JPH0729245B2 - ワイヤ放電加工装置 - Google Patents
ワイヤ放電加工装置Info
- Publication number
- JPH0729245B2 JPH0729245B2 JP63182917A JP18291788A JPH0729245B2 JP H0729245 B2 JPH0729245 B2 JP H0729245B2 JP 63182917 A JP63182917 A JP 63182917A JP 18291788 A JP18291788 A JP 18291788A JP H0729245 B2 JPH0729245 B2 JP H0729245B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lower arm
- guide means
- arm
- workpiece
- wire
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ワイヤ放電加工装置、特に下部アームの熱
的影響及び外力の遮断構造、及び加工液飛散防止手段の
改良に関するものである。
的影響及び外力の遮断構造、及び加工液飛散防止手段の
改良に関するものである。
第５図は従来のワイヤ放電加工装置の概略構造を示す斜
視図であり、図において、（10）はワイヤ電極であり、
上部ワイヤガイド手段（12）と下部ワイヤガイド手段
（14）とにより、被加工物（16）の上方，下方にて摺動
自在にガイドされている。（18）は定盤であり、加工槽
（20）の上方に設置され被加工物（16）を保持してい
る。（22）は被加工物（16）上方に、上部ワイヤガイド
手段（12）を保持する上部アームであり、機械本体コラ
ム（24）に固定されている。（26）は被加工物（16）の
下方にて下部ワイヤガイド手段（14）を、前記上部アー
ム（22）によって保持される上部ワイヤガイド手段（1
2）に対向した位置に保持する下部アームである。（2
8）は、上部，下部ワイヤガイド手段（12），（14）よ
りそれぞれ噴出される加工液（一般的には水）の飛散を
防止する加工液飛散防止手段である。この加工液飛散防
止手段（28）は、下部アーム（26）を摺動自在に挿通さ
せる枠を、伸縮自在な遮蔽部材を介して支持している。
即ち、図示のように、下部アーム（26）をその長手方向
に自在に摺動させて挿通させるためのシール部材（30）
と、このシール部材（30）の枠（32）と、該枠（32）の
左，右（下部アーム（26）の横方向）に取付けられてい
る伸縮自在な遮蔽部材であるジャバラ（34）とにより構
成されている。第６図に装置本体の断面平面図を示して
いる。
視図であり、図において、（10）はワイヤ電極であり、
上部ワイヤガイド手段（12）と下部ワイヤガイド手段
（14）とにより、被加工物（16）の上方，下方にて摺動
自在にガイドされている。（18）は定盤であり、加工槽
（20）の上方に設置され被加工物（16）を保持してい
る。（22）は被加工物（16）上方に、上部ワイヤガイド
手段（12）を保持する上部アームであり、機械本体コラ
ム（24）に固定されている。（26）は被加工物（16）の
下方にて下部ワイヤガイド手段（14）を、前記上部アー
ム（22）によって保持される上部ワイヤガイド手段（1
2）に対向した位置に保持する下部アームである。（2
8）は、上部，下部ワイヤガイド手段（12），（14）よ
りそれぞれ噴出される加工液（一般的には水）の飛散を
防止する加工液飛散防止手段である。この加工液飛散防
止手段（28）は、下部アーム（26）を摺動自在に挿通さ
せる枠を、伸縮自在な遮蔽部材を介して支持している。
即ち、図示のように、下部アーム（26）をその長手方向
に自在に摺動させて挿通させるためのシール部材（30）
と、このシール部材（30）の枠（32）と、該枠（32）の
左，右（下部アーム（26）の横方向）に取付けられてい
る伸縮自在な遮蔽部材であるジャバラ（34）とにより構
成されている。第６図に装置本体の断面平面図を示して
いる。
次に動作について説明する。被加工物（16）を加工する
場合、ワイヤ電極（10）は図示しないワイヤ送給系によ
り上方から下方または下方から上方へ連続的に送給され
ている。
場合、ワイヤ電極（10）は図示しないワイヤ送給系によ
り上方から下方または下方から上方へ連続的に送給され
ている。
一方、被加工物（16）は、それを積載保持する加工槽
（20）、及び定盤（18）を介して図示しないＸ−Ｙクロ
ステーブルによりワイヤ電極（10）に対して相対移動で
きる。加工を行う場合、テーブル（図示せず）を移動さ
せ、ワイヤ電極（10）と被加工物（16）とを微小間隙を
保持させて対向させるとともに、その間隙に上．下ワイ
ヤガイド手段より噴出する加工液を供給し、該加工液を
介して、ワイヤ電極（10）と被加工物（16）の間にて放
電爆発を発生させる。その放電爆発により、ワイヤ電極
（10），被加工物（16）ともにその一部が飛ばされる。
ワイヤ電極（10）は連続的に送給されるため切断せず、
テーブルを任意の方向に移動させることにより、被加工
物（16）を所望の形状に加工することができる。
（20）、及び定盤（18）を介して図示しないＸ−Ｙクロ
ステーブルによりワイヤ電極（10）に対して相対移動で
きる。加工を行う場合、テーブル（図示せず）を移動さ
せ、ワイヤ電極（10）と被加工物（16）とを微小間隙を
保持させて対向させるとともに、その間隙に上．下ワイ
ヤガイド手段より噴出する加工液を供給し、該加工液を
介して、ワイヤ電極（10）と被加工物（16）の間にて放
電爆発を発生させる。その放電爆発により、ワイヤ電極
（10），被加工物（16）ともにその一部が飛ばされる。
ワイヤ電極（10）は連続的に送給されるため切断せず、
テーブルを任意の方向に移動させることにより、被加工
物（16）を所望の形状に加工することができる。
加工の際噴出する加工液は、下部アーム（26）に沿って
流れるものはシール部材（30）にて加工液飛散防止手段
（28）の外部にもれることなく加工槽（20）に回収され
る。
流れるものはシール部材（30）にて加工液飛散防止手段
（28）の外部にもれることなく加工槽（20）に回収され
る。
従来のワイヤ放電加工装置は以上のように構成されてい
るので、加工によりテーブルが下部アーム横方向に移動
すれば、ジャバラ（34）も伸縮するが、このジャバラの
伸縮によって生じる外力が枠（32）及びシール（30）を
介して下部アーム（26）に作用する。すると、下部アー
ム（26）が第７図に示すように変形し、それに伴い、下
部アーム（26）に保持された下部ワイヤガイド手段（1
4）と、上部ワイヤガイド手段（12）との垂直方向の相
対位置についてX，Yの誤差が生じ、加工後の被加工
物形状が傾斜し、加工精度が出ないという問題点があっ
た。
るので、加工によりテーブルが下部アーム横方向に移動
すれば、ジャバラ（34）も伸縮するが、このジャバラの
伸縮によって生じる外力が枠（32）及びシール（30）を
介して下部アーム（26）に作用する。すると、下部アー
ム（26）が第７図に示すように変形し、それに伴い、下
部アーム（26）に保持された下部ワイヤガイド手段（1
4）と、上部ワイヤガイド手段（12）との垂直方向の相
対位置についてX，Yの誤差が生じ、加工後の被加工
物形状が傾斜し、加工精度が出ないという問題点があっ
た。
また、例えば被加工物（16）から切り落とされたスクラ
ップ等が下部アーム（26）と接触することによる他の外
力も下部アーム（26）に作用することがあるため、これ
らが上記と同様に加工精度低下の大きな原因となってい
た。さらに、熱伝達の良い加工液（一般的には水）が直
接下部アーム（26）にかかるため、加工液の温度変化
が、敏感に下部アーム（26）に伝達され、その結果、第
８図に示すように、熱の影響でアーム自身が伸縮し（例
えば図示のようにＤ−U＝Xの相対ずれが生じ
る）、さらに一般に知られている加工液の液温を機械設
置環境と同一に制御する場合でも、空気からの伝達であ
る上部アーム（22）と加工液からの伝達である下部アー
ム（26）では温度変化の時定数が異なり、相対ずれ発生
を無くすことは困難であり加工精度が低下する原因とな
っていた。
ップ等が下部アーム（26）と接触することによる他の外
力も下部アーム（26）に作用することがあるため、これ
らが上記と同様に加工精度低下の大きな原因となってい
た。さらに、熱伝達の良い加工液（一般的には水）が直
接下部アーム（26）にかかるため、加工液の温度変化
が、敏感に下部アーム（26）に伝達され、その結果、第
８図に示すように、熱の影響でアーム自身が伸縮し（例
えば図示のようにＤ−U＝Xの相対ずれが生じ
る）、さらに一般に知られている加工液の液温を機械設
置環境と同一に制御する場合でも、空気からの伝達であ
る上部アーム（22）と加工液からの伝達である下部アー
ム（26）では温度変化の時定数が異なり、相対ずれ発生
を無くすことは困難であり加工精度が低下する原因とな
っていた。
さらに、シール（30）が経年変化により劣化し、そのシ
ーリング効果が消失し、加工液がその部分から加工溝
（20）外に飛散し、周囲環境を悪化させる原因となる等
の問題点があった。
ーリング効果が消失し、加工液がその部分から加工溝
（20）外に飛散し、周囲環境を悪化させる原因となる等
の問題点があった。
この発明は上記の様な問題点を楷書するためになされた
もので、下部アームへの飛散防止手段から作用する外力
を排除すると共に、加工液が直接下部アームにかかるの
を防ぎ、該外力及び熱的影響に伴う下部アームの変形に
よる被加工物の加工精度不良を防止し、更にシール部分
の経年変化発生要因を排除し、加工液の加工槽外への飛
散を防止して、高精度且つ周囲環境悪化の無いワイヤ放
電加工装置を得ることを目的とする。
もので、下部アームへの飛散防止手段から作用する外力
を排除すると共に、加工液が直接下部アームにかかるの
を防ぎ、該外力及び熱的影響に伴う下部アームの変形に
よる被加工物の加工精度不良を防止し、更にシール部分
の経年変化発生要因を排除し、加工液の加工槽外への飛
散を防止して、高精度且つ周囲環境悪化の無いワイヤ放
電加工装置を得ることを目的とする。
［課題を解決するための手段］ この発明に係るワイヤ放電加工装置は、被加工物の上方
でワイヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手
段と、被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持す
る下部ワイヤガイド手段と、この下部ワイヤガイド手段
を上部ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部
アームと、複数の屈曲部を有し、所定の間隙を介して上
記下部アームの一部又は全部を被包する伸縮自在なアー
ムカバーと、貫通孔に前記下部アームがその貫通孔の周
壁との間に所定の間隙を介して貫通すると共に前記アー
ムカバーの一端に保持固定される枠を有し、前記アーム
カバーを前記枠及び伸縮自在な遮蔽部材を介して支持す
る加工液飛散防止手段とを備えたものである。
でワイヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手
段と、被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持す
る下部ワイヤガイド手段と、この下部ワイヤガイド手段
を上部ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部
アームと、複数の屈曲部を有し、所定の間隙を介して上
記下部アームの一部又は全部を被包する伸縮自在なアー
ムカバーと、貫通孔に前記下部アームがその貫通孔の周
壁との間に所定の間隙を介して貫通すると共に前記アー
ムカバーの一端に保持固定される枠を有し、前記アーム
カバーを前記枠及び伸縮自在な遮蔽部材を介して支持す
る加工液飛散防止手段とを備えたものである。
［作用］ この発明におけるワイヤ放電加工装置は、アームカバー
が、加工液が直接下部アームにかかるのを防止して、下
部アームへの熱的影響を遮断すると共に、下部アームに
作用しようとする外力を受けることにより、下部アーム
へ作用しようとする外力を遮断すると共に、シーリング
部分の経年変化を無くする。
が、加工液が直接下部アームにかかるのを防止して、下
部アームへの熱的影響を遮断すると共に、下部アームに
作用しようとする外力を受けることにより、下部アーム
へ作用しようとする外力を遮断すると共に、シーリング
部分の経年変化を無くする。
［発明の実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図，第２図において、（28a）は従来例と同様加工
液飛散防止手段であるが、図より明らかな様に、下部ア
ーム（26）と所定の間隙を有し、その内側を上記下部ア
ーム（26）が自在に挿通できる枠（32）を有した構成に
なっている。
液飛散防止手段であるが、図より明らかな様に、下部ア
ーム（26）と所定の間隙を有し、その内側を上記下部ア
ーム（26）が自在に挿通できる枠（32）を有した構成に
なっている。
（40）はその先端部（42a）が下部ワイヤガイド手段（1
4）近傍で封止され、末端部（42b）が枠（32）に密着さ
れると共に、下部アーム（26）との間に間隙を有して、
該下部アーム（26）を被包する様に設けられたアームカ
バーであるところのジャバラである。
4）近傍で封止され、末端部（42b）が枠（32）に密着さ
れると共に、下部アーム（26）との間に間隙を有して、
該下部アーム（26）を被包する様に設けられたアームカ
バーであるところのジャバラである。
なお、従来例と同一の符号については同一の部分を示し
ているので、その説明は省略する。
ているので、その説明は省略する。
次に動作について説明する。なお、ワイヤ放電加工方法
については従来例と同様であるのでここではその説明は
省略し、下部アーム（26）に熱的影響や外力が作用する
場合について説明する。
については従来例と同様であるのでここではその説明は
省略し、下部アーム（26）に熱的影響や外力が作用する
場合について説明する。
被加工物（16）の加工が下部アーム（26）横方向に進行
する場合、テーブル（図示せず）の移動と共に、加工液
飛散防止手段（28a）のジャバラ（34）は一方は伸び、
他方は縮む。このジャバラ（34）が伸縮することによる
外力は、第３図に示す様に、下部アーム（26）と枠（3
2）との間に設けられた間隙によって遮断され、下部ア
ーム（26）には伝達されない為、第７図に示す様な変形
は生じず、従って、上部ワイヤガイド手段（12）と下部
ワイヤガイド手段（14）との垂直方向の相対位置ずれは
生じず、高精度加工が可能となる。又、スクラップ等の
接触による外力についても、上記作用により下部アーム
（26）にまでは伝達されない為、問題とはならない。
又、加工液がかかる場合には、加工液はアームカバー
（40）にかかる為、加工液温度の変化は、下部アーム
（26）に対しては間隙（55）内の空気を介して徐々にし
か伝達されない為一般に知られている加工液温度と機械
設置環境とを同一とした場合、上部アーム（22）と下部
アーム（26）との内部温度変化の時定数は同一となる。
する場合、テーブル（図示せず）の移動と共に、加工液
飛散防止手段（28a）のジャバラ（34）は一方は伸び、
他方は縮む。このジャバラ（34）が伸縮することによる
外力は、第３図に示す様に、下部アーム（26）と枠（3
2）との間に設けられた間隙によって遮断され、下部ア
ーム（26）には伝達されない為、第７図に示す様な変形
は生じず、従って、上部ワイヤガイド手段（12）と下部
ワイヤガイド手段（14）との垂直方向の相対位置ずれは
生じず、高精度加工が可能となる。又、スクラップ等の
接触による外力についても、上記作用により下部アーム
（26）にまでは伝達されない為、問題とはならない。
又、加工液がかかる場合には、加工液はアームカバー
（40）にかかる為、加工液温度の変化は、下部アーム
（26）に対しては間隙（55）内の空気を介して徐々にし
か伝達されない為一般に知られている加工液温度と機械
設置環境とを同一とした場合、上部アーム（22）と下部
アーム（26）との内部温度変化の時定数は同一となる。
これにより、第４図に示す様に、上部アーム（22）の伸
縮距離Uと下部アーム（26）の伸縮距離Ｄとが同一
となり、上部ワイヤガイド手段（12）と下部ワイヤガイ
ド手段（14）との垂直方向の相対位置ずれは発生せず、
高精度の加工が可能になる。更に下部アーム（26）と枠
（32）との間は非接触である為、シーリング効果の低下
がなく、加工液が加工槽（20）外に飛散することがな
く、周囲環境を悪化させることもなくなる。
縮距離Uと下部アーム（26）の伸縮距離Ｄとが同一
となり、上部ワイヤガイド手段（12）と下部ワイヤガイ
ド手段（14）との垂直方向の相対位置ずれは発生せず、
高精度の加工が可能になる。更に下部アーム（26）と枠
（32）との間は非接触である為、シーリング効果の低下
がなく、加工液が加工槽（20）外に飛散することがな
く、周囲環境を悪化させることもなくなる。
なお、上記各実施例では加工液を噴出供給する場合につ
いて説明したが、加工液を加工槽に貯えて被加工物を加
工液中に浸漬するタイプのものでも同様の効果を奏す
る。
いて説明したが、加工液を加工槽に貯えて被加工物を加
工液中に浸漬するタイプのものでも同様の効果を奏す
る。
また、上記各実施例では下部アーム（26）の支持は片方
のみの片持ちとしたが、例えば門形構造として下部アー
ム（26）を両端にて支持する両持ちの場合でも同様であ
ることは言うまでもない。
のみの片持ちとしたが、例えば門形構造として下部アー
ム（26）を両端にて支持する両持ちの場合でも同様であ
ることは言うまでもない。
以上のようにこの発明によれば、被加工物の上方でワイ
ヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手段と、
被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持する下部
ワイヤガイド手段と、この下部ワイヤガイド手段を上部
ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部アーム
と、複数の屈曲部を有し、所定の間隙を介して上記下部
アームの一部又は全部を被包する伸縮自在なアームカバ
ーと、貫通孔に前記下部アームがその貫通孔の周壁との
間に所定の間隙を介して貫通すると共に前記アームカバ
ーの一端に保持固定される枠を有し、前記アームカバー
を前記枠及び伸縮自在な遮蔽部材を介して支持する加工
液飛散防止手段とを備える構成としたので、熱的影響は
アームカバーで遮断されるとともに、外力はアームカバ
ーと、枠と下部アームとの間の間隙とで遮断され、下部
アームまで伝達されないため、外力による該下部アーム
が変形が生じることがなく、又熱的影響も等しくなっ
て、上部アームと下部アームとの伸縮距離は同一となっ
て、上部、下部ワイヤガイド手段の垂直方向の相対位置
ずれが生じず、更に下部アームとの間、加工槽との間に
摺動部がなくなり、摺動部の液洩れ防止用シール部材を
用いる必要がなくなるので、長期間にわたって加工液の
加工槽外への飛散を防止できる。
ヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手段と、
被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持する下部
ワイヤガイド手段と、この下部ワイヤガイド手段を上部
ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部アーム
と、複数の屈曲部を有し、所定の間隙を介して上記下部
アームの一部又は全部を被包する伸縮自在なアームカバ
ーと、貫通孔に前記下部アームがその貫通孔の周壁との
間に所定の間隙を介して貫通すると共に前記アームカバ
ーの一端に保持固定される枠を有し、前記アームカバー
を前記枠及び伸縮自在な遮蔽部材を介して支持する加工
液飛散防止手段とを備える構成としたので、熱的影響は
アームカバーで遮断されるとともに、外力はアームカバ
ーと、枠と下部アームとの間の間隙とで遮断され、下部
アームまで伝達されないため、外力による該下部アーム
が変形が生じることがなく、又熱的影響も等しくなっ
て、上部アームと下部アームとの伸縮距離は同一となっ
て、上部、下部ワイヤガイド手段の垂直方向の相対位置
ずれが生じず、更に下部アームとの間、加工槽との間に
摺動部がなくなり、摺動部の液洩れ防止用シール部材を
用いる必要がなくなるので、長期間にわたって加工液の
加工槽外への飛散を防止できる。
従って、精度が高く、周囲環境変化の無いワイヤ放電加
工装置が得られる効果がある。
工装置が得られる効果がある。
第１図はこの発明の第１実施例によるワイヤ放電加工装
置を示す斜視図、第２図は同じく断面平面図、第３図は
この実施例における外力作用時の状態を示す断面平面
図、第４図はこの実施例における熱変形状態を示す断面
側面図、第５図は従来のワイヤ放電加工装置を示す斜視
図、第６図は従来例を示す断面平面図、第７図は従来例
における外力作用状態を示す断面平面図、第８図は従来
例における熱変形状態を示す断面側面図である。 図において、（10）はワイヤ電極、（12）は上部ワイヤ
ガイド手段、（14）は下部ワイヤガイド手段、（16）は
被加工物、（24）は機械本体、（26）は下部アーム、
（28）は加工液飛散防止手段、（32）は枠、（34）はジ
ャバラ、（40）はアームカバーである。 なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
置を示す斜視図、第２図は同じく断面平面図、第３図は
この実施例における外力作用時の状態を示す断面平面
図、第４図はこの実施例における熱変形状態を示す断面
側面図、第５図は従来のワイヤ放電加工装置を示す斜視
図、第６図は従来例を示す断面平面図、第７図は従来例
における外力作用状態を示す断面平面図、第８図は従来
例における熱変形状態を示す断面側面図である。 図において、（10）はワイヤ電極、（12）は上部ワイヤ
ガイド手段、（14）は下部ワイヤガイド手段、（16）は
被加工物、（24）は機械本体、（26）は下部アーム、
（28）は加工液飛散防止手段、（32）は枠、（34）はジ
ャバラ、（40）はアームカバーである。 なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】被加工物とワイヤ電極とを微小間隙を保持
させて対向させ、その間に放電を発生させて被加工物を
加工するワイヤ放電加工装置において、被加工物の上方
でワイヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手
段と、被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持す
る下部ワイヤガイド手段と、この下部ワイヤガイド手段
を上部ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部
アームと、複数の屈曲部を有し、所定の間隙を介して上
記下部アームの一部又は全部を被包する伸縮自在なアー
ムカバーと、貫通孔に前記下部アームがその貫通孔の周
壁との間に所定の間隙を介して貫通すると共に前記アー
ムカバーの一端に保持固定される枠を有し、前記アーム
カバーを前記枠及び伸縮自在な遮蔽部材を介して支持す
る加工液飛散防止手段とを備えたことを特徴とするワイ
ヤ放電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63182917A JPH0729245B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | ワイヤ放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63182917A JPH0729245B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | ワイヤ放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0236021A JPH0236021A (ja) | 1990-02-06 |
| JPH0729245B2 true JPH0729245B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=16126643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63182917A Expired - Lifetime JPH0729245B2 (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | ワイヤ放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729245B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2691487B2 (ja) * | 1992-01-18 | 1997-12-17 | ファナック株式会社 | ワイヤカット放電加工装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01264721A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-23 | Hoden Seimitsu Kako Kenkyusho Ltd | ワイヤ放電加工機 |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63182917A patent/JPH0729245B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0236021A (ja) | 1990-02-06 |
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