JP2007273863A - 磁石部材 - Google Patents
磁石部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007273863A JP2007273863A JP2006099643A JP2006099643A JP2007273863A JP 2007273863 A JP2007273863 A JP 2007273863A JP 2006099643 A JP2006099643 A JP 2006099643A JP 2006099643 A JP2006099643 A JP 2006099643A JP 2007273863 A JP2007273863 A JP 2007273863A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet
- magnetic
- alloy layer
- magnetic alloy
- magnet member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 96
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 70
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 55
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 37
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 34
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 21
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 21
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 68
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000010408 film Substances 0.000 description 44
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 27
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 24
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 12
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- -1 that is Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017709 Ni Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003267 Ni-Co Inorganic materials 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003262 Ni‐Co Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N Gluconic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001122 Mischmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021446 cobalt carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 description 1
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZOTKGJBKKKVBJZ-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+);carbonate Chemical compound [Co+2].[O-]C([O-])=O ZOTKGJBKKKVBJZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JECJVZVHLPZRNM-UHFFFAOYSA-J cobalt(2+);phosphonato phosphate Chemical compound [Co+2].[Co+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O JECJVZVHLPZRNM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- BZRRQSJJPUGBAA-UHFFFAOYSA-L cobalt(ii) bromide Chemical compound Br[Co]Br BZRRQSJJPUGBAA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011790 ferrous sulphate Substances 0.000 description 1
- 235000003891 ferrous sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000359 iron(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);disulfamate Chemical compound [Ni+2].NS([O-])(=O)=O.NS([O-])(=O)=O KERTUBUCQCSNJU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000008 nickel(II) carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) carbonate Chemical compound [Ni+2].[O-]C([O-])=O ZULUUIKRFGGGTL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L nickel(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ni+2] BFDHFSHZJLFAMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N nickel(ii) nitrate Chemical compound [Ni+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O KBJMLQFLOWQJNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
Abstract
【解決手段】本願発明に係る磁石部材2は、磁石素体4と、飽和磁束密度が0.7T以上である磁性合金層6と、を有し、磁性合金層6が磁石素体4を被覆することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
磁石素体と、
飽和磁束密度が0.7T以上である磁性合金層と、を有し、
前記磁性合金層が前記磁石素体を被覆することを特徴とする。
前記磁石素体と、
前記磁性合金層と、
非磁性金属層と、を有し、
前記非磁性金属層が、前記磁石素体を被覆し、
前記磁性合金層が、前記非磁性金属層に被覆された前記磁石素体を被覆する。
図1は、本発明の第1実施形態に係る磁石部材の概略断面図、
図2は、本発明の第2実施形態に係る磁石部材の概略断面図である。
図1に示すように、第1実施形態において、磁石部材2は、磁石素体4と、磁性合金層6とから構成される。磁性合金層6は、磁石素体4の表面を被覆する。なお、磁性合金層6は、必ずしも、磁石素体4の表面全体を被覆する必要はなく、磁石素体4の表面の一部分を被覆してもよい。好ましくは、磁性合金層6は、磁石素体4の表面全体を被覆する。
まず、磁石素体4について説明する。
磁石素体4としては、特に限定されないが、希土類磁石を用いることが好ましい。希土類磁石としては、特に限定されないが、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)、FeおよびBを含むR−Fe−B系の希土類磁石が好ましい。このR−Fe−B系希土類磁石において、R、FeおよびBの含有量は、好ましくは、5.5原子%≦R≦30原子%、42原子%≦Fe≦90原子%、2原子%≦B≦28原子%である。
Rの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造がα−Feと同一構造の立方晶組織となるため、高い保磁力(iHc)が得られず、多すぎると、Rリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下する。
Feの含有量が少なすぎると、Brが低下し、多すぎると、iHcが低下する。
Bの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造が菱面体組織となるため保磁力(iHc)が不十分であり、多すぎると、Bリッチな非磁性相が多くなるため、残留磁束密度(Br)が低下する。
上記のような磁石素体4(希土類磁石)は、以下に述べるような粉末冶金法により製造される。
次に、磁性合金層6について説明する。
次に、磁性合金層6について説明する。まず、磁石素体4の表面をアルカリ脱脂処理した後、酸による化学エッチングを施し、磁石素体4の表面を清浄する。この処理を行うことにより磁石素体4の表面の汚れを除去でき、確実に磁性合金層6を形成できる。化学エッチングで使用する酸としては、硝酸を用いることが好ましい。なお、アルカリ脱脂処理前に、磁石素体4の表面のバリなどを取り除くため、バレル研磨を行ってもよい。
第2実施形態においては、図2に示すように、磁石部材2は、磁石素体4と、磁性合金層6と、非磁性金属層8とを有する。非磁性金属層8は、磁石素体4の表面を被覆する。磁性合金層6は、非磁性金属層8の表面を被覆する。なお、非磁性金属層8は、複数の層から構成されてもよい。第2実施形態における磁石素体4および磁性合金層6ついては、第1実施形態と同様であるため、これらの説明は省略する。以下では、主に非磁性金属層8について説明する。
非磁性金属層8の形成方法は、第1実施形態において説明した磁性合金層6の場合と同様である。よって第1実施形態と重複する事項については、以下説明を省略する。
実施例1〜4においては、電解めっきにより、磁石素体の表面に磁性合金層を形成した。
実施例5においては、以下に示すように、真空蒸着法によって、磁石素体の表面に磁性合金層を形成した。
実施例6においては、スパッタリングによって、磁石素体の表面に磁性合金層を形成した。
アルゴン圧: 1Pa、
高周波電力: 300W、
基材(磁石素体)の温度550℃、
基材・ターゲット間距離、200mm。
比較例1においては、電解めっきによって、磁石素体の表面にNi単独で構成されるめっき膜を形成した。比較例1で用いためっき浴の組成、めっき条件を表1に示す。それ以外は実施例1と同じ条件で、比較例1の磁石部材を形成した。
表2に示すように、実施例1〜6の各磁石部材においては、Ni-Coから成る磁性合金層が、磁石素体を被覆した。一方、比較例1の各磁石部材においては、Ni単独で構成されるめっき膜が、磁石素体を被覆した。実施例1〜6、比較例1においては、同じ磁石素体を用いた。
実施例7〜11においては、めっき法によって、磁石素体の表面にめっき膜(磁性合金層)を形成した。実施例7〜11で用いためっき浴の組成、めっき条件を表3に示す。それ以外は実施例1と同じ条件で、実施例7〜11の磁石部材を形成した。
比較例2においては、スパッタリングによって、磁石素体の表面に、磁石素体と同様の組成を有する磁性合金層を形成した。それ以外は実施例1と同じ条件で、比較例2の磁石部材を形成した。
表4に示すように、実施例7〜11においては、Ni,Co,およびFeのうち少なくとも2つの元素を含む磁性合金層が、磁石素体を被覆した。一方、比較例2の磁石部材においては、磁石素体と同様の組成を有し、かつ、非晶質である磁性合金層が、磁石素体を被覆した。
実施例12〜14、比較例3〜5においては、めっき法によって、磁石素体の表面にめっき膜を形成した。実施例12〜14、比較例3〜5で用いためっき浴の組成、めっき条件を表5に示す。それ以外は実施例1と同じ条件で、実施例12〜14、比較例3〜5の磁石部材を形成した。
表6に示すように、実施例12〜14においては、Ni−Coから成る磁性合金層が、磁石素体を被覆した。一方、比較例3〜5の磁石部材においては、Ni単独で構成されるめっき膜が、磁石素体を被覆した。
実施例15,16においては、まず、めっき法によって、磁石素体の表面に非磁性金属層を形成した。次に、めっき法によって、非磁性金属層の表面に磁性合金層を形成した。実施例15,16で用いためっき浴の組成、めっき条件を表7に示す。それ以外は実施例1と同じ条件で、実施例15,16の磁石部材を形成した。
比較例6においては、比較例1で用いためっき浴、めっき条件によって、磁石素体の表面にNi単独で構成されるめっき膜を形成した。Niめっき膜の厚さは、15μmであった。それ以外は比較例1と同じ条件で、比較例6の磁石部材を形成した。
非磁性金属層および磁性合金層を有する実施例15,16の磁石部材においては、Ni単独から構成されるめっき膜を有する比較例6の磁石部材に比べて、磁束が大きかった。これらの結果から、実施例15、16においては、比較例6に比べて、磁石部材の磁気特性が優れていることが確認された。
4… 磁石素体
6… 磁性合金層
8… 非磁性金属層
Claims (7)
- 磁石素体と、
飽和磁束密度が0.7T以上である磁性合金層と、を有し、
前記磁性合金層が前記磁石素体を被覆することを特徴とする磁石部材。 - 前記磁性合金層の飽和磁束密度が、前記磁石素体の残留磁束密度以上であることを特徴とする請求項1に記載の磁石部材。
- 前記磁石素体が希土類磁石であることを特徴とする請求項1または2に記載の磁石部材。
- 前記磁性合金層が、Ni,Co,およびFeのうち少なくとも2つの元素を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の磁石部材。
- 前記磁石素体と、
前記磁性合金層と、
非磁性金属層と、を有し、
前記非磁性金属層が、前記磁石素体を被覆し、
前記磁性合金層が、前記非磁性金属層に被覆された前記磁石素体を被覆することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の磁石部材。 - 前記非磁性金属層が、Cuを含むことを特徴とする請求項5に記載の磁石部材。
- 前記非磁性金属層が、
Sn,Mo,W,Cu,Zn,Ti,P,Bのうち少なくとも1つの元素と、
Niと、を含むことを特徴とする請求項5または6に記載の磁石部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006099643A JP5036207B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 磁石部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006099643A JP5036207B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 磁石部材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007273863A true JP2007273863A (ja) | 2007-10-18 |
JP5036207B2 JP5036207B2 (ja) | 2012-09-26 |
Family
ID=38676323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006099643A Expired - Fee Related JP5036207B2 (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 磁石部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5036207B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180091262A (ko) * | 2017-02-06 | 2018-08-16 | 엘지이노텍 주식회사 | 희토류 자석 및 이를 제조하는 방법 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01225103A (ja) * | 1988-03-04 | 1989-09-08 | Nippon Steel Corp | 高耐食性希土類永久磁石 |
JPH04144102A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Hitachi Metals Ltd | 永久磁石 |
JPH04287302A (ja) * | 1991-03-15 | 1992-10-12 | Tdk Corp | 永久磁石およびその製造方法 |
JPH05205926A (ja) * | 1991-11-27 | 1993-08-13 | Hitachi Metals Ltd | 耐食性を改善した希土類・遷移金属系永久磁石及びその製造方法 |
JPH06140218A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Toshiba Corp | 耐衝撃性希土類コバルト磁石およびその製造方法 |
JP2003257768A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-09-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類焼結磁石の製造方法 |
JP2004289022A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Tdk Corp | 希土類磁石の製造方法 |
JP2005011973A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Japan Science & Technology Agency | 希土類−鉄−ホウ素系磁石及びその製造方法 |
JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
-
2006
- 2006-03-31 JP JP2006099643A patent/JP5036207B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01225103A (ja) * | 1988-03-04 | 1989-09-08 | Nippon Steel Corp | 高耐食性希土類永久磁石 |
JPH04144102A (ja) * | 1990-10-04 | 1992-05-18 | Hitachi Metals Ltd | 永久磁石 |
JPH04287302A (ja) * | 1991-03-15 | 1992-10-12 | Tdk Corp | 永久磁石およびその製造方法 |
JPH05205926A (ja) * | 1991-11-27 | 1993-08-13 | Hitachi Metals Ltd | 耐食性を改善した希土類・遷移金属系永久磁石及びその製造方法 |
JPH06140218A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Toshiba Corp | 耐衝撃性希土類コバルト磁石およびその製造方法 |
JP2003257768A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-09-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 希土類焼結磁石の製造方法 |
JP2004289022A (ja) * | 2003-03-24 | 2004-10-14 | Tdk Corp | 希土類磁石の製造方法 |
JP2005011973A (ja) * | 2003-06-18 | 2005-01-13 | Japan Science & Technology Agency | 希土類−鉄−ホウ素系磁石及びその製造方法 |
JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180091262A (ko) * | 2017-02-06 | 2018-08-16 | 엘지이노텍 주식회사 | 희토류 자석 및 이를 제조하는 방법 |
KR102617340B1 (ko) * | 2017-02-06 | 2023-12-26 | 엘지이노텍 주식회사 | 희토류 자석 및 이를 제조하는 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5036207B2 (ja) | 2012-09-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100863809B1 (ko) | 입계개질한 Nd-Fe-B계 자석의 제조방법 | |
JP4702549B2 (ja) | 希土類永久磁石 | |
JP4765747B2 (ja) | R−Fe−B系希土類焼結磁石の製造方法 | |
JP2005011973A (ja) | 希土類−鉄−ホウ素系磁石及びその製造方法 | |
JPS6274048A (ja) | 永久磁石材料及びその製造方法 | |
US6275130B1 (en) | Corrosion-resisting permanent magnet and method for producing the same | |
JP2006179963A (ja) | Nd−Fe−B系磁石 | |
JPS62188745A (ja) | 永久磁石材料及びその製造方法 | |
JP4600332B2 (ja) | 磁石部材およびその製造方法 | |
JP4983619B2 (ja) | 永久磁石 | |
JP5036207B2 (ja) | 磁石部材 | |
JP2007270236A (ja) | めっき液および導電性素材の製造方法 | |
JP2007273503A (ja) | 磁石およびその製造方法 | |
JPH0529119A (ja) | 高耐食性希土類磁石 | |
JPS62120002A (ja) | 耐食性のすぐれた永久磁石 | |
JP4760811B2 (ja) | 希土類磁石及びその製造方法 | |
WO1998009300A1 (fr) | Aimant permanent resistant a la corrosion et procede de fabrication dudit aimant | |
JPS61281850A (ja) | 永久磁石材料 | |
JP2006286779A (ja) | 磁石及びその製造方法 | |
JPH07249509A (ja) | 耐食性永久磁石およびその製造方法 | |
JPH1074607A (ja) | 耐食性永久磁石及びその製造方法 | |
JP4770556B2 (ja) | 磁石 | |
JP2006156853A (ja) | 希土類磁石 | |
JP2009088206A (ja) | 希土類磁石の製造方法 | |
JP3652816B2 (ja) | 耐食性永久磁石及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100525 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100621 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120511 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120703 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150713 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5036207 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |