JPH0729232A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH0729232A JPH0729232A JP17455993A JP17455993A JPH0729232A JP H0729232 A JPH0729232 A JP H0729232A JP 17455993 A JP17455993 A JP 17455993A JP 17455993 A JP17455993 A JP 17455993A JP H0729232 A JPH0729232 A JP H0729232A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magneto
- resin layer
- curable resin
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ホコリやゴミが付着し難く、磁気ヘッドと接
触した場合にも損傷を受け難く、記録特性の安定性を大
幅に向上させると共に、記録再生装置側の磁気ヘッドの
損傷を大幅に減少させることが出来、信頼性が長期間に
わたって優れた光磁気記録媒体を提供することを目的と
するものである。 【構成】 記録再生装置の光学ピックアップと相対する
基体の他方の面に、フッ素原子を含有する紫外線硬化樹
脂層を設けてなる光磁気記録媒体。
触した場合にも損傷を受け難く、記録特性の安定性を大
幅に向上させると共に、記録再生装置側の磁気ヘッドの
損傷を大幅に減少させることが出来、信頼性が長期間に
わたって優れた光磁気記録媒体を提供することを目的と
するものである。 【構成】 記録再生装置の光学ピックアップと相対する
基体の他方の面に、フッ素原子を含有する紫外線硬化樹
脂層を設けてなる光磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オーディオ信号やビジ
ュアル信号あるいはコンピュータ情報信号等を記録再生
できる光磁気記録媒体に関するものである。
ュアル信号あるいはコンピュータ情報信号等を記録再生
できる光磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータの外部記憶装置の一つとし
て利用され始めた光磁気記録媒体は、室内や室外で利用
されるオーディオ民生機器用の記録媒体として、又、ビ
ジュアル用の記録媒体として盛んに研究されている。光
磁気記録媒体に情報を記録するには、垂直磁化が可能な
記録層にレーザー等の光を集光させて照射し、記録部位
の温度を記録層の保磁力が消失する温度以上に高めてお
き、そして外部から磁界を印加することにより記録層の
磁化を外部磁化の方向に並べ、これによって記録がなさ
れる。
て利用され始めた光磁気記録媒体は、室内や室外で利用
されるオーディオ民生機器用の記録媒体として、又、ビ
ジュアル用の記録媒体として盛んに研究されている。光
磁気記録媒体に情報を記録するには、垂直磁化が可能な
記録層にレーザー等の光を集光させて照射し、記録部位
の温度を記録層の保磁力が消失する温度以上に高めてお
き、そして外部から磁界を印加することにより記録層の
磁化を外部磁化の方向に並べ、これによって記録がなさ
れる。
【０００３】外部からの磁化の印加には磁気ヘッドを用
いるが、良好な記録を実現する為には磁気ヘッドと記録
層との距離を一定に保つ必要がある。と言うのは、磁気
ヘッドと記録層との距離が変動すると、印加される磁化
の大きさが変動することになり、変動があると本来一定
でなければならない記録層の磁化状態が不揃いになり、
再生時の信号対雑音強度比（Ｃ／Ｎ＝Carrier to Noise
Ratio）が低下してしまうからである。
いるが、良好な記録を実現する為には磁気ヘッドと記録
層との距離を一定に保つ必要がある。と言うのは、磁気
ヘッドと記録層との距離が変動すると、印加される磁化
の大きさが変動することになり、変動があると本来一定
でなければならない記録層の磁化状態が不揃いになり、
再生時の信号対雑音強度比（Ｃ／Ｎ＝Carrier to Noise
Ratio）が低下してしまうからである。
【０００４】又、迅速な磁気ヘッドの移動、及び高速で
磁化方向のスイッチングを達成する為には、小型で軽量
な磁気ヘッドを用いなければならない。この結果、磁気
ヘッドから発せられる磁力は微弱なものとなる。従っ
て、微弱な外部印加磁化でも記録が充分に行われるよう
に、磁気ヘッドと光磁気記録媒体との距離を〜２００μ
ｍ程度の僅かな一定の距離に保つ必要がある。
磁化方向のスイッチングを達成する為には、小型で軽量
な磁気ヘッドを用いなければならない。この結果、磁気
ヘッドから発せられる磁力は微弱なものとなる。従っ
て、微弱な外部印加磁化でも記録が充分に行われるよう
に、磁気ヘッドと光磁気記録媒体との距離を〜２００μ
ｍ程度の僅かな一定の距離に保つ必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光磁気記録
媒体の基体は光学的な透明性に優れるポリカーボネート
等の合成高分子材料の成形品が一般的であり、成形時の
歪や、基体成形後に記録層などを設けることから起きる
応力が作用する結果、基体には反りが発生し易い。
媒体の基体は光学的な透明性に優れるポリカーボネート
等の合成高分子材料の成形品が一般的であり、成形時の
歪や、基体成形後に記録層などを設けることから起きる
応力が作用する結果、基体には反りが発生し易い。
【０００６】この光磁気記録媒体の基体の反りは、記録
再生装置内で光磁気記録媒体が回転する時に面振れを引
き起こし、磁気ヘッドと光磁気記録媒体との距離を変動
させるばかりではなく、最悪の場合には両者が接触し、
共に損傷を受けることがある。又、磁気ヘッドと光磁気
記録媒体との間にホコリやゴミが付着した場合にも、光
磁気記録媒体の基体に反りが生じたときと同様の影響を
受けることになる。
再生装置内で光磁気記録媒体が回転する時に面振れを引
き起こし、磁気ヘッドと光磁気記録媒体との距離を変動
させるばかりではなく、最悪の場合には両者が接触し、
共に損傷を受けることがある。又、磁気ヘッドと光磁気
記録媒体との間にホコリやゴミが付着した場合にも、光
磁気記録媒体の基体に反りが生じたときと同様の影響を
受けることになる。
【０００７】従って、本発明は、ホコリやゴミが付着し
難く、磁気ヘッドと接触した場合にも損傷を受け難く、
記録特性の安定性を大幅に向上させると共に、記録再生
装置側の磁気ヘッドの損傷を大幅に減少させることが出
来、信頼性が長期間にわたって優れた光磁気記録媒体を
提供することを目的とするものである。
難く、磁気ヘッドと接触した場合にも損傷を受け難く、
記録特性の安定性を大幅に向上させると共に、記録再生
装置側の磁気ヘッドの損傷を大幅に減少させることが出
来、信頼性が長期間にわたって優れた光磁気記録媒体を
提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、記
録再生装置の光学ピックアップと相対する基体の他方の
面に、フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層を設けた
ことを特徴とする光磁気記録媒体によって達成される。
尚、本発明におけるフッ素原子を含有する紫外線硬化樹
脂層は、例えば紫外線硬化樹脂層中にフッ素原子を含有
する物質が分散構成されたもの、あるいはフッ素原子を
有し、かつ、重合性の基を有するモノマーの重合により
構成されたもの、又はフッ素原子を有し、かつ、重合性
の基を有するモノマーと、ビニル基、アクリロイル基、
及びメタクリロイル基の群の中から選ばれる官能基を一
つあるいは二つ以上もつモノマーとを用いて構成された
ものを挙げることが出来る。
録再生装置の光学ピックアップと相対する基体の他方の
面に、フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層を設けた
ことを特徴とする光磁気記録媒体によって達成される。
尚、本発明におけるフッ素原子を含有する紫外線硬化樹
脂層は、例えば紫外線硬化樹脂層中にフッ素原子を含有
する物質が分散構成されたもの、あるいはフッ素原子を
有し、かつ、重合性の基を有するモノマーの重合により
構成されたもの、又はフッ素原子を有し、かつ、重合性
の基を有するモノマーと、ビニル基、アクリロイル基、
及びメタクリロイル基の群の中から選ばれる官能基を一
つあるいは二つ以上もつモノマーとを用いて構成された
ものを挙げることが出来る。
【０００９】そして、フッ素原子を含有する紫外線硬化
樹脂層におけるフッ素原子の割合は０．００１〜５重量
％であるものが好ましく、又、フッ素原子を含有する紫
外線硬化樹脂層の厚さが１〜３０μｍであることが好ま
しい。そして、上記のように構成させてなる光磁気記録
媒体は、記録再生装置の光学ピックアップと相対する基
体の他方の面にフッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
が設けられていることによって、ホコリやゴミが付着し
難く、磁気ヘッドと接触した場合に損傷を受け難く、記
録特性の安定性が大幅に向上し、又、記録再生装置側の
磁気ヘッドの損傷も大幅に減少し、長期間にわたって信
頼性が高いと言った特長が奏される。
樹脂層におけるフッ素原子の割合は０．００１〜５重量
％であるものが好ましく、又、フッ素原子を含有する紫
外線硬化樹脂層の厚さが１〜３０μｍであることが好ま
しい。そして、上記のように構成させてなる光磁気記録
媒体は、記録再生装置の光学ピックアップと相対する基
体の他方の面にフッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
が設けられていることによって、ホコリやゴミが付着し
難く、磁気ヘッドと接触した場合に損傷を受け難く、記
録特性の安定性が大幅に向上し、又、記録再生装置側の
磁気ヘッドの損傷も大幅に減少し、長期間にわたって信
頼性が高いと言った特長が奏される。
【００１０】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明になる光磁気記録媒体は、図１に示す如くの構成を
有している。すなわち、記録再生レーザ光に対して透明
な基体１、誘電体層２、記録層３、誘電体層４、反射層
５、及びフッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層６が順
次積層された構成を有している。
発明になる光磁気記録媒体は、図１に示す如くの構成を
有している。すなわち、記録再生レーザ光に対して透明
な基体１、誘電体層２、記録層３、誘電体層４、反射層
５、及びフッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層６が順
次積層された構成を有している。
【００１１】基体１の構成材料としては、例えばポリカ
ーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリ
オレフィン樹脂などが挙げられる。誘電体層２，４の構
成材料としては、例えば窒化シリコンや窒化アルミニウ
ム等が挙げられる。記録層３の構成材料としては、例え
ばＴｂＦｅＣｏあるいはＴｂＦｅＣｏＣｒ等が挙げられ
る。
ーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリ
オレフィン樹脂などが挙げられる。誘電体層２，４の構
成材料としては、例えば窒化シリコンや窒化アルミニウ
ム等が挙げられる。記録層３の構成材料としては、例え
ばＴｂＦｅＣｏあるいはＴｂＦｅＣｏＣｒ等が挙げられ
る。
【００１２】反射層５の構成材料としては、例えばアル
ミニウム等が挙げられる。記録再生装置の光学ピックア
ップと相対する基体１の他方の面に設けられるフッ素原
子を含有する紫外線硬化樹脂層６は、テフロン等のパー
フロロエチレン樹脂の微小塊状物（粉末）をバインダ材
料である紫外線硬化型の樹脂を含有する塗料中に均一に
分散させ、これを反射層５面上に塗布・硬化することに
よって構成することが出来る。
ミニウム等が挙げられる。記録再生装置の光学ピックア
ップと相対する基体１の他方の面に設けられるフッ素原
子を含有する紫外線硬化樹脂層６は、テフロン等のパー
フロロエチレン樹脂の微小塊状物（粉末）をバインダ材
料である紫外線硬化型の樹脂を含有する塗料中に均一に
分散させ、これを反射層５面上に塗布・硬化することに
よって構成することが出来る。
【００１３】あるいは、フッ素原子を有し、かつ、重合
性の基を有するモノマー、例えば光重合可能なパーフロ
ロアルキルアクリレートやパーフロロアルキルメタクリ
レート等を用いて構成することが出来る。又、フッ素原
子を有し、かつ、重合性の基を有するモノマー、例えば
光重合可能なパーフロロアルキルアクリレートやパーフ
ロロアルキルメタクリレート等と、ビニル基、アクリロ
イル基、及びメタクリロイル基の群の中から選ばれる官
能基を一つ及び／又は二つ、及び／又は三つ以上もつモ
ノマーとを用いて構成することも出来る。
性の基を有するモノマー、例えば光重合可能なパーフロ
ロアルキルアクリレートやパーフロロアルキルメタクリ
レート等を用いて構成することが出来る。又、フッ素原
子を有し、かつ、重合性の基を有するモノマー、例えば
光重合可能なパーフロロアルキルアクリレートやパーフ
ロロアルキルメタクリレート等と、ビニル基、アクリロ
イル基、及びメタクリロイル基の群の中から選ばれる官
能基を一つ及び／又は二つ、及び／又は三つ以上もつモ
ノマーとを用いて構成することも出来る。
【００１４】パーフロロアルキルアクリレートやパーフ
ロロアルキルメタクリレートの一例としては、２，２，
２−トリフロロエチル（メタ）アクリレート、２，２，
３，３−テトラフロロプロピル（メタ）アクリレート、
１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフロロペンチル（メタ）アク
リレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフロロ
デシル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４
−ヘキサフロロブチル（メタ）アクリレート、β−（パ
ーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−
（Ｎ−エチルパーフロロオクタスルホアミド）エチル
（メタ）アクリレート、２−（Ｎ−エチルパーフロロオ
クタスルホアミド）エチル（メタ）アクリレート等を挙
げることができる。
ロロアルキルメタクリレートの一例としては、２，２，
２−トリフロロエチル（メタ）アクリレート、２，２，
３，３−テトラフロロプロピル（メタ）アクリレート、
１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフロロペンチル（メタ）アク
リレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフロロ
デシル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４
−ヘキサフロロブチル（メタ）アクリレート、β−（パ
ーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−
（Ｎ−エチルパーフロロオクタスルホアミド）エチル
（メタ）アクリレート、２−（Ｎ−エチルパーフロロオ
クタスルホアミド）エチル（メタ）アクリレート等を挙
げることができる。
【００１５】ビニル基、アクリロイル基、及びメタクリ
ロイル基の群の中から選ばれる官能基を一つ持つ単官能
化合物（モノマー）としては、例えばＮ−ビニル−２−
ピロリドン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレ
ート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、モルホリン（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリ
レート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチルアクリレート等が挙げられる。２官能化合物と
しては、例えばエチレンオキサイド変性ビスフェノール
Ａジアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノ
ールＦジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート等が挙げられる。３官能以上の多官能化合物
としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリ
レート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレー
ト、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられ
る。又、２官能以上の化合物として、多価アルコール、
多価イソシアネート、及び水酸基含有（メタ）アクリレ
ートから合成されるウレタン（メタ）アクリレート等も
用いられる。重合性単量体としては、これらの化合物を
二種以上用いても良いものである。尚、フッ素原子を含
有する紫外線硬化樹脂層中における３官能以上の多官能
化合物は１０〜７０重量％、望ましくは１０〜４０重量
％の範囲に設定することが、硬化塗膜の耐擦傷性や耐摩
耗性、及び塗布作業性の点から好ましい。又、単官能化
合物や２官能化合物の含有量は９０重量％以下、望まし
くは４０〜８０重量％になるように調整することが、耐
擦傷性や耐摩耗性の点から好ましい。特に、３官能以上
の多官能化合物を１０〜３５重量％、２官能化合物を３
０〜７０重量％、単官能化合物を１０〜４０重量％の割
合とすることが好ましい。
ロイル基の群の中から選ばれる官能基を一つ持つ単官能
化合物（モノマー）としては、例えばＮ−ビニル−２−
ピロリドン、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレ
ート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、モルホリン（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリ
レート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジ
シクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチルアクリレート等が挙げられる。２官能化合物と
しては、例えばエチレンオキサイド変性ビスフェノール
Ａジアクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノ
ールＦジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート等が挙げられる。３官能以上の多官能化合物
としては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリ
レート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレー
ト、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられ
る。又、２官能以上の化合物として、多価アルコール、
多価イソシアネート、及び水酸基含有（メタ）アクリレ
ートから合成されるウレタン（メタ）アクリレート等も
用いられる。重合性単量体としては、これらの化合物を
二種以上用いても良いものである。尚、フッ素原子を含
有する紫外線硬化樹脂層中における３官能以上の多官能
化合物は１０〜７０重量％、望ましくは１０〜４０重量
％の範囲に設定することが、硬化塗膜の耐擦傷性や耐摩
耗性、及び塗布作業性の点から好ましい。又、単官能化
合物や２官能化合物の含有量は９０重量％以下、望まし
くは４０〜８０重量％になるように調整することが、耐
擦傷性や耐摩耗性の点から好ましい。特に、３官能以上
の多官能化合物を１０〜３５重量％、２官能化合物を３
０〜７０重量％、単官能化合物を１０〜４０重量％の割
合とすることが好ましい。
【００１６】そして、上記のような配合割合の組成物
を、例えばベンゼン、トルエン、イソプロピルアルコー
ル、イソブチルアルコール、メチルエチルケトン、エチ
ルセロソルブ等の非重合性の溶剤に溶かし、これを塗布
し、紫外線照射することによりフッ素原子を含有する紫
外線硬化樹脂層を構成することが出来る。上記のような
組成の塗料を光学ピックアップと相対する基体の他方の
面に塗布する方法としては、回転塗布法、刷毛塗り法、
浸漬塗布法、スプレー塗布法、流し塗り法、バーコート
法などの適宜な方法を採用することが出来る。中でも、
塗布作業性、均一な厚さを有し、かつ、平滑な膜が得ら
れる点などから回転塗布法、浸漬塗布法あるいはバーコ
ート法を採用することが好ましい。尚、塗料は、その粘
度が５〜１０００ｃｐのものに調整しておくことが好ま
しい。
を、例えばベンゼン、トルエン、イソプロピルアルコー
ル、イソブチルアルコール、メチルエチルケトン、エチ
ルセロソルブ等の非重合性の溶剤に溶かし、これを塗布
し、紫外線照射することによりフッ素原子を含有する紫
外線硬化樹脂層を構成することが出来る。上記のような
組成の塗料を光学ピックアップと相対する基体の他方の
面に塗布する方法としては、回転塗布法、刷毛塗り法、
浸漬塗布法、スプレー塗布法、流し塗り法、バーコート
法などの適宜な方法を採用することが出来る。中でも、
塗布作業性、均一な厚さを有し、かつ、平滑な膜が得ら
れる点などから回転塗布法、浸漬塗布法あるいはバーコ
ート法を採用することが好ましい。尚、塗料は、その粘
度が５〜１０００ｃｐのものに調整しておくことが好ま
しい。
【００１７】又、組成物を硬化させる前に室温乾燥、温
風乾燥または赤外線照射などの処理を行い、非重合性の
溶剤を除去しておくことが、硬化塗膜の耐擦傷性および
耐摩耗性を低下させることがないので好ましい。フッ素
原子を含有する紫外線硬化樹脂層の硬化方法としては、
高い生産性が得られる点から、紫外線を照射する方法が
採用される。紫外線の波長は１００〜５００ｎｍの範囲
にあるものを採用することが好適である。高圧水銀ラン
プ又はメタルハライドランプから照射される紫外線を硬
化に用いることが、窒素ガスあるいはアルゴンガス等の
不活性ガス中、又は大気中において、上記の組成物を効
率よく硬化させることが出来ることから好ましい。
風乾燥または赤外線照射などの処理を行い、非重合性の
溶剤を除去しておくことが、硬化塗膜の耐擦傷性および
耐摩耗性を低下させることがないので好ましい。フッ素
原子を含有する紫外線硬化樹脂層の硬化方法としては、
高い生産性が得られる点から、紫外線を照射する方法が
採用される。紫外線の波長は１００〜５００ｎｍの範囲
にあるものを採用することが好適である。高圧水銀ラン
プ又はメタルハライドランプから照射される紫外線を硬
化に用いることが、窒素ガスあるいはアルゴンガス等の
不活性ガス中、又は大気中において、上記の組成物を効
率よく硬化させることが出来ることから好ましい。
【００１８】尚、フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂
層を紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開
始剤を混合させておくことが好ましい。好適な光重合開
始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−
ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセ
トフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチ
ルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１など
のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジ
メチルケタールなどのベンゾイン系光重合開始剤、ベン
ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、４−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル
−４’−メチルジフェニルサルファイドなどのベンゾフ
ェノン系光重合開始剤、チオキサンソン、２−クロルチ
オキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、イソ
プロピルチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサン
ソンなどのチオキサンソン系光重合開始剤などが使用さ
れる。光重合開始剤の含有量としては、１０重量％以下
であることが好ましい。
層を紫外線照射によって硬化させる場合には、光重合開
始剤を混合させておくことが好ましい。好適な光重合開
始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−
ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセ
トフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニ
ルプロパン−１−オン、２−メチル−１−〔４−（メチ
ルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１など
のアセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジ
メチルケタールなどのベンゾイン系光重合開始剤、ベン
ゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、４−フェニルベンゾ
フェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンゾイル
−４’−メチルジフェニルサルファイドなどのベンゾフ
ェノン系光重合開始剤、チオキサンソン、２−クロルチ
オキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン、イソ
プロピルチオキサンソン、２，４−ジエチルチオキサン
ソンなどのチオキサンソン系光重合開始剤などが使用さ
れる。光重合開始剤の含有量としては、１０重量％以下
であることが好ましい。
【００１９】フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層の
厚さは１〜３０μｍのものであることが、耐擦傷性や耐
摩耗性に優れ、そして内部に亀裂が発生することが少な
い硬化塗膜が得られる点で好ましい。以下、具体的な実
施例を挙げて説明する。
厚さは１〜３０μｍのものであることが、耐擦傷性や耐
摩耗性に優れ、そして内部に亀裂が発生することが少な
い硬化塗膜が得られる点で好ましい。以下、具体的な実
施例を挙げて説明する。
【００２０】
〔実施例１〕図１に示す如くの光磁気記録媒体を構成し
た。基体１として、記録再生レーザ光に対して透明なポ
リカーボネート樹脂を、誘電体層２，４として窒化シリ
コン膜を、記録層としてＴｂＦｅＣｏＣｒ膜を、反射層
としてアルミニウム膜を採用し、そしてこのアルミニウ
ム膜の上にフッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層６を
設けた。
た。基体１として、記録再生レーザ光に対して透明なポ
リカーボネート樹脂を、誘電体層２，４として窒化シリ
コン膜を、記録層としてＴｂＦｅＣｏＣｒ膜を、反射層
としてアルミニウム膜を採用し、そしてこのアルミニウ
ム膜の上にフッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層６を
設けた。
【００２１】この紫外線硬化樹脂層６は、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート１０重量部、ペンタエリス
リトールトリアクリレート２０重量部、エチレンオキサ
イド変性ビスフェノールＡジアクリレート４０重量部、
テトラヒドロフルフリルアクリレート２０重量部、１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５重量部、
２，２，３，３−テトラフロロプロピルアクリレート１
０重量部を用いて構成したものである。
リトールテトラアクリレート１０重量部、ペンタエリス
リトールトリアクリレート２０重量部、エチレンオキサ
イド変性ビスフェノールＡジアクリレート４０重量部、
テトラヒドロフルフリルアクリレート２０重量部、１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン５重量部、
２，２，３，３−テトラフロロプロピルアクリレート１
０重量部を用いて構成したものである。
【００２２】尚、紫外線硬化樹脂層６の厚さは５μｍで
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
３．９重量％である。 〔実施例２〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
ペンタエリスリトールテトラアクリレート１５重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート２０重量部、エ
チレンオキサイド変性ビスフェノールＦジアクリレート
３５重量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン２５重量部、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン５重量部、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート５重量部を用いて構成した
外は同様に行った。
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
３．９重量％である。 〔実施例２〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
ペンタエリスリトールテトラアクリレート１５重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート２０重量部、エ
チレンオキサイド変性ビスフェノールＦジアクリレート
３５重量部、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン２５重量部、
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−
１−オン５重量部、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデ
カフロロデシルアクリレート５重量部を用いて構成した
外は同様に行った。
【００２３】尚、紫外線硬化樹脂層６の厚さは５μｍで
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
３．０重量％である。 〔実施例３〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
アロニックスＭ８０６０（東亜合成化学工業（株）製の
３官能以上のアクリレート）１５重量部、アロニックス
Ｍ１１００（東亜合成化学工業（株）製の２官能のアク
リレート）６０重量部、シクロヘキシルアクリレート２
０重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン５重量部、β−（パーフロロオクチル）エチルアクリ
レート５重量部を用いて構成した外は同様に行った。
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
３．０重量％である。 〔実施例３〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
アロニックスＭ８０６０（東亜合成化学工業（株）製の
３官能以上のアクリレート）１５重量部、アロニックス
Ｍ１１００（東亜合成化学工業（株）製の２官能のアク
リレート）６０重量部、シクロヘキシルアクリレート２
０重量部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン５重量部、β−（パーフロロオクチル）エチルアクリ
レート５重量部を用いて構成した外は同様に行った。
【００２４】尚、紫外線硬化樹脂層６の厚さは５μｍで
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
３．０重量％である。 〔実施例４〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート１５重量部、
１，６−ヘキサンジアクリレート３０重量部、ジシクロ
ペンタニルアクリレート４０重量部、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン５重量
部、平均粒径０．２μｍのテフロン粉末２重量部を用い
て構成した外は同様に行った。
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
３．０重量％である。 〔実施例４〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５重量部、
ペンタエリスリトールトリアクリレート１５重量部、
１，６−ヘキサンジアクリレート３０重量部、ジシクロ
ペンタニルアクリレート４０重量部、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン５重量
部、平均粒径０．２μｍのテフロン粉末２重量部を用い
て構成した外は同様に行った。
【００２５】尚、紫外線硬化樹脂層６の厚さは５μｍで
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
１．５重量％である。 〔比較例１〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
設けなかった外は同様に行った。 〔比較例２〕実施例１において、２，２，３，３−テト
ラフロロプロピルアクリレートを添加しないで紫外線硬
化樹脂層６を構成した外は同様に行った。
あり、紫外線硬化樹脂層におけるフッ素原子の割合は
１．５重量％である。 〔比較例１〕実施例１において、紫外線硬化樹脂層６を
設けなかった外は同様に行った。 〔比較例２〕実施例１において、２，２，３，３−テト
ラフロロプロピルアクリレートを添加しないで紫外線硬
化樹脂層６を構成した外は同様に行った。
【００２６】〔特性〕上記各例で得られた光磁気記録媒
体を振幅５ｍｍ、周波数５ＭＨｚの外部縦振動を与えた
記録再生装置に搭載した場合の耐久性について調べたの
で、その結果を下記の表−１に示す。尚、耐久性は、同
一トラック上で消去／記録／再生のサイクルを連続して
繰り返し、記録信号の再生誤率が初回サイクルの１０倍
に達する時の回数で表した。
体を振幅５ｍｍ、周波数５ＭＨｚの外部縦振動を与えた
記録再生装置に搭載した場合の耐久性について調べたの
で、その結果を下記の表−１に示す。尚、耐久性は、同
一トラック上で消去／記録／再生のサイクルを連続して
繰り返し、記録信号の再生誤率が初回サイクルの１０倍
に達する時の回数で表した。
【００２７】
【００２８】
【効果】記録再生装置内で回転するときに面振れを生じ
て磁気ヘッドと光磁気記録媒体の両者が接触しても損傷
を受けることがなく、又、ホコリやゴミが付着し難いの
で、記録特性の安定性を大幅に向上させることが出来、
そして長期信頼性に優れたものである。
て磁気ヘッドと光磁気記録媒体の両者が接触しても損傷
を受けることがなく、又、ホコリやゴミが付着し難いの
で、記録特性の安定性を大幅に向上させることが出来、
そして長期信頼性に優れたものである。
【図１】光磁気記録媒体の断面図である。
１ 透明な基体 ２，４ 誘電体層 ３ 記録層 ５ 反射層 ６ フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
Claims (6)
- 【請求項１】 記録再生装置の光学ピックアップと相対
する基体の他方の面に、フッ素原子を含有する紫外線硬
化樹脂層を設けたことを特徴とする光磁気記録媒体。 - 【請求項２】 紫外線硬化樹脂層中にフッ素原子を含有
する物質が分散構成されたものであることを特徴とする
請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項３】 フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
が、フッ素原子を有し、かつ、重合性の基を有するモノ
マーの重合により構成されたものであることを特徴とす
る請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項４】 フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
が、フッ素原子を有し、かつ、重合性の基を有するモノ
マーと、ビニル基、アクリロイル基、及びメタクリロイ
ル基の群の中から選ばれる官能基を一つあるいは二つ以
上もつモノマーとを用いて構成されたものであることを
特徴とする請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項５】 フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
におけるフッ素原子の割合が０．００１〜５重量％であ
ることを特徴とする請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項６】 フッ素原子を含有する紫外線硬化樹脂層
の厚さが１〜３０μｍであることを特徴とする請求項１
の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17455993A JPH0729232A (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17455993A JPH0729232A (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0729232A true JPH0729232A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=15980679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17455993A Pending JPH0729232A (ja) | 1993-07-14 | 1993-07-14 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0729232A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007254706A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-10-04 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
-
1993
- 1993-07-14 JP JP17455993A patent/JPH0729232A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007254706A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-10-04 | Jsr Corp | 硬化性樹脂組成物及び反射防止膜 |
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