光電
荷は蓄積容量素子2に蓄積されるので、リセット用スイ
ッチング素子5をONからOFFにして、一定時間積分
したときの蓄積容量素子2の電位変化ΔVC は、次式
(3)で表される。 ΔVC =−IP ・t/Ct ・・・・・(3) ここで、IP はフォトダイオード1で発生する光電流、
tは積分時間、Ct は蓄積容量素子2の容量値である。
【0018】この(3)式からわかるように、蓄積容量
値Ct を小さくすることにより、高感度化が実現でき
る。またフォトダイオード1に入射する光量が変化した
場合でも、転送用トランジスタ3のソース電圧が一定と
なるように、反転増幅回路4により転送用トランジスタ
3のゲート電圧にフィードバックがかかるため、蓄積容
量素子2には入射光量に対応した光電荷のみが蓄積され
ることになり、図11に示した従来例のような問題は生じ
ない。
【0019】更に、このように構成した光電変換検出セ
ルにおける雑音要因を考えると、蓄積容量素子2のリセ
ット雑音を除けば、主雑音要因は反転増幅回路4の入力
段の雑音であるが、これは、Cd /Ct ・AV 倍に増幅
されたものとなる。ここでCd はフォトダイオード1の
接合容量、AV は信号増幅回路6のゲインである。しか
し、本発明においては、図12に示した従来提案の構成の
光電変換検出セルとは異なり、蓄積容量素子2とは独立
して反転増幅回路4の入力段を構成するMOSトランジ
スタの寸法が決定できるため、感度は損なわずに雑音の
低減が可能となる。
【0020】以上述べたように、図1に示した構成の光
電変換検出セルを用いることにより、高感度化と合わせ
て低雑音化の可能な固体撮像素子を実現することができ
る。
【0021】次に、図1に示した基本的な実施例におけ
る反転増幅回路4及び信号増幅回路6を具体化した具体
的な実施例について説明する。図2は、n型MOSプロ
セスを用いた場合の具体的な実施例を示す回路構成図で
あり、図1に示した反転増幅回路4としては、ソース接
地型のn型MOSトランジスタ11と、その負荷として動
作するデプレション型のn型MOSトランジスタ12とで
構成されるn型MOS反転回路を用いている。また、図
1に示した信号増幅回路6は、ソースフォロア型のn型
MOSトランジスタ14と、その負荷として動作する、ゲ
ートにバイアス電圧VBIASが印加されているn型MOS
トランジスタ15とで構成されている。また、図1におけ
るリセット用スイッチング素子5及び選択用スイッチン
グ素子7は、それぞれn型MOSトランジスタ13,16で
構成されている。
【0022】このように構成された光電変換検出セルに
おいては、リセット用n型MOSトランジスタ13のゲー
トに印加するリセットパルスφR を“H”から“L”に
して、リセット用n型MOSトランジスタ13をONから
OFFとしてから一定積分時間経過後、シフトレジスタ
20からの選択パルスφSRによって選択用n型MOSトラ
ンジスタ16をONすることにより、信号出力線8に積分
された光量に対応する電圧VOUT が出力される。
【0023】図3は、図2に示した実施例の変形例を示
す回路構成図である。この変形例は、サンプルホールド
用のスイッチング素子17及びサンプルホールド容量素子
18を、ソースフォロア型のn型MOSトランジスタ14の
ソースと、選択用n型MOSトランジスタ16のソースの
間に追加したものであり、この構成により、積分時間を
信号読み出しのタイミングとは独立に設定することが可
能となる。なお、図3では図示を省略しているが、ソー
スフォロア型のn型MOSトランジスタ14のゲートまで
の構成は、図2に示した実施例と全く同一である。
【0024】次に、図4に基づいて他の具体的な実施例
について説明する。この実施例は、光電変換検出セル
を、CMOSプロセスを用いた場合に実現できるように
したものである。すなわち、この実施例においては、図
1に示した反転増幅回路4としては、ソース接地型のn
型MOSトランジスタ21と、ゲートにバイアス電圧V
BIAS1 が印加されているp型MOSトランジスタ22によ
るCMOS反転回路が用いられており、また信号増幅回
路6としては、ソース接地型のp型MOSトランジスタ
24及びその負荷として動作するゲートにバイアス電圧V
BIAS2 が印加されているn型MOSトランジスタ25によ
るCMOS反転回路を用い、そして該CMOS反転回路
の入出力間、すなわちp型MOSトランジスタ24のゲー
ト・ドレイン間に、光電荷を蓄積する容量素子2及びリ
セット用p型MOSトランジスタ23を接続して、光電変
換検出セルを構成している。なお、選択用スイッチング
素子は、n型MOSトランジスタ26とp型MOSトラン
ジスタ27の並列接続したもので構成し、p型MOSトラ
ンジスタ27のゲートにはシフトレジスタ20からの選択パ
ルスφSRをインバータ28を介して印加されるようになっ
ている。
【0025】このように構成され光電変換検出セルにお
ける動作自体は、図2に示した実施例と同様であり、リ
セットパルスφR を“L”から“H”として、リセット
用p型MOSトランジスタ23をONからOFFとしてか
ら、一定積分時間経過後、シフトレジスタ20からの選択
パルスφSRにより、選択用スイッチング素子を構成する
n型MOSトランジスタ26及びp型MOSトランジスタ
27をONして、信号出力線8に信号を取り出すようにな
っている。
【0026】なお、図2に示した実施例においては、積
分された光量が大きくなると、出力は負側の方向となる
が、図4に示した実施例では反対に正側に向かう。した
がって、リセット用p型MOSトランジスタ23のスイッ
チング特性が理想的な場合、光積分を行うとp型MOS
トランジスタ24は線形領域となるため、Dレンジが狭く
なる。これを防止するためには、リセット用p型MOS
トランジスタ23のフィードスルー電荷を利用すればよ
い。すなわちリセット用p型MOSトランジスタ23がO
NからOFFとなるときに発生するフィードスルー電荷
が蓄積容量素子2に流入すると、その分リセット直後の
p型MOSトランジスタ24のドレイン電圧のバイアス点
は負側になり、p型MOSトランジスタ24は飽和領域で
動作する。したがって、リセット用p型MOSトランジ
スタ23の寸法により、p型MOSトランジスタ24の動作
領域が広くなるように設定することが可能である。
【0027】また図4に示した実施例においても、図3
に示した図2の実施例の変形例と同様に、図5に示すよ
うに、サンプルホールド用スイッチング素子31,32及び
サンプルホールド容量素子34を付加することにより、積
分時間を信号読み出しのタイミングとは独立に設定可能
となる。なお、図5において、33はスイッチング素子32
に、サンプルホールドパルスφSHの反転パルスを印加す
るためのインバータであり、また図示は省略している
が、ソース接地型のp型MOSトランジスタ24までの構
成は、図4に示した実施例と全く同一である。
【0028】以上、図1に示した基本的な実施例におけ
る反転増幅回路4及び信号増幅回路6を具体化した2つ
の実施例を示したが、具体的な各実施例における反転増
幅回路対応部分及び信号増幅回路対応部分の構成は、ど
のような組み合わせで用いても構わない。またフォトダ
イオードのカソード側が基板又はウエルに接地されてい
る場合は、図2及び図4に示した各実施例における各M
OSトランジスタを、その極性を逆にしたもので置き換
えることにより、等価な光電変換検出セルを実現するこ
とができる。
【0029】次に、図2及び図4に示した実施例におい
て、フォトダイオード1に印加されるバイアス電圧につ
いて説明する。図2及び図4に示した実施例において、
フォトダイオード1の印加バイアス電圧は、n型MOS
トランジスタ11又は21のソース・ゲート間電圧VGSで与
えられる。このVGSはn型MOSトランジスタ11又は21
のスレッショルド電圧VTHとバイアス電流に依存する
が、バイアス電流は光電流より十分大きくして、なお且
つ消費電流を抑えるために大きくは変えることができな
い。またVTHについてはプロセスによって決まってお
り、通常のCMOSあるいはnMOSプロセスにおい
て、このVTHは1V前後に設定されている。したがって
通常のn型MOSトランジスタを用いると、フォトダイ
オードが積分期間中に印加されている逆バイアスは、1
V前後になる。
【0030】ところで、フォトダイオードに印加される
バイアス電圧が大きい場合、フォトダイオードで発生す
る暗電荷、すなわち光があたらない状態でも発生する電
荷が大きくなり、雑音の原因となる。これを抑えるには
n型MOSトランジスタ11又は21のVTHを低く抑えれば
よく、これはn型MOSトランジスタ11又は21のチャネ
ル領域に不純物をドープすることで実現できる。このよ
うな構成のn型MOSトランジスタを用いて、VTHを0.
1V前後に設定することにより、暗電流は大きく抑える
ことが可能である。
【0031】以上述べた上記各実施例において、感度を
上げる場合には、蓄積容量素子2の容量値Ct を小さく
すればよく、また雑音電圧を低減するには、反転増幅回
路を構成するn型MOSトランジスタ11又は21のゲート
幅Wを大きく設定すればよい。これにより、感度を高く
しても低雑音の固体撮像素子を実現できる。
【0032】ところで、上記各実施例においては、フォ
トダイオードが接続される反転増幅回路の雑音電圧の低
減は可能であるが、感度を上げるために蓄積容量素子2
の容量値Ct を小さくしていくと、その蓄積容量素子2
をリセットする際に発生するリセット雑音電圧が大きく
なるという問題がある。
【0033】次に、このリセット雑音を抑圧できるよう
にした実施例について説明する。リセット雑音を除去す
るには、上記各実施例におけるリセット用スイッチング
素子あるいはリセット用MOSトランジスタをONから
OFFにした直後のリセット状態の電圧と、信号蓄積後
の電圧の差分を出力するように構成すればよい。
【0034】図6に、その具体的な実施例の回路構成図
を示す。図6に示した実施例は、図4に示した実施例に
サンプルホールド回路を追加した図5に示す変形例にお
いて、信号増幅回路の出力、すなわちp型MOSトラン
ジスタ24のドレインとn型MOSトランジスタ25のドレ
インの接続点(ノード45)と、サンプルホールド用スイ
ッチング素子31,32との間に、容量素子41を直列に接続
し、更に該容量素子41とサンプルホールド用スイッチン
グ素子31,32との接続点(ノード47)に、ソースを基準
電圧源Vref に接続しクランプパルスφCLで駆動される
クランプ用スイッチング素子として動作するn型MOS
トランジスタ42を接続した構成を備えている。
【0035】このような構成の光電変換検出セルにおい
て、リセット用p型MOSトランジスタ23をONからO
FFにした直後のノード45の出力電圧をクランプし、そ
こからの信号の変化分を出力することにより、蓄積容量
素子2をリセット用p型MOSトランジスタ23でリセッ
トした際に発生するリセット雑音を除去することができ
る。また、クランプ及びサンプルホールドにおけるスイ
ッチング時にも、リセット雑音は発生するが、これはク
ランプ容量素子41及びサンプルホールド容量素子34の容
量値を大きくしておくことにより、問題ないレベルに低
減することができる。
【0036】図7に、図6に示した実施例の光電変換検
出セル(画素)を用いて構成したラインセンサのタイミ
ングチャートを示す。ラインセンサを構成する場合は、
リセットパルスφR ,クランプパルスφCL,及びサンプ
ルホールドパルスφSHは全画素共通とし、選択パルスφ
SRはシフトレジスタ20により順次画素が選択されるよう
に出力すればよい。
【0037】図7において、期間T1 は蓄積容量素子2
に蓄積された電荷をリセットする期間である。リセット
パルスφR を“L”としてリセット用p型MOSトラン
ジスタ23をONとすることにより、蓄積容量素子2はリ
セットされる。次に、リセット用p型MOSトランジス
タ23をONからOFFとしたときの動作態様について説
明する。図6におけるノード45の電位をVS1とすると、
この電位VS1はリセット用p型MOSトランジスタ23を
ONからOFFとしたときに生じるフィードスルー電荷
の分だけ低下すると共に、蓄積容量素子2に蓄積される
光電荷に対応して上昇する。したがって、このフィード
スルー電荷分による電位の低下が落ち着いたところ(期
間T2 の末期)で、クランプパルスφCLを“H”から
“L”とすれば、リセット用p型MOSトランジスタ23
のフィードスルー電荷及びリセット雑音電荷の影響を受
けない信号出力を取り出すことが可能となる。
【0038】その後、期間T3 において、積分動作を行
うと、サンプルホールド容量素子34の電位VS2(ノード
46の電位)は、光量に対応して増加する。一定時間経過
後、サンプルホールドパルスφSHにより、サンプルホー
ルド用スイッチング素子31,32をONからOFFにする
と、その時の電位がサンプルホールド容量素子34に保持
される。次いで、期間T4 において、シフトレジスタ20
を走査させ、サンプルホールド容量素子34に保持された
信号電荷の読み出しを行う。
【0039】次に、サンプルホールド容量素子34に蓄積
された信号電荷の読み出し動作について説明する。この
信号電荷の読み出し方法には、電荷の移動による電流を
抵抗で電流電圧変換して読み出す方法や、高入力インピ
ーダンスバッファを用いて信号線の電圧変化として読み
出す方法など種々の方法があるが、図6に示した実施例
においては、反転入力端子と出力端子間に帰還容量素子
52とスイッチング用n型MOSトランジスタ53を接続
し、非反転入力端子に基準電圧源Vref を接続した容量
帰還型のオペアンプ51を用いたものを示している。この
容量帰還型のオペアンプ51を用いた方式の特徴は、信号
線容量の影響を受けずに、サンプルホールド容量素子34
とオペアンプ51の帰還容量素子52によりゲインが決めら
れることである。
【0040】次に、図7に示したタイミングチャートに
基づいて、信号電荷の読み出し動作について説明する。
図6において、パルスφRVで駆動されるn型MOSトラ
ンジスタ53は、帰還容量素子52をリセットするスイッチ
ング素子として動作する。パルスφRVを“H”から
“L”とすると、帰還容量素子52はリセットされ、出力
電圧VOUT には基準電圧Vref に相当する電圧が出力さ
れる。ここで、シフトレジスタ20からの選択パルスφSR
により画素選択用のスイッチングMOSトランジスタ2
6,27がONして、サンプルホールド容量素子34が信号
線8に接続されると、信号線8はオペアンプ51の反転入
力端子に接続されており、仮想接地により低インピーダ
ンスとなっているため、サンプルホールド容量素子34に
蓄積された信号電荷は帰還容量素子52に転送され、その
結果、出力電圧VOUT は基準電圧Vrefから信号電荷に
対応した分低くなる。この差分が信号電圧となる。その
後、パルスφRVを“H”として、帰還容量素子52に転送
された信号電荷をリセットした後に、シフトレジスタ20
からの選択パルスφSRにより次の画素を選択する。この
繰り返しで全画素の信号を読み出すことができる。
【0041】次に、蓄積容量素子2をリセットする際に
発生するリセット雑音を除くため、リセット後と積分動
作後の差分を出力させる他の実施例を図8に示す。この
実施例は、図3に示した構成の光電変換検出セルにおけ
る信号増幅回路の出力端子、すなわちn型MOSトラン
ジスタ14のソースとn型MOSトランジスタ15のドレイ
ンの接続点(ノード68)と、サンプルホールド用n型M
OSトランジスタ17のソース(ノード70)の間に、容量
結合型の反転増幅回路を追加した構成のものである。
【0042】容量結合型の反転増幅回路は、ソース接地
型のn型MOSトランジスタ67及び負荷として動作する
デプレション型のn型MOSトランジスタ66とからなる
n型MOS反転増幅回路と、該n型MOS反転増幅回路
の入出力間に設けられた容量素子62とスイッチング用n
型MOSトランジスタ65の直列回路と、入力信号を容量
結合で受けるために設けられたノード68とn型MOSト
ランジスタ67のゲート間に接続された容量素子61と、容
量素子61及び62にそれぞれ初期電圧を与えるためのリセ
ット用n型MOSトランジスタ63及び基準電圧Vref
印加したリセット用n型MOSトランジスタ64とで構成
されている。
【0043】次に、このように構成されている光電変換
検出セルの動作を、図9のタイミングチャートに基づい
て説明する。期間T1 は、蓄積容量素子2のリセットを
行う期間であり、リセットパルスφR は“H”となって
おり、また後段の容量結合型の反転増幅回路も、リセッ
トパルスφR2が“H”で、リセット状態となっている。
期間T2 に移り、リセットパルスφR が“H”から
“L”になると、ノード68の電位VS1は、リセット用n
型MOSトランジスタ13がONからOFFしたときに生
じるフィードスルー電荷の分だけ下がると共に、蓄積容
量素子2に蓄積される光電荷に対応して徐々に電位が下
がっていく。ここでフィードスルー電荷の影響を受けな
いように、リセットパルスφR が“H”から“L”とな
ってから少し遅らせて、リセットパルスφR2を“H”か
ら“L”とすると共に、転送パルスφT を“L”から
“H”として、反転増幅回路の帰還系を接続する。この
とき、ノード70の電位は、期間T2 において、容量素子
62の一端に印加されていた基準電位Vref のレベルに、
ほぼ初期設定される。
【0044】その後、サンプルホールド容量素子18の接
続点であるノード69及びノード70の電位VS2は、期間T
3 におけるノード68の電位低下分に対応して、電位が上
昇する。この電位を一定期間積分した後、サンプルホー
ルド用n型MOSトランジスタ17をONからOFFにし
て、サンプルホールド容量素子18に信号電荷を保持す
る。その後、期間T4 において、その信号電荷を順次読
み出して出力電圧VOUTとして出力する。この出力電圧
OUT の読み出し方は、図6に示した実施例と同様に行
われる。
【0045】上記動作において、リセットパルスφR
ONからOFFして、フィードスルー電荷及びリセット
雑音電荷による電位VS1の変化が落ち着いた後の電位V
S1の変化を、信号電荷として扱うため、蓄積容量素子2
をリセットした際に生じるリセット雑音は除去される。
また容量素子61,62,18に対してもリセット雑音が生ず
るが、これは各容量素子61,62,18の容量値を大きく設
定することにより、問題のないレベルに低減することが
できる。
【0046】以上、図6及び図8に示した実施例によれ
ば、蓄積容量素子2をリセットする際に生じるリセット
雑音は十分小さく抑えることができ、また初段のn型M
OSトランジスタの雑音に関しても前述のように小さく
抑えられるので、高感度で低雑音の固体撮像素子を実現
できる。
【0047】
【発明の効果】以上実施例に基づいて説明したように、
本発明によれば、フォトダイオードで発生した光電荷を
電荷蓄積用の容量素子に蓄積するように構成しているの
で、感度を高く設定することができ、また反転増幅回路
と蓄積容量素子とを転送用トランジスタで分離するよう
に構成しているので、低雑音化を計った固体撮像素子を
実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る固体撮像素子の基本的な実施例の
光電変換検出セルを示すブロック構成図である。
【図2】本発明の具体的な実施例の光電変換検出セルを
示す回路構成図である。
【図3】図2に示した実施例の変形例の主要部を示す回
路構成図である。
【図4】本発明の他の具体的な実施例の光電変換検出セ
ルを示す回路構成図である。
【図5】図4に示した実施例の変形例の主要部を示す回
路構成図である。
【図6】本発明の更に他の具体的な実施例の光電変換検
出セルを示す回路構成図である。
【図7】図6に示した実施例の光電変換検出セルを用い
てラインセンサを構成した場合の動作を説明するための
タイミングチャートである。
【図8】本発明の更に他の具体的な実施例の光電変換検
出セルを示す回路構成図である。
【図9】図8に示した実施例の光電変換検出セルを用い
てラインセンサを構成した場合の動作を説明するための
タイミングチャートである。
【図10】従来の固体撮像素子の画素の構成例を示す回路
構成図である。
【図11】従来の固体撮像素子の画素の他の構成例を示す
回路構成図である。
【図12】先に提案した固体撮像素子の光電変換検出セル
の構成を示す回路構成図である。
【符号の説明】
1 フォトダイオード 2 蓄積容量素子 3 転送用トランジスタ 4 反転増幅回路 5 リセット用スイッチング素子 6 信号増幅回路 7 選択用スイッチング素子 8 信号出力線

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトダイオードと、該フォトダイオー
    ドで発生した光電荷を蓄積する容量素子と、ソースが前
    記フォトダイオードに、ドレインが前記蓄積容量素子に
    接続され、前記フォトダイオードで発生した光電荷を前
    記蓄積容量素子に転送する転送用トランジスタと、入力
    端子が前記フォトダイオードに、出力端子が前記転送用
    トランジスタのゲートに接続された反転増幅回路と、前
    記蓄積容量素子に蓄積した光電荷をリセットする手段
    と、前記蓄積容量素子に蓄積した光電荷に対応した増幅
    出力を発生する信号増幅手段を有する光電変換検出セル
    を備えていることを特徴とする固体撮像素子。
  2. 【請求項2】 前記反転増幅回路は、ソース接地型の反
    転増幅用MOSトランジスタと、該反転増幅用MOSト
    ランジスタの負荷として動作する同極性のデプレション
    型MOSトランジスタとで構成されていることを特徴と
    する請求項1記載の固体撮像素子。
  3. 【請求項3】 前記反転増幅回路は、ソース接地型の反
    転増幅用MOSトランジスタと、該反転増幅用MOSト
    ランジスタの負荷として動作する反対の極性のMOSト
    ランジスタとで構成されていることを特徴とする請求項
    1記載の固体撮像素子。
  4. 【請求項4】 前記ソース接地型の反転増幅用MOSト
    ランジスタは、前記光電変換検出セルを構成する他のM
    OSトランジスタに比較してスレッショルド電圧が低く
    設定され、前記フォトダイオードに印加される逆バイア
    ス電圧を小さくして暗電流の発生を抑えるように構成し
    たことを特徴とする請求項2又は3記載の固体撮像素
    子。
  5. 【請求項5】 前記信号増幅手段は、ソースフォロア構
    成のMOSトランジスタで構成されていることを特徴と
    する請求項1〜4のいずれか1項に記載の固体撮像素
    子。
  6. 【請求項6】 前記信号増幅手段は、ソース接地型のM
    OSトランジスタで構成され、前記蓄積容量素子及びリ
    セット手段が前記ソース接地型のMOSトランジスタの
    ゲート・ドレイン間に接続されていることを特徴とする
    請求項1〜4のいずれか1項に記載の固体撮像素子。
  7. 【請求項7】 前記信号増幅手段の後段に、サンプルホ
    ールド用のスイッチング素子及びサンプルホールド用容
    量素子を設けたことを特徴とする請求項1〜6のいずれ
    か1項に記載の固体撮像素子。
  8. 【請求項8】 前記請求項1記載の光電変換検出セルを
    備え、リセットした直後の信号出力と光積分した後の信
    号出力の差分出力を信号として取り出す手段を設け、リ
    セット雑音を除去するように構成したことを特徴とする
    固体撮像素子。
  9. 【請求項9】 前記差分出力取り出し手段は、前記光電
    変換検出セルの信号出力端子に一端が接続された容量素
    子と、該容量素子の他端に接続されたクランプ用スイッ
    チング素子とで構成され、クランプ後の電位変化を信号
    として読み出すように構成したことを特徴とする請求項
    8記載の固体撮像素子。
  10. 【請求項10】 前記差分出力取り出し手段は、反転増幅
    回路と、光電変換検出セルの信号出力端子と前記反転増
    幅回路の入力端子の間に接続される第1の容量素子と、
    前記反転増幅回路の入出力端子間に接続される第2の容
    量素子と、前記第1及び第2の容量素子をリセット状態
    にするスイッチング素子とで構成されていることを特徴
    とする請求項8記載の固体撮像素子。
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