JPH07278167A - ビスアシルホスフィン - Google Patents

ビスアシルホスフィン

Info

Publication number
JPH07278167A
JPH07278167A JP2326492A JP2326492A JPH07278167A JP H07278167 A JPH07278167 A JP H07278167A JP 2326492 A JP2326492 A JP 2326492A JP 2326492 A JP2326492 A JP 2326492A JP H07278167 A JPH07278167 A JP H07278167A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
unsubstituted
substituted
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2326492A
Other languages
English (en)
Inventor
Werner Rutsch
ルッシュ ヴェルナー
Gebhard Hug
フグ ゲハルト
Manfred Dr Koehler
コーラー マンフレッド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Geigy AG filed Critical Ciba Geigy AG
Publication of JPH07278167A publication Critical patent/JPH07278167A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/5036Phosphines containing the structure -C(=X)-P or NC-P
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 次式I 【化1】 (R1 は未置換、フェニル基、−CN、C1〜12のア
ルコキシ基またはハロゲンにより置換されたC1〜18
のアルキル基、R2 及びR3 は未置換、フェニル基また
はC1〜12のアルコキシ基により置換されたC1〜1
8のアルキル基)で表わされるビスアシルホスフィンを
含む光重合性組成物、エチレン性不飽和化合物の光重合
用開始剤として式Iの化合物を使用する方法、エチレン
性不飽和化合物を光重合するための方法。 【効果】 上記ビスアシルホスフィンはエチレン性不飽
和化合物を光重合させるための有効な光重合用開始剤で
あり、該化合物を含む光重合性組成物は、印刷インク、
クリアコーティング、エナメル、接着剤、印刷回路、電
子部品のコーティング等に使用される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ビスアシルホスフィン
を含む光硬化性組成物、エチレン性不飽和化合物の光重
合用開始剤としてこれらの化合物を使用する方法、及び
光重合開始剤としてビスアシルホスフィンでそのような
化合物を光重合するための方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アリール置換されたモノ−,ビス−及び
トリス−アシルホスフィンは米国特許第3668093
号に、光重合開始剤として提示されている。ビスアシル
ホスフィンは欧州特許第184095号に、ビスアシル
ホスフィンオキシド光重合開始剤の製造のための抽出物
として開示されている。
【0003】
【課題を解決するための手段】ビスアシルホスフィンは
また、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物を光重合
するための最も有効な光重合開始剤であることが見い出
された。
【0004】従って、本発明は、(a)少なくとも1個
のエチレン性不飽和光重合性化合物、及び(b)光重合
開始剤として、少なくとも1個の次式I
【化2】 (式中、R1 は未置換炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基、またはフェニル基、−CN、炭素原子数1ないし
12のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換さ
れた炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2
ないし18のアルケニル基、未置換炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基、または炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基
若しくはハロゲン原子により置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、または酸素原子、硫黄原子
および/または窒素原子を含み、未置換またはハロゲン
原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基若しくは炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された5若
しくは6員の芳香族ヘテロ環官能基を表わし、並びにR
2 及びR3 はそれぞれ互いに独立して未置換炭素原子数
1ないし18のアルキル基、またはフェニル基、ハロゲ
ン原子若しくは炭素原子数1ないし12のアルコキシ基
により置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基、
炭素原子数2ないし6のアルケニル基、未置換炭素原子
数5ないし8のシクロアルキル基、または炭素原子数1
ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換された炭素
原子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換炭素原子
数6ないし12のアリール基、または炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハ
ロゲン原子により置換された炭素原子数6ないし12の
アリール基、または酸素原子、硫黄原子および/または
窒素原子を含み、未置換またはハロゲン原子、炭素原子
数1ないし4のアルキル基若しくは炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換された5若しくは6員の芳
香族ヘテロ環官能基を表わす)で表わされる化合物を含
む光重合性組成物に関する。
【0005】炭素原子数1ないし18のアルキル基とし
てのR1 ,R2 及びR3 は、分枝状および非分枝状アル
キル基であり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、第三ヘキ
シル基、ヘプチル基、2,4,4−トリメチルペンチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テ
トラデシル基、ヘプタデシル基、またはオクタデシル基
を含む。R1 ,R2 及びR3 は炭素原子数1ないし12
のアルキル基が好ましい。
【0006】1個またはそれ以上、好都合には、1ない
し3個、好ましくは1または2個の置換基を有する炭素
原子数1ないし8のアルキル基としてのR1 ,R2 及び
3は、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェ
ニルエチル基、α,α−ジメチルベンジル基、2−メト
キシエチル基、2−エトキシエチル基、ジエトキシメチ
ル基、2−ブトキシエチル基、2−イソプロポキシエチ
ル基、2−ブトキシプロピル基、2−オクチルオキシエ
チル基、クロロメチル基、2−クロロエチル基またはト
リクロロエチル基であり、好ましくは置換された炭素原
子数1ないし4のアルキル基、特にベンジル基である。
1 はまた、シアノメチル基、シアノエチル基、等であ
る。
【0007】炭素原子数2ないし18のアルケニル基と
してのR1 は、アリル基、メタリル基、1,1−ジメチ
ルアリル基、ブテニル基、2−ヘキセニル基、オクテニ
ル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、またはオクタデ
セニル基であり、好ましくは炭素原子数2ないし12の
アルケニル基、最も好ましくは炭素原子数2ないし6の
アルケニル基である。
【0008】炭素原子数2ないし6のアルケニル基とし
てのR2 及びR3 は、ビニル基、プロペニル基、ブテニ
ル基、またはヘキセニル基である。
【0009】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
としてのR1 ,R2 及びR3 は、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、またはシクロオクチル基、好ましくは
シクロペンチル基及びシクロヘキシル基、最も好ましく
はシクロヘキシル基である。置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、好都合には一ないし四置換
された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基として
のR1 ,R2 及びR3は、メチルシクロペンチル基、ジ
メチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジ
メチルシクロヘキシル基、ジエチルシクロヘキシル基、
メトキシシクロペンチル基、ジメトキシシクロペンチル
基、エトキシシクロペンチル基、ジエトキシシクロペン
チル基、メトキシシクロヘキシル基、ジメトキシシクロ
ヘキシル基、エトキシシクロヘキシル基、ジエトキシシ
クロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基、クロロシク
ロペンチル基、ジクロロシクロヘキシル基、またはジク
ロロシクロペンチル基である。置換されたシクロアルキ
ル基は、好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル置
換シクロアルキル基である。
【0010】炭素原子数6ないし12のアリール基とし
てのR2 及びR3 は、フェニル基、α−ナフチル基、β
−ナフチル基、または4−ジフェニリル基であり、好ま
しくはフェニル基である。置換された炭素原子数6ない
し12のアリール基としてのR2 及びR3 は好ましく
は、1ないし3個の置換基を有し、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ジフルオ
ロフェニル基、トリル基、メシチル基、エチルフェニル
基、第三ブチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メト
キシフェニル基、ジメトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、ヘキシルオキシフェニル基、メチルナフチル
基、イソプロピルナフチル基、クロロナフチル基、エト
キシナフチル基、メトキシエチルフェニル基、エトキシ
メチルフェニル基、メチルチオフェニル基、イソプロピ
ルチオフェニル基、または第三ブチルチオフェニル基で
あり、好ましくはジメトキシフェニル基、クロロフェニ
ル基およびメシチル基であり、さらに好ましくはジメト
キシフェニル基である。アリール基の置換基としてのア
ルキル基およびアルコキシ基は、1ないし4個の炭素原
子を含み、好ましくはメチル基若しくはメトキシ基であ
る。
【0011】ヘテロ環官能基R1 ,R2 及びR3 は単核
または多核であり、好ましくは単核または二核、代表的
には縮合されたベンゼン環であり、フリル基、チエニル
基、プロリル基、ピリジル基、インドリル基、ベンゾキ
サゾリル基、ベンズイミダゾリル基、またはベンズチア
ゾリル基でありうる。そのようなヘテロ環官能基は好ま
しくは、4ないし12個の炭素原子を含む。これらのヘ
テロ環官能基は1個またはそれ以上の、好都合には1ま
たは2個の置換基を有する。実例はジメチルピリジル
基、メチルキノリル基、ジメチルピロリル基、メトキシ
フリル基、ジメトキシピリジル基、またはジフルオロピ
リジル基である。
【0012】ハロゲン原子は好ましくは、塩素原子、臭
素原子または弗素原子であり、もっとも好ましくは塩素
原子である。
【0013】好ましい組成物において、R1 は未置換炭
素原子数1ないし12のアルキル基、またはフェニル
基、−CN、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、若
しくはハロゲン原子により置換された炭素原子数1ない
し8のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアルケニ
ル基、未置換炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素
原子数1ないし4のアルコキシ基、若しくはハロゲン原
子により置換された炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基、または酸素原子、硫黄原子および/または窒素
原子を含み、未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数
1ないし4のアルキル基若しくは炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基により置換された5または6員の芳香族
ヘテロ環官能基を表わし、並びに、R2 及びR3 はそれ
ぞれ互いに独立して未置換炭素原子数1ないし12のア
ルキル基、またはフェニル基、ハロゲン原子、若しくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された
炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2ない
し6のアルケニル基、未置換炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、または炭素原子数1ないし12のアル
キル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基若しくは
ハロゲン原子により置換された炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、未置換炭素原子数6ないし12のア
リール基、または炭素原子数1ないし12のアルキル
基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数
2ないし8のアルコキシアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルキルチオ基もしくはハロゲン原子により置換
された炭素原子数6ないし12のアリール基、または酸
素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含み、未置
換またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基若しくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によ
り置換された5若しくは6員の芳香族ヘテロ環官能基を
表わす。
【0014】興味深い組成物はまた、R1 が未置換炭素
原子数1ないし12のアルキル基、またはフェニル基、
−CN、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基若しくは
ハロゲン原子により置換された炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニル基、未
置換炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、または
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換
された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基を表わ
し、並びにR2 及びR3 がそれぞれ互いに独立して未置
換炭素原子数1ないし12のアルキル基、またはフェニ
ル基、ハロゲン原子、若しくは炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換された炭素原子数1ないし4の
アルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニル基、未
置換炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、または
炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換
された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、未置
換炭素原子数6ないし12のアリール基、または炭素原
子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし4
のアルコキシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキシア
ルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もし
くはハロゲン原子により置換された炭素原子数6ないし
12のアリール基を表わす。
【0015】特に好ましい組成物は、式Iにおいて、R
1 が未置換炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェ
ニル−炭素原子数1ないし4のアルキル基、未置換もし
くは炭素原子数1ないし12のアルキル置換されたシク
ロペンチル基またはシクロヘキシル基を表わし、並びに
2 及びR3 がそれぞれ互いに独立して未置換炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル−炭素原子数1
ないし4のアルキル基、未置換もしくは炭素原子数1な
いし12のアルキル置換されたシクロペンチル基または
シクロヘキシル基、または未置換フェニル基、または炭
素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基もしくはハロゲン原子により置換さ
れたフェニル基を表わす化合物であり、最も好ましくは
1 が炭素原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘ
キシル基またはフェニル−炭素原子数1ないし4のアル
キル基を表わし、並びにR2 及びR3 がそれぞれ互いに
独立して炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、ハロゲ
ン原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基により
置換されたフェニル基を表わす化合物を含む。
【0016】式Iの化合物において、R2 及びR3 は同
一であるのが好ましい。
【0017】ビスアシルホスフィンの製造は、その分野
の当業者に公知であり、文献、例えば、欧州特許第18
4095号に開示されている。そのため、適当な酸ハラ
イドまたは2個の酸ハライドの混合物と第一ホスフィン
とを、好ましくは、化学量論比約2:1で塩基、より好
ましくはアミン塩基の存在下に反応式〔(a)〕及び
〔(b)〕に従って反応することにより製造されうる。
【化3】
【化4】
【0018】ホスフィンはまた、ビス(トリメチルシリ
ル)ホスフィンが都合良い。酸ハライドとの反応におい
て、トリメチルシリル基は酸官能基〔(c)〕により置
き換えられる。
【化5】
【0019】官能基R1 、R2 及びR3 は特許請求の範
囲で定義された意味を表わし、Xはハロゲン原子、好ま
しくは塩素原子を表わす。
【0020】第一ホスフィンの製造法は、その分野の当
業者に公知であり、例えば、Houben-Weyl 氏著、Method
en der organischen Chemie, Vol.XII/1,p.17-79(196
3)、Georg Thieme Verlag Stuttgart 、及びHouben-Wey
l 氏著、Methoden der organischen Chemie, Vol.E1,p.
106-183,(1982)、Georg Thieme Verlag Stuttgart に記
載されている。
【0021】本発明はさらに、エチレン性不飽和化合物
の光重合のための光重合開始剤としての式Iの化合物の
使用方法に関する。
【0022】本発明の実際において、式Iの化合物はエ
チレン性不飽和化合物またはそのような化合物を含む混
合物の光重合のための光重合開始剤として使用されう
る。本発明組成物の化合物(a)は、光重合により反応
するエチレン性不飽和モノマー、オリゴマー及びポリマ
ーから適当に選択され、高分子量の生成物を形成し、そ
の結果、それらの溶解性を変えうる。
【0023】不飽和化合物は1個またはそれ以上のオレ
フィン性二重結合化合物を含む。それらは、低分子量化
合物(モノマー)または高分子量化合物(オリゴマー)
である。
【0024】特に適当な不飽和化合物は、エチレン性不
飽和カルボン酸及びポリオール若しくはポリエポキシド
のエステル、並びに鎖中若しくは側鎖にエチレン性不飽
和基を有し、不飽和ポリエステル、ポリアミド及びポリ
ウレタン及びそれらのコポリマーを含むポリマー、ポリ
ブタジエン及びブタジエンコポリマー、ポリイソプレン
及びイソプレンコポリマー、側鎖に(メタ)アクリル基
を含むポリマー及びコポリマー、並びに1個若しくはそ
れ以上のそのようなポリマーの混合物を含む。
【0025】不飽和カルボン酸は代表的には、アクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮
酸、不飽和脂肪酸、例えば、リノレイン酸またはオレイ
ン酸である。アクリル酸およびメタクリル酸が好まし
い。
【0026】適当なポリオールは芳香族ポリオール、好
ましくは脂肪族及び脂環式ポリオールである。芳香族ポ
リオールの例は、ヒドロキノン、4,4’−ジヒドロキ
シジフェニル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、並びにノボラック及びレゾールである。
ポリエポキシドは引用されたポリオール、好ましくは芳
香族ポリオール及びエピクロロヒドリンに基づいた化合
物を含む。さらに適当なポリオールは、ポリマー鎖中若
しくは側鎖にヒドロキシル基を含むポリマー及びコポリ
マー、例えば、ポリビニルアルコールおよびそれらのコ
ポリマーまたはポリメタクリルヒドロキシアルキルエス
テルまたはそれらのコポリマーである。他の適当なポリ
オールはヒドロキシル末端基を含むオリゴエステルであ
る。
【0027】脂肪族及び脂環式ポリオールの例は、好ま
しくは2ないし12の炭素原子を含むアルキレンジオー
ル、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジ
オールまたは1,3−プロパンジオール、1,2−ブタ
ンジオール、1,3−ブタンジオールまたは1,4−ブ
タンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、
オクタンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、好ましくは200な
いし1500の分子量を持つポリエチレングリコール、
1,3−シクロペンタンジオール、1,2−シクロヘキ
サンジオール、1,3−シクロヘキサンジオールまたは
1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−ジヒドロキ
シメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリス(β−
ヒドロキシエチル)アミン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペン
タエリトリトール及びソルビトールである。
【0028】ポリオールは、1個または異なる不飽和カ
ルボン酸で部分的にまたは完全にエステル化され、その
場合、部分的なエステルの遊離ヒドロキシル基が変成さ
れ、例えば、エーテル化若しくは他のカルボン酸でエス
テル化されうる。
【0029】エステルの例は、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタ
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタエリ
トリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトールテ
トラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアクリレ
ート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペ
ンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
トリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトー
ルヘキサアクリレート、トリペンタエリトリトールオク
タアクリレート、ペンタエリトリトールジメタクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリトリ
トールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリトー
ルオクタメタクリレート、ペンタエリトリトールジイタ
コネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコネー
ト、ジペンタエリトリトールペンタイタコネート、ジペ
ンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチレングリ
コールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアク
リレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ペンタエリトリトール−変成されたトリアクリレート、
ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペン
タアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オ
リゴエステルアクリレート及びメタクリレート、グリセ
ロールジアクリレート及びグリセロールトリアクリレー
ト、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、200な
いし1500の分子量をもつポリエチレングリコールの
ビスアクリレート及びビスメタクリレート、またはそれ
らの混合物。
【0030】成分(a)として使用するのに適当なの
は、好ましくは2ないし6、特に2ないし4のアミノ基
を含む芳香族、脂環式及び脂肪族ポリアミンの同一また
は異なる不飽和カルボン酸のアミドである。そのような
ポリアミンの例は、エチレンジアミン、1,2−プロピ
レンジアミンまたは1,3−プロピレンジアミン、1,
2−ブチレンジアミン、1,3−ブチレンジアミンまた
は1,4−ブチレンジアミン、1,5−ペンチレンジア
ミン、1,6−ヘキシレンジアミン、オクチレンジアミ
ン、ドデシレンジアミン、1,4−ジアミノシクロヘキ
サン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミン、ビス
フェニレンジアミン、ビス(β−アミノエチル)エーテ
ル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
ビス(β−アミノエトキシ)エタン、またはビス(β−
アミノプロポキシ)エタンである。他の適当なポリアミ
ンは、側鎖に付加的なアミノ基を含みうるポリマー及び
コポリマー、及びアミノ末端基を含むオリゴアミドであ
る。
【0031】そのような不飽和アミドの例は、メチレン
ビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアク
リルアミド、ジエチレントリアミントリメタクリルアミ
ド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−
メタクリルアミドエチルメタクリレート、N−〔(β−
ヒドロキシエトキシ)エチル〕アクリルアミドである。
【0032】適当な不飽和ポリエステル及びポリアミド
は、マレイン酸及びジオールまたはジアミンから誘導さ
れる。マレイン酸は他のジカルボン酸により部分的に置
き換えられうる。それらはスチレンのようなエチレン性
不飽和コモノマーと一緒に使用されうる。ポリエステル
及びポリアミドは、ジカルボン酸及びエチレン性不飽和
ジオールまたはジアミン、特に代表的には6ないし20
個の炭素原子を含む長鎖を持つものから誘導されうる。
ポリウレタンは代表的には、飽和または不飽和ジイソシ
アネート、並びに不飽和及び飽和ジオールから誘導され
る。
【0033】ポリブタジエン及びポリイソプレン及びそ
れらのコポリマーは公知である。適当なコモノマーは、
オレフィン、例えば、エチレン、プロペン、ブテン、ヘ
キセン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、ス
チレンまたは塩化ビニルを含む。側鎖に(メタ)アクリ
レート基を含むポリマーはまた、公知である。それらは
代表的には、ノボラックに基づいたエポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸の反応生成物、(メタ)アクリル酸でエ
ステル化されたポリビニルアルコールまたはそれらのヒ
ドロキシアルキル誘導体のホモポリマーまたはコポリマ
ー、またはヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートで
エステル化された(メタ)アクリレートのホモポリマー
及びコポリマーである。
【0034】光重合性化合物は、それ自身で、またはい
かなる望ましい混合物中でも使用されうる。ポリオール
(メタ)アクリレートの混合物を使用するのが好まし
い。
【0035】結合剤はまた、本発明の組成物に添加され
うる。光重合性化合物が液体または粘性物質であると
き、結合剤の添加は特に有益である。結合剤の量は全組
成物に基づいて、5〜95、好ましくは10〜90、最
も好ましくは50〜90重量%である。結合剤の選択
は、使用分野およびそれらの望ましい特徴、例えば、水
性及び有機溶媒系で現像されるべき組成物の能力、基質
に対する接着力、及び酸素に対する感受性によるだろ
う。
【0036】適当な結合剤は代表的には、約5000〜
2,000,000、好ましくは10,000〜1,0
00,000の分子量を持つポリマーである。実例は、
メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリ
ル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメタクリレート)、
ポリ(アルキルアクリレート)を含むアクリレート及び
メタクリレートのホモポリマー及びコポリマー;セルロ
ースエステル及びエーテル、例えば、セルロースアセテ
ート、セルロースアセトブチレート、メチルセルロー
ス、エチルセルロース;ポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、環化されたゴム、ポリエーテル、例え
ば、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、
ポリテトラヒドロフラン;ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリビニ
ルクロリド、塩化ビニル/塩化ビニリデンのコポリマ
ー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメタク
チレート及び酢酸ビニルのコポリマー、ポリビニルアセ
テート、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリカプロ
ラクタム及びポリ(ヘキサメチレンアジパミド)のよう
なポリマー、ポリ(エチレングリコールテレフタレー
ト)及びポリ(ヘキサメチレングリコールスクシネー
ト)のようなポリエステルである。
【0037】不飽和化合物は、非−光重合性フィルム形
成成分との混合物中に使用されうる。これらの成分は、
ニトロセルロースまたはセルロースアセトブチレートの
ような有機溶媒中で物理的に乾性ポリマー、または溶液
でありうる。しかし、それらは化学的または熱的硬化性
樹脂、例えば、ポリイソシアネート、ポリエポキシドま
たはメラミン樹脂でありうる。熱硬化性樹脂を同時に使
用することは、第一段階で光重合され、第二段階で熱的
後処理により架橋される、いわゆるハイブリッドシステ
ムでの使用が重要である。
【0038】本発明の光重合可能な組成物は、好都合に
は、組成物に基づいて0.05ないし15重量%、好ま
しくは0.2ないし5重量%の量で光重合開始剤(b)
を含む。
【0039】本発明は、光重合開始剤(b)に加えて、
少なくとも1個の光重合開始剤および/または他の添加
剤からなる組成物に関する。
【0040】光重合開始剤に加えて、光重合可能な組成
物中に存在する他の異なる添加剤は代表的には、熱阻害
剤であり、特に成分の混合により組成物を製造する間、
早期の重合を防ぐ。そのような他の添加剤は代表的に
は、ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体、p−メトキシ
フェノール、β−ナフトールまたは立体障害性フェノー
ル、例えば、2,6−ジ(第三ブチル)p−クレゾール
である。
【0041】暗所での貯蔵安定性を高めるため、銅ナフ
テネート、銅ステアレートまたは銅オクトエートを含む
銅化合物、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィット、トリフェニルホスフィ
ット、またはトリベンジルホスフィットを含むリン化合
物、テトラエチルアンモニウムクロリドまたはトリメチ
ルアンモニウムクロリドのような第四級アンモニウム化
合物、またはN−ジエチルヒドロキシルアミンのような
ヒドロキシルアミン誘導体を添加することができる。
【0041】重合中に雰囲気酸素を排除することは、パ
ラフィンまたは類似ワックス様物質を添加することによ
り行われる。該物質は重合開始時に、ポリマー中の溶解
性が不足するため表面に拡散し、空気がシステムに入る
ことを防ぐ透明フィルムを形成する。
【0042】紫外線吸収剤、代表的にはベンゾトリアゾ
ール、ベンゾフェノンまたはオキサニリド型の化合物の
少量を、光安定剤として添加する。立体障害性アミン型
(HALS)の光安定剤もまた、添加されうる。
【0043】特別な場合において、2またはそれ以上の
本発明の光重合開始剤の混合物を使用することは有効で
ある。式Iの光重合開始剤に加えて使用される他の光重
合開始剤は以下の型から選ばれたものである:ベンゾフ
ェノン、アセトフェノン誘導体、例えば、α−ヒドロキ
シアルキルフェニルケトン、ベンゾインアルキルエーテ
ル及びベンジルケタール、またはアシルホスフィンオキ
シド、ビスアシルホスフィンオキシドまたはチタノセ
ン。
【0044】光重合は特に、顔料配合物において、トリ
エタノールアミン、N−メチル−ジエタノールアミン、
エチルp−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラー
ケトンのようなアミンを添加することにより、促進され
うる。アミンの作用はベンゾフェノン型の芳香族ケトン
の添加により増強されうる。
【0045】光重合はさらに、分光感度を移動したり、
拡大する光増感剤を添加することにより促進されうる。
これらの光増感剤は好ましくは、芳香族カルボニル化合
物、例えば、ベンゾフェノン、チオキサントン、アント
ラキノン及び3−アシルクマリン誘導体、並びに3−
(アロイルメチレン)チアゾリンである。
【0046】考えられる最終用途についての他の慣用の
添加剤は充填剤、顔料、染料、接着促進剤、水和剤また
は均展剤である。
【0047】光重合性組成物は、印刷用インク組成物に
おいて、クリアコーティング(clear coating)剤におい
て、白色エナメル、塗料において、外観コーティング用
塗料において、及び写真複写方法のための、イメージ記
録方法のための、または印刷基板製造のための、ステレ
オリソグラフィのための、歯科充填組成物として、接着
剤として、光ファイバー用コーティングとして、印刷回
路のための、または電子部品をコーティングするための
それらの使用を含む、種々の目的に使用されうる。
【0048】コーティング剤においては、プレポリマー
と、多飽和モノマーとの二成分混合物または更にモノ−
不飽和モノマーを含む三成分混合物がしばしば使用され
る。プレポリマーは第一に、塗膜の性質を決定し、プレ
ポリマーを変えることにより、当業者は硬化されたフィ
ルムの性質に影響を及ぼすことができる。多価不飽和モ
ノマーはコーティングフィルムを不溶性にする架橋剤と
して作用する。モノ−不飽和モノマーは、溶媒を使用す
ることなく、粘度を低下させる反応性希釈液として作用
する。
【0049】プレポリマーに基づいた二及び三成分系は
印刷インキ、並びにコーティング組成物、ホトレジスト
または他の光硬化性組成物に使用される。光硬化性プレ
ポリマーに基づいた一成分系はまた、印刷インキ用結合
剤として、しばしば使用される。
【0050】不飽和ポリエステル樹脂は通常、モノ−不
飽和モノマー、好ましくはスチレンと一緒に使用され
る。特定の一成分系はドイツ特許第2308830号に
開示されたホトレジスト、例えば、ポリマレイミド、ポ
リカルコンまたはポリイミドのためにしばしば使用され
る。
【0051】本発明の光硬化性組成物は、全ての種類の
基質、例えば、木材、紙、セラミックス、ポリエステル
及びセルロースアセテートフィルムのような合成樹脂、
及び銅およびアルミニウムのような金属のためのコーテ
ィング組成物として適当に使用され、光重合により保護
層またはイメージを適用するのが望ましい。
【0052】基質に液体組成物、溶液または懸濁液を適
用することにより、基質は塗装されうる。これは代表的
に浸漬塗装、はけ塗り、噴霧またはリバースローラーコ
ーティングにより行われる。基質(支持体)の付加物
(層の厚み)及び性質は、望ましい適用分野によるだろ
う。写真情報を記録するための適当な基質はポリエステ
ル、セルロースアセテートのシートまたは樹脂がコート
された紙である。特に、処理されたアルミニウムはオフ
セット印刷版、印刷回路基板を製造するための銅張積層
板に使用される。
【0053】写真材料およびオフセット印刷版の層の厚
さは通常、約0.5ないし約10μmである。溶媒が同
時に使用されるとき、コーティングの後にこれらは除去
されうる。
【0054】結合剤の乾燥時間がグラフィック製品の製
造速度において、決定的な因子であり、第二因子のため
に存在すべきなので、光硬化は印刷インキ用に非常に重
要である。紫外線硬化性印刷インクは、スクリーン捺染
に特に重要である。
【0055】本発明の光硬化性組成物はまた、印刷基板
の製造に非常に適当である。この実用のため、可溶性線
状ポリアミドまたはスチレン/ブタジエンゴムと光重合
性モノマー、代表的にはアクリルアミド、及び光重合開
始剤の混合物が使用される。これらの系(湿式または乾
式)のフィルム及び基板は、原板のネガ(またはポジ)
を介して感光され、硬化されない部分は連続して溶媒で
溶出される。
【0056】光硬化を使用する他の分野は、シート金属
およびチューブ、缶またはビンの栓における金属コーテ
ィング、並びに樹脂コーティング、例えば、PVC床ま
たは壁の被覆の光硬化である。
【0057】紙コーティングの光硬化の例は、ラベル、
レコードジャケットまたは本のカバーでの無色コーティ
ングである。
【0058】光硬化性組成物の使用はまた、イメージ技
術および情報担体の光学的製造にとって重要である。こ
れらの実施のために、基質に適用された層(湿式または
乾式)は短波長光でホトマスクを通して照射され、層の
感光されなかった部分は、溶媒(現像液)で処理するこ
とにより除去される。光硬化性層の適用は金属への電着
により行われる。感光された部分は架橋されたポリマー
性であり、このため不溶性であり、基質上に残る。可視
イメージは適当な着色により形成する。基質が金属化さ
れた層のとき、金属は感光されない部分で感光および現
像した後、エッチングされるか、または、亜鉛めっきに
より補強されうる。この方法において、印刷回路基板及
びホトレジストを作ることができる。
【0059】本発明はさらに、少なくとも1個のエチレ
ン性不飽和二重結合を持つモノマー性、オリゴマー性ま
たはポリマー性化合物を光重合方法であり、該化合物に
式Iの化合物を添加し、そして200ないし600nm
の波長範囲の光で照射することからなる方法に関する。
【0060】重合は、日光または短波長放射において豊
富な光で照射することによる公知の光重合方法により行
われる。適当な光源は代表的には、水銀媒体圧力、高圧
および低圧ランプ、超化学線蛍光チューブ、金属ハライ
ドランプまたはレーザーであり、最大放出は250〜4
50nmの範囲である。レーザー光源は、制御されたレ
ーザービームが光硬化性層に直接書き込むため、ホトマ
スクが必要でないという利点を持つ。光増感剤との配合
物が使用されるので、より長い波長または600nmま
でのレーザービームを使用することができる。
【0061】組成物は個々の成分を混合することにより
都合良く製造される。本発明はさらに、上記の方法によ
り得られる硬化された組成物に関する。
【0062】本発明のビスアシルホスフィンは基質中
で、良好な可溶性を持つ。それらは良好な反応性をもつ
光重合開始剤である。ビスアシルホスフィン光重合開始
剤を含む基質はわずかに黄色を示し、さらに常圧酸素に
より重合をほんの少し抑制する。
【0063】
【実施例】本発明は以下の実施例によりさらに詳細に記
載され、明細書および特許請求の範囲において、特に指
示のない限り、部およびパーセントは重量による。
【0064】実施例1: ビス(2,6−ジメトキシベ
ンゾイル)−(2−メチルプロピル)ホスフィンの製造 5ml(0.0425モル)の(2−メチルプロピル)
ホスフィン及び13ml(0.0935モル)のトリエ
チルアミンの混合物を100〜110℃で30分かけ
て、100mlのトルエンに溶解した18.8g(0.
0935モル)の2,6−ジメトキシベンゾイルクロリ
ドに滴下する。反応混合物を同じ温度で6時間攪拌する
ことにより反応は完了し、その結果、生成物ならびにト
リエチルアンモニウムクロリドは黄色沈澱となる。反応
混合物を冷却した後、アンモニウム塩を水の添加により
溶解し、生成物をろ過により分離し、真空下で乾燥し、
融点138〜140℃の白色粉末の形態で標記化合物1
1.1g(理論値の62.5%)を得る。 元素分析: 計算値 C 63.15% H6.50% 実験値 C 63.19% H6.52%
【0065】実施例2: ビス(2,6−ジクロロベン
ゾイル)ベンジルホスフィンの製造 39.5g(0.12モル)のベンジルホスフィン(ト
ルエンに溶解された38%溶液)及び37.1ml
(0.266モル)のトリエチルアミンの混合物を10
0〜110℃で30分かけて、200mlのトルエンに
溶解した38.0ml(0.266モル)の2,6−ジ
クロロベンゾイルクロリドに添加する。反応混合物を同
じ温度で6時間攪拌することにより反応は完了する。次
いで、反応混合物をトルエンで希釈し、水で2回洗浄
し、炭酸水素塩溶液で希釈する。有機層を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、真空下で濃縮する。沈澱された反応生成
物は酢酸エチルから再結晶され、融点136〜137℃
の白色粉末の形態で標記化合物26.8g(理論値の4
5.5%)を得る。 元素分析: 計算値 C 53.65% H2.79% C 30.17% 実験値 C 53.66% H2.85% C 30.50%
【0066】実施例3−5: 実施例3、4及び5の化合物は、適当な出発第一ホスフ
ィンを使用して、実施例1に記載された一般手順に従っ
て製造される。化合物及びそれらの物理データを表1に
報告する。
【表1】
【0067】実施例6: ビス(2,6−ジメトキシベ
ンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィ
ンの製造 化合物は、適当な出発第一ホスフィンを使用して、実施
例1に記載された一般手順に従って製造される。標記化
合物は融点114〜117℃を持つ。 元素分析: 計算値 C 65.81% H7.43% 実験値 C 65.70% H7.59%
【0068】実施例7: ビス(2,4,6−トリメチ
ルベンゾイル)ベンジルホスフィンの製造 62.5ml(0.10モル/1.6M)のブチルリチ
ウムを30分かけて、窒素下、0〜5℃で、25mlの
テトラヒドロフランに溶解された14.2ml(0.1
0モル)のジイソプロピルアミンの溶液に滴下する。こ
の溶液を−30ないし−40℃で90分かけて、60m
lのテトラヒドロフランに溶解された18.3g(0.
10モル)の2,4,6−トリメチルベンゾイルクロリ
ド及び14.9g(0.046モル;トルエン中38
%))のベンジルホスフィンの溶液に滴下する。−30
℃で2時間攪拌した後、黄色溶液を室温に温め、水で一
度洗浄する。次いで、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥
し、ろ過し、ロータリーエバポレーターで濃縮する。残
渣を溶離液:ヘキサン/酢酸エチル9:1でクロマトグ
ラフィし、ヘキサンから再結晶し、融点129〜130
℃を持つ黄色粉末の形態で標記化合物を得る。 元素分析: 計算値 C 77.86% H7.02% 実験値 C 78.28% H7.18%
【0069】実施例8: 白色エナメル組成における重
合開始剤の活性 以下の成分を含む光重合組成物が製造される: 30%の登録商標Ebecryl 608 (エポキシアクリレー
ト,UCB,ベルギー) 15%のトリメチロールプロパン トリスアクリレート
(Degussa) 5%のN−ビニルピロリドン(Fluka) 50%の二酸化チタン〔ルチル型( rutile type)、登録
商標R-TC2 チオキシド、フランス)
【0070】この組成物に、実施例1の試験用光重合開
始剤の2重量%を添加する。製剤はアルミニウムシート
に層の厚さ100μmで、及びガラスに層の厚さ30μ
mで適用される。次いで、30μmの層はPPG感光装
置において、水銀媒体圧力ランプ(2×80W/cm)
及び120W/cm融合Dランプで放射することにより
硬化される。硬化は10m/分の速度で耐拭き取りコー
ティング表面を得るために必要な頻度で、移動しながら
ベルト上でランプ下に試料を通すことにより行われる。
【0071】通過数が少ない程、試験化合物は、より高
い反応性を持つ。耐拭き取り性を得るための最大操作速
度は、m/分で両方型のランプに対して決定される(操
作速度y〔m/分〕での通過数〔n〕)。100μmの
層はHanovia 水銀媒体圧力ランプ(80W/cm)で照
射することにより硬化される。m/分で完全に硬化させ
る最大操作速度が、測定される(操作速度y〔m/分〕
での通過数〔n〕)。試料の完全な硬化は、Konig 装置
を使用して振子型硬度試験により測定される(DIN5
3157)。
【0072】秒数が大きいほど、試験試料はより硬い。
試料の黄色化はASTM D 1925−70に従って
黄色度係数(YI)を測定することにより決定される。
値がより低くほど、試料の黄色度はより少なくなる。振
子型硬度及び黄色度は、硬化後直ちに、及び4 40W
フィリップスTL 40/03ランプ下で15分間及
び16時間感光させた後、決定される。試料の光沢は、
さらに15分間及び16時間感光させた後、ASTM
D 523に従って20°及び60°の投射角で測定さ
れる。反射光の程度は%で与えられる。値がより高いほ
ど、光沢はより良好になる。100μm層で得られた結
果は表2に、30μm層で得られた結果は表3に要約さ
れる。
【表2】
【表3】
【0073】実施例9: 白色エナメル組成における重
合開始剤の活性 実施例3の光重合開始剤 2重量%を、以下の成分から
なる製剤に混合する:67.5%の登録商標Ebecryl 83
0 (ポリエステルアクリレート,UCB,ベルギー) 5.0%の1,6−ヘキサンジオールジアクリレート 2.5%のトリメチロールプロパン トリスアクリレー
ト 25.0%の二酸化チタン〔ルチル型( rutile type)、
チオキシド、フランス)
【0074】調合品をアルミニウムシートに100μm
の牽引棒で適用する。層は、80W/cmのHanovia 水
銀媒体圧力ランプで照射することにより硬化される。試
料は10m/分の速度で作動するベルト上でランプ下に
通過する。通過数は、試料の耐拭き取り性を得るために
必要な頻度で決定される。硬化後すぐに、黄色度係数
(ASTM D 1925−70)及びKonig 法(DI
N53157)による振子型硬度が決定される。次い
で、4個のフィリップスTL 40/03ランプ下で1
5分間及び16時間、後感光(post-exposure) される。
黄色度係数及び振子型硬度は、これらの間隔の後、再び
測定される。黄色度係数がより低いほど、試料の黄色化
はより少なくなる。振子型硬度試験で測定された秒数が
より大きいほど、試験試料はより硬い。結果は4表に報
告される。
【表4】
【0075】実施例10: クリアコーティングの組成
における重合開始剤の活性 実施例1の光重合開始剤2重量%を、以下の成分からな
る製剤に混合する:99.5%の登録商標Roskydal UV
502 A (スチレンに溶解された不飽和ポリエステル溶
液,Bayer 社製 ,ドイツ)及び 0.5%の登録商標Byk 30(水平化剤、Byk-Mallinckro
dt社製)
【0076】調合品を白色合成樹脂で塗装されたチップ
ボードに厚さ100μmの層で適用する。層は、PPG
感光装置において、水銀媒体圧力ランプ(2×80W/
cm)で照射することにより硬化される。試料は20m
/分の速度で移動するベルト上で照射源下に通過する。
【0077】層が耐拭き取り性になるまで、層を硬化す
るのに必要な通過数が第一に測定され、続いて黄色度係
数の測定(ASTM D 1925−70)を行う。通
過数がより少ないほど、光重合開始剤はより反応性が高
くなる。YI値がより低いほど、試料の黄色化はより少
なくなる。結果は表5に報告される。
【表5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲハルト フグ スイス国,1700 フリブルク,ルエ デ シッフェネン 3 (72)発明者 マンフレッド コーラー ドイツ連邦共和国,7800 フライブルク, ケーラーシュトラーセ 15

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)少なくとも1個のエチレン性不飽
    和光重合性化合物、及び(b)光重合開始剤として、少
    なくとも1個の次式I 【化1】 (式中、R1 は未置換炭素原子数1ないし18のアルキ
    ル基、またはフェニル基、−CN、炭素原子数1ないし
    12のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換さ
    れた炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2
    ないし18のアルケニル基、未置換炭素原子数5ないし
    8のシクロアルキル基、または炭素原子数1ないし12
    のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基
    若しくはハロゲン原子により置換された炭素原子数5な
    いし8のシクロアルキル基、または酸素原子、硫黄原子
    および/または窒素原子を含み、未置換またはハロゲン
    原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基若しくは炭素
    原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された5若
    しくは6員の芳香族ヘテロ環官能基を表わし、並びにR
    2 及びR3 はそれぞれ互いに独立して未置換炭素原子数
    1ないし18のアルキル基、またはフェニル基、ハロゲ
    ン原子または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基に
    より置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭
    素原子数2ないし6のアルケニル基、未置換炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基、または炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアル
    コキシ基若しくはハロゲン原子により置換された炭素原
    子数5ないし8のシクロアルキル基、未置換炭素原子数
    6ないし12のアリール基、または炭素原子数1ないし
    12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキ
    シ基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアルキル
    基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハ
    ロゲン原子により置換された炭素原子数6ないし12の
    アリール基、または酸素原子、硫黄原子および/または
    窒素原子を含み、未置換またはハロゲン原子、炭素原子
    数1ないし4のアルキル基若しくは炭素原子数1ないし
    4のアルコキシ基により置換された5若しくは6員の芳
    香族ヘテロ環官能基を表わす)で表わされる化合物を含
    む光重合性組成物。
  2. 【請求項2】 R1 は未置換炭素原子数1ないし12の
    アルキル基、またはフェニル基、−CN、炭素原子数1
    ないし4のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置
    換された炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子
    数2ないし12のアルケニル基、未置換炭素原子数5な
    いし8のシクロアルキル基、または炭素原子数1ないし
    12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
    基若しくはハロゲン原子により置換された炭素原子数5
    ないし8のシクロアルキル基、または酸素原子、硫黄原
    子および/または窒素原子を含み、未置換またはハロゲ
    ン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基若しくは炭
    素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換された5
    若しくは6員の芳香族ヘテロ環官能基を表わし、並びに
    2 及びR3 はそれぞれ互いに独立して未置換炭素原子
    数1ないし12のアルキル基、またはフェニル基、ハロ
    ゲン原子または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基に
    より置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭
    素原子数2ないし6のアルケニル基、未置換炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基、または炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
    キシ基若しくはハロゲン原子により置換された炭素原子
    数5ないし8のシクロアルキル基、未置換炭素原子数6
    ないし12のアリール基、または炭素原子数1ないし1
    2のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
    基、炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル基、炭
    素原子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハロゲン
    原子により置換された炭素原子数6ないし12のアリー
    ル基、または酸素原子、硫黄原子および/または窒素原
    子を含み、未置換またはハロゲン原子、炭素原子数1な
    いし4のアルキル基若しくは炭素原子数1ないし4のア
    ルコキシ基により置換された5若しくは6員の芳香族ヘ
    テロ環官能基を表わす請求項1記載の組成物。
  3. 【請求項3】 R1 は未置換炭素原子数1ないし12の
    アルキル基、またはフェニル基、−CN、炭素原子数1
    ないし4のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置
    換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原子
    数2ないし6のアルケニル基、または未置換炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基、または炭素原子数1な
    いし12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコ
    キシ基若しくはハロゲン原子により置換された炭素原子
    数5ないし8のシクロアルキル基を表わし、並びにR2
    及びR3 はそれぞれ互いに独立して未置換炭素原子数1
    ないし12のアルキル基、またはフェニル基、ハロゲン
    原子若しくは炭素原子数1ないし4のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素
    原子数2ないし6のアルケニル基、未置換炭素原子数5
    ないし8のシクロアルキル基、または炭素原子数1ない
    し12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキ
    シ基若しくはハロゲン原子により置換された炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基、未置換炭素原子数6な
    いし12のアリール基、または炭素原子数1ないし12
    のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、
    炭素原子数2ないし8のアルコキシアルキル基、炭素原
    子数1ないし4のアルキルチオ基もしくはハロゲン原子
    により置換された炭素原子数6ないし12のアリール基
    を表わす請求項2記載の組成物。
  4. 【請求項4】 R1 は未置換炭素原子数1ないし12の
    アルキル基、フェニル−炭素原子数1ないし4のアルキ
    ル基、未置換もしくは炭素原子数1ないし12のアルキ
    ル置換されたシクロペンチル基またはシクロヘキシル基
    を表わし、並びにR2 及びR3 はそれぞれ互いに独立し
    て未置換炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェニ
    ル−炭素原子数1ないし4のアルキル基、未置換もしく
    は炭素原子数1ないし12のアルキル置換されたシクロ
    ペンチル基またはシクロヘキシル基、または未置換フェ
    ニル基、または炭素原子数1ないし12のアルキル基、
    炭素原子数1ないし4のアルコキシ基もしくはハロゲン
    原子により置換されたフェニル基を表わす請求項3記載
    の組成物。
  5. 【請求項5】 R1 は炭素原子数1ないし12のアルキ
    ル基、シクロヘキシル基、またはフェニル−炭素原子数
    1ないし4のアルキル基を表わし、並びにR2 及びR3
    はそれぞれ互いに独立して炭素原子数1ないし4のアル
    コキシ基、ハロゲン原子または炭素原子数1ないし4の
    アルキル基により置換されたフェニル基を表わす請求項
    4記載の組成物。
  6. 【請求項6】 R2 及びR3 が同一である請求項1記載
    の組成物。
  7. 【請求項7】 光重合開始剤(b)に加えて、少なくと
    も1個の他の光重合開始剤および/または他の添加剤を
    含む請求項1記載の組成物。
  8. 【請求項8】 組成物に基づいて、成分(b)を0.0
    5ないし15重量%含む請求項1記載の組成物。
  9. 【請求項9】 組成物に基づいて、成分(b)を0.2
    ないし5重量%含む請求項8記載の組成物。
  10. 【請求項10】 エチレン性不飽和化合物の光重合のた
    めの光重合開始剤として請求項1記載の式Iの化合物を
    使用する方法。
  11. 【請求項11】 200ないし600nmの範囲の光
    を、請求項1記載の組成物に照射することからなる、エ
    チレン性不飽和二重結合を有する化合物を光重合する方
    法。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の方法により得られた
    硬化性組成物。
JP2326492A 1991-01-14 1992-01-13 ビスアシルホスフィン Pending JPH07278167A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH83/91-0 1991-01-14
CH8391 1991-01-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07278167A true JPH07278167A (ja) 1995-10-24

Family

ID=4178880

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2326492A Pending JPH07278167A (ja) 1991-01-14 1992-01-13 ビスアシルホスフィン

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0495751A1 (ja)
JP (1) JPH07278167A (ja)
CA (1) CA2059145A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100829076B1 (ko) * 2000-06-08 2008-05-14 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 유기 금속성 모노아실알킬포스핀
KR20140129242A (ko) * 2010-06-30 2014-11-06 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. D1479 안정한 액체 비스(아실)포스핀 광 개시제 및 방사선 경화성 조성물에서 이의 용도

Families Citing this family (53)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2134156A1 (en) * 1993-11-22 1995-05-23 Thomas P. Klun Coatable compositions, abrasive articles made therefrom, and methods of making and using same
TW303379B (ja) * 1994-03-02 1997-04-21 Ciba Sc Holding Ag
DE69710657T3 (de) * 1996-08-23 2007-07-05 Showa Denko K.K. Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren
US6130980A (en) * 1997-05-06 2000-10-10 Dsm N.V. Ribbon assemblies and ink coating compositions for use in forming the ribbon assemblies
DE10241299A1 (de) 2002-09-04 2004-03-25 Basf Ag Strahlungshärtbare Polyurethane mit verkappten Aminogrupppen
DE10348463A1 (de) 2003-10-14 2005-05-25 Basf Ag Hyperverzweigte Polyester mit ethylenisch ungesättigten Gruppen
DE102004030674A1 (de) 2004-06-24 2006-01-19 Basf Ag Vorrichtung und Verfahren zum Härten mit energiereicher Strahlung unter Inertgasatmosphäre
US7687657B2 (en) * 2004-11-23 2010-03-30 Ciba Speciality Chemicals Corporation Process for preparing acylphosphanes and derivatives thereof
DE102004063102A1 (de) 2004-12-22 2006-07-13 Basf Ag Strahlungshärtbare Verbindungen
EP1851276B1 (de) 2005-02-10 2017-01-25 BASF Coatings GmbH Verfahren zum aufbringen chromfreier korrosionsschutzschichten enthaltend dithiophosphinsäuren und/oder deren salzen
ES2638863T3 (es) 2005-02-24 2017-10-24 Basf Se Dispersiones acuosas de poliuretano endurecibles por radiación
DE102005010109A1 (de) 2005-03-02 2006-09-07 Basf Ag Modifizierte Polyolefinwachse
DE102005057683A1 (de) 2005-12-01 2007-06-06 Basf Ag Strahlungshärtbare wasserelmulgierbare Polyisocyanate
EP2121793B1 (de) 2007-02-15 2016-07-13 Basf Se Dispersionen von polyurethanen, ihre herstellung und verwendung
DE102008002008A1 (de) 2007-06-04 2008-12-11 Basf Se Verfahren zur Herstellung wasseremulgierbarer Polyurethanacrylate
DE102007026196A1 (de) 2007-06-04 2008-12-11 Basf Se Verfahren zur Herstellung wasseremulgierbarer Polyurethanacrylate
DE102008041654A1 (de) 2007-08-31 2009-03-05 Basf Se Neue Beschichtungsmittel
DE102010001956A1 (de) 2009-02-17 2010-08-19 Basf Se Verfahren zur Herstellung wasseremulgierbarer Polyurethanacrylate
DE102010003308A1 (de) 2009-03-31 2011-01-13 Basf Se Strahlungshärtbare wasseremulgierbare Polyurethan(meth)acrylate
EP2350154B1 (de) 2009-08-05 2012-09-19 Basf Se (meth)acrylierte melamin-formaldehyd-harze
DE102010044206A1 (de) 2009-11-25 2011-05-26 Basf Se Verfahren zur Herstellung von strahlungshärtbaren (Meth)Acrylaten
DE102010044204A1 (de) 2009-11-25 2011-05-26 Basf Se Verfahren zur Herstellung von strahlungshärtbaren (Meth)Acrylaten
DE102010026490A1 (de) 2010-07-07 2012-01-12 Basf Se Verfahren zur Herstellung von feinstrukturierten Oberflächen
CN103608375B (zh) 2011-06-14 2015-09-09 巴斯夫欧洲公司 可辐射固化聚氨酯水分散体
US9193888B2 (en) 2012-03-19 2015-11-24 Basf Se Radiation-curable aqueous dispersions
EP2828311A1 (de) 2012-03-19 2015-01-28 Basf Se Strahlungshärtbare wässrige dispersionen
KR101745447B1 (ko) 2012-05-30 2017-06-14 아이지엠 그룹 비.브이. 방사선-경화성 화합물
US9296907B2 (en) 2012-05-30 2016-03-29 Basf Se Radiation-curable compounds
WO2014012852A1 (de) 2012-07-20 2014-01-23 Basf Se Schnelltrocknende strahlungshärtbare beschichtungsmassen
GB201213163D0 (en) 2012-07-24 2012-09-05 Lambson Ltd Photopolymerisation processes and novel compounds therefor
PL2882808T3 (pl) 2012-08-09 2017-04-28 Basf Se Radiacyjnie utwardzalne preparaty o wysokiej przyczepności
EP2912084B1 (de) 2012-10-24 2016-12-14 Basf Se Strahlungshärtbare wasserdispergierbare polyurethan(meth)acrylate
US10683426B2 (en) 2012-11-16 2020-06-16 Basf Se Polyurethanes, dispersions thereof, their preparation and use
WO2014090647A2 (en) 2012-12-14 2014-06-19 Basf Se (meth)acrylated amino resins
WO2014161817A1 (de) 2013-04-03 2014-10-09 Basf Se Verfahren zur reduzierung der restmonomerenmenge in einer wässrigen polymerisatdispersion
WO2015028397A1 (en) 2013-08-26 2015-03-05 Basf Se Radiation-curable water-dispersible polyurethane (meth)acrylates
RU2656392C2 (ru) 2013-10-16 2018-06-06 Басф Се Способ получения водоэмульгируемых полиуретанакрилатов
BR112016009482B8 (pt) 2013-11-05 2022-12-06 Construction Research & Technology Gmbh Composição de revestimento, uso de uma composição de revestimento, processo para preparação de uma composição de revestimento e método para cura de uma composição de revestimento
CN114030259A (zh) 2014-01-14 2022-02-11 扎伊罗技术股份公司 用于室内和室外的层状建筑板
EP2942361A1 (en) 2014-05-06 2015-11-11 Basf Se Grain enhancement with surfactants in water-based uv-radiation curable polyurethane dispersions
US10577471B2 (en) 2014-10-01 2020-03-03 Basf Se Method for curing curable compositions
CN107001570B (zh) 2014-12-17 2021-05-07 巴斯夫欧洲公司 基于链增长和交联的聚氨酯的可辐射固化的涂料组合物
JP2018530639A (ja) 2015-08-17 2018-10-18 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se ポリウレタン(メタ)アクリレートを含む水性ポリマー組成物
EP3173449A1 (de) 2015-11-27 2017-05-31 BASF Coatings GmbH Verbund aus zwei festkörpern
RU2712992C1 (ru) 2016-08-19 2020-02-03 Ксило Текнолоджиз АГ Панель с покрытием и способ изготовления панели с покрытием
US12065532B2 (en) 2018-07-13 2024-08-20 Miwon Austria Forschung Und Entwicklung Gmbh Water-dispersible polyurethane (meth)acrylates for actinic radiation curable coatings
ES2960080T3 (es) 2018-10-26 2024-02-29 Basf Se Formulación aglutinante acuosa a base de poliuretanos funcionalizados
CN114502668B (zh) 2019-10-08 2023-09-19 巴斯夫欧洲公司 可热固化的双组分涂料复配物
DE102020132126A1 (de) 2020-12-03 2022-06-09 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung Strukturiertes Material
KR20240046263A (ko) 2021-08-26 2024-04-08 바스프 에스이 경화성 조성물 및 이로부터 형성된 3d-프린팅된 물체 및 이를 형성하는 방법
CN118715260A (zh) 2022-02-17 2024-09-27 巴斯夫涂料有限公司 可uv固化的涂料组合物
WO2024141320A1 (en) 2022-12-29 2024-07-04 Basf Se Radiation curable liquid composition, process of forming 3d-printed object and 3d-printed object
WO2024160696A2 (en) 2023-01-31 2024-08-08 Basf Se Curable composition, 3d-printed object formed therefrom and process of forming the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3668093A (en) * 1971-05-06 1972-06-06 Du Pont Photoinitiation of vinyl polymerization by triaroylphosphines
DE3114341A1 (de) * 1981-04-09 1982-11-11 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE3236026A1 (de) * 1982-09-29 1984-03-29 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Photopolymerisierbare massen und ihre verwendung

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100829076B1 (ko) * 2000-06-08 2008-05-14 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. 유기 금속성 모노아실알킬포스핀
JP2011251965A (ja) * 2000-06-08 2011-12-15 Ciba Holding Inc 有機金属モノアシルアルキルホスフィン
KR20140129242A (ko) * 2010-06-30 2014-11-06 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. D1479 안정한 액체 비스(아실)포스핀 광 개시제 및 방사선 경화성 조성물에서 이의 용도
US9062083B2 (en) 2010-06-30 2015-06-23 Dsm Ip Assets B.V. D1479 stable liquid bap photoinitiator and its use in radiation curable compositions
US9062082B2 (en) 2010-06-30 2015-06-23 Dsm Ip Assets B.V. D1479 stable liquid BAP photoinitiator and its use in radiation curable compositions

Also Published As

Publication number Publication date
EP0495751A1 (de) 1992-07-22
CA2059145A1 (en) 1992-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07278167A (ja) ビスアシルホスフィン
KR100363978B1 (ko) 알콕시페닐-치환비스아실포스핀옥시드
KR100548976B1 (ko) 비휘발성 페닐글리옥살산 에스테르
US6284813B1 (en) Alkylphenylbisacylphosphine oxides and photoinitiator mixtures
US7026017B2 (en) Organometallic monoacylalkylphosphines
US11555081B2 (en) Multifunctional bisacylphosphine oxide photoinitiators
JP3653676B2 (ja) 二量体ビスアシルホスフィン、ビスアシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンスルフィド
KR19990022661A (ko) a-아미노아세토페논으로부터 아민의 광생성 방법
JP3203431B2 (ja) ビアシルホスフィンスルフィド
KR100363977B1 (ko) 신규아실포스핀옥시드
US6441244B1 (en) Benzophenones and the use thereof as photoinitiators
EP0487453B1 (de) Silylierte Acylphosphinoxide
US5399782A (en) Benzoyl-substituted phosphabicycloalkanes and phosphabicycloalkanesulfides as photoinitiators
CN118475556A (zh) 新型光引发剂
US5368985A (en) Bisacylphosphine sulfides
JP2005225793A (ja) ホスフィンオキシド化合物
US20040122125A1 (en) Lactone compounds as novel photoinitiators