JP3009927B2 - ワイヤカット放電加工装置 - Google Patents

ワイヤカット放電加工装置

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JP3009927B2
JP3009927B2 JP2414753A JP41475390A JP3009927B2 JP 3009927 B2 JP3009927 B2 JP 3009927B2 JP 2414753 A JP2414753 A JP 2414753A JP 41475390 A JP41475390 A JP 41475390A JP 3009927 B2 JP3009927 B2 JP 3009927B2
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ワイヤカット放電加工
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のワイヤカット放電加工方法として
は、被加工物の加工部分に加工液を噴射して加工を行う
噴流加工と、被加工物の加工部分を加工液中に浸漬した
状態で加工を行う浸漬加工とが実施されているが、この
うち浸漬加工は、熱変動が小さく加工精度に優れるとと
もに、端面や大きなテーパの加工においても安定した加
工状態を得ることができるという点で、旧来の噴流加工
に代わって徐々に主流となりつつある。
【0003】ところで、上記浸漬加工では、加工タンク
内に加工液を貯留し、この中に被加工物を浸漬した状態
で、この被加工物の上下に配置される一対の電極ガイド
により保持したワイヤ電極によって放電加工を行うよう
になっている。
【0004】したがって、この放電加工装置において
は、特に下側の電極ガイドを加工液中に配置し、かつ、
このガイドを加工位置に応じて変位する必要がある。
【0005】そこで、従来より、図5または図6に示す
構造の装置が提供されている。
【0006】図5に示す装置は、上記アーム1を加工タ
ンク2の上方から加工液中に挿入して、先端部の下ガイ
ド3を被加工物4より深い位置に配置している。
【0007】すなわち、アーム1はクランク形状に形成
され、コラム5から下方に垂下されるとともに、加工液
中に浸漬される部分が、水平方向に折り曲げられ、この
水平部1aのストロークによって、先端部の下ガイド3
を被加工物4の下側に挿入できる構造となっている。
【0008】また、コラム5には、上ガイド6を保持す
るシリンダ7が設けられており、上下のガイド3、6に
よってワイヤ電極8がガイドされている。なお、コラム
5内には、ワイヤ電極8の送り機構等が設けられてい
る。
【0009】一方、加工タンク2は、X−Yテーブル9
上に支持されており、コラム5に対して水平方向に移動
されるものとなっている。
【0010】したがって、この放電加工装置では、X−
Yテーブル9により、加工タンク2とコラム5とを水平
方向に相対移動することにより、所望の加工形状を得る
ようになっている。
【0011】また、図6に示す装置は、上記アーム11
を加工タンク12の側壁に形成した開口部12aより挿
入するとともに、開口部12aをシール機構20により
シールしたものである。なお、上ガイド16の支持構造
は、上記図5に示す装置と同様である。
【0012】この装置においても、加工タンク12は、
X−Yテーブル19に支持されており、コラム15に対
して水平方向に相対移動する構造である。したがって、
開口部12aは、上記アーム11の相対移動範囲に対応
して、水平方向に長手形状となっており、上記シール機
構20は、アーム11がX方向およびY方向に移動でき
る構造となっている。
【0013】なお、このシール機構20の具体例として
は、特開昭64−71625号公報や特開平1−321
122号公報に開示されるものがある。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記図
5に示す従来装置においては、アーム1の水平部1a
が、加工タンク2内でX−Y方向に相対変位する構成で
あるため、水平部1aのストロークに対応して大きな容
量の加工タンク2を設ける必要が生じ、大量の加工液を
使用することになるので、加工液の水質や液温の管理が
困難になり、純水器の寿命も短くなってしまう欠点があ
る。
【0015】特に、このような欠点は、大型の被加工物
を加工するため、ストロークの大きい水平部1aを有す
る大型機において顕著である。
【0016】また、上記図6に示す従来装置において
は、シール機構20によるシール抵抗がアーム11の相
対変位に作用し、加工精度に悪影響を及ぼす欠点があ
る。
【0017】本発明は、浸漬加工によるワイヤカット放
電加工装置において、アームに対するシール抵抗の悪影
響を無くして加工精度の向上を図り得るとともに、アー
ムのストロークを短縮することなく同じ長さであっても
加工タンクの容量を小さくでき、加工液管理の容易化お
よび装置の小型化を達成することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明は、ベッド30
と、ベッド30上に載置されX軸方向に移動可能な加工
タンク33と、ベッド30上に立設されたコラム5に搭
載され、上記X軸方向に直交するY軸方向に移動可能な
スライドユニット32と、スライドユニット32に設け
られた上ガイド37と、水平部31aと垂直部31bと
を具備し、垂直部31bがスライドユニット32に取付
支持されているアーム31と、上ガイド37に対向する
ように加工タンク33に配設され、アーム31の水平部
31aの先端部に設けられている下ガイド36と、上記
X軸方向に上記アーム31を収納するのに十分な幅で、
かつ上記Y軸方向に上記アーム31の水平部31aが相
対的に移動するY軸移動領域に対応する十分な長さを具
備し、アーム31の水平部31aをY軸方向に移動可能
に収納し、加工タンク33に対向するようにベッド30
に固定された補助タンク34と、上記補助タンク34に
対向する加工タンク33の側壁33bに設けられ、上記
アーム31の水平部31aが相対的に移動するX軸移動
領域に対応する十分な幅の開口部33aと、側壁33b
に対向する補助タンクの側壁34bに設けられ、上記
ーム31aを収納するのに十分な幅の開口部34aと、
上記側壁33bと上記側壁34bとの間に設けられ、上
記加工タンク33の全相対移動範囲にわたって上記開口
部33aを覆うことができるシール用プレート42、お
よびシール44、45を含み、加工タンク33と補助タ
ンク34との間を液密に保持するシール機構と を有す
るワイヤカット放電加工装置である。
【0019】
【実施例】図1は、本発明の第1実施例におけるワイヤ
カット放電加工装置の構成を示す側断面図であり、図2
は、図1のA−A線における構造を簡略化して示す平断
面図である。
【0020】この放電加工装置において、第2支持ユニ
ットとしてのベッド30は、図示しないフロア上に固定
的に設置されるものであり、このベッド30上に立設さ
れたコラム上に、第1支持ユニットとしてアーム31等
を支持したスライドユニット32と、被加工物40を加
工液中に浸漬した加工タンク33と、この加工タンク3
3に連通する補助タンク34等が取り付けられている。
【0021】スライドユニット32は、ベッド30の上
部にスライドレール35を介して設置され、加工タンク
33に対してアーム31を前後させる方向、すなわち図
中Y軸方向にスライド自在に支持されている。そして、
図示しないサーボ制御機構により、Y軸方向に移動制御
される。
【0022】このスライドユニット32には、下ガイド
36を保持した上記アーム31と、上ガイド37を保持
したシリンダ38と、ワイヤ電極39の送り機構等が設
けられている。
【0023】アーム31は、クランク形状に形成され、
コラム30から下方に垂下された垂直部31bと、この
垂直部31bの下端部より水平方向に折り曲げられ、上
記各タンク33、34の加工液中に浸漬される水平部3
1aとを有し、この水平部31aの先端部に下ガイド3
6を保持している。なお、ワイヤ電極39は、アーム3
1の内部を通ってスライドユニット32内に導かれてい
る。
【0024】加工タンク33は、コラム30の中段部に
スライドレール41を介して設置され、アーム31に対
して左右方向、すなわち図2に示すX軸方向にスライド
自在に支持されている。そして、図示しないサーボ制御
機構により、X軸方向に移動制御される。
【0025】この加工タンク33は、補助タンク34と
並んで配置されており、補助タンク34に面する側壁3
3bに、アーム31の水平部31aを挿入する開口部3
3aが形成されている。この開口部33aは、アーム3
1のX軸方向の移動範囲に対応する長手形状に形成され
ている。
【0026】補助タンク34は、コラム30の中段部に
固定されている。この補助タンク34は、加工タンク3
3よりもX軸方向に幅が狭く、アーム31の水平部31
aを配置するに十分な程度の大きさを有し、小さな容量
のものである。
【0027】この補助タンク34の加工タンク33に面
する側壁34bには、アーム31の水平部31aを加工
タンク33側に通すための開口部34aが形成されると
ともに、この側壁34bには、加工タンク33の開口部
33aをシールするシール用プレート42が一体に設け
られている。このプレート42は、補助タンク34と加
工タンク33との全相対移動範囲にわたって、開口部3
3aを覆うことができる十分な幅を有しており、ほぼ中
央に、アーム31の水平部31aを通す挿通口部42a
が形成されている。このシール用プレート42は、加工
タンク33側に設けた押え片43により、シール44、
45を介して加工タンク33の側壁33bに押し当てら
れており、補助タンク34と加工タンク33とが相対移
動可能な状態で開口部33aをシールしている。
【0028】以上のような構成において、X軸方向に
は、アーム31と補助タンク34とが固定され、加工タ
ンク33側が移動することになる。また、Y軸方向に
は、加工タンク33と補助タンク34とが固定され、こ
れらタンク33、34に対してアーム31が移動するこ
とになる。
【0029】そして、アーム31の水平部31aが、補
助タンク34から加工タンク33にわたって配置され、
十分なストロークを得ることができるとともに、補助タ
ンク34が小容量であることから、それだけ加工液の使
用量を低減でき、さらにアーム31に直接シール抵抗が
かからない構造であることから、加工精度の向上を図る
ことができる。
【0030】次に、図3は、本発明の第2実施例におけ
るワイヤカット放電加工装置の構成を示す側断面図であ
り、図4は、図3のB−B線における構造を簡略化して
示す平断面図である。
【0031】なお、上記第1実施例と同様の構成につい
ては、共通の符号を付し、説明は省略する。
【0032】この実施例では、上記アーム31の水平部
31aに連続して、ワイヤ電極39を通すパイプ46を
設け、このパイプ46を補助タンク34に設けた排出孔
47より外部に突出させて、ワイヤ電極39を外部に排
出するように構成したものである。また、排出孔47に
は、パイプ46がY軸方向にスライド自在な状態でシー
ル48が設けられている。
【0033】この放電加工装置においても、特に加工精
度に悪影響を及ぼすX軸方向のシール抵抗については、
直接アーム31に作用しないことになり、またY軸方向
についても、アーム31の水平部31aの基端部側に延
長したパイプ46と補助タンク34との間でシールする
ので、水平部31aの先端側には、ほとんど影響しない
ことになる。したがって、シール抵抗の減少により、加
工精度の向上を図ることができる。
【0034】なお、以上の実施例では、閉じた形状の開
口部33a、34aおよび挿通口部42aを形成した
が、この代わりに、強度の許す範囲内で、上方に開放さ
れた形状のものを設けてもよい。
【0035】また、上記実施例では、補助タンク34が
固定されるとともに、アーム31がY軸方向に移動し、
加工タンク33がX軸方向に移動する構成であったが、
これと逆の関係で各ユニットの相対移動を得るようした
ものであってもよい。
【0036】
【発明の効果】本発明によれば、加工タンクに連通して
アームを配置することができる補助タンクを設けたこと
から、アームをタンク内に配置した場合に、直接シール
抵抗がかからない構造とすることができ、シール抵抗の
悪影響を無くして加工精度の向上を図ることができる。
【0037】また、補助タンクから加工タンクにわたっ
て上記アームを配置することから、アームの水平部の長
さは比較的短くなり、かつ、同じアームの水平部の長さ
であるならば補助タンクを設けることにより、メインの
加工タンク自体を大きくした場合に比べて、全体として
のタンクの容量を小さくでき、加工液の使用量を減少す
ることが可能となるので、加工液管理の容易化でき、純
水器の寿命をのばすことが可能となる上、装置の小型、
軽量化を達成することができる。また、加工タンクが軽
量となり、かつ、一軸方向のみテーブルが移動する構成
であるから、X−Yテーブル等の支持機構への負担も軽
減できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例におけるワイヤカット放電
加工装置の構成を示す側断面図である。
【図2】上記図1のA−A線における構造を簡略化して
示す平断面図である。
【図3】本発明の第2実施例におけるワイヤカット放電
加工装置の構成を示す側断面図である。
【図4】上記図3のB−B線における構造を簡略化して
示す平断面図である。
【図5】第1の従来技術を示す側断面図である。
【図6】第2の従来技術を示す側断面図である。
【符号の説明】
30…ベッド、 31…アーム、 31a…水平部、 32…スライドユニット、 33…加工タンク、 33a、34a…開口部、 34…補助タンク、 36、37…ガイド、 38…シリンダ、 39…ワイヤ電極、 42…シール用プレート、 42a…挿通口部、 43…押え片、 44、45、48…シール、 46…パイプ。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベッド(30)と; ベッド(30)上に載置されX軸方向に移動可能な加工
    タンク(33)と;ベッド(30) 上に立設されたコラム(5)に搭載さ
    れ、上記X軸方向に直交するY軸方向に移動可能なスラ
    イドユニット(32)と;スライドユニット (32)に設けられた上ガイド(3
    7)と;水平部(31a)と垂直部(31b)とを具備し、垂直
    部(31b)がスライドユニット(32)に取付支持さ
    れている アーム(31)と;上ガイド(37)に対向するように加工タンク(33)
    に配設され、アーム(31)の水平部(31a)の先端
    部に設けられている下ガイド(36)と; 上記X軸方向に上記アーム(31)を収納するのに十分
    な幅で、かつ上記Y軸方向に上記アーム(31)の水平
    部(31a)が相対的に移動するY軸移動領域に対応す
    る十分な長さを具備し、アーム(31)の水平部(31
    a)をY軸方向に移動可能に収納し、加工タンク(3
    3)に対向するようにベッド(30)に固定された補助
    タンク(34)と; 上記補助タンク(34)に対向する加工タンク(33)
    の側壁(33b)に設けられ、上記アーム(31)の水
    平部(31a)が相対的に移動するX軸移動領域に対応
    する十分な幅の開口部(33a)と;側壁(33b)に対向する補助タンクの側壁(34b)
    に設けられ、上記 アーム(31a)を収納するのに十分
    幅の開口部(34a)と; 上記側壁(33b)と上記側壁(34b)との間に設け
    られ、上記加工タンク(33)の全相対移動範囲にわた
    って上記開口部(33a)を覆うことができるシール用
    プレート(42)、およびシール(44、45)を含
    み、加工タンク(33)と補助タンク(34)との間を
    液密に保持するシール機構と; を有することを特徴とするワイヤカット放電加工装置。
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