JPH01109025A - ワイヤ放電加工装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】 この発明は、ワイヤ放電加工装置、特に下部アームの熱
的影響及び外力の遮断構造に関するものである。 （従来の技術） 第１Ｏ図は従来のワイヤ放電加工装置の概略構造を示す
斜視図であり、図において（１０）はワイヤ電極であり
、上部ワイヤガイド手段（１２）と下部ワイヤガイド手
段（１４）とにより、被加工物（１６）の上方、下方に
て摺動自在にガイドされている。　（１８）は定盤であ
り、加工槽（２０）の上方に設置され被加工物（１６）
を保持している。（２２）は被加工物（１６）上方に、
上部ワイヤガイド手段（１２）を保持する上部アームで
あり、機械本体コラム（２４）に固定されている。（２
６）は被加工物（１６）の下方にて下部ワイヤガイド手
段（１４）を、前記上部アーム（２２）によフて保持さ
れる上部ワイヤガイド手段（１２）に対向した位置に保
持する下部アームである。（２８）は、上部、下部ワイ
ヤガイド手段（１２）　、　（１４）よりそれぞれ噴出
される加工液（−数的には水）の飛散を防止する加工液
飛散防止手段である。この飛散防止手段（２８）は、下
部アーム（２６）を摺動自在に挿通させる枠を、伸縮自
在な遮蔽部材を介して支持している。即ち、図示のよう
に、下部アーム（２６）をその長手方向に自在に摺動さ
せて挿通させるためのシール部材（３０）と、このシー
ル部材（３０）の枠（３２）と、該枠（３２）の左、右
（下部アーム（２６）の横方向）に取付けられている伸
縮自在な遮蔽部材であるジャバラ（３４）とにより構成
されている。第１１図に装置本体の断面平面図を示して
いる。 次に動作について説明する。被加工物（１６）を加工す
る場合、ワイヤ電極（ｌＯ）は図示しないワイヤ送給系
により上方から下方または下方から上方へ連続的に送給
されている。 一方、被加工物（１６）は、それを積載保持する加工槽
（２０）、及び定盤（１８）を介して図示しないＸ−Ｙ
クロステーブルによりワイヤ電極（ｌＯ）に対して相対
８動できる。加工を行う場合、テーブル（図示しない）
を移動させ、ワイヤ電極（１０）と被加工物（１６）と
を微小間隙を保持させて対向させるとともに、その間隙
に上、下ワイヤガイド手段より噴出する加工液を供給し
、該加工液を介して、ワイヤ電極（ｌＯ）と被加工物（
１６）の間にて放電爆発を発生させる。その放電爆発に
より、ワイヤ電極（１０）、被加工物（１６）ともにそ
の一部が飛ばされる。ワイヤ電極（ｌＯ）は連続的に送
給されるため切断せず、テーブルを任意の方向に移動さ
せることにより、被加工物（１６）を所望の形状に加工
することができる。 加工の際噴出する加工液は、下部アーム（２６）に沿っ
て流れるものはシール部材（３０）にて飛散防止手段（
２８）の外部にもれることなく加工槽（２０）に回収さ
れる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来のワイヤ放電加工装置は以上のように構成されてい
るので、加工によりテーブルが下部アーム横方向に移動
すれば、ジャバラ（３４）も伸縮するが、このジャバラ
の伸縮によって生じる外力が枠（３２）及びシール（３
０）を介して下部アーム（２Ｂ）に作用する。すると、
下部アーム（２Ｂ）が第１２図に示すように変形し、そ
れに伴い、下部アーム（２６）に保持された下部ワイヤ
ガイド手段（１４）と、上部ワイヤガイド手段（１２）
との垂直方向の相対位置についてｅＸｓｅＹの誤差が生
じ、加工後の被加工物形状が傾斜し、加工精度が出ない
という問題点があった。 また例えば被加工物から切り落としたスクラップ等が下
部アーム（２６）と接触することによる他の外力も下部
アーム（２６）に作用することがあるため、これらが上
記と同様に加工精度低下の大きな原因となっていた。さ
らに、熱伝達の良い加工液、（−数的には水）が直接下
部アーム（２Ｂ）にかかるため、加工液の温度変化が、
敏感に下部アームに伝達され、その結果、第１３図に示
すように、熱の影響でアーム自身が伸縮しく例えば図示
のようにｃｏ　−ｅｕ　ｆｆｉ＠ｘの相対ずれが生じる
）、さらに一般に知られている加工液の液温を機械設置
環境と同一制御する場合でも、空気からの伝達である上
部アーム（２２）と加工液からの伝達である下部アーム
（２６）では温度変化の時定数が異なり、相対ずれ発生
を無くすことは困難であり加工精度が低下する原因とな
っていた。 この発明の第１の発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、下部アームに対して作用する外
力を排除できるとともに、該外力に伴う下部アームの変
形による被加工物の加工精度不良を防止できる高精度の
ワイヤ放電加工装置を得ることを目的とする。 この発明の第２の発明は、下部アームに対して作用する
外力を排除できるとともに、加工液が直接下部アームに
かかるのを防ぎ、該外力と熱的影響にともなう下部アー
ムの変形による被加工物の加工精度不良を防止できる高
精度のワイヤ放電加工装置を得ることを目的とする。 この発明の第３の発明は、下部アームへの飛散防止手段
から作用する外力を排除できるとともに、該外力による
下部アームの変形による被加工物の加工精度低下を防止
できる高精度のワイヤ放電加工装置を得ることを目的と
する。 〔問題点を解決するための手段〕 第１の発明に係るワイヤ放電加工装置は、被加工物とワ
イヤ電極とを微小間隙を保持させて対向させ、その間に
放電を発生させて被加工物を加工するものにおいて、上
部ワイヤガイド手段により被加工物の上方でワイヤ電極
を摺動自在に支持し、下部ワイヤガイド手段により被加
工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持し、下部アー
ムにより下部ワイヤガイド手段を上部ワイヤガイド手段
に対向した位置に保持し、加工液飛散防止手段により下
部アームを摺ｌ１ｌ−在に挿通させる枠を、伸縮自在な
遮蔽部材を介して支持し、アームカバーを、下部アーム
外周に、下部アームに対して離隔間隙を保って配設した
ものである。 第２の発明に係るワイヤ放電加工装置は、被加工物とワ
イヤ電極とを微小間隙を保持させて対向させ、その間に
放電を発生させて被加工物を加工するものにおいて、上
部ワイヤガイド手段により被加工物の上方でワイヤ電極
を摺動自在に支持し、下部ワイヤガイド手段により被加
工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持し、下部アー
ムにより下部ワイヤガイド手段を上部ワイヤガイド手段
に対向した位置に保持し、加工液飛散防止手段により下
部アームを摺動自在に挿通させる枠を、伸縮自在な遮蔽
部材を介して支持し、且つ、下部アームに固定支持され
た第１のアームカバーにより、該下部アームを間隙を介
して被包し、第２のアームカバーを、第１のアームカバ
ー全周に、下部アーム及び第１のアームカバーに対して
離隔間隙を保つて配設したものである。 第３の発明に係るワイヤ放電加工装置は、被加工物とワ
イヤ電極とを微小間隙を保持させて対向させ、その間に
放電を発生させて被加工物を加工するものにおいて、上
部ワイヤガイド手段により被加工物の上方でワイヤ電極
を摺動自在に支持し、下部ワイヤガイド手段により被加
工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持し、下部アー
ムにより下部ワイヤガイド手段を上部ワイヤガイド手段
に対向した位置に保持し、加工液飛散防止手段により下
部アームを摺動自在に挿通させる枠を、伸縮自在な遮蔽
部材を介して支持し、加工液飛散防止手段の枠体に後方
支持部材を延設し、この支持部材を機械本体側に摺動可
能に案内支持させたものである。 （作　用） この第１の発明におけるアームカバーは、下部アームに
作用しようとする外力を受け、下部アームへの外力の作
用を遮断する。 また−この第２の発明における第１のアームカバーは、
加工液が直接下部アームにかかるのを防止して下部アー
ムへの熱影響を遮断し、第２のアームカバーは、下部ア
ームに作用しようとする外力を受けることにより、下部
アームへの外力の作用を遮断する。 また、この第３の発明における後方支持部材は、テーブ
ル６動による加工液飛散防止手段からの外力を受けて、
下部アームへの外力の直接の作用を遮断する。 （実施例〕 以下、この発明の第１の実施例を図について説明する。 第１図において、（４０）は下部アーム（２６）に接触
しないように、下部アーム外周に、下部アーム（２Ｂ）
に対して離隔間隙を保って配設されているアームカバー
であり、機械本体コラム（２４）にボルト（４２）によ
り固定されている。 また、この場合の飛散防止手段（２８）については、構
造は従来例と同一であるが、図よりも明らかなように、
内側を下部アーム（２Ｂ）がその長手方向に自在に摺動
するシール部材（３０）は、アームカバー（４０）の外
周に配設されて、枠（３２）に取付けられている。第２
図にこの発明の第１実施例の断面平面図を示す。 次に動作について説明する。ワイヤ放電加工方法につい
ては従来例と同様であるのでここでは省略し、下部アー
ム（２６）への外力の作用について説明する。 被加工物（１６）の加工が、下部アーム横方向に進行す
る場合、テーブル（図示せず）の移動とともに、飛散防
止手段のジャバラ（３４）は、一方は伸び、他の一方は
縮む、このジャバラ（３４）が伸縮することによる外力
がアームカバー（４０）に作用し、第３図のようにアー
ムカバー（４０）は変形する。しかし、このアームカバ
ー（４０）によって、下部アーム（２６）への外力は遮
断されており、下部アーム（２６）には外力は作用しな
いために、第１２図のような変形は生じず、従って上部
ワイヤガイド手段（１２）と下部ワイヤガイド手段（１
４）の垂直方向の相対位置ずれは生じず高い加工精度の
加工が可能となる。またスクラップ等の接触による外力
についても上記作用により外力は下部アーム（２６）に
まで伝達されないため、問題とはならない。 次にこの発明の第２実施例を図について説明する。第４
図、第５図において、（５０）は、下部アーム（２６）
を間隙を介して被包し、下部アーム（２６）に固定支持
された第１のアームカバーである。即ち図示のように、
先端部（５２ａ）　と末端部（５２ｂ）において、下部
アーム（２６）に固定されるとともに、下部アーム（２
Ｂ）との間で間ＩＩＩ（５５）を有して、下部アーム（
２６）を包み込むように構成されている。（５７）は、
第１のアームカバー（５０）外周に、下部アーム（２６
１び第１のアームカバー（５Ｇ）に対して離隔間１１ｉ
　（５８）を保って配設された第２のアームカバーであ
り、機械本体（２４）にボルト（５９）により取付けら
れている。 また、この場合の飛散防止手段（２８）については、構
造は従来と同一であるが、図よりも明らかなように、内
側を下部アーム（２６）がその長手方向に自在に摺動す
るシール部材（３０）は、第２のアームカバー（５７）
の外周面に接して、枠（３２）に取付けられている。 次に動作について説明する。ワイヤ放電加工方法につい
ては従来例と同様であるのでここでは省略し、下部アー
ム（２Ｂ）に熱的影響や外力が作用する場合について説
明する。 被加工物（１６）の加工が下部アーム横方向に進行する
場合、テーブル（図示せず）の移動とともに、飛散防止
手段（２Ｂ）のジャバラ（３４）は、一方は伸び他の一
方は縮む、この時、ジャバラ（３４）が伸縮することに
より生じる外力が第２のアームカバー（５７）に作用し
、第６図のように第２のアームカバー（５７）は変形す
る。しかし、この第２のアームカバー（５７）によって
、下部アーム（２６）への外力は遮断されており、下部
アーム（２６）に外力は作用しないため、第１２図のよ
うな変形は生じない。また加工液がかかる場合には、ま
ず加工液は第１のアームカバー（５０）にかかるため、
加工液温度の変化は、下部アーム（２６）に対しては、
間隙（５５）内の空気を介して徐々にしか伝達されない
ため、一般に知られている加工液温度と機械設置環境と
を同一とした場合、上部アーム（２２）と下部アーム（
２Ｂ）との内部温度変化の時定数が同一となる。これに
より、第７図のように上部アーム（２２）の伸縮距離ｅ
ｕと、下部アーム（２６）の伸縮距離ｅＤとが同一とな
り、上部ワイヤガイド手段（１２）と下部ワイヤガイド
手段（１４）との垂直方向相対位置はずれず、高い精度
の加工が可能になる。またスクラップ等の接触による外
力につε）ても上記作用により外力は下部アーム（２Ｂ
）まで伝達されないため、加工精度の低下は生じない。 次に、この発明の第３実施例を図について説明する。第
８図において、（６０）は、加工液飛散防止手段（２８
）の枠体（３２）に延設された後方支持部材であり、こ
の枠体（３２）を左右（下部アーム（２Ｂ）の横方向）
から保持している。この支持部材（６０）は、機械本体
コラム（２４）側に摺動可能に案内支持されている。即
ち、この支持部材（６０）は、機械本体コラム（２４）
に左右一対設けられたガイド（６２）の内部に、一対の
摺動部が横方向に拘束されて出没自在となっており、こ
れにより支持部材（６０）は下部アーム（２６）長手方
向に自在に摺動する。第９図にこの実施例を示す断面平
面図を示す。 次に動作について説明する。ワイヤ放電加工方法に関し
ては、従来例と同様であるのでここでは省略し、下部ア
ーム（２６）に作用する外力について説明する。 被加工物（１６）の加工が下部アーム横方向に進行する
場合、テーブル（図示しない）の移動とともに、飛散防
止手段のジャバラ（３４）が一方は伸び他方は縮む、そ
の時ジャバラが伸縮することによる外力がシール部材（
３０）を介して枠（３２）に作用するが、この枠（３２
）への外力は、この枠（３２）に延設された支持部材（
６０）を伝わって機械本体コラム（２４）に伝わること
になる。これにより下部アーム（２６）には外力は加わ
らないため、下部アーム（２６）が第１２図のように変
形することはない。従って上部ワイヤガイド手段（１２
）と下部ワイヤガイド手段（１４）の垂直方向の相対位
置ずれは生じず、高い加工精度の加工が可能となる。 ところで、加工が下部アーム（２６）の長手方向に進む
場合には、支持部材（６０）は、ガイド（６２）により
ガイド内部で前記長手方向に摺動し、加工液飛散防止手
段（２８）の枠（３２）と一体となり移動する。 なお、上記各実施例では加工液を噴出供給する場合につ
いて説明したが、加工液を加工槽に貯えて被加工物を加
工液中に浸漬するタイプのものでも同様の効果を奏する
。 また、上記各実施例では下部アーム（２６）の支持は片
方のみの片持ちとしたが、例えば門形構造として下部ア
ーム（２６）を両端にて支持する両持ちの場合でも同様
であることは言うまでもない。 〔発明の効果〕 この発明の第１の発明は以上説明したとおり、下部ワイ
ヤガイド手段を保持する下部アーム外周に、下部アーム
に対して離隔間隙を保ってアームカバーを配設するとい
う構成をとったことから、外力をアームカバーが受ける
こととなり、該外力が下部アームまでは伝達されないた
め、該下部アームの変形が生じることがなく、上部ワイ
ヤガイド手段と下部ワイヤガイド手段の垂直方向の相対
位置ずれが生じず、精度の高いワイヤ放電加工装置が得
られる効果がある。 また、９の発明の第２の発明は、下部アームに固定支持
された第１のアームカバーにより下部アームを間隙を介
して被包し、第２のアームカバーを、第１のアームカバ
ー外周に、下部アーム及び第１のアームカバーに対して
離隔間隙を保って配設！るという構成をとったことから
、外力は第２のアームカバーで遮断され、熱的影響は第
１のアームカバーで遮断されることとなり、外力と、熱
影響が下部アームにまでは伝達されないため、外力によ
る該下部アームの変形が生じることがなく、また上部ア
ームと下部アームとの伸縮距離は同一になって上部、下
部ワイヤガイド手段の垂直方向の相対位置ずれが生じず
、精度の高いワイヤ放電加工装置が得られる効果がある
。 また、この発明の第３の発明は、加工液飛散防止手段の
枠体に後方支持部材を延設し、この支持部材を機械本体
側に摺動可能に案内支持するという構成をとったことか
ら、この枠体にかかる外力を前記支持部材が受けること
となり、該外力が下部アームまでは伝達されないため、
該下部アームの変形が生じることがなく、上部ワイヤガ
イド手段と下部ワイヤガイド手段の垂直方向の相対位置
ずれが生じず、精度の高いワイヤ放電加工装置が得られ
る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の第１実施例によるワイヤ放電加工装
置を示す斜視図、第２図は同じく断面平面図、第３図は
この実施例における外力作用時の状態を示す断面平面図
、第４図はこの発明の第２実施例によるワイヤ放電加工
装置を示す斜視図、第５図は同じく断面平面図、第６図
はこの実施例における外力作用状態を示す断面平面図、
第７図はこの実施例における熱変形状態を示す断面側面
図、第８図はこの発明の第３実施例によるワイヤ放電加
工装置を示す斜視図、第９図は同じく断面平面図、第１
０図は従来のワイヤ放電加工装置を示す斜視図、第１１
図は従来例を示す断面平面図、第１２図は従来例におけ
る外力作用状態を示す断面平面図、第１３図は従来例に
おける熱変形状態を示す断面側面図である。 （ｌＯ）・・・・・・ワイヤ電極 （！２）・・・・・・上部ワイヤガイド手段（１４）・
・・・・・下部ワイヤガイド手段（１６）・・・・・・
被加工物 （２４）・・・・・・機械本体 （２６）・・・・・・下部アーム （２８）・・・・・・加工液飛散防止手段（３０）・・
・・・・遮蔽部材（ジャバラ）（３２）・・・・・・枠
、枠体 （４０）・・・・・・アームカバー （５０）・・・・・・第１のアームカバー（５７）・・
・・・・第２のアームカバー（６０）・・・・・・後方
支持部材 なお、各図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）被加工物とワイヤ電極とを微小間隙を保持させて
   対向させ、その間に放電を発生させて被加工物を加工す
   るワイヤ放電加工装置において、被加工物の上方でワイ
   ヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手段と、
   被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持する下部
   ワイヤガイド手段と、前記下部ワイヤガイド手段を、上
   部ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部アー
   ムと、前記下部アームを摺動自在に挿通させる枠を、伸
   縮自在な遮蔽部材を介して支持した加工液飛散防止手段
   とを備え、前記下部アーム外周に、下部アームに対して
   離隔間隙を保ってアームカバーを配設したことを特徴と
   するワイヤ放電加工装置。
2. （２）被加工物とワイヤ電極とを微小間隙を保持させて
   対向させ、その間に放電を発生させて被加工物を加工す
   るワイヤ放電加工装置において、被加工物の上方でワイ
   ヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手段と、
   被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持する下部
   ワイヤガイド手段と、前記下部ワイヤガイド手段を、上
   部ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部アー
   ムと、前記下部アームを摺動自在に挿通させる枠を、伸
   縮自在な遮蔽部材を介して支持した加工液飛散防止手段
   とを備え、且つ前記下部アームを間隙を介して被包し、
   該下部アームに固定支持された第１のアームカバーと、
   前記第１のアームカバー外周に、下部アーム及び第１の
   アームカバーに対して離隔間隙を保って配設した第２の
   アームカバーとを設けたことを特徴とするワイヤ放電加
   工装置。
3. （３）被加工物とワイヤ電極とを微小間隙を保持させて
   対向させ、その間に放電を発生させて被加工物を加工す
   るワイヤ放電加工装置において、被加工物の上方でワイ
   ヤ電極を摺動自在に支持する上部ワイヤガイド手段と、
   被加工物の下方でワイヤ電極を摺動自在に支持する下部
   ワイヤガイド手段と、前記下部ワイヤガイド手段を、上
   部ワイヤガイド手段に対向した位置に保持する下部アー
   ムと、前記下部アームを摺動自在に挿通させる枠を、伸
   縮自在な遮蔽部材を介して支持した加工液飛散防止手段
   とを備え、前記加工液飛散防止手段の枠体に後方支持部
   材を延設し、この支持部材を機械本体側に摺動可能に案
   内支持させたことを特徴とするワイヤ放電加工装置。