JPH07283015A - 希土類磁石およびその製造方法 - Google Patents
希土類磁石およびその製造方法Info
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- JPH07283015A JPH07283015A JP6090481A JP9048194A JPH07283015A JP H07283015 A JPH07283015 A JP H07283015A JP 6090481 A JP6090481 A JP 6090481A JP 9048194 A JP9048194 A JP 9048194A JP H07283015 A JPH07283015 A JP H07283015A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石（Ｒは希土類元素、Ｔ
は、Ｆｅ、またはＦｅおよびＣｏ）の素体に耐食性付与
のための保護層を形成する際に、保護層形成時間を著し
く短くし、かつ、保護層形成による寸法変化を実質的に
生じさせないようにする。また、保護層形成工程と磁気
特性向上のための時効処理工程とを共通化することによ
って製造工程を短縮し、これにより、耐食性が良好でし
かも磁気特性の良好なＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石を安価に提
供する。 【構成】 Ｒ、ＴおよびＢを含有し、実質的に正方晶系
の主相を有する磁石素体を、Ｍ（Ｍは、第IVａ族元素、
第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から選択される少なく
とも１種の元素）を含む金属および／または化合物と溶
融塩とを含む処理液に浸漬する溶融塩処理工程により、
磁石素体表面に、ＴおよびＭを主成分とするか、Ｒ、Ｔ
およびＭを主成分とする耐食相を含む保護層を形成す
る。
は、Ｆｅ、またはＦｅおよびＣｏ）の素体に耐食性付与
のための保護層を形成する際に、保護層形成時間を著し
く短くし、かつ、保護層形成による寸法変化を実質的に
生じさせないようにする。また、保護層形成工程と磁気
特性向上のための時効処理工程とを共通化することによ
って製造工程を短縮し、これにより、耐食性が良好でし
かも磁気特性の良好なＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石を安価に提
供する。 【構成】 Ｒ、ＴおよびＢを含有し、実質的に正方晶系
の主相を有する磁石素体を、Ｍ（Ｍは、第IVａ族元素、
第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から選択される少なく
とも１種の元素）を含む金属および／または化合物と溶
融塩とを含む処理液に浸漬する溶融塩処理工程により、
磁石素体表面に、ＴおよびＭを主成分とするか、Ｒ、Ｔ
およびＭを主成分とする耐食相を含む保護層を形成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、希土類磁石およびその
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高性能を有する希土類磁石としては、近
年Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ系磁石等のＲ−Ｔ−Ｂ系磁石（ＴはＦ
ｅ、またはＦｅおよびＣｏ）が開発され、特開昭５９−
４６００８号公報には焼結磁石が開示されている。Ｒ−
Ｔ−Ｂ系磁石は、Ｓｍ−Ｃｏ系磁石に比べ原料が安価で
ある。
年Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ系磁石等のＲ−Ｔ−Ｂ系磁石（ＴはＦ
ｅ、またはＦｅおよびＣｏ）が開発され、特開昭５９−
４６００８号公報には焼結磁石が開示されている。Ｒ−
Ｔ−Ｂ系磁石は、Ｓｍ−Ｃｏ系磁石に比べ原料が安価で
ある。
【０００３】しかし、Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石は耐食性が
低く、このため、磁石素体の表面に耐食性付与のための
保護層を設ける各種提案がなされている。保護層の形成
方法としては、例えば、アルミイオンプレーティング、
めっき、樹脂塗装などが主なものである。
低く、このため、磁石素体の表面に耐食性付与のための
保護層を設ける各種提案がなされている。保護層の形成
方法としては、例えば、アルミイオンプレーティング、
めっき、樹脂塗装などが主なものである。
【０００４】しかし、これらの方法による保護層形成に
は、以下に挙げるような問題がある。
は、以下に挙げるような問題がある。
【０００５】アルミイオンプレーティングは、真空系で
行なう必要があるため設備が高価となり、また、前処理
が複雑なので処理時間が長くなってしまう。
行なう必要があるため設備が高価となり、また、前処理
が複雑なので処理時間が長くなってしまう。
【０００６】電気めっきでは、厚さの均一性に優れた保
護層を形成することが難しいため、寸法精度の良好な磁
石が得られにくい。また、保護層形成速度が遅く、湿式
処理であるため、処理中に磁石素体の腐食が生じるおそ
れがある。
護層を形成することが難しいため、寸法精度の良好な磁
石が得られにくい。また、保護層形成速度が遅く、湿式
処理であるため、処理中に磁石素体の腐食が生じるおそ
れがある。
【０００７】樹脂塗装により形成された保護層は、強
度、硬度、耐熱性などに問題がある。また、樹脂塗装工
程では有機溶剤を使用するため、作業環境が悪い。
度、硬度、耐熱性などに問題がある。また、樹脂塗装工
程では有機溶剤を使用するため、作業環境が悪い。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、Ｒ−
Ｔ−Ｂ系焼結磁石の素体に耐食性付与のための保護層を
形成する際に、保護層形成時間を著しく短くし、かつ、
保護層形成による寸法変化を実質的に生じさせないこと
である。本発明の他の目的は、保護層形成工程と磁気特
性向上のための時効処理工程とを共通化することによっ
て製造工程を短縮し、これにより、耐食性が良好でしか
も磁気特性の良好なＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石を安価に提供
することである。
Ｔ−Ｂ系焼結磁石の素体に耐食性付与のための保護層を
形成する際に、保護層形成時間を著しく短くし、かつ、
保護層形成による寸法変化を実質的に生じさせないこと
である。本発明の他の目的は、保護層形成工程と磁気特
性向上のための時効処理工程とを共通化することによっ
て製造工程を短縮し、これにより、耐食性が良好でしか
も磁気特性の良好なＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石を安価に提供
することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１３）の本発明により達成される。 （１）Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なくとも１種
である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよびＣｏであ
る）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の主相を有す
る磁石素体の表面に、ＴおよびＭ（Ｍは、第IVａ族元
素、第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から選択される少
なくとも１種の元素である）を主成分とするか、Ｒ、Ｔ
およびＭを主成分とする耐食相を含む保護層を有するこ
とを特徴とする希土類磁石。 （２）Ｍが、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、ＭｏおよびＷから選択される少なくとも１種である
上記（１）の希土類磁石。 （３）耐食相中において、Ｍ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）が０．１
〜１０重量％である上記（１）または（２）の希土類磁
石。 （４）耐食相中において、Ｒ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）が１０重
量％以下である上記（１）〜（３）のいずれかの希土類
磁石。 （５）保護層の平均厚さが２〜３０μm である上記
（１）〜（４）のいずれかの希土類磁石。 （６）磁石素体と保護層との間に、Ｒ、Ｔ、ＢおよびＯ
を主成分とする境界層を有する上記（１）〜（５）のい
ずれかの希土類磁石。 （７）境界層の平均厚さが２〜２０μm である上記
（６）の希土類磁石。 （８）Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なくとも１種
である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよびＣｏであ
る）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の主相を有す
る磁石素体を、Ｍ（Ｍは、第IVａ族元素、第Ｖａ族元素
および第VIａ族元素から選択される少なくとも１種の元
素である）を含む金属および／または化合物と溶融塩と
を含む処理液に浸漬する溶融塩処理工程を有することを
特徴とする希土類磁石の製造方法。 （９）Ｍを含む金属がＦｅとＭとの合金である上記
（８）の希土類磁石の製造方法。 （１０）Ｍを含む化合物が酸化物であり、この酸化物を
還元するための還元剤を処理液が含む上記（８）または
（９）の希土類磁石の製造方法。 （１１）溶融塩として、硼酸塩を含む無機塩の加熱溶融
物を用いる上記（８）〜（10）のいずれかの希土類磁石
の製造方法。 （１２）処理液の温度が７００〜１０００℃であり、処
理時間が３〜６０分間である上記（８）〜（11）のいず
れかの希土類磁石の製造方法。 （１３）上記（１）〜（７）のいずれかの希土類磁石を
製造する上記（８）〜（12）のいずれかの希土類磁石の
製造方法。
（１）〜（１３）の本発明により達成される。 （１）Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なくとも１種
である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよびＣｏであ
る）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の主相を有す
る磁石素体の表面に、ＴおよびＭ（Ｍは、第IVａ族元
素、第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から選択される少
なくとも１種の元素である）を主成分とするか、Ｒ、Ｔ
およびＭを主成分とする耐食相を含む保護層を有するこ
とを特徴とする希土類磁石。 （２）Ｍが、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、ＭｏおよびＷから選択される少なくとも１種である
上記（１）の希土類磁石。 （３）耐食相中において、Ｍ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）が０．１
〜１０重量％である上記（１）または（２）の希土類磁
石。 （４）耐食相中において、Ｒ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）が１０重
量％以下である上記（１）〜（３）のいずれかの希土類
磁石。 （５）保護層の平均厚さが２〜３０μm である上記
（１）〜（４）のいずれかの希土類磁石。 （６）磁石素体と保護層との間に、Ｒ、Ｔ、ＢおよびＯ
を主成分とする境界層を有する上記（１）〜（５）のい
ずれかの希土類磁石。 （７）境界層の平均厚さが２〜２０μm である上記
（６）の希土類磁石。 （８）Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なくとも１種
である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよびＣｏであ
る）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の主相を有す
る磁石素体を、Ｍ（Ｍは、第IVａ族元素、第Ｖａ族元素
および第VIａ族元素から選択される少なくとも１種の元
素である）を含む金属および／または化合物と溶融塩と
を含む処理液に浸漬する溶融塩処理工程を有することを
特徴とする希土類磁石の製造方法。 （９）Ｍを含む金属がＦｅとＭとの合金である上記
（８）の希土類磁石の製造方法。 （１０）Ｍを含む化合物が酸化物であり、この酸化物を
還元するための還元剤を処理液が含む上記（８）または
（９）の希土類磁石の製造方法。 （１１）溶融塩として、硼酸塩を含む無機塩の加熱溶融
物を用いる上記（８）〜（10）のいずれかの希土類磁石
の製造方法。 （１２）処理液の温度が７００〜１０００℃であり、処
理時間が３〜６０分間である上記（８）〜（11）のいず
れかの希土類磁石の製造方法。 （１３）上記（１）〜（７）のいずれかの希土類磁石を
製造する上記（８）〜（12）のいずれかの希土類磁石の
製造方法。
【００１０】
【作用および効果】磁石素体の表面に設けられる上記保
護層は、磁石素体の耐食性向上効果が良好である。溶融
塩処理により形成した上記保護層は、磁石素体の一部が
変質したものなので、保護層形成による磁石寸法の変化
は実質的に認められない。このため、寸法精度の良好な
磁石が実現する。溶融塩処理は空気中で行なうことがで
き、しかも短時間で保護層形成が可能であるため、製造
工程の簡易化および短縮に極めて有効であり、このた
め、耐食性が良好で、しかも安価な希土類磁石を提供す
ることができる。
護層は、磁石素体の耐食性向上効果が良好である。溶融
塩処理により形成した上記保護層は、磁石素体の一部が
変質したものなので、保護層形成による磁石寸法の変化
は実質的に認められない。このため、寸法精度の良好な
磁石が実現する。溶融塩処理は空気中で行なうことがで
き、しかも短時間で保護層形成が可能であるため、製造
工程の簡易化および短縮に極めて有効であり、このた
め、耐食性が良好で、しかも安価な希土類磁石を提供す
ることができる。
【００１１】また、溶融塩処理を磁石素体の時効処理と
して利用することもできる。すなわち、磁石素体には、
通常、非酸化性雰囲気中で長時間の時効処理を施す必要
があるが、溶融塩処理では磁石素体の表面酸化の心配が
ないので空気中で行なうことができ、しかも溶融塩は熱
容量が大きいので短時間で時効処理の効果が得られる。
この点からも、著しいコスト低減が実現する。
して利用することもできる。すなわち、磁石素体には、
通常、非酸化性雰囲気中で長時間の時効処理を施す必要
があるが、溶融塩処理では磁石素体の表面酸化の心配が
ないので空気中で行なうことができ、しかも溶融塩は熱
容量が大きいので短時間で時効処理の効果が得られる。
この点からも、著しいコスト低減が実現する。
【００１２】
【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
に説明する。
【００１３】本発明の希土類磁石は、磁石素体と、この
表面に耐食性向上のために設けられた保護層とを有す
る。磁石素体は、Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少な
くとも１種である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよ
びＣｏである）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の
主相を有する。保護層は、ＴおよびＭ（Ｍは、周期律表
の第IVａ族元素、第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から
選択される少なくとも１種の元素である）を主成分とす
るか、Ｒ、ＴおよびＭを主成分とする耐食相を含む。
表面に耐食性向上のために設けられた保護層とを有す
る。磁石素体は、Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少な
くとも１種である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよ
びＣｏである）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の
主相を有する。保護層は、ＴおよびＭ（Ｍは、周期律表
の第IVａ族元素、第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から
選択される少なくとも１種の元素である）を主成分とす
るか、Ｒ、ＴおよびＭを主成分とする耐食相を含む。
【００１４】耐食相中に含まれるＲおよびＴは、磁石素
体に由来するものである。
体に由来するものである。
【００１５】Ｍは、好ましくはＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、ＭｏおよびＷから選択される少なく
とも１種であり、より好ましくはＶ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ
およびＷから選択される少なくとも１種である。
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、ＭｏおよびＷから選択される少なく
とも１種であり、より好ましくはＶ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ
およびＷから選択される少なくとも１種である。
【００１６】耐食相中におけるＭ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）は、
好ましくは０．１〜１０重量％、より好ましくは１〜５
重量％である。Ｍの比率が低すぎると耐食性向上効果が
不十分であり、Ｍの比率が上記範囲を超えて高くなって
も耐食性は顕著には向上せず、しかも、Ｍの比率を高め
るためには、Ｍを含む金属や化合物の処理液中の濃度を
上げなければならないため、処理液の粘性が高くなって
磁石素体の浸漬が難しくなり、また、保護層を均一に形
成することが困難となる。
好ましくは０．１〜１０重量％、より好ましくは１〜５
重量％である。Ｍの比率が低すぎると耐食性向上効果が
不十分であり、Ｍの比率が上記範囲を超えて高くなって
も耐食性は顕著には向上せず、しかも、Ｍの比率を高め
るためには、Ｍを含む金属や化合物の処理液中の濃度を
上げなければならないため、処理液の粘性が高くなって
磁石素体の浸漬が難しくなり、また、保護層を均一に形
成することが困難となる。
【００１７】耐食相中には、Ｒが実質的に含まれていな
くてもよいが、例えばＳＥＭ−ＥＤＸ（走査型電子顕微
鏡−エネルギー分散型Ｘ線分析装置）による測定では、
通常、Ｒが検出される。耐食相中におけるＲ／（Ｒ＋Ｔ
＋Ｍ）は、通常、１０重量％以下である。
くてもよいが、例えばＳＥＭ−ＥＤＸ（走査型電子顕微
鏡−エネルギー分散型Ｘ線分析装置）による測定では、
通常、Ｒが検出される。耐食相中におけるＲ／（Ｒ＋Ｔ
＋Ｍ）は、通常、１０重量％以下である。
【００１８】耐食相中には、Ｒ、ＴおよびＭの他、Ｂ、
Ｏ、Ｃなども、通常、含まれているが、Ｒ、ＴおよびＭ
の合計含有率は、好ましくは９０重量％以上、より好ま
しくは９５重量％以上である。
Ｏ、Ｃなども、通常、含まれているが、Ｒ、ＴおよびＭ
の合計含有率は、好ましくは９０重量％以上、より好ま
しくは９５重量％以上である。
【００１９】耐食性向上のためには、保護層が実質的に
耐食相だけから構成されることが好ましいが、図１に示
されるように、耐食相中に異相が分散した構造であって
もよい。図１は、保護層および磁石素体の断面の走査型
電子顕微鏡写真（組成像）である。図１に示す保護層
は、後述する溶融塩処理により形成したものである。図
１において保護層として表示してある領域では、灰色の
耐食相中に黒色の異相が分散した構造となっている。黒
色の異相中には、主として溶融塩構成成分が含まれてい
ると考えられる。保護層中におけるこのような異相の寸
法および体積比率は、溶融塩処理に用いる処理液の組成
や処理条件などによって異なるが、所望の耐食性が確保
できるのであれば、異相の寸法や体積比率に特に制限は
ない。
耐食相だけから構成されることが好ましいが、図１に示
されるように、耐食相中に異相が分散した構造であって
もよい。図１は、保護層および磁石素体の断面の走査型
電子顕微鏡写真（組成像）である。図１に示す保護層
は、後述する溶融塩処理により形成したものである。図
１において保護層として表示してある領域では、灰色の
耐食相中に黒色の異相が分散した構造となっている。黒
色の異相中には、主として溶融塩構成成分が含まれてい
ると考えられる。保護層中におけるこのような異相の寸
法および体積比率は、溶融塩処理に用いる処理液の組成
や処理条件などによって異なるが、所望の耐食性が確保
できるのであれば、異相の寸法や体積比率に特に制限は
ない。
【００２０】保護層の平均厚さは、好ましくは２〜３０
μm 、より好ましくは５〜２０μmである。保護層が薄
すぎると、層の連続性が不十分となりやすいため耐食性
が不十分となり、厚すぎると保護層にクラックが生じた
り、保護層が剥離したりしやすくなる。
μm 、より好ましくは５〜２０μmである。保護層が薄
すぎると、層の連続性が不十分となりやすいため耐食性
が不十分となり、厚すぎると保護層にクラックが生じた
り、保護層が剥離したりしやすくなる。
【００２１】後述する溶融塩処理により保護層を形成し
た場合、磁石素体と保護層との間には、通常、Ｒ、Ｔ、
ＢおよびＯを主成分とする境界層が存在する。境界層中
のＯ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｂ＋Ｏ）は、通常、０．１〜１０重量
％である。
た場合、磁石素体と保護層との間には、通常、Ｒ、Ｔ、
ＢおよびＯを主成分とする境界層が存在する。境界層中
のＯ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｂ＋Ｏ）は、通常、０．１〜１０重量
％である。
【００２２】境界層では、（Ｒ＋Ｔ＋Ｂ）に対するＲ、
ＴおよびＢそれぞれの比率が、磁石素体中におけるＲ、
ＴおよびＢそれぞれの含有率とほぼ同じとなる。すなわ
ち、磁石素体の表面付近の組織中にＯ濃度の高い領域が
形成されて境界層となっていると考えられる。図１にお
いて境界層として表示してある領域には、磁石素体と同
様に、結晶粒と白色の粒界相とが確認できるが、これら
の組成は、Ｏを除いては磁石素体のものとほぼ同じであ
る。
ＴおよびＢそれぞれの比率が、磁石素体中におけるＲ、
ＴおよびＢそれぞれの含有率とほぼ同じとなる。すなわ
ち、磁石素体の表面付近の組織中にＯ濃度の高い領域が
形成されて境界層となっていると考えられる。図１にお
いて境界層として表示してある領域には、磁石素体と同
様に、結晶粒と白色の粒界相とが確認できるが、これら
の組成は、Ｏを除いては磁石素体のものとほぼ同じであ
る。
【００２３】なお、図１では、磁石素体と境界層との間
にクラックが生じているが、これは境界層が約４０μm
と厚いためであると考えられる。磁石素体と境界層とは
組成が異なるため、物理的性質の違いから境界層に応力
が発生し、これを切断したためクラックが発生したもの
と推定される。
にクラックが生じているが、これは境界層が約４０μm
と厚いためであると考えられる。磁石素体と境界層とは
組成が異なるため、物理的性質の違いから境界層に応力
が発生し、これを切断したためクラックが発生したもの
と推定される。
【００２４】保護層中や境界層中の各元素の定量は、Ｓ
ＥＭ−ＥＤＸやＥＰＭＡ（電子線プローブマイクロアナ
ライザー）などにより行なうことができる。
ＥＭ−ＥＤＸやＥＰＭＡ（電子線プローブマイクロアナ
ライザー）などにより行なうことができる。
【００２５】境界層の平均厚さは、通常、２〜２０μm
である。
である。
【００２６】後述する溶融塩処理により形成された保護
層および境界層は、磁石素体の一部が変質したものであ
るため、磁石素体の寸法は、保護層および境界層形成後
にも実質的に変化していない。
層および境界層は、磁石素体の一部が変質したものであ
るため、磁石素体の寸法は、保護層および境界層形成後
にも実質的に変化していない。
【００２７】磁石素体は、Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ相等のＲ2 Ｔ
14Ｂ相から実質的に構成される結晶粒と、Ｒ2 Ｔ14Ｂよ
りもＲリッチな粒界相とを含む通常のＲ−Ｔ−Ｂ系磁石
であればよく、具体的組成、形状、寸法等は特に限定さ
れない。このようなＲ−Ｔ−Ｂ系磁石は、一般にＲを２
７〜３６重量％、Ｂを０．９〜１．３重量％含み、残部
が実質的にＴである。
14Ｂ相から実質的に構成される結晶粒と、Ｒ2 Ｔ14Ｂよ
りもＲリッチな粒界相とを含む通常のＲ−Ｔ−Ｂ系磁石
であればよく、具体的組成、形状、寸法等は特に限定さ
れない。このようなＲ−Ｔ−Ｂ系磁石は、一般にＲを２
７〜３６重量％、Ｂを０．９〜１．３重量％含み、残部
が実質的にＴである。
【００２８】上述した保護層は、以下に説明する溶融塩
処理により形成することが好ましい。
処理により形成することが好ましい。
【００２９】溶融塩処理では、Ｍを含む金属および／ま
たは化合物と溶融塩とを含む処理液に、磁石素体を浸漬
する。
たは化合物と溶融塩とを含む処理液に、磁石素体を浸漬
する。
【００３０】Ｍを含む金属としては、Ｍ単体、Ｍを含む
少なくとも２種の金属元素の合金（金属間化合物を含
む）が挙げられる。合金としては、Ｍの少なくとも１種
とＭ以外の金属の少なくとも１種との合金であってもよ
く、Ｍから２種以上を選択してもよい。これらのうちで
は、入手が容易であることや、磁石素体構成元素である
Ｆｅを含むことなどから、ＦｅとＭとの合金が好まし
い。Ｍを含む金属は、溶融塩処理の際に処理液中におい
て溶融していることが必要なので、処理温度に応じた溶
融性を有するものを選択する。ただし、処理液温度は、
Ｍを含む金属の融点以上である必要はない。処理液中で
は、混合のエントロピーの効果および処理液中での酸化
還元反応により、融点未満であっても溶融するからであ
る。上記した溶融性とは、融点未満での溶融ないし溶解
を含む概念とする。Ｍを含む合金を用いる場合、合金中
におけるＭと他の金属元素との比率は特に限定されず、
必要な溶融性が得られるように適宜決定すればよい。
少なくとも２種の金属元素の合金（金属間化合物を含
む）が挙げられる。合金としては、Ｍの少なくとも１種
とＭ以外の金属の少なくとも１種との合金であってもよ
く、Ｍから２種以上を選択してもよい。これらのうちで
は、入手が容易であることや、磁石素体構成元素である
Ｆｅを含むことなどから、ＦｅとＭとの合金が好まし
い。Ｍを含む金属は、溶融塩処理の際に処理液中におい
て溶融していることが必要なので、処理温度に応じた溶
融性を有するものを選択する。ただし、処理液温度は、
Ｍを含む金属の融点以上である必要はない。処理液中で
は、混合のエントロピーの効果および処理液中での酸化
還元反応により、融点未満であっても溶融するからであ
る。上記した溶融性とは、融点未満での溶融ないし溶解
を含む概念とする。Ｍを含む合金を用いる場合、合金中
におけるＭと他の金属元素との比率は特に限定されず、
必要な溶融性が得られるように適宜決定すればよい。
【００３１】Ｍを含む化合物としては、酸化物、塩化
物、フッ化物等が挙げられ、これらのうちでは酸化物が
好ましい。酸化物を使う場合、保護層形成を容易にする
ために、溶融塩中に前記酸化物を還元するための還元剤
を添加することが好ましい。還元剤としては、Ａｌ、Ｎ
ａ、Ｃａ、ＭｇおよびＢ4 Ｃの少なくとも１種が好まし
く、特に、ＡｌおよびＢ4 Ｃの少なくとも１種が好まし
い。
物、フッ化物等が挙げられ、これらのうちでは酸化物が
好ましい。酸化物を使う場合、保護層形成を容易にする
ために、溶融塩中に前記酸化物を還元するための還元剤
を添加することが好ましい。還元剤としては、Ａｌ、Ｎ
ａ、Ｃａ、ＭｇおよびＢ4 Ｃの少なくとも１種が好まし
く、特に、ＡｌおよびＢ4 Ｃの少なくとも１種が好まし
い。
【００３２】なお、酸化物と還元剤とを用いる場合、処
理液の温度は酸化物の融点以上である必要はない。この
場合でも上述したＭを含む金属と同様に、通常、酸化物
はその融点未満で溶融性を示す。
理液の温度は酸化物の融点以上である必要はない。この
場合でも上述したＭを含む金属と同様に、通常、酸化物
はその融点未満で溶融性を示す。
【００３３】溶融塩として使用するための塩には、各種
無機塩から選択される少なくとも１種を用いることがで
き、例えば、硼酸塩、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、ハロゲ
ン化物、酸化物、水酸化物等の少なくとも１種を用いる
ことができる。これらのうちでは、硼酸塩、硝酸塩、塩
化物が好ましく、特に、硼酸塩が好ましい。なお、この
場合の硼酸塩には、次硼酸塩や縮合硼酸塩も含まれる。
無機塩から選択される少なくとも１種を用いることがで
き、例えば、硼酸塩、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、ハロゲ
ン化物、酸化物、水酸化物等の少なくとも１種を用いる
ことができる。これらのうちでは、硼酸塩、硝酸塩、塩
化物が好ましく、特に、硼酸塩が好ましい。なお、この
場合の硼酸塩には、次硼酸塩や縮合硼酸塩も含まれる。
【００３４】塩を構成する硼素以外の金属としては、Ｎ
ａ、Ｋが好ましく、特にＮａが好ましい。具体的には、
硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸
カリウム、塩化ナトリウムおよび塩化カリウムの少なく
とも１種が好ましく、硼酸ナトリウムがより好ましく、
四硼酸ナトリウム（Ｎａ2 Ｂ4 Ｏ7 ）がさらに好まし
い。なお、四硼酸ナトリウムとして硼砂を使うなど、上
記無機塩を含む天然物を使用してもよい。
ａ、Ｋが好ましく、特にＮａが好ましい。具体的には、
硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸
カリウム、塩化ナトリウムおよび塩化カリウムの少なく
とも１種が好ましく、硼酸ナトリウムがより好ましく、
四硼酸ナトリウム（Ｎａ2 Ｂ4 Ｏ7 ）がさらに好まし
い。なお、四硼酸ナトリウムとして硼砂を使うなど、上
記無機塩を含む天然物を使用してもよい。
【００３５】溶融塩処理時の処理液の温度は、無機塩の
融点以上であって、かつ耐食性向上効果の高い保護層が
形成され得る温度であればよい。具体的には、無機塩の
種類、Ｍの種類等によって異なるが、好ましくは７００
〜１０００℃、より好ましくは８００〜９５０℃であ
る。溶融塩処理の時間、すなわち、処理液中に磁石素体
を浸漬している時間は、好ましくは３〜６０分間、より
好ましくは５〜３０分間である。処理時間が短すぎると
保護層を十分な厚さに形成することが難しく、処理時間
が長すぎると保護層が厚くなりすぎる。
融点以上であって、かつ耐食性向上効果の高い保護層が
形成され得る温度であればよい。具体的には、無機塩の
種類、Ｍの種類等によって異なるが、好ましくは７００
〜１０００℃、より好ましくは８００〜９５０℃であ
る。溶融塩処理の時間、すなわち、処理液中に磁石素体
を浸漬している時間は、好ましくは３〜６０分間、より
好ましくは５〜３０分間である。処理時間が短すぎると
保護層を十分な厚さに形成することが難しく、処理時間
が長すぎると保護層が厚くなりすぎる。
【００３６】処理液中におけるＭを含む金属または化合
物の比率は、好ましくは５〜５０重量％、より好ましく
は１０〜３０重量％である。この比率が小さすぎると、
保護層の形成速度が遅くなって生産性が著しく低下して
しまい、この比率が大きすぎると、処理液の粘性が高く
なりすぎて磁石素体の浸漬が難しくなり、しかも保護層
を均一に形成することが困難となる。
物の比率は、好ましくは５〜５０重量％、より好ましく
は１０〜３０重量％である。この比率が小さすぎると、
保護層の形成速度が遅くなって生産性が著しく低下して
しまい、この比率が大きすぎると、処理液の粘性が高く
なりすぎて磁石素体の浸漬が難しくなり、しかも保護層
を均一に形成することが困難となる。
【００３７】Ｍを含む金属や化合物、還元剤を、無機塩
またはその溶融物と混合する際の形状や寸法は特に限定
されないが、反応性や溶融性を向上させるためには、粉
末状や薄片状とすることが好ましい。
またはその溶融物と混合する際の形状や寸法は特に限定
されないが、反応性や溶融性を向上させるためには、粉
末状や薄片状とすることが好ましい。
【００３８】処理液の加熱および温度維持方法は特に限
定されず、処理液の容器を加熱する方法を用いてもよ
く、処理液に交流電流を流して加熱してもよい。
定されず、処理液の容器を加熱する方法を用いてもよ
く、処理液に交流電流を流して加熱してもよい。
【００３９】溶融塩処理に際しては磁石素体表面の酸化
は実質的に生じず、また、処理液から引き上げる際には
既に保護層が形成されているため、溶融塩処理は空気中
で行なうことができる。
は実質的に生じず、また、処理液から引き上げる際には
既に保護層が形成されているため、溶融塩処理は空気中
で行なうことができる。
【００４０】なお、溶融塩処理の前には、磁石素体の面
取りを行なうことが好ましい。磁石素体に鋭い角部が存
在すると、その領域にクラックや脱落等が生じたり、そ
の領域の保護層が剥離したりしやすいが、面取りを行な
うことによりこれらを防ぐことができる。面取りは、バ
レル研磨や、サンドブラスト、電解研磨等により行なえ
ばよい。
取りを行なうことが好ましい。磁石素体に鋭い角部が存
在すると、その領域にクラックや脱落等が生じたり、そ
の領域の保護層が剥離したりしやすいが、面取りを行な
うことによりこれらを防ぐことができる。面取りは、バ
レル研磨や、サンドブラスト、電解研磨等により行なえ
ばよい。
【００４１】また、溶融塩処理の前には、脱脂のための
洗浄や、歪割れを防ぐための磁石素体の予熱を行なうこ
とが好ましい。
洗浄や、歪割れを防ぐための磁石素体の予熱を行なうこ
とが好ましい。
【００４２】Ｒ−Ｔ−Ｂ系の磁石では、保磁力向上のた
めに、焼結後に２段階の時効処理を施すことが好ましい
が、本発明では、溶融塩処理を１段目の時効処理に替え
ることが可能である。非酸化性雰囲気中で行なう１段目
の時効処理の好ましい処理条件は、７００〜９００℃で
０．５〜１０時間程度であるが、溶融塩は熱容量が大き
いため、上記したような短時間の溶融塩処理により磁石
素体は急速かつ均一に昇温され、十分な時効効果が生じ
る。しかも、空気中で行なうことができる。また、２段
目の時効処理の好ましい処理条件は、４００〜７００℃
で０．５〜１０時間程度であるが、２段目の時効処理も
溶融塩浴中に磁石素体を浸漬することにより行なうこと
が好ましい。このときの溶融塩浴には、通常、Ｍを含む
金属または化合物を添加していない溶融塩、例えば、通
常の熱媒体用の溶融塩を用いることが好ましいが、保護
層形成のための溶融塩処理を２回に分けて２段時効処理
に替えてもよい。
めに、焼結後に２段階の時効処理を施すことが好ましい
が、本発明では、溶融塩処理を１段目の時効処理に替え
ることが可能である。非酸化性雰囲気中で行なう１段目
の時効処理の好ましい処理条件は、７００〜９００℃で
０．５〜１０時間程度であるが、溶融塩は熱容量が大き
いため、上記したような短時間の溶融塩処理により磁石
素体は急速かつ均一に昇温され、十分な時効効果が生じ
る。しかも、空気中で行なうことができる。また、２段
目の時効処理の好ましい処理条件は、４００〜７００℃
で０．５〜１０時間程度であるが、２段目の時効処理も
溶融塩浴中に磁石素体を浸漬することにより行なうこと
が好ましい。このときの溶融塩浴には、通常、Ｍを含む
金属または化合物を添加していない溶融塩、例えば、通
常の熱媒体用の溶融塩を用いることが好ましいが、保護
層形成のための溶融塩処理を２回に分けて２段時効処理
に替えてもよい。
【００４３】磁石素体は、以下に述べるような焼結法に
より製造されることが好ましい。鋳造した母合金を、機
械的粉砕、水素吸蔵粉砕、ジェットミル等による気流式
粉砕などにより、０．５〜５μm 程度の粒径にまで粉砕
する。次いで、好ましくは磁場中にて成形し、成形体を
１０００〜１２００℃で０．５〜５時間焼結した後、急
冷し、磁石素体を得る。
より製造されることが好ましい。鋳造した母合金を、機
械的粉砕、水素吸蔵粉砕、ジェットミル等による気流式
粉砕などにより、０．５〜５μm 程度の粒径にまで粉砕
する。次いで、好ましくは磁場中にて成形し、成形体を
１０００〜１２００℃で０．５〜５時間焼結した後、急
冷し、磁石素体を得る。
【００４４】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【００４５】＜実施例１＞２９．５Ｎｄ−３．０Ｄｙ−
１．０Ｂ−ｂａｌ．Ｆｅ（数字は重量百分率）の組成の
母合金を、Ａｒガス雰囲気中で高周波溶解して鋳造し、
さらに、機械的粉砕および窒素ガス気流粉砕機（ジェッ
トミル）により粉砕して、平均粒径４μmの粉末とし
た。この粉末を１．５t/cm2 の圧力で圧縮成形した。加
圧時には、１５ kOeの磁場を加圧方向に印加した。得ら
れた成形体を、真空中において１０７０℃で４時間焼成
した後、急冷した。得られた焼結体を円盤状に加工し
て、磁石素体とした。この磁石素体は、直径２３mm、厚
さ１．５mmであった。
１．０Ｂ−ｂａｌ．Ｆｅ（数字は重量百分率）の組成の
母合金を、Ａｒガス雰囲気中で高周波溶解して鋳造し、
さらに、機械的粉砕および窒素ガス気流粉砕機（ジェッ
トミル）により粉砕して、平均粒径４μmの粉末とし
た。この粉末を１．５t/cm2 の圧力で圧縮成形した。加
圧時には、１５ kOeの磁場を加圧方向に印加した。得ら
れた成形体を、真空中において１０７０℃で４時間焼成
した後、急冷した。得られた焼結体を円盤状に加工し
て、磁石素体とした。この磁石素体は、直径２３mm、厚
さ１．５mmであった。
【００４６】２０個の磁石素体をステンレス製の網篭に
入れ、この網篭を処理液中に浸漬して磁石素体に溶融塩
処理を施し、本発明の磁石サンプルとした。処理液の組
成、処理時の処理液温度、処理時間（浸漬時間）を、表
１に示す。サンプルを処理液から引き上げた後、沸騰水
で洗浄して塩成分を除去した。次いで、Ａｒガス雰囲気
中において、サンプルに６００℃で１時間の時効処理を
施した。
入れ、この網篭を処理液中に浸漬して磁石素体に溶融塩
処理を施し、本発明の磁石サンプルとした。処理液の組
成、処理時の処理液温度、処理時間（浸漬時間）を、表
１に示す。サンプルを処理液から引き上げた後、沸騰水
で洗浄して塩成分を除去した。次いで、Ａｒガス雰囲気
中において、サンプルに６００℃で１時間の時効処理を
施した。
【００４７】このようにして得られた２０個のサンプル
の厚さを測定して平均値を求めた。サンプルの中央部平
均厚さおよび端部平均厚さと、これらの差の絶対値（最
大寸法差）とを、表１に示す。また、サンプルの厚さ
を、溶融塩処理前の磁石素体の厚さと比較した。磁石素
体は、中央部平均厚さが１．５０４mm、端部平均厚さが
１．５０２mm、これらの平均値（ｔ0 ）が１．５０３mm
であった。サンプルの中央部平均厚さからｔ0 を減じた
値と、サンプルの端部平均厚さからｔ0 を減じた値との
うち、絶対値の大きいほうを最大寸法変化として表１に
示した。
の厚さを測定して平均値を求めた。サンプルの中央部平
均厚さおよび端部平均厚さと、これらの差の絶対値（最
大寸法差）とを、表１に示す。また、サンプルの厚さ
を、溶融塩処理前の磁石素体の厚さと比較した。磁石素
体は、中央部平均厚さが１．５０４mm、端部平均厚さが
１．５０２mm、これらの平均値（ｔ0 ）が１．５０３mm
であった。サンプルの中央部平均厚さからｔ0 を減じた
値と、サンプルの端部平均厚さからｔ0 を減じた値との
うち、絶対値の大きいほうを最大寸法変化として表１に
示した。
【００４８】これらのサンプルについてプレッシャーク
ッカー試験（１２０℃、１００％ＲＨ）を行ない、４０
時間経過後および１００時間経過後の外観を調べて耐湿
性を評価した。結果を表１に示す。
ッカー試験（１２０℃、１００％ＲＨ）を行ない、４０
時間経過後および１００時間経過後の外観を調べて耐湿
性を評価した。結果を表１に示す。
【００４９】これらのサンプルを切断し、断面を研磨し
た後、ＳＥＭ−ＥＤＸにより磁石表面付近の元素分析を
行なった。この結果、磁石表面付近に、図１に示すよう
な耐食相を含む保護層と境界相とが認められた。保護層
の平均厚さおよび耐食相の組成を表１に示す。ただし、
耐食相の組成は、Ｎｄ＋Ｆｅ＋Ｍを１００重量％として
表わしてある。
た後、ＳＥＭ−ＥＤＸにより磁石表面付近の元素分析を
行なった。この結果、磁石表面付近に、図１に示すよう
な耐食相を含む保護層と境界相とが認められた。保護層
の平均厚さおよび耐食相の組成を表１に示す。ただし、
耐食相の組成は、Ｎｄ＋Ｆｅ＋Ｍを１００重量％として
表わしてある。
【００５０】＜実施例２〜１８＞溶融塩処理に用いた処
理液の組成を表１に示されるものとした他は実施例１と
同様にしてサンプルを作製し、実施例１と同様な測定お
よび評価を行なった。結果を表１に示す。
理液の組成を表１に示されるものとした他は実施例１と
同様にしてサンプルを作製し、実施例１と同様な測定お
よび評価を行なった。結果を表１に示す。
【００５１】＜比較例１＞溶融塩処理を施さない磁石素
体について、耐湿性を評価した。
体について、耐湿性を評価した。
【００５２】＜比較例２＞Ｍを含む金属および化合物を
添加しない処理液を用いた他は実施例１と同様にしてサ
ンプルを作製し、実施例１と同様な測定および評価を行
なった。結果を表１に示す。
添加しない処理液を用いた他は実施例１と同様にしてサ
ンプルを作製し、実施例１と同様な測定および評価を行
なった。結果を表１に示す。
【００５３】＜比較例３〜６＞スルファミン酸Ｎｉめっ
き、ワット２層Ｎｉめっき、エポキシ系樹脂のカチオン
電着塗装またはアルミイオンプレーティングにより、磁
石素体表面にそれぞれ保護層を形成した。これらについ
ても実施例１と同様な測定および評価を行なった。結果
を表１に示す。
き、ワット２層Ｎｉめっき、エポキシ系樹脂のカチオン
電着塗装またはアルミイオンプレーティングにより、磁
石素体表面にそれぞれ保護層を形成した。これらについ
ても実施例１と同様な測定および評価を行なった。結果
を表１に示す。
【００５４】
【表１】
【００５５】表１に示されるように、実施例サンプルで
は耐湿性が良好であり、しかも保護層形成による寸法変
化が著しく小さい。これに対し、比較例サンプルでは、
耐湿性が低いか、保護層形成による寸法変化が大きい
か、あるいはその両方であり、本発明の効果が明らかで
ある。
は耐湿性が良好であり、しかも保護層形成による寸法変
化が著しく小さい。これに対し、比較例サンプルでは、
耐湿性が低いか、保護層形成による寸法変化が大きい
か、あるいはその両方であり、本発明の効果が明らかで
ある。
【００５６】なお、上記各実施例のサンプルの保護層
は、すべてが図１に示されるような組織構造をもってい
た。また、各実施例のサンプルでは、耐食相中において
Ｎｄ＋Ｆｅ＋Ｍが９０重量％以上を占めていた。
は、すべてが図１に示されるような組織構造をもってい
た。また、各実施例のサンプルでは、耐食相中において
Ｎｄ＋Ｆｅ＋Ｍが９０重量％以上を占めていた。
【００５７】上記各実施例のサンプルでは、ＳＥＭ−Ｅ
ＤＸおよびＥＰＭＡにより、保護層と磁石素体との間に
Ｏ濃度の高い境界層が確認された。実施例５および実施
例１５の各サンプルについて、境界層の平均厚さおよび
組成を表２に示す。また、比較例２のサンプルでも、磁
石素体表面に酸素濃度の高い領域が認められた。比較例
２のサンプルについても、酸素濃度の高い領域の平均厚
さおよび組成を表２に示す。
ＤＸおよびＥＰＭＡにより、保護層と磁石素体との間に
Ｏ濃度の高い境界層が確認された。実施例５および実施
例１５の各サンプルについて、境界層の平均厚さおよび
組成を表２に示す。また、比較例２のサンプルでも、磁
石素体表面に酸素濃度の高い領域が認められた。比較例
２のサンプルについても、酸素濃度の高い領域の平均厚
さおよび組成を表２に示す。
【００５８】
【表２】
【００５９】表２から、境界層中のＮｄ、Ｄｙ、Ｆｅ、
Ｂの割合は、磁石素体中のＮｄ、Ｄｙ、Ｆｅ、Ｂの割合
とほぼ同じであることがわかる。
Ｂの割合は、磁石素体中のＮｄ、Ｄｙ、Ｆｅ、Ｂの割合
とほぼ同じであることがわかる。
【００６０】表２に示される実施例以外の実施例のサン
プルの境界層の厚さは５〜２０μmであり、その組成
は、表２に示される実施例のサンプルと同様に、磁石素
体の組成にＯがプラスされたものに近かった。
プルの境界層の厚さは５〜２０μmであり、その組成
は、表２に示される実施例のサンプルと同様に、磁石素
体の組成にＯがプラスされたものに近かった。
【００６１】＜時効処理＞Ａｒガス雰囲気中において磁
石素体に９００℃で１時間の熱処理を施して１段目の時
効処理とし、さらに、６００℃で１時間の熱処理を施し
て２段目の時効処理とした。この磁石素体の磁気特性
は、残留磁束密度が１１．５kG、保磁力が１８．６ kO
e、最大エネルギー積が３２．４MGOeであった。
石素体に９００℃で１時間の熱処理を施して１段目の時
効処理とし、さらに、６００℃で１時間の熱処理を施し
て２段目の時効処理とした。この磁石素体の磁気特性
は、残留磁束密度が１１．５kG、保磁力が１８．６ kO
e、最大エネルギー積が３２．４MGOeであった。
【００６２】一方、実施例１のサンプルでは、溶融塩処
理後に６００℃で１時間の時効処理を施しただけである
が、残留磁束密度、保磁力、最大エネルギー積のいずれ
もが、２段の時効処理を行なった磁石素体と同じであっ
た。
理後に６００℃で１時間の時効処理を施しただけである
が、残留磁束密度、保磁力、最大エネルギー積のいずれ
もが、２段の時効処理を行なった磁石素体と同じであっ
た。
【００６３】また、実施例１と同様な溶融塩処理を行な
った後、さらに、６００℃の溶融塩（ＨＴＳ：４０重量
％ＮａＮＯ2 −７重量％ＮａＮＯ3 −５３重量％ＫＮＯ
3 ）中に１０分間浸漬したサンプルでも、実施例１と同
等の磁気特性が得られた。
った後、さらに、６００℃の溶融塩（ＨＴＳ：４０重量
％ＮａＮＯ2 −７重量％ＮａＮＯ3 −５３重量％ＫＮＯ
3 ）中に１０分間浸漬したサンプルでも、実施例１と同
等の磁気特性が得られた。
【図１】結晶構造を示す図面代用写真であって、磁石素
体、境界層および保護層の断面を表わす走査型電子顕微
鏡写真（組成像）である。
体、境界層および保護層の断面を表わす走査型電子顕微
鏡写真（組成像）である。
【手続補正書】
【提出日】平成６年８月５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
Claims (13)
- 【請求項１】 Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なく
とも１種である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよび
Ｃｏである）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の主
相を有する磁石素体の表面に、ＴおよびＭ（Ｍは、第IV
ａ族元素、第Ｖａ族元素および第VIａ族元素から選択さ
れる少なくとも１種の元素である）を主成分とするか、
Ｒ、ＴおよびＭを主成分とする耐食相を含む保護層を有
することを特徴とする希土類磁石。 - 【請求項２】 Ｍが、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ｃｒ、ＭｏおよびＷから選択される少なくとも１種
である請求項１の希土類磁石。 - 【請求項３】 耐食相中において、Ｍ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）
が０．１〜１０重量％である請求項１または２の希土類
磁石。 - 【請求項４】 耐食相中において、Ｒ／（Ｒ＋Ｔ＋Ｍ）
が１０重量％以下である請求項１〜３のいずれかの希土
類磁石。 - 【請求項５】 保護層の平均厚さが２〜３０μm である
請求項１〜４のいずれかの希土類磁石。 - 【請求項６】 磁石素体と保護層との間に、Ｒ、Ｔ、Ｂ
およびＯを主成分とする境界層を有する請求項１〜５の
いずれかの希土類磁石。 - 【請求項７】 境界層の平均厚さが２〜２０μm である
請求項６の希土類磁石。 - 【請求項８】 Ｒ（Ｒは、Ｙを含む希土類元素の少なく
とも１種である）、Ｔ（Ｔは、Ｆｅ、またはＦｅおよび
Ｃｏである）およびＢを含有し、実質的に正方晶系の主
相を有する磁石素体を、Ｍ（Ｍは、第IVａ族元素、第Ｖ
ａ族元素および第VIａ族元素から選択される少なくとも
１種の元素である）を含む金属および／または化合物と
溶融塩とを含む処理液に浸漬する溶融塩処理工程を有す
ることを特徴とする希土類磁石の製造方法。 - 【請求項９】 Ｍを含む金属がＦｅとＭとの合金である
請求項８の希土類磁石の製造方法。 - 【請求項１０】 Ｍを含む化合物が酸化物であり、この
酸化物を還元するための還元剤を処理液が含む請求項８
または９の希土類磁石の製造方法。 - 【請求項１１】 溶融塩として、硼酸塩を含む無機塩の
加熱溶融物を用いる請求項８〜１０のいずれかの希土類
磁石の製造方法。 - 【請求項１２】 処理液の温度が７００〜１０００℃で
あり、処理時間が３〜６０分間である請求項８〜１１の
いずれかの希土類磁石の製造方法。 - 【請求項１３】 請求項１〜７のいずれかの希土類磁石
を製造する請求項８〜１２のいずれかの希土類磁石の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09048194A JP3405805B2 (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 希土類磁石およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09048194A JP3405805B2 (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 希土類磁石およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07283015A true JPH07283015A (ja) | 1995-10-27 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1994
- 1994-04-05 JP JP09048194A patent/JP3405805B2/ja not_active Expired - Fee Related
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