JPH0236021A - ワイヤ放電加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ワイヤ放電加工装置、特に下部アームの熱
的影響及び外力の遮断構造、及び加工液飛散防止手段の
改良に関するものである。

〔従来の技術〕

第５図は従来のワイヤ放電加工装置の概略構造を示す斜
視図であり、図ｉこおいて、αＯはワイヤ電極であり、
上部ワイヤガイド手段Ｕと下部ワイヤガイド手段１１４
）とにより、被加工物α０の上方、下方にて？’、！Ｊ
動自在にガイドされている。ＱＳは定盤であり、加工槽
（イ）の上方に設置され被加工物αＧを保持している。

わは被加工物αＧ上方に、上部ワイヤガイド手段（社）
を保持する上部アームであり、機械本体コラム＠に固定
されている。（至）は被加工物αｄの下方Ｃごて下部ワ
イヤガイド手段α４を、前記上部アームのによって区持
される上部ワイヤガイド手段□□□に対向した位置に保
持する下部アームである。

（ハ）は、上部、下部ワイヤガイド手段叫、α４よりそ
れぞｎ噴出される加工液（−膜内には水）の飛散を防止
する加工液飛散防止手段である。この加工液飛散防止手
段（ト）は、下部アーム団を摺動自在に挿ｉ山させる伜
を、伸縮自在な遮蔽部材を介して支持している。即ち、
図示のように、下部アーム（至）をその長平方向に自在
に摺動させて挿ｉ出させるためのシール部材■と、この
シール部材■の枠（財）と、載枠（イ）の左、右（下部
アーム翰の横方向）に取付けられている伸縮自在な遮蔽
部材であるジャバラ（ロ）とにより構成されている。真
６図＋ζ体＠本体の断面平面図を示している。

次に動作について説明する。被加工物αＧを加工スル場
合、ワイヤ電ＭＱＯは図示しないワイヤ送給系により上
方から下方または下方から上方へ連続的に送給されてい
る。

一方、被加工物αｅは、それを積載保持する加工槽（イ
）、及び定盤（至）を介して図示しないＸ−Ｙクロステ
ーブルによりワイヤ電極αＯに対して相対移動できろ。

加工を行う場合、テーブル（図示せず）を移動させ、ワ
イヤ電極αＧと被加工物αＯとＦｅ微小間隙を保持させ
て対向させるとともに、その間隙に上、下ワイヤガイド
手段より噴出する加工液を供給し、該加工液を介して、
ワイヤ電ＫＯＱと被加工物α０の間にて放電爆発を発生
させる。その放電爆発により、ワイヤ側卿ｏ、被加工物
αｄξもにその一部が飛ばされる。ワイヤ電極ａ０は連
続的に送給される１こめ切断せず、テーブルを任意の方
向に移動させろことにより、被加工物α０を所斜の形状
に加工することができる。

加工の際噴出する加工液は、下部アーム（イ）ｌこ沿っ
て流れるものはシール部材田にて加工液飛散防止手段（
ト）の外部にもｎろことなく加工槽ωに回収される。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来のワイヤ放電加工装置は以上のように構成さｎてい
るので、加工によりテーブルが下部アーム演方向に移動
すれば、ジャバラ＠も伸縮するが、このジャバラの伸縮
によって生じる外力が枠ζａ及びシール■を介して下部
アーム（至）に作用する。すると、下部アーム（イ）が
＠７図に示すように変形し、それに伴い、下部アーム（
至）に保持された下部ワイヤガイド手段０４と、上部ワ
イヤガイド手段■との垂直方向の相対位置について９Ｘ
、９）’　の誤差が生じ、加工後の被加工物形状が傾斜
し、７」工清度が出ないという問題点があった。

また、例えば被加工物α０から切り落とされたスクラッ
プ等が下部アーム（至）と接触することによる池の外力
も下部アーム（至）に作用することがあるため、これら
が上記と同様に加工精度低下の大きな原因となってめた
。さらｆこ、熱伝達の良い加工液（−膜内には水）が直
接下部アーム（至）にかかるため、加工液の温度変化が
、敏感ｆζ下部アーム（至）Ｃζ伝達され、その結果、
第８図に示すように、勢の影響でアーム自身が伸縮しく
例えば図示のようにｅＤ−ｅＵ＝ｅＸの相対ずれが生じ
る）、さらに−般に知られてｂる加工液の液温をｓ賊設
置環境と同一に制御する場合でも、空気からの伝達であ
る上部アームのと加工液からの伝達である下部アーム（
至）では温度変化の時定数が異なり、相対ずれ発生を無
くすことは困難であり加工精度が低下する原因となって
ｂた。

さらに、シール（７）が経年変化により劣化し、そのシ
ーリング効果が消失し、加工液がその部分から加工槽（
７）外に飛散し、周囲環境を悪化させる原因となる等の
問題点があった。

この発明は上記の様な問題点を解消するためになさｎた
もので、下部アームへの飛散防止手段から作用する外力
を排除オろと共に、加工液が直接下部アームにかかるの
を防ぎ、該外力及び熱的影響に伴う下部アームの変形に
よる被加工物の加工精度不良を防止し、更にシール部分
の経年変化発生要因を排除し、加工液の加工槽外への飛
散を防止して、高精度且つ周囲環境悪化の無いワイヤ放
電加工装置を得ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕 この発明に係るｑイヤ放電加工装置は、被加工物とワイ
ヤ電極とを微小間隙を保持させて対向させ、その間に放
電を発生させて被加工物を加工するものにおいて、上部
ワイヤガイド手段により被加工物の上方でワイヤＮ、極
を摺動自在に支持し、下部ワイヤガイド手段により被加
工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持し、下部アー
ムにより下部ワイヤガイド手段を上部ワイヤガイド手段
に対向した位置に保持し、下部アームと所定の間隙を介
して、該下部アームの一部又は全部を被包する伸縮自在
なアームカバーを、加工液飛散防止手段の伸縮自在な遮
蔽部材を介して支持させたものである。

〔乍　用〕

この発明におけるアームカバーは、加工液が直接下部ア
ームにかかるのを防止して、下部アームへの熱影響をａ
断し、加工液飛散防止手段は、下部アームに作用しよう
とする外力を受けることにより、下部アームへの外力の
作用を遮断すると共に、シーリング部分の、経年変化を
無くする。

〔発明の実施例〕

以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図、第２図において、（２８ａ）は従来例と同様加工液
飛散防止手段でＪ）るが、図より明らかな様に、下部ア
ーム（至）と所定の間隙を有し、その記 内側を上手下部アーム（至）が自在に挿通できる枠（２
）を有した構成になっている。

（１はその先端部（４２ａ）が下部ワイヤガイド手段α
４近傍で封止され、末端部（４２ｂ）が枠（至）に密清
さｎると共に、下部アーム（至）との間に間隙を有して
、該下部アーム翰を被包する様に設けちれたアームカバ
ーであるところのジャバラである。

なお、従来例と同一の符号については同一の部分を示し
ているので、その説明は省略する。

次に動乍につめて説明する。なお、ワイヤ放電加工方法
については従来例と同様であるのでここではその説明は
省略し、下部アーム（至）に熱的影響や外力が作用する
場合について説明する。

被加工物αＧの加工が下部アーム（至）横方向に進行す
る場合、テーブル（（２）示せず）の移動と共に、加工
液飛散防止手段（２８ａ）のジャバラ■は一方は伸び、
他方は縮む。このジャバラ（至）が伸縮することによる
外力は、第８図に示す様に、下部アーム（至）と枠（至
）との間に設けられた間隙によって遮断され、下部アー
ムωには伝達されない為、第７図に示す様な変形は生じ
ず、従って、上部ワイヤガイド手段（２）と下部ワイヤ
ガイド手段σ瘤との垂直方向の相対位置ずｎは生じず、
高精度加工が可能となる。又、スフうツブ等の接触によ
る外力についても、上記作用により下部アーム（至）に
までは伝達されなめ為、問題とはならない。又、加工液
がかかる場合には、加工液はジャバラ（４０８）にかか
る為、加工液温度の変化は、下部アーム（至）に対して
は間隙缶内の空気を介して徐々にしか伝達されない為一
般に知られている加工液温度と機械設置環境とを同一と
した場合、上部アーム器と下部アーム（至）との内部温
度変化の時定数は同一となる。

これにより、第４図に示す様に、上部アーム■の伸縮距
離Ｂｖ　と下部アーム（至）の伸縮距＊ｅＤとが同一と
なり、上部ワイヤガイド手段（６）と下部ワイヤガイド
手段α滲との垂直方向の相対位置ずれは発生せず、高精
度の加工が可能になる。更（こ下部アーム（至）と枠（
至）との間は非接触である為、シーリング効果の低下が
なく、加工液が加工１ω外に飛散することがなく、周囲
環境を悪化させることもなくなる。

なお、上記各実施例では加工液を噴出供給する場合につ
いて説明したが、加工液を加工槽に貯えて被加工物を加
工液中に浸漬するタイプのものでも同様の効果を奏する
。

また、上記各実施例では下部アーム（至）の支持は片方
のみの片持ちとしたが、例えば門形溝造として下部アー
ム（至）を両端にて支持する両持ちの場合でも同様であ
ることは言うまでもない。

〔発明の効果〕

以上の様に、この発明によれば、下部ワイヤガイド手段
を保持する下部アームに対して、離隔間隙を保ちつつ該
下部アームの一部又は全部を伸縮自在なアームカバーで
被包すると共に、該アームカバーを加工液飛散防止手段
の伸縮自在な遮蔽部材を介して支持する様に構成したの
で、外力及び熱的影響はアームカバーで遮断され、下部
アームに寸では伝達されない為、外力による該下部アー
ムに変形が生ずることが無く、又、熱的影響も等しくな
って、上部アームと下部アームとの伸縮距離は同一にな
って、上部、下部ワイヤガイド手段の垂直方向の相対位
置ずれが生じず、更に、シール部材を用いないので、経
年変化による加工液の加工１外への飛散を防止でき、精
度が高く、周囲環境悪化の無いワイヤ放電加工装置が得
られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの余明の第１実施例によるワイヤ放電加工装
置を示す斜視図、第２図は同じく断面平面図、第３図は
この実施例にかけろ外力作用時の状態を示す断面平面図
、第４図はこの実施例における熱変形状態を示す断面側
面図、第５図は従来のワイヤ放電加工装置ケ示す斜視図
、第６図は従来例を示す断面平面図、第７図は従来例に
おける外力布用状腹を示す断面平面図、第８図は従来例
における熱変形状態を示す断面側面図である。 図において、α０はワイヤシ衝、（２）は上部ワイヤガ
イド手段、ｑ４は下部ワイヤガイド手段、αＧは被加工
物、１脚は機−本体、（至）は下部アーム、・層は加工
液飛散防止手段、（至）は枠、ＣＡはジャバラ、（ト）
はアームカバーである。 なお、各図中同−？ｆ号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 被加工物とワイヤ電極とを微小間隙を保持させて対向さ
   せ、その間に放電を発生させて被加工物を加工するワイ
   ヤ放電加工装置において、被加工物の上方でワイヤ電極
   を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手段と、被加工
   物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持する下部ワイヤ
   ガイド手段と、前記下部ワイヤガイド手段を、上部ワイ
   ヤガイド手段に対向した位置に保持する下部アームと、
   所定の間隙を介して上記下部アームの一部又は全部を被
   包する伸縮自在なアームカバーと、該アームカバーを伸
   縮自在な遮蔽部材を介して支持する加工液飛散防止手段
   とを備えたことを特徴とするワイヤ放電加工装置。