JP2003257768A - 希土類焼結磁石の製造方法 - Google Patents
希土類焼結磁石の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 Ｒ（Ｒは、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂ及び
Ｈｏから選択される１種又は２種以上の希土類元素）を
２０〜３５重量％、Ｃｏを１５重量％以下、Ｂを０．２
〜８重量％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及
びＺｎから選ばれる少なくとも１種の元素を８重量％以
下、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる合金を溶解、
鋳造し、粉砕、微粉砕、磁場中成形、焼結、熱処理を順
次行って焼結磁石とし、更に該焼結磁石を切断及び／又
は研磨して表面を加工後、金属メッキを施し、その後、
８０〜７００℃で１０分〜５０時間熱処理することを特
徴とする希土類焼結磁石の製造方法。 【効果】 本発明のＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造方法
により、水素雰囲気中においても、水素脆性を引き起こ
さない、モーター等に使用できる希土類焼結磁石を得る
ことが可能となる。
Ｈｏから選択される１種又は２種以上の希土類元素）を
２０〜３５重量％、Ｃｏを１５重量％以下、Ｂを０．２
〜８重量％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及
びＺｎから選ばれる少なくとも１種の元素を８重量％以
下、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる合金を溶解、
鋳造し、粉砕、微粉砕、磁場中成形、焼結、熱処理を順
次行って焼結磁石とし、更に該焼結磁石を切断及び／又
は研磨して表面を加工後、金属メッキを施し、その後、
８０〜７００℃で１０分〜５０時間熱処理することを特
徴とする希土類焼結磁石の製造方法。 【効果】 本発明のＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造方法
により、水素雰囲気中においても、水素脆性を引き起こ
さない、モーター等に使用できる希土類焼結磁石を得る
ことが可能となる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水素雰囲気に長時
間晒されるモーター等に用いられるＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結
磁石の製造方法に関する。
間晒されるモーター等に用いられるＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結
磁石の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】希土類元素と遷移金属の金属間化合物に
おいては、水素が結晶格子間に侵入する、即ち、合金中
に水素を吸蔵、放出する特性を持っており、その特性は
いろいろな分野で利用されている。その例としては、Ｌ
ａＮｉ5に代表とされる水素吸蔵合金による水素電池が
挙げられ、また、希土類焼結磁石においても、Ｒ2Ｆｅ1
4Ｂ系合金の粉砕方法として、更にＲ2Ｆｅ14Ｂ系ボンド
磁石の製造方法（ＨＤＤＲ 特開平３−１２９７０２号
公報）として利用されている。
おいては、水素が結晶格子間に侵入する、即ち、合金中
に水素を吸蔵、放出する特性を持っており、その特性は
いろいろな分野で利用されている。その例としては、Ｌ
ａＮｉ5に代表とされる水素吸蔵合金による水素電池が
挙げられ、また、希土類焼結磁石においても、Ｒ2Ｆｅ1
4Ｂ系合金の粉砕方法として、更にＲ2Ｆｅ14Ｂ系ボンド
磁石の製造方法（ＨＤＤＲ 特開平３−１２９７０２号
公報）として利用されている。
【０００３】しかしながら、合金中又は磁石中に水素を
吸蔵、放出させた場合、水素脆性を引き起こしてしま
う。そのため、水素雰囲気中において、希土類焼結磁石
を用いたモーター等を使用した場合、希土類焼結磁石が
水素脆化を引き起こし、素材にワレ、クラックもしくは
粉化が起こるという問題が生じている。
吸蔵、放出させた場合、水素脆性を引き起こしてしま
う。そのため、水素雰囲気中において、希土類焼結磁石
を用いたモーター等を使用した場合、希土類焼結磁石が
水素脆化を引き起こし、素材にワレ、クラックもしくは
粉化が起こるという問題が生じている。
【０００４】現在、希土類焼結磁石には、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ
系、ＳｍＣｏ5系、Ｓｍ2Ｃｏ17系等の種類がある。一般
に、水素に対しては、２−１７型結晶構造よりも１−５
型結晶構造、１−５型結晶構造よりも２−７型結晶構造
の方がプラトー圧は低い、即ち、レアアースリッチ（以
下、Ｒリッチと称す）な合金のほうが水素吸蔵されやす
い傾向にあり、水素脆化しやすい。
系、ＳｍＣｏ5系、Ｓｍ2Ｃｏ17系等の種類がある。一般
に、水素に対しては、２−１７型結晶構造よりも１−５
型結晶構造、１−５型結晶構造よりも２−７型結晶構造
の方がプラトー圧は低い、即ち、レアアースリッチ（以
下、Ｒリッチと称す）な合金のほうが水素吸蔵されやす
い傾向にあり、水素脆化しやすい。
【０００５】Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石は、磁石中にＲリッチ
相を有するため、０．１ＭＰａ以下の圧力の水素雰囲気
下で、容易に水素脆性を引き起こし、磁石素材にワレ、
クラックもしくは粉化が生じる。通常、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系
磁石は、耐食性向上のためメッキ、樹脂コーティングな
どの表面処理がなされているが、水素脆化を防止する手
段とはなっていない。この問題を解決する方法として、
Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石の表面処理膜に水素吸蔵合金を含有
させる方法を提案した（特開２０００−２８５４１５号
公報）。この方法により作製されたＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石
は、０．１ＭＰａ以下の圧力の水素雰囲気下において
は、水素脆性を引き起こさないものの、それを超える圧
力の水素雰囲気下においては、水素脆性を引き起こし、
磁石素材にワレ、クラックもしくは粉化が生じると考え
られる。
相を有するため、０．１ＭＰａ以下の圧力の水素雰囲気
下で、容易に水素脆性を引き起こし、磁石素材にワレ、
クラックもしくは粉化が生じる。通常、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系
磁石は、耐食性向上のためメッキ、樹脂コーティングな
どの表面処理がなされているが、水素脆化を防止する手
段とはなっていない。この問題を解決する方法として、
Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石の表面処理膜に水素吸蔵合金を含有
させる方法を提案した（特開２０００−２８５４１５号
公報）。この方法により作製されたＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石
は、０．１ＭＰａ以下の圧力の水素雰囲気下において
は、水素脆性を引き起こさないものの、それを超える圧
力の水素雰囲気下においては、水素脆性を引き起こし、
磁石素材にワレ、クラックもしくは粉化が生じると考え
られる。
【０００６】ＳｍＣｏ5系磁石も、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石と
同様に、Ｒリッチ相を有すると共に、主相であるＳｍＣ
ｏ5相のプラトー圧が約０．３ＭＰａである。このこと
から、０．３ＭＰａを超える圧力の水素雰囲気中では、
水素脆性を引き起こし、磁石素材にワレ、クラックもし
くは粉化が生じる。
同様に、Ｒリッチ相を有すると共に、主相であるＳｍＣ
ｏ5相のプラトー圧が約０．３ＭＰａである。このこと
から、０．３ＭＰａを超える圧力の水素雰囲気中では、
水素脆性を引き起こし、磁石素材にワレ、クラックもし
くは粉化が生じる。
【０００７】Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石は、主相が２−１７相
であり、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系、ＳｍＣｏ5系に比べＲリッチで
はないことと、Ｒリッチ相を含有しないため、水素脆性
を引き起こしにくい。しかしながら、１ＭＰａを超える
圧力の水素雰囲気中では、他の希土類焼結磁石と同様
に、水素脆性を引き起こし、磁石素材にワレ、クラック
もしくは粉化が生じることがわかっている。
であり、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系、ＳｍＣｏ5系に比べＲリッチで
はないことと、Ｒリッチ相を含有しないため、水素脆性
を引き起こしにくい。しかしながら、１ＭＰａを超える
圧力の水素雰囲気中では、他の希土類焼結磁石と同様
に、水素脆性を引き起こし、磁石素材にワレ、クラック
もしくは粉化が生じることがわかっている。
【０００８】耐水素脆性を向上させるためには、Ｓｍ2
Ｃｏ17系磁石を焼結磁石とし、切断及び／又は研磨して
表面を加工後、酸素分圧１０-6〜１５２ｔｏｒｒの雰囲
気において熱処理すればよいことが分かっている（特開
２００２−１１８００９号公報）。そうすることによ
り、磁石表面にＣｏ及び／又はＣｏ、Ｆｅ中にＳｍ2Ｏ3
が微細に分散している層を存在させていれば、３ＭＰａ
を超える高圧水素雰囲気下においても水素脆性は起こさ
ない。しかし、Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石及びＣｏ及び／又は
Ｃｏ、Ｆｅ中にＳｍ2Ｏ3が微細に分散している層は、硬
く、欠け易いため、製品組み立て等、取扱いの際、チッ
ピング等を引き起こす場合がある。チッピング等を引き
起こした希土類焼結磁石は、磁気特性には、ほとんど影
響はないものの、耐水素性皮膜が欠け落ちた部分が存在
するため、耐水素脆性は大きく低下し、表面層のない場
合と同等になってしまう。従って、１ＭＰａを超える圧
力の水素雰囲気中では、水素脆性を引き起こし、磁石素
材にワレ、クラックもしくは粉化が起こるため、そのよ
うな雰囲気中では、使用することができない。
Ｃｏ17系磁石を焼結磁石とし、切断及び／又は研磨して
表面を加工後、酸素分圧１０-6〜１５２ｔｏｒｒの雰囲
気において熱処理すればよいことが分かっている（特開
２００２−１１８００９号公報）。そうすることによ
り、磁石表面にＣｏ及び／又はＣｏ、Ｆｅ中にＳｍ2Ｏ3
が微細に分散している層を存在させていれば、３ＭＰａ
を超える高圧水素雰囲気下においても水素脆性は起こさ
ない。しかし、Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石及びＣｏ及び／又は
Ｃｏ、Ｆｅ中にＳｍ2Ｏ3が微細に分散している層は、硬
く、欠け易いため、製品組み立て等、取扱いの際、チッ
ピング等を引き起こす場合がある。チッピング等を引き
起こした希土類焼結磁石は、磁気特性には、ほとんど影
響はないものの、耐水素性皮膜が欠け落ちた部分が存在
するため、耐水素脆性は大きく低下し、表面層のない場
合と同等になってしまう。従って、１ＭＰａを超える圧
力の水素雰囲気中では、水素脆性を引き起こし、磁石素
材にワレ、クラックもしくは粉化が起こるため、そのよ
うな雰囲気中では、使用することができない。
【０００９】上記問題は、Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石の機械的
強度の脆さに起因するものである。つまり、素材とし
て、機械的強度が強いものがよいことは明らかであり、
Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石よりＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石の方が機械的
強度は強く、更に通常、耐酸化性皮膜を有しているた
め、チッピング等の可能性は低く、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石
に耐水素性皮膜を被覆できれば有効であると考えられ
る。
強度の脆さに起因するものである。つまり、素材とし
て、機械的強度が強いものがよいことは明らかであり、
Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石よりＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石の方が機械的
強度は強く、更に通常、耐酸化性皮膜を有しているた
め、チッピング等の可能性は低く、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石
に耐水素性皮膜を被覆できれば有効であると考えられ
る。
【００１０】また、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石は、Ｓｍ2Ｃｏ17
系磁石に比べ、耐食性が劣っている及び温度特性に劣っ
ている等の欠点があるものの、主要元素が、高価なＳ
ｍ、Ｃｏではなく、安価なＮｄ、Ｆｅであることから、
原材料費が安価なだけでなく、現在量産されている最高
磁気特性においても、Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石の３２ＭＧＯ
ｅに対し、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石の５０ＭＧＯｅの最大エ
ネルギー積のように優れているという利点がある。即
ち、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石は、耐食性向上のための表面処
理が施されていれば、常温において、極めて優れた永久
磁石材料であり、そのため、優れた温度特性を必要とし
ない場合又は１５０℃以上の温度がかからない場合であ
れば、通常、磁気回路の小型化、高効率化のためには、
Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石ではなく、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石が使わ
れることが多い。つまり、磁気特性においても、Ｓｍ2
Ｃｏ17系磁石よりもＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石が耐水素性を有
すれば、非常に有効であることは明らかである。
系磁石に比べ、耐食性が劣っている及び温度特性に劣っ
ている等の欠点があるものの、主要元素が、高価なＳ
ｍ、Ｃｏではなく、安価なＮｄ、Ｆｅであることから、
原材料費が安価なだけでなく、現在量産されている最高
磁気特性においても、Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石の３２ＭＧＯ
ｅに対し、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石の５０ＭＧＯｅの最大エ
ネルギー積のように優れているという利点がある。即
ち、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石は、耐食性向上のための表面処
理が施されていれば、常温において、極めて優れた永久
磁石材料であり、そのため、優れた温度特性を必要とし
ない場合又は１５０℃以上の温度がかからない場合であ
れば、通常、磁気回路の小型化、高効率化のためには、
Ｓｍ2Ｃｏ17系磁石ではなく、Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石が使わ
れることが多い。つまり、磁気特性においても、Ｓｍ2
Ｃｏ17系磁石よりもＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石が耐水素性を有
すれば、非常に有効であることは明らかである。
【００１１】
【特許文献１】特開２０００−２８５４１５号公報
【特許文献２】特開２００２−１１８００９号公報
【特許文献３】特開平３−１２９７０２号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題を解決したＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造方法を提
供するものである。即ち、従来の希土類焼結磁石の様
に、水素雰囲気下で、水素脆性を引き起こし、磁石素材
にワレ、クラックもしくは粉化が生じるという問題を解
決するＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
問題を解決したＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造方法を提
供するものである。即ち、従来の希土類焼結磁石の様
に、水素雰囲気下で、水素脆性を引き起こし、磁石素材
にワレ、クラックもしくは粉化が生じるという問題を解
決するＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、焼結、時効後の焼結磁石を表面加工後、金属メッキ
を施し、更に最適な熱処理をすることで、磁石体表面に
耐水素性に優れた層を形成するという、高圧の水素雰囲
気中でも水素脆性を引き起こさない希土類焼結磁石の製
造方法を見い出した。このことから、水素雰囲気に長時
間晒されるモーター等に好適に用いられるＲ2Ｆｅ14Ｂ
系焼結磁石が得られることを知見し、本発明をなすに至
った。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、焼結、時効後の焼結磁石を表面加工後、金属メッキ
を施し、更に最適な熱処理をすることで、磁石体表面に
耐水素性に優れた層を形成するという、高圧の水素雰囲
気中でも水素脆性を引き起こさない希土類焼結磁石の製
造方法を見い出した。このことから、水素雰囲気に長時
間晒されるモーター等に好適に用いられるＲ2Ｆｅ14Ｂ
系焼結磁石が得られることを知見し、本発明をなすに至
った。
【００１４】即ち、本発明は、前記問題を解決する方法
として下記（１）〜（３）の希土類焼結磁石の製造方法
を提供するものである。 （１）Ｒ（Ｒは、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂ及びＨｏから
選択される１種又は２種以上の希土類元素）を２０〜３
５重量％、Ｃｏを１５重量％以下、Ｂを０．２〜８重量
％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃ
ｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及びＺｎ
から選ばれる少なくとも１種の元素を８重量％以下、残
部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる合金を溶解、鋳造
し、粉砕、微粉砕、磁場中成形、焼結、熱処理を順次行
って焼結磁石とし、更に該焼結磁石を切断及び／又は研
磨して表面を加工後、金属メッキを施し、その後、８０
〜７００℃で１０分〜５０時間熱処理することを特徴と
する希土類焼結磁石の製造方法、 （２）金属メッキの金属が、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ及
びそれらの合金の少なくとも１種であることを特徴とす
る（１）記載の希土類焼結磁石の製造方法、 （３）金属メッキ後の熱処理が、酸素分圧が１０-4Ｐａ
〜５０ｋＰａである、アルゴン、窒素、空気又は低圧真
空雰囲気下において行われることを特徴とする（１）又
は（２）記載の希土類焼結磁石の製造方法。
として下記（１）〜（３）の希土類焼結磁石の製造方法
を提供するものである。 （１）Ｒ（Ｒは、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂ及びＨｏから
選択される１種又は２種以上の希土類元素）を２０〜３
５重量％、Ｃｏを１５重量％以下、Ｂを０．２〜８重量
％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃ
ｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及びＺｎ
から選ばれる少なくとも１種の元素を８重量％以下、残
部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる合金を溶解、鋳造
し、粉砕、微粉砕、磁場中成形、焼結、熱処理を順次行
って焼結磁石とし、更に該焼結磁石を切断及び／又は研
磨して表面を加工後、金属メッキを施し、その後、８０
〜７００℃で１０分〜５０時間熱処理することを特徴と
する希土類焼結磁石の製造方法、 （２）金属メッキの金属が、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ及
びそれらの合金の少なくとも１種であることを特徴とす
る（１）記載の希土類焼結磁石の製造方法、 （３）金属メッキ後の熱処理が、酸素分圧が１０-4Ｐａ
〜５０ｋＰａである、アルゴン、窒素、空気又は低圧真
空雰囲気下において行われることを特徴とする（１）又
は（２）記載の希土類焼結磁石の製造方法。
【００１５】以下に、本発明の詳細を説明する。本発明
におけるＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石合金組成の主成分は、
Ｒ（Ｒは、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂ又はＨｏから選択さ
れる１種又は２種以上の希土類元素）を２０〜３５重量
％、Ｃｏを０重量％を超え１５重量％以下、Ｂを０．２
〜８重量％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及
びＺｎから選ばれる少なくとも１種の元素を０重量％を
超え８重量％以下、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からな
る。前記Ｒの含有量が、２０重量％未満であると保磁力
が著しく減少し、また、３５重量％を超えると残留磁束
密度が著しく減少する。
におけるＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石合金組成の主成分は、
Ｒ（Ｒは、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂ又はＨｏから選択さ
れる１種又は２種以上の希土類元素）を２０〜３５重量
％、Ｃｏを０重量％を超え１５重量％以下、Ｂを０．２
〜８重量％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及
びＺｎから選ばれる少なくとも１種の元素を０重量％を
超え８重量％以下、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からな
る。前記Ｒの含有量が、２０重量％未満であると保磁力
が著しく減少し、また、３５重量％を超えると残留磁束
密度が著しく減少する。
【００１６】本発明のＲ2Ｆｅ14Ｂ系磁石合金は、上記
組成範囲の原料をアルゴン等の非酸化性雰囲気中におい
て、高周波溶解により溶解、鋳造する。
組成範囲の原料をアルゴン等の非酸化性雰囲気中におい
て、高周波溶解により溶解、鋳造する。
【００１７】次に、前記Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石合金を粗粉
砕し、次いで特に限定はしないが、好ましくは平均粒径
１〜１０μｍに微粉砕する。この粗粉砕は、例えば、不
活性ガス雰囲気中で、ジョークラッシャー、ブラウンミ
ル、ピンミル及び水素吸蔵等により行うことができる。
また、前記微粉砕は、アルコール、ヘキサン等を溶媒に
用いた湿式ボールミルやアトライター、不活性ガス雰囲
気中による乾式ボールミル、不活性ガス気流によるジェ
ットミル等により行うことができる。
砕し、次いで特に限定はしないが、好ましくは平均粒径
１〜１０μｍに微粉砕する。この粗粉砕は、例えば、不
活性ガス雰囲気中で、ジョークラッシャー、ブラウンミ
ル、ピンミル及び水素吸蔵等により行うことができる。
また、前記微粉砕は、アルコール、ヘキサン等を溶媒に
用いた湿式ボールミルやアトライター、不活性ガス雰囲
気中による乾式ボールミル、不活性ガス気流によるジェ
ットミル等により行うことができる。
【００１８】次に、前記微粉砕粉を、好ましくは１０ｋ
Ｏｅ以上、特に１５ｋＯｅ以上の磁場を印可することが
可能な磁場中プレス機等により、好ましくは２００ｋｇ
／ｃｍ2以上２０００ｋｇ／ｃｍ2未満の圧力により圧縮
成形する。続いて、得られた圧縮成形体を、熱処理炉に
より、高真空中又はアルゴンなどの非酸化性雰囲気ガス
中で、１０００〜１２００℃において、１〜２時間、焼
結を行う。
Ｏｅ以上、特に１５ｋＯｅ以上の磁場を印可することが
可能な磁場中プレス機等により、好ましくは２００ｋｇ
／ｃｍ2以上２０００ｋｇ／ｃｍ2未満の圧力により圧縮
成形する。続いて、得られた圧縮成形体を、熱処理炉に
より、高真空中又はアルゴンなどの非酸化性雰囲気ガス
中で、１０００〜１２００℃において、１〜２時間、焼
結を行う。
【００１９】続いて、真空中又はアルゴンなどの非酸化
性雰囲気ガス中で、焼結温度よりも低い温度で、好まし
くは４００〜７００℃の温度で熱処理を施し、切断及び
／又は研磨して表面の加工仕上げを行う。この際、特に
限定されるものではないが、希土類焼結磁石体に面取り
がなされていることが望ましい。
性雰囲気ガス中で、焼結温度よりも低い温度で、好まし
くは４００〜７００℃の温度で熱処理を施し、切断及び
／又は研磨して表面の加工仕上げを行う。この際、特に
限定されるものではないが、希土類焼結磁石体に面取り
がなされていることが望ましい。
【００２０】この表面加工後、前記希土類焼結磁石体に
金属メッキ層を形成する。ここで、金属メッキ層は、多
層になればなる程耐食性が向上するが、製造上のコスト
がかかること、効率性が悪くなること、磁気特性の低下
などから１〜５層、特に２〜５層の金属メッキ層とする
ことができる。ただ、これは、用途が要求する耐食性や
その他の条件により選択することが好ましい。前記金属
メッキの金属は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ及びそれらの
合金の少なくとも１種からなり、メッキ厚さは、１〜１
００μｍ、特に１〜５０μｍが好ましい。好ましい具体
例としては、下層にＣｕが形成され、更にＮｉを形成し
た多層メッキがよく、Ｃｕ−Ｎｉ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ｎｉ、
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｎｉ等が挙げられる。この金属メッキを施
す前処理として、特に限定されるものではないが、前記
希土類焼結磁石体をアルカリ脱脂、酸洗浄、水洗するこ
とが望ましい。メッキの成膜方法としては、特に限定さ
れるものではないが、電解メッキ法が望ましい。また、
前記希土類焼結磁石体をメッキ液に浸漬する方法は、バ
レル法又は引っ掛け治具法のいずれでもよく、希土類焼
結磁石体の寸法及び形状によって適当に選択される。
金属メッキ層を形成する。ここで、金属メッキ層は、多
層になればなる程耐食性が向上するが、製造上のコスト
がかかること、効率性が悪くなること、磁気特性の低下
などから１〜５層、特に２〜５層の金属メッキ層とする
ことができる。ただ、これは、用途が要求する耐食性や
その他の条件により選択することが好ましい。前記金属
メッキの金属は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ及びそれらの
合金の少なくとも１種からなり、メッキ厚さは、１〜１
００μｍ、特に１〜５０μｍが好ましい。好ましい具体
例としては、下層にＣｕが形成され、更にＮｉを形成し
た多層メッキがよく、Ｃｕ−Ｎｉ、Ｃｕ−Ｎｉ−Ｎｉ、
Ｎｉ−Ｃｕ−Ｎｉ等が挙げられる。この金属メッキを施
す前処理として、特に限定されるものではないが、前記
希土類焼結磁石体をアルカリ脱脂、酸洗浄、水洗するこ
とが望ましい。メッキの成膜方法としては、特に限定さ
れるものではないが、電解メッキ法が望ましい。また、
前記希土類焼結磁石体をメッキ液に浸漬する方法は、バ
レル法又は引っ掛け治具法のいずれでもよく、希土類焼
結磁石体の寸法及び形状によって適当に選択される。
【００２１】なお、電解メッキ液としては、公知の組成
のメッキ液を使用し、そのメッキ液に応じた公知の条件
でメッキすることができるが、特にｐＨ２〜１２のメッ
キ液が好適である。また、組成の異なる金属を２層以上
積層する場合は、最上層に対して直下層の腐食電位が貴
となるようにすればよいが、Ｎｉを２層メッキする場合
のように、皮膜中の硫黄含有量を変えることで電位を制
御する方法では、上層の硫黄含有量は約０．０３％以下
とし、下層には硫黄を含まないようにするとよい。その
他の組み合わせでは、特に限定されるものではないが、
例えば、最上層にＮｉ、直下層にＣｕを組み合わせるな
どの例が挙げられる。
のメッキ液を使用し、そのメッキ液に応じた公知の条件
でメッキすることができるが、特にｐＨ２〜１２のメッ
キ液が好適である。また、組成の異なる金属を２層以上
積層する場合は、最上層に対して直下層の腐食電位が貴
となるようにすればよいが、Ｎｉを２層メッキする場合
のように、皮膜中の硫黄含有量を変えることで電位を制
御する方法では、上層の硫黄含有量は約０．０３％以下
とし、下層には硫黄を含まないようにするとよい。その
他の組み合わせでは、特に限定されるものではないが、
例えば、最上層にＮｉ、直下層にＣｕを組み合わせるな
どの例が挙げられる。
【００２２】上記方法により金属メッキを施した後、酸
素分圧が１０-4Ｐａ〜５０ｋＰａ、好ましくは１０-4Ｐ
ａ〜３０ｋＰａである、アルゴン、窒素、空気又は低圧
真空雰囲気下において、１０分〜５０時間、８０〜７０
０℃、好ましくは２００〜６００℃で熱処理する。前記
熱処理時間は、１０分未満では、耐水素性に優れた層の
形成が十分でない、あるいは、ばらつきが多くなるため
適当ではなく、また、５０時間を超える熱処理は、効率
的ではないことと、耐水素性に優れた層が厚くなること
により磁気特性を劣化させる原因となることがあるため
適当ではない。前記熱処理温度は、８０℃未満では、耐
水素性に優れた希土類焼結磁石を得るために長時間の処
理が必要となり、効率的ではなく、また、７００℃を超
える温度では、耐水素性に優れた層の形成は成されるも
のの、希土類焼結磁石と金属メッキが反応し、磁気特性
の劣化が生じる。ちなみに、上記耐水素性に優れた層
は、メッキ金属の酸化物層であり、０．１〜１００μｍ
の厚さがあることが好ましく、更に好ましくは０．１〜
２０μｍである。
素分圧が１０-4Ｐａ〜５０ｋＰａ、好ましくは１０-4Ｐ
ａ〜３０ｋＰａである、アルゴン、窒素、空気又は低圧
真空雰囲気下において、１０分〜５０時間、８０〜７０
０℃、好ましくは２００〜６００℃で熱処理する。前記
熱処理時間は、１０分未満では、耐水素性に優れた層の
形成が十分でない、あるいは、ばらつきが多くなるため
適当ではなく、また、５０時間を超える熱処理は、効率
的ではないことと、耐水素性に優れた層が厚くなること
により磁気特性を劣化させる原因となることがあるため
適当ではない。前記熱処理温度は、８０℃未満では、耐
水素性に優れた希土類焼結磁石を得るために長時間の処
理が必要となり、効率的ではなく、また、７００℃を超
える温度では、耐水素性に優れた層の形成は成されるも
のの、希土類焼結磁石と金属メッキが反応し、磁気特性
の劣化が生じる。ちなみに、上記耐水素性に優れた層
は、メッキ金属の酸化物層であり、０．１〜１００μｍ
の厚さがあることが好ましく、更に好ましくは０．１〜
２０μｍである。
【００２３】次いで、希土類焼結磁石体表面に樹脂塗装
（吹き付け塗装、電着塗装、粉体塗装あるいはディッピ
ング塗装等のいわゆる樹脂塗装）を施すこともできる。
樹脂塗装による皮膜は、耐水素性を有していないが、希
土類焼結磁石が用いられたモーターなどが使用される雰
囲気により耐酸性を有する必要があることや、モーター
などに希土類焼結磁石が組み込まれる際、表面層に傷を
つけないため成されることとなる。なお、樹脂塗装の樹
脂は、特に限定されるものではないが、アクリル系、エ
ポキシ系、フェノール系、シリコーン系、ポリエステル
系及びポリウレタン系樹脂等が望ましい。
（吹き付け塗装、電着塗装、粉体塗装あるいはディッピ
ング塗装等のいわゆる樹脂塗装）を施すこともできる。
樹脂塗装による皮膜は、耐水素性を有していないが、希
土類焼結磁石が用いられたモーターなどが使用される雰
囲気により耐酸性を有する必要があることや、モーター
などに希土類焼結磁石が組み込まれる際、表面層に傷を
つけないため成されることとなる。なお、樹脂塗装の樹
脂は、特に限定されるものではないが、アクリル系、エ
ポキシ系、フェノール系、シリコーン系、ポリエステル
系及びポリウレタン系樹脂等が望ましい。
【００２４】
【実施例】次に本発明の実施例を挙げて具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】［実施例１］Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石合金は、
Ｎｄ：２８．０重量％、Ｄｙ：４．０重量％、Ｃｏ：
３．５重量％、Ｂ：１．０重量％、Ｃｕ：０．２重量
％、Ａｌ：０．４重量％、残部Ｆｅの組成になるように
配合し、アルゴンガス雰囲気中で、アルミナルツボを使
用して高周波溶解炉で溶解し、鋳型鋳造することにより
作製した。
Ｎｄ：２８．０重量％、Ｄｙ：４．０重量％、Ｃｏ：
３．５重量％、Ｂ：１．０重量％、Ｃｕ：０．２重量
％、Ａｌ：０．４重量％、残部Ｆｅの組成になるように
配合し、アルゴンガス雰囲気中で、アルミナルツボを使
用して高周波溶解炉で溶解し、鋳型鋳造することにより
作製した。
【００２６】次に、前記Ｒ2Ｆｅ14Ｂ系磁石合金を、ジ
ョークラッシャー、ブラウンミルで約５００μｍ以下に
粗粉砕後、窒素気流によるジェットミルにより平均粒径
約３μｍに微粉砕を行った。得られた微粉砕粉を、磁場
中プレス機により１０ｋＯｅの磁場中にて１．２ｔ／ｃ
ｍ2の圧力で成形した。得られた成形体は熱処理炉を用
い、アルゴン雰囲気中で、１０７０℃、２時間焼結した
後、冷却し、更に６００℃、１時間、アルゴン雰囲気中
で熱処理を行い、焼結磁石を作製した。得られた焼結磁
石から、５×５×５ｍｍに磁石を切り出した。
ョークラッシャー、ブラウンミルで約５００μｍ以下に
粗粉砕後、窒素気流によるジェットミルにより平均粒径
約３μｍに微粉砕を行った。得られた微粉砕粉を、磁場
中プレス機により１０ｋＯｅの磁場中にて１．２ｔ／ｃ
ｍ2の圧力で成形した。得られた成形体は熱処理炉を用
い、アルゴン雰囲気中で、１０７０℃、２時間焼結した
後、冷却し、更に６００℃、１時間、アルゴン雰囲気中
で熱処理を行い、焼結磁石を作製した。得られた焼結磁
石から、５×５×５ｍｍに磁石を切り出した。
【００２７】次に、前記焼結磁石に電解Ｃｕメッキ（５
μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ
（１０μｍ）を順次施した。この場合、ピロリン酸銅６
０ｇ／Ｌ、ピロリン酸カリウム２４０ｇ／Ｌ、シュウ酸
カリウム３０ｇ／Ｌで調整したメッキ浴を用い、浴温度
４０℃、電流密度１．５Ａ／ｄｍ2の条件で電解Ｃｕメ
ッキを行い、次いで、塩化Ｎｉ４０ｇ／Ｌ、硫酸Ｎｉ２
７０ｇ／Ｌ、ホウ酸３０ｇ／Ｌで調整したメッキ浴を用
い、浴温度５０℃、電流密度２．０Ａ／ｄｍ2の条件
で、電解Ｎｉメッキを施し、更に前記Ｎｉメッキと同様
な条件で電解Ｎｉを施した。その後、３００℃、５０時
間、空気中（酸素分圧２０ｋＰａ）の熱処理を施し、室
温まで冷却し、更にエポキシ系樹脂を吹き付けにより塗
装し、水素ガス試験用試料を得た。ここで得られた水素
ガス試験用試料は、Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ Ｓａｍｐｌｅ
Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ（以下、ＶＳＭと称す）に
より磁気特性の測定を行った。
μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ
（１０μｍ）を順次施した。この場合、ピロリン酸銅６
０ｇ／Ｌ、ピロリン酸カリウム２４０ｇ／Ｌ、シュウ酸
カリウム３０ｇ／Ｌで調整したメッキ浴を用い、浴温度
４０℃、電流密度１．５Ａ／ｄｍ2の条件で電解Ｃｕメ
ッキを行い、次いで、塩化Ｎｉ４０ｇ／Ｌ、硫酸Ｎｉ２
７０ｇ／Ｌ、ホウ酸３０ｇ／Ｌで調整したメッキ浴を用
い、浴温度５０℃、電流密度２．０Ａ／ｄｍ2の条件
で、電解Ｎｉメッキを施し、更に前記Ｎｉメッキと同様
な条件で電解Ｎｉを施した。その後、３００℃、５０時
間、空気中（酸素分圧２０ｋＰａ）の熱処理を施し、室
温まで冷却し、更にエポキシ系樹脂を吹き付けにより塗
装し、水素ガス試験用試料を得た。ここで得られた水素
ガス試験用試料は、Ｖｉｂｒａｔｉｎｇ Ｓａｍｐｌｅ
Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ（以下、ＶＳＭと称す）に
より磁気特性の測定を行った。
【００２８】前記水素ガス試験用試料をそれぞれ耐圧容
器に入れ、水素、１０ＭＰａ、２５℃、１日の条件で水
素ガス試験を施し、その後取り出した。取り出した磁石
は、外観を目視で観察し、更にＶＳＭにより磁気特性の
測定を行った。
器に入れ、水素、１０ＭＰａ、２５℃、１日の条件で水
素ガス試験を施し、その後取り出した。取り出した磁石
は、外観を目視で観察し、更にＶＳＭにより磁気特性の
測定を行った。
【００２９】［実施例２］実施例１と同様な組成、方法
で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石から実
施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出した。前
記磁石に対し、実施例１と同様な条件で電解Ｃｕメッキ
（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメッ
キ（１０μｍ）を順次施し、その後、２５０℃、３時
間、真空中（酸素分圧１０-2Ｐａ）の熱処理を施し、室
温まで徐冷し、更にエポキシ系樹脂を吹き付けにより塗
装し、水素ガス試験用試料を得、ＶＳＭにより磁気特性
の測定を行った。前記水素ガス試験用試料に対し、実施
例１と同様な条件で水素ガス試験を施し、その後取り出
した。取り出した磁石は、外観を目視で観察し、更にＶ
ＳＭにより磁気特性の測定を行った。
で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石から実
施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出した。前
記磁石に対し、実施例１と同様な条件で電解Ｃｕメッキ
（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメッ
キ（１０μｍ）を順次施し、その後、２５０℃、３時
間、真空中（酸素分圧１０-2Ｐａ）の熱処理を施し、室
温まで徐冷し、更にエポキシ系樹脂を吹き付けにより塗
装し、水素ガス試験用試料を得、ＶＳＭにより磁気特性
の測定を行った。前記水素ガス試験用試料に対し、実施
例１と同様な条件で水素ガス試験を施し、その後取り出
した。取り出した磁石は、外観を目視で観察し、更にＶ
ＳＭにより磁気特性の測定を行った。
【００３０】［比較例１］実施例１と同様な組成、方法
で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石から実
施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出し、更に
エポキシ系樹脂を吹き付けにより塗装し、水素ガス試験
用試料を得、ＶＳＭにより磁気特性の測定を行った。前
記水素ガス試験用試料に対し、実施例１と同様な条件で
水素ガス試験を施し、その後取り出した。取り出した磁
石は、外観を目視で観察した。
で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石から実
施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出し、更に
エポキシ系樹脂を吹き付けにより塗装し、水素ガス試験
用試料を得、ＶＳＭにより磁気特性の測定を行った。前
記水素ガス試験用試料に対し、実施例１と同様な条件で
水素ガス試験を施し、その後取り出した。取り出した磁
石は、外観を目視で観察した。
【００３１】［比較例２］実施例１と同様な組成、方法
で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石から実
施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出した。前
記磁石に対し、実施例１と同様な条件で、電解Ｃｕメッ
キ（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメ
ッキ（１０μｍ）を順次施し、更にエポキシ系樹脂を吹
き付けにより塗装し、水素ガス試験用試料を得、ＶＳＭ
により磁気特性の測定を行った。前記水素ガス試験用試
料に対し、実施例１と同様な条件で水素ガス試験を施
し、その後取り出した。取り出した磁石は、外観を目視
で観察した。
で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石から実
施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出した。前
記磁石に対し、実施例１と同様な条件で、電解Ｃｕメッ
キ（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメ
ッキ（１０μｍ）を順次施し、更にエポキシ系樹脂を吹
き付けにより塗装し、水素ガス試験用試料を得、ＶＳＭ
により磁気特性の測定を行った。前記水素ガス試験用試
料に対し、実施例１と同様な条件で水素ガス試験を施
し、その後取り出した。取り出した磁石は、外観を目視
で観察した。
【００３２】［比較例３，４］実施例１と同様な組成、
方法で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石か
ら実施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出し
た。前記磁石に対し、実施例１と同様な条件で電解Ｃｕ
メッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎ
ｉメッキ（１０μｍ）を順次施し、その後、５０℃、１
２時間、空気中（酸素分圧２０ｋＰａ）［比較例３］、
及び、８００℃、１２時間、空気中（酸素分圧２０ｋＰ
ａ）［比較例４］の熱処理を施し、室温まで徐冷し、更
にエポキシ系樹脂を吹き付けにより塗装し、水素ガス試
験用試料を得、ＶＳＭにより磁気特性の測定を行った。
前記水素ガス試験用試料に対し、実施例１と同様な条件
で水素ガス試験を施し、その後取り出した。取り出した
磁石は、外観を目視で観察し、更にＶＳＭにより磁気特
性の測定を行った。
方法で焼結磁石を作製した。次に、得られた焼結磁石か
ら実施例１と同様に５×５×５ｍｍに磁石を切り出し
た。前記磁石に対し、実施例１と同様な条件で電解Ｃｕ
メッキ（５μｍ）、電解Ｎｉメッキ（５μｍ）、電解Ｎ
ｉメッキ（１０μｍ）を順次施し、その後、５０℃、１
２時間、空気中（酸素分圧２０ｋＰａ）［比較例３］、
及び、８００℃、１２時間、空気中（酸素分圧２０ｋＰ
ａ）［比較例４］の熱処理を施し、室温まで徐冷し、更
にエポキシ系樹脂を吹き付けにより塗装し、水素ガス試
験用試料を得、ＶＳＭにより磁気特性の測定を行った。
前記水素ガス試験用試料に対し、実施例１と同様な条件
で水素ガス試験を施し、その後取り出した。取り出した
磁石は、外観を目視で観察し、更にＶＳＭにより磁気特
性の測定を行った。
【００３３】
【表１】
【００３４】表１に、熱処理条件、水素ガス試験条件、
水素ガス試験後の外観を示した。実施例１，２及び比較
例４は、水素ガス試験において変化がなかったことに対
し、比較例１，２及び３は、粉々に粉砕されていた。こ
のことから、実施例１，２及び比較例４は、水素脆性を
引き起こさなかったことは明らかである。
水素ガス試験後の外観を示した。実施例１，２及び比較
例４は、水素ガス試験において変化がなかったことに対
し、比較例１，２及び３は、粉々に粉砕されていた。こ
のことから、実施例１，２及び比較例４は、水素脆性を
引き起こさなかったことは明らかである。
【００３５】
【表２】
【００３６】表２に、表面処理前及び水素ガス試験前後
の磁石の磁気特性を示した。表面処理前及び水素ガス試
験前後で、実施例１，２は、ほとんど磁気特性の変化は
なかったことに対し、比較例４は、表面処理前と水素ガ
ス試験前で大きく磁気特性が変化していることが分か
る。このことは、実施例１，２において、表面処理によ
る磁気特性の劣化及び水素脆性がなかったことと、比較
例４が表面処理において磁気特性の劣化を招いてしまっ
たことを示している。比較例１，２及び３は、水素処理
により粉砕されてしまったため、水素処理後の磁気特性
は、測定不能であった。
の磁石の磁気特性を示した。表面処理前及び水素ガス試
験前後で、実施例１，２は、ほとんど磁気特性の変化は
なかったことに対し、比較例４は、表面処理前と水素ガ
ス試験前で大きく磁気特性が変化していることが分か
る。このことは、実施例１，２において、表面処理によ
る磁気特性の劣化及び水素脆性がなかったことと、比較
例４が表面処理において磁気特性の劣化を招いてしまっ
たことを示している。比較例１，２及び３は、水素処理
により粉砕されてしまったため、水素処理後の磁気特性
は、測定不能であった。
【００３７】以上、表１，２は、比較例１〜４では、表
面処理により磁気特性が明らかに劣化した又は耐水素性
の向上が見られなかったのに対し、実施例１，２では、
表面処理により磁気特性が劣化することなく、耐水素性
が向上したことを示している。
面処理により磁気特性が明らかに劣化した又は耐水素性
の向上が見られなかったのに対し、実施例１，２では、
表面処理により磁気特性が劣化することなく、耐水素性
が向上したことを示している。
【００３８】
【発明の効果】本発明のＲ2Ｆｅ14Ｂ系焼結磁石の製造
方法により、水素雰囲気中においても、水素脆性を引き
起こさない、モーター等に使用できる希土類焼結磁石を
得ることが可能となる。
方法により、水素雰囲気中においても、水素脆性を引き
起こさない、モーター等に使用できる希土類焼結磁石を
得ることが可能となる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｆ 1/08 Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３Ｄ
// Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３ Ｈ０１Ｆ 1/04 Ｈ
(72)発明者 浜田 隆二
福井県武生市北府２−１−５ 信越化学工
業株式会社磁性材料研究所内
(72)発明者 美濃輪 武久
福井県武生市北府２−１−５ 信越化学工
業株式会社磁性材料研究所内
Ｆターム(参考） 4K018 AA27 CA04 FA08 FA23 KA45
5E040 AA04 BD01 CA01 HB11 NN01
NN18
5E062 CD04 CE01 CG02 CG03 CG07
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｒ（Ｒは、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂ及び
Ｈｏから選択される１種又は２種以上の希土類元素）を
２０〜３５重量％、Ｃｏを１５重量％以下、Ｂを０．２
〜８重量％、添加物としてＮｉ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｃｕ及
びＺｎから選ばれる少なくとも１種の元素を８重量％以
下、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなる合金を溶解、
鋳造し、粉砕、微粉砕、磁場中成形、焼結、熱処理を順
次行って焼結磁石とし、更に該焼結磁石を切断及び／又
は研磨して表面を加工後、金属メッキを施し、その後、
８０〜７００℃で１０分〜５０時間熱処理することを特
徴とする希土類焼結磁石の製造方法。 - 【請求項２】 金属メッキの金属が、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃ
ｏ、Ｓｎ及びそれらの合金の少なくとも１種であること
を特徴とする請求項１記載の希土類焼結磁石の製造方
法。 - 【請求項３】 金属メッキ後の熱処理が、酸素分圧が１
０-4Ｐａ〜５０ｋＰａである、アルゴン、窒素、空気又
は低圧真空雰囲気下において行われることを特徴とする
請求項１又は２記載の希土類焼結磁石の製造方法。
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| JP2002373630A JP4003066B2 (ja) | 2001-12-28 | 2002-12-25 | 希土類焼結磁石の製造方法 |
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| JP2001399175 | 2001-12-28 | ||
| JP2001-399175 | 2001-12-28 | ||
| JP2002373630A JP4003066B2 (ja) | 2001-12-28 | 2002-12-25 | 希土類焼結磁石の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003257768A true JP2003257768A (ja) | 2003-09-12 |
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| JP2007096204A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Tdk Corp | 希土類磁石 |
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| US10672544B2 (en) | 2016-12-06 | 2020-06-02 | Tdk Corporation | R-T-B based permanent magnet |
-
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- 2002-12-25 JP JP2002373630A patent/JP4003066B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US7794859B2 (en) | 2005-09-30 | 2010-09-14 | Tdk Corporation | Rare-earth magnet |
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