JPH07252400A - ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents
ポリアセタール樹脂組成物Info
- Publication number
- JPH07252400A JPH07252400A JP4585694A JP4585694A JPH07252400A JP H07252400 A JPH07252400 A JP H07252400A JP 4585694 A JP4585694 A JP 4585694A JP 4585694 A JP4585694 A JP 4585694A JP H07252400 A JPH07252400 A JP H07252400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- polyoxymethylene copolymer
- formaldehyde
- polymer
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した
時のホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下で
あるポリオキシメチレン共重合体、ヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤またはヒンダードアミン系光安定剤、グ
リセリンの脂肪酸エステル、およびホルムアルデヒド反
応性窒素を含む重合体からなる組成物。 【効果】 磁気テープに使用される磁性材料の腐食防止
に優れたポリアセタール樹脂組成物が得られる。
時のホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下で
あるポリオキシメチレン共重合体、ヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤またはヒンダードアミン系光安定剤、グ
リセリンの脂肪酸エステル、およびホルムアルデヒド反
応性窒素を含む重合体からなる組成物。 【効果】 磁気テープに使用される磁性材料の腐食防止
に優れたポリアセタール樹脂組成物が得られる。
Description
【産業上の利用分野】本発明は、磁気テープに使用され
る磁性材料の腐食防止に優れるポリアセタール樹脂組成
物に関するものである。
る磁性材料の腐食防止に優れるポリアセタール樹脂組成
物に関するものである。
【従来の技術】プラスチックフィルム上に真空蒸着、ス
パッタリング、イオンプレーティング等により、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉあるいはこれらの合金を主体とする強磁性薄
膜を形成させて得られる磁気テープは、オーディオテー
プ、ＶＴＲテープ等に使用されている。磁気テープが高
温高湿下に放置されると、強磁性薄膜表面に腐食が生
じ、電磁変換特性の低下等が生じ不都合が生じる。磁気
テープはカセットに収納され使用されるが、カセット構
成部品により腐食の程度が異なる。特に、カセット構成
部品として使用されているポリアセタール樹脂成形品が
腐食を促進させることが知られている。特公昭６４−１
２０３０号公報では、ポリアセタール樹脂成形品中のホ
ルムアルデヒドを減少させ、耐食性を向上させる方法と
して、ポリアセタール樹脂成形品を１００℃で１週間大
気乾燥する方法や１００℃、０．０１Ｔｏｒｒで一日間
減圧乾燥する方法が開示されている。
パッタリング、イオンプレーティング等により、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉあるいはこれらの合金を主体とする強磁性薄
膜を形成させて得られる磁気テープは、オーディオテー
プ、ＶＴＲテープ等に使用されている。磁気テープが高
温高湿下に放置されると、強磁性薄膜表面に腐食が生
じ、電磁変換特性の低下等が生じ不都合が生じる。磁気
テープはカセットに収納され使用されるが、カセット構
成部品により腐食の程度が異なる。特に、カセット構成
部品として使用されているポリアセタール樹脂成形品が
腐食を促進させることが知られている。特公昭６４−１
２０３０号公報では、ポリアセタール樹脂成形品中のホ
ルムアルデヒドを減少させ、耐食性を向上させる方法と
して、ポリアセタール樹脂成形品を１００℃で１週間大
気乾燥する方法や１００℃、０．０１Ｔｏｒｒで一日間
減圧乾燥する方法が開示されている。
【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリアセター
ル樹脂成形品を大気乾燥、減圧乾燥により成形品中のホ
ルムアルデヒドを除去する方法は、設備、時間等の面よ
り実用上有益ではない。本発明は、磁気テープに使用さ
れている磁性材料の腐食防止に優れたポリアセタール樹
脂組成物を提供することを課題とするものである。
ル樹脂成形品を大気乾燥、減圧乾燥により成形品中のホ
ルムアルデヒドを除去する方法は、設備、時間等の面よ
り実用上有益ではない。本発明は、磁気テープに使用さ
れている磁性材料の腐食防止に優れたポリアセタール樹
脂組成物を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
（Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体１００重量部、（Ｂ）ヒン
ダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン
系光安定剤０．０５〜２重量部、（Ｃ）グリセリンの脂
肪酸エステル０．０５〜５重量部、および（Ｄ）ホルム
アルデヒド反応性窒素を含む重合体０．０１〜２重量部
からなる耐金属腐食性に優れることを特徴とするポリア
セタール樹脂組成物である。以下、本発明を詳細に説明
する。本発明の組成物に用いられる、（Ａ）ポリオキシ
メチレン共重合体は、該ポレオキシメチレン共重合体を
窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時のホルム
アルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下、好ましくは
３００ｐｐｍ以下であることが必要である。ホルムアル
デヒドガス発生量が５００ｐｐｍを越えるポリオキシメ
チレン共重合体を用いて製造された組成物から得られる
カセット構成部品からなるカセットテープ類において、
磁気テープに対する腐食が生じ好ましくない。ホルムア
ルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下のポリオキシメ
チレン共重合体は、ホルムアルデヒドもしくはトリオキ
サン環状エーテル、環状ホルマールとの共重合によって
得られるポリオキシメチレン共重合体を重合直後に分子
末端の安定化処理を行い、その後溶融状態で、水酸基
含有化合物またはこれらの混合物を注入し、ついで混練
する工程、および注入された上記水酸基含有化合物の
蒸気及び遊離のホルムアルデヒドを解放する脱気工程を
もつ少なくとも２段階の工程からなる異方向回転非かみ
合い型２軸スクリュー押出機に連続的に供給し、処理す
ることにより、溶融したポリオキシメチレン共重合体か
ら揮発成分を除去すること等によって得られる。上記の
水酸基含有化合物またはそれらの混合物を注入し、つい
で混練する際、ＰＨ調整剤としてトリエチルアミン等の
塩基性物質を添加するのが好ましい。本発明に用いられ
るポリオキシメチレン共重合体はホルムアルデヒドもし
くはトリオキサンと環状エーテル、環状ホルマールとの
共重合によって得られるオキシメチレン単位からなる連
鎖中に下記式（１）
（Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体１００重量部、（Ｂ）ヒン
ダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン
系光安定剤０．０５〜２重量部、（Ｃ）グリセリンの脂
肪酸エステル０．０５〜５重量部、および（Ｄ）ホルム
アルデヒド反応性窒素を含む重合体０．０１〜２重量部
からなる耐金属腐食性に優れることを特徴とするポリア
セタール樹脂組成物である。以下、本発明を詳細に説明
する。本発明の組成物に用いられる、（Ａ）ポリオキシ
メチレン共重合体は、該ポレオキシメチレン共重合体を
窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時のホルム
アルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下、好ましくは
３００ｐｐｍ以下であることが必要である。ホルムアル
デヒドガス発生量が５００ｐｐｍを越えるポリオキシメ
チレン共重合体を用いて製造された組成物から得られる
カセット構成部品からなるカセットテープ類において、
磁気テープに対する腐食が生じ好ましくない。ホルムア
ルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下のポリオキシメ
チレン共重合体は、ホルムアルデヒドもしくはトリオキ
サン環状エーテル、環状ホルマールとの共重合によって
得られるポリオキシメチレン共重合体を重合直後に分子
末端の安定化処理を行い、その後溶融状態で、水酸基
含有化合物またはこれらの混合物を注入し、ついで混練
する工程、および注入された上記水酸基含有化合物の
蒸気及び遊離のホルムアルデヒドを解放する脱気工程を
もつ少なくとも２段階の工程からなる異方向回転非かみ
合い型２軸スクリュー押出機に連続的に供給し、処理す
ることにより、溶融したポリオキシメチレン共重合体か
ら揮発成分を除去すること等によって得られる。上記の
水酸基含有化合物またはそれらの混合物を注入し、つい
で混練する際、ＰＨ調整剤としてトリエチルアミン等の
塩基性物質を添加するのが好ましい。本発明に用いられ
るポリオキシメチレン共重合体はホルムアルデヒドもし
くはトリオキサンと環状エーテル、環状ホルマールとの
共重合によって得られるオキシメチレン単位からなる連
鎖中に下記式（１）
【化１】 （式中のＲ1 およびＲ2 はそれぞれ水素原子、アルキル
基、またはアリール基であり、それらは同一であっても
異なっていてもよい。ｎは２〜６の整数である。）で表
されるオキシアルキレン単位がランダムに挿入された構
造を有するポリオキシメチレン共重合体である。また、
本発明に用いられるポリオキシメチレン共重合体には分
子鎖の分岐化された分岐ポリオキシメチレン共重合体、
及びオキシメチレンの繰り返し単位を５０重量％以上含
む異種成分ブロックとのポリオキシメチレンブロックコ
ポリマーも含まれる。なお、上記のポリオキシメチレン
共重合体中のオキシアルキレン単位の挿入率は、オキシ
メチレン単位１００モルに対して０．０５〜５０モル、
好ましくは０．１〜２０モルの範囲である。このオキシ
アルキレン単位としては、例えばオキシエチレン単位、
オキシプロピレン単位、オキシテトラメチレン単位、オ
キシブチレン単位、およびオキシフェニルエチレン単位
などがある。これらのオキシエチレン単位の中でも、ポ
リアセタール樹脂組成物の物性を向上させる点から、オ
キシエチレン単位、−［（ＣＨ2)2Ｏ］−、およびオキ
シテトラチメレン単位、−［（ＣＨ2）4Ｏ］−、が特に
好ましい。本発明でも用いられるポリオキシメチレン共
重合体の分子末端の安定化処理方法としては、例えば末
端のヒドロキシル基をエステル化、エーテル化、ウレタ
ン化等の方法を用いる。また、分子末端の不安定部分を
加水分解によって分子末端の安定化をはかる方法も用い
られる。本発明で用いられる、（Ｂ）ヒンダードフェノ
ール系酸化防止剤またはヒンダードアミン系光安定剤
は、（Ａ）ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に
対し、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダード
アミン系光安定剤それぞれを単独で、さらにヒンダード
フェノール系酸化防止剤とヒンダードアミン系光安定剤
とを組み合わせて０．０５〜２重量部の範囲で使用され
る。０．０５重量部未満では金属腐食防止効果が認めら
れず、２重量部を越えると添加した物質がブリードし磁
気テープに付着し好ましくない。ヒンダードフェノール
系酸化防止剤としては以下のものが挙げられる。例え
ば、トリエチレングリコールービス［３−（ｔ−ブチル
−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４
−ヒジロシキ−３，５−ジ−ｔ−ブチルイニリノ）−
１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビ
ス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
エニル）プロピオネート］、オキデシル−３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート］、ペンタエリスリチル−テハラキス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフ
ォルート−ジエチルエステル、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレー
ト、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジ
ン、４，４’−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフエノール）、４，４’−ブチリデビス−（６−ｔ−
ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−メチレン
ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ブチルフ
ェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２−ｔ−
ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’
−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリー
ト、４，４’−ブチルフェノール）、３，９−ビス［２
−［３−（３−ｔ−ブチル−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニン）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチ
ル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］
ウンダカン、ジフルチルヒドロキシトルエン等である。
また、ヒンダードアミン系光安定剤としては以下のもの
が挙げられる。例えば、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペルジル）−アジペ
ート、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラ
チルネピペリジン，４−（フエニルカルバモイルオキ
シ）−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン等であ
る。これらの中でヒンダードフェノール系酸化防止剤、
特に空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の揮
発成分量が５重量％以下のものが好ましい。本発明で用
いられる、（Ｃ）グリセリンの脂肪酸エステルは、ポリ
オキシメチレン共重合体１００重量部に対し０．０５〜
５重量部の範囲で使用される。０．０５重量部未満では
本発明組成物を成形した時に離型が困難となり好ましく
ない。５重量部を越えると添加した物質がブリードし、
磁気テープに付着し好ましくない。グリセリンの脂肪酸
エステルとしては以下のものが挙げられる。すなわち、
カプリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、アウキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、セロ
チン酸、モンタン酸等の炭素数１０以上の飽和脂肪酸と
グリセリンとのエステルであり、特に炭素数２０以上の
飽和脂肪酸とグリセリンとのエステルが好ましい。ま
た、該グリセリンの脂肪酸エステルのモノグリセリド含
量が４０〜６０％のものが好ましい。本発明で用いられ
る、（Ｄ）ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体
は、ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に対し、
０．０１〜２重量部、好ましくは０．０１〜１．５重量
部の範囲で使用される。２重量部を越えると成形品の外
観不良等が生じ好ましくない。ホルムアルデヒド反応性
窒素を含む重合体としては以下のものが挙げられる。す
なわち、ナイロン３、ナイロン４−６、ナイロン６−
６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１２、ナイロン１
２等、またこれらの共重合体であるナイロン６／６−６
／６−１０、ナイロン６／６−１２等である。上記のナ
イロン３は、アクリルアミドおよびその誘導体またはア
クリルアミドおよびその誘導体と他のビニルモノマーと
を金属アルコラートの存在下で重合して得られるポリβ
ーアラニン共重合体や、アクリルアミドおよびその誘導
体またはアクリルアミドおよびその誘導体と他のビニル
モノマーとをラジカル重合触媒の存在下で重合して得ら
れる重合体である。また、アミン、アミド、尿素、ウレ
タン等窒素含有基を有する重合体も含まれる。本発明ポ
リアセタール樹脂組成物の調整方法については特に制限
はなく、添加剤の添加形態は、粉末であっても溶融状態
であってもかまわない。添加剤の添加方法は、一般に押
出機でポリオキシメチレン共重合体と添加剤を一緒に配
合し、練込むことによって行われる。この押出機は、単
軸あるいは２軸であってもよく、また重合工程で添加し
てもかまわない。本発明の組成物にはその効果を損なわ
ない範囲で通常のポレオキシメチレン共重合体に使用さ
れている滑剤、顔料、無機充填剤等を単独または組合せ
て添加してもよい。
基、またはアリール基であり、それらは同一であっても
異なっていてもよい。ｎは２〜６の整数である。）で表
されるオキシアルキレン単位がランダムに挿入された構
造を有するポリオキシメチレン共重合体である。また、
本発明に用いられるポリオキシメチレン共重合体には分
子鎖の分岐化された分岐ポリオキシメチレン共重合体、
及びオキシメチレンの繰り返し単位を５０重量％以上含
む異種成分ブロックとのポリオキシメチレンブロックコ
ポリマーも含まれる。なお、上記のポリオキシメチレン
共重合体中のオキシアルキレン単位の挿入率は、オキシ
メチレン単位１００モルに対して０．０５〜５０モル、
好ましくは０．１〜２０モルの範囲である。このオキシ
アルキレン単位としては、例えばオキシエチレン単位、
オキシプロピレン単位、オキシテトラメチレン単位、オ
キシブチレン単位、およびオキシフェニルエチレン単位
などがある。これらのオキシエチレン単位の中でも、ポ
リアセタール樹脂組成物の物性を向上させる点から、オ
キシエチレン単位、−［（ＣＨ2)2Ｏ］−、およびオキ
シテトラチメレン単位、−［（ＣＨ2）4Ｏ］−、が特に
好ましい。本発明でも用いられるポリオキシメチレン共
重合体の分子末端の安定化処理方法としては、例えば末
端のヒドロキシル基をエステル化、エーテル化、ウレタ
ン化等の方法を用いる。また、分子末端の不安定部分を
加水分解によって分子末端の安定化をはかる方法も用い
られる。本発明で用いられる、（Ｂ）ヒンダードフェノ
ール系酸化防止剤またはヒンダードアミン系光安定剤
は、（Ａ）ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に
対し、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダード
アミン系光安定剤それぞれを単独で、さらにヒンダード
フェノール系酸化防止剤とヒンダードアミン系光安定剤
とを組み合わせて０．０５〜２重量部の範囲で使用され
る。０．０５重量部未満では金属腐食防止効果が認めら
れず、２重量部を越えると添加した物質がブリードし磁
気テープに付着し好ましくない。ヒンダードフェノール
系酸化防止剤としては以下のものが挙げられる。例え
ば、トリエチレングリコールービス［３−（ｔ−ブチル
−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４
−ヒジロシキ−３，５−ジ−ｔ−ブチルイニリノ）−
１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビ
ス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
エニル）プロピオネート］、オキデシル−３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート］、ペンタエリスリチル−テハラキス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフ
ォルート−ジエチルエステル、１，３，５−トリメチル
−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレー
ト、Ｎ，Ｎ’−ビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジ
ン、４，４’−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフエノール）、４，４’−ブチリデビス−（６−ｔ−
ブチル−３−メチルフェノール）、２，２’−メチレン
ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス−（４−エチル−６−ブチルフ
ェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒ
ドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２−ｔ−
ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’
−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリー
ト、４，４’−ブチルフェノール）、３，９−ビス［２
−［３−（３−ｔ−ブチル−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニン）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチ
ル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］
ウンダカン、ジフルチルヒドロキシトルエン等である。
また、ヒンダードアミン系光安定剤としては以下のもの
が挙げられる。例えば、ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペルジル）−アジペ
ート、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラ
チルネピペリジン，４−（フエニルカルバモイルオキ
シ）−２，２，６，６−テトラメチルビペリジン等であ
る。これらの中でヒンダードフェノール系酸化防止剤、
特に空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の揮
発成分量が５重量％以下のものが好ましい。本発明で用
いられる、（Ｃ）グリセリンの脂肪酸エステルは、ポリ
オキシメチレン共重合体１００重量部に対し０．０５〜
５重量部の範囲で使用される。０．０５重量部未満では
本発明組成物を成形した時に離型が困難となり好ましく
ない。５重量部を越えると添加した物質がブリードし、
磁気テープに付着し好ましくない。グリセリンの脂肪酸
エステルとしては以下のものが挙げられる。すなわち、
カプリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、アウキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、セロ
チン酸、モンタン酸等の炭素数１０以上の飽和脂肪酸と
グリセリンとのエステルであり、特に炭素数２０以上の
飽和脂肪酸とグリセリンとのエステルが好ましい。ま
た、該グリセリンの脂肪酸エステルのモノグリセリド含
量が４０〜６０％のものが好ましい。本発明で用いられ
る、（Ｄ）ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体
は、ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に対し、
０．０１〜２重量部、好ましくは０．０１〜１．５重量
部の範囲で使用される。２重量部を越えると成形品の外
観不良等が生じ好ましくない。ホルムアルデヒド反応性
窒素を含む重合体としては以下のものが挙げられる。す
なわち、ナイロン３、ナイロン４−６、ナイロン６−
６、ナイロン６−１０、ナイロン６−１２、ナイロン１
２等、またこれらの共重合体であるナイロン６／６−６
／６−１０、ナイロン６／６−１２等である。上記のナ
イロン３は、アクリルアミドおよびその誘導体またはア
クリルアミドおよびその誘導体と他のビニルモノマーと
を金属アルコラートの存在下で重合して得られるポリβ
ーアラニン共重合体や、アクリルアミドおよびその誘導
体またはアクリルアミドおよびその誘導体と他のビニル
モノマーとをラジカル重合触媒の存在下で重合して得ら
れる重合体である。また、アミン、アミド、尿素、ウレ
タン等窒素含有基を有する重合体も含まれる。本発明ポ
リアセタール樹脂組成物の調整方法については特に制限
はなく、添加剤の添加形態は、粉末であっても溶融状態
であってもかまわない。添加剤の添加方法は、一般に押
出機でポリオキシメチレン共重合体と添加剤を一緒に配
合し、練込むことによって行われる。この押出機は、単
軸あるいは２軸であってもよく、また重合工程で添加し
てもかまわない。本発明の組成物にはその効果を損なわ
ない範囲で通常のポレオキシメチレン共重合体に使用さ
れている滑剤、顔料、無機充填剤等を単独または組合せ
て添加してもよい。
（ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下であ
るポリオキシメチレン共重合体の調整） ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体は、あらかじめ分子末端が
加水分解処理等によって安定化されたポリオキシメチレ
ン共重合体を溶融状態で、水酸基含有化合物またはこ
れらの混合物を注入・混練する工程及び注入された上
記水酸基含有化合物の蒸気及び遊離のホルムアルデヒド
を解放する脱揮工程をもつ少なくとも２段階の工程から
なる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機にポリ
オキシメチレン共重合体を連続的に供給、処理すること
によって得られる。すなわち、図１は、安定化処理され
たポリオキシメチレン共重合体が、異方向回転非かみ合
型２軸スクリュー押出機を使用した場合の揮発性物質の
脱気状態を示した図である。図１の流路１から溶融加水
分解されたオキシメチレン共重合体が供給される。揮発
性物質はリアベント２及びベント３より除去される。水
酸基含有化合物、すなわちトリエチルアミンを含む水が
注入口４より供給される。揮発性物質は、ベント５より
除去される。次に、注入口６よりトリエチルアミンを含
む水溶液が供給・混練される。揮発性物質はベント７よ
り除去される。溶融ポリマーはダイ８を通って排出され
る。以下一例をもってホルムアルデヒドガス発生量が５
００ｐｐｍ以下であるボリオキシメチレン共重合体の製
造方法を示す。 （１）トリオキサンから誘導されたオキシメチレン単位
（−ＯＣＨ2−）９７．８重量％と１，３−ジオキソラ
ンから誘導されるオキシエチレン単位（−ＯＣＨ2ＣＨ2
−）２．２重量％とを含有するポリオキシメチレン共重
合体を三フッ化ホウ素ジブチルエーテルを触媒として調
整し、米国特許３，３１８，８４８号記載の方法により
加水分解処理を行い、分子末端の安定化を行った。 （２）上記の方法により調整されたメルトインデックス
９．１ｇ／１０分、ホルムアルデヒドガス発生量が２１
００ｐｐｍのポリオキシメチレン共重合体を溶融状態
で、図１に示した内径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４８の異方向
回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に供給口１より３
０ｋｇで供給した。溶融ポリマーの供給温度は、２１０
℃であった。リアベント２の減圧度は１５０ｍｍＨｇと
し、ベント３の減圧度は３０ｍｍＨｇとした。注入口４
より１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶液を毎時
１ｋｇで注入した。次いでベント５の減圧度を５０ｍｍ
Ｈｇとし、揮発分を除去した。次いで注入口より６より
１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶液を毎時０．
５ｋｇ注入した。その後ベント７より減圧度３０ｍｍＨ
ｇで揮発物を除去した。溶融樹脂はダイヘッドより排出
されストランドカッターによりペレットにした。また、
押出工程を通して溶融樹脂温度は２１０℃に保持した。
得られたポリオキシメチレン共重合体のホルムアルデヒ
ドガス発生量は１５０ｐｐｍであった。つぎに、上記製
造条件を変えることで種々のホルムアルデヒドガス発生
量が５００ｐｐｍ以下のポリオキシメチレン共重合体を
調整した。 （３）前記製造条件において、リアベント２、ベント５
を閉じ、注入口６を閉じてトリエチルアミンを含む水溶
液の注入を止め、ベント３の減圧度２００ｍｍＨＧ、ベ
ント７の減圧度を３０ｍｍＨｇとした他は前記製造方法
と同じ操作を行ったところ、ホルムアルデビドガス発生
量が４１０ｐｐｍであるポリオキシメチレン共重合体を
得た。
るポリオキシメチレン共重合体の調整） ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体は、あらかじめ分子末端が
加水分解処理等によって安定化されたポリオキシメチレ
ン共重合体を溶融状態で、水酸基含有化合物またはこ
れらの混合物を注入・混練する工程及び注入された上
記水酸基含有化合物の蒸気及び遊離のホルムアルデヒド
を解放する脱揮工程をもつ少なくとも２段階の工程から
なる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機にポリ
オキシメチレン共重合体を連続的に供給、処理すること
によって得られる。すなわち、図１は、安定化処理され
たポリオキシメチレン共重合体が、異方向回転非かみ合
型２軸スクリュー押出機を使用した場合の揮発性物質の
脱気状態を示した図である。図１の流路１から溶融加水
分解されたオキシメチレン共重合体が供給される。揮発
性物質はリアベント２及びベント３より除去される。水
酸基含有化合物、すなわちトリエチルアミンを含む水が
注入口４より供給される。揮発性物質は、ベント５より
除去される。次に、注入口６よりトリエチルアミンを含
む水溶液が供給・混練される。揮発性物質はベント７よ
り除去される。溶融ポリマーはダイ８を通って排出され
る。以下一例をもってホルムアルデヒドガス発生量が５
００ｐｐｍ以下であるボリオキシメチレン共重合体の製
造方法を示す。 （１）トリオキサンから誘導されたオキシメチレン単位
（−ＯＣＨ2−）９７．８重量％と１，３−ジオキソラ
ンから誘導されるオキシエチレン単位（−ＯＣＨ2ＣＨ2
−）２．２重量％とを含有するポリオキシメチレン共重
合体を三フッ化ホウ素ジブチルエーテルを触媒として調
整し、米国特許３，３１８，８４８号記載の方法により
加水分解処理を行い、分子末端の安定化を行った。 （２）上記の方法により調整されたメルトインデックス
９．１ｇ／１０分、ホルムアルデヒドガス発生量が２１
００ｐｐｍのポリオキシメチレン共重合体を溶融状態
で、図１に示した内径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４８の異方向
回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に供給口１より３
０ｋｇで供給した。溶融ポリマーの供給温度は、２１０
℃であった。リアベント２の減圧度は１５０ｍｍＨｇと
し、ベント３の減圧度は３０ｍｍＨｇとした。注入口４
より１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶液を毎時
１ｋｇで注入した。次いでベント５の減圧度を５０ｍｍ
Ｈｇとし、揮発分を除去した。次いで注入口より６より
１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶液を毎時０．
５ｋｇ注入した。その後ベント７より減圧度３０ｍｍＨ
ｇで揮発物を除去した。溶融樹脂はダイヘッドより排出
されストランドカッターによりペレットにした。また、
押出工程を通して溶融樹脂温度は２１０℃に保持した。
得られたポリオキシメチレン共重合体のホルムアルデヒ
ドガス発生量は１５０ｐｐｍであった。つぎに、上記製
造条件を変えることで種々のホルムアルデヒドガス発生
量が５００ｐｐｍ以下のポリオキシメチレン共重合体を
調整した。 （３）前記製造条件において、リアベント２、ベント５
を閉じ、注入口６を閉じてトリエチルアミンを含む水溶
液の注入を止め、ベント３の減圧度２００ｍｍＨＧ、ベ
ント７の減圧度を３０ｍｍＨｇとした他は前記製造方法
と同じ操作を行ったところ、ホルムアルデビドガス発生
量が４１０ｐｐｍであるポリオキシメチレン共重合体を
得た。
【実施例１〜６、比較例１〜３】表１に示すホルムアル
デヒドガス発生量を有するポリオキシメチレン共重合体
（トリオキサン９６．３重量％、１，３−ジオキソラン
３．７重量％の共重合により得られる重合体）１００重
量部に対し、トリエチレングリコール−ビス［３−（ｔ
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］とハートマン氏法によるモノグリセリド含
量５０重量％のベヘニン酸グリセライド及びナイロン６
−６を変量して配合してシリンダー温度が２００℃に設
定された２軸押出機で溶融混練し、造粒、製品化した。
得られた材料を用いて８ｍｍＶＴＲリールを成形し、テ
ープ錆テストを実施した。結果を表１に示す。
デヒドガス発生量を有するポリオキシメチレン共重合体
（トリオキサン９６．３重量％、１，３−ジオキソラン
３．７重量％の共重合により得られる重合体）１００重
量部に対し、トリエチレングリコール−ビス［３−（ｔ
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］とハートマン氏法によるモノグリセリド含
量５０重量％のベヘニン酸グリセライド及びナイロン６
−６を変量して配合してシリンダー温度が２００℃に設
定された２軸押出機で溶融混練し、造粒、製品化した。
得られた材料を用いて８ｍｍＶＴＲリールを成形し、テ
ープ錆テストを実施した。結果を表１に示す。
【実施例６〜８、比較例４〜８】実施例１のベヘニン酸
グリセライド（モノグリセリド含有量５０重量％）の代
わりに表２に示す各種滑剤を用い、実施例１と同様に造
粒し、テープ錆テストを実施した。結果を表２に示す。
グリセライド（モノグリセリド含有量５０重量％）の代
わりに表２に示す各種滑剤を用い、実施例１と同様に造
粒し、テープ錆テストを実施した。結果を表２に示す。
【実施例９〜１０】実施例１のトリエチレングリコール
−ビス−［３−（ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドメ
キシフェニル）プロピオネート］の代わりに２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケートまたは
ペンタエスチリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロビオネー
ト］を用い実施例１と同様に造粒し、テープ錆テストと
を実施した。両者共テープ面に変化が生じなかった。
−ビス−［３−（ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドメ
キシフェニル）プロピオネート］の代わりに２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケートまたは
ペンタエスチリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロビオネー
ト］を用い実施例１と同様に造粒し、テープ錆テストと
を実施した。両者共テープ面に変化が生じなかった。
【表１】
【表２】
【発明の効果】本発明のよれば、窒素気流下にて２３０
℃で６０分間加熱した時のホルムアルデヒド発生量が５
００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体にヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダートアミ
ン系光安定剤、グリセリンの脂肪酸エステル、ホルムア
ルデヒド反応性窒素を含む重合体を添加した組成物は磁
気テープ面への錆発生のない優れた成形品を提供するこ
とができる。
℃で６０分間加熱した時のホルムアルデヒド発生量が５
００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体にヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダートアミ
ン系光安定剤、グリセリンの脂肪酸エステル、ホルムア
ルデヒド反応性窒素を含む重合体を添加した組成物は磁
気テープ面への錆発生のない優れた成形品を提供するこ
とができる。
【図１】本発明の異方向回転非かみ合型２軸スクリュー
押出機を使用した場合の揮発性物質の脱気状態を示す
図。
押出機を使用した場合の揮発性物質の脱気状態を示す
図。
１ 流路 ２ リアベント ３ ベント ４ 注入口 ５ ベント ６ 注入口 ７ ベント ８ ダイ
【手続補正書】
【提出日】平成６年３月１７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 ポリアセタール樹脂組成物
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気テープに使用され
る磁性材料の腐食防止に優れるポリアセタール樹脂組成
物に関するものである。
る磁性材料の腐食防止に優れるポリアセタール樹脂組成
物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックフィルム上に真空蒸着、ス
パッタリング、イオンプレーティング等により、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉあるいはこれらの合金を主体とする強磁性薄
膜を形成させて得られる磁気テープは、オーディオテー
プ、ＶＴＲテープ等に使用されている。磁気テープが高
温高湿下に放置されると、強磁性薄膜表面に腐食が生
じ、電磁変換特性の低下等が生じ不都合が生じる。磁気
テープはカセットに収納され使用されるが、カセット構
成部品により腐食の程度が異なる。特に、カセット構成
部品として使用されているポリアセタール樹脂成形品が
腐食を促進させることが知られている。特公昭６４−１
２０３０号公報では、ポリアセタール樹脂成形品中のホ
ルムアルデヒドを減少させ、耐食性を向上させる方法と
して、ポリアセタール樹脂成形品を１００℃で１週間大
気乾燥する方法や１００℃、０．０１Ｔｏｒｒで一日間
減圧乾燥する方法が開示されている。
パッタリング、イオンプレーティング等により、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉあるいはこれらの合金を主体とする強磁性薄
膜を形成させて得られる磁気テープは、オーディオテー
プ、ＶＴＲテープ等に使用されている。磁気テープが高
温高湿下に放置されると、強磁性薄膜表面に腐食が生
じ、電磁変換特性の低下等が生じ不都合が生じる。磁気
テープはカセットに収納され使用されるが、カセット構
成部品により腐食の程度が異なる。特に、カセット構成
部品として使用されているポリアセタール樹脂成形品が
腐食を促進させることが知られている。特公昭６４−１
２０３０号公報では、ポリアセタール樹脂成形品中のホ
ルムアルデヒドを減少させ、耐食性を向上させる方法と
して、ポリアセタール樹脂成形品を１００℃で１週間大
気乾燥する方法や１００℃、０．０１Ｔｏｒｒで一日間
減圧乾燥する方法が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ポリアセター
ル樹脂成形品を大気乾燥、減圧乾燥により成形品中のホ
ルムアルデヒドを除去する方法は、設備、時間等の面よ
り実用上有益ではない。本発明は、磁気テープに使用さ
れている磁性材料の腐食防止に優れたポリアセタール樹
脂組成物を提供することを課題とするものである。
ル樹脂成形品を大気乾燥、減圧乾燥により成形品中のホ
ルムアルデヒドを除去する方法は、設備、時間等の面よ
り実用上有益ではない。本発明は、磁気テープに使用さ
れている磁性材料の腐食防止に優れたポリアセタール樹
脂組成物を提供することを課題とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
（Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体１００重量部、（Ｂ）ヒン
ダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン
系光安定剤０．０５〜２重量部、（Ｃ）グリセリンの脂
肪酸エステル０．０５〜５重量部、および（Ｄ）ホルム
アルデヒド反応性窒素を含む重合体０．０１〜２重量部
からなる耐金属腐食性に優れることを特徴とするポリア
セタール樹脂組成物である。
（Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体１００重量部、（Ｂ）ヒン
ダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン
系光安定剤０．０５〜２重量部、（Ｃ）グリセリンの脂
肪酸エステル０．０５〜５重量部、および（Ｄ）ホルム
アルデヒド反応性窒素を含む重合体０．０１〜２重量部
からなる耐金属腐食性に優れることを特徴とするポリア
セタール樹脂組成物である。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
組成物に用いられる、（Ａ）ポリオキシメチレン共重合
体は、該ポレオキシメチレン共重合体を窒素気流下にて
２３０℃で６０分間加熱した時のホルムアルデヒドガス
発生量が５００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以
下であることが必要である。ホルムアルデヒドガス発生
量が５００ｐｐｍを越えるポリオキシメチレン共重合体
を用いて製造された組成物から得られるカセット構成部
品からなるカセットテープ類において、磁気テープに対
する腐食が生じ好ましくない。
組成物に用いられる、（Ａ）ポリオキシメチレン共重合
体は、該ポレオキシメチレン共重合体を窒素気流下にて
２３０℃で６０分間加熱した時のホルムアルデヒドガス
発生量が５００ｐｐｍ以下、好ましくは３００ｐｐｍ以
下であることが必要である。ホルムアルデヒドガス発生
量が５００ｐｐｍを越えるポリオキシメチレン共重合体
を用いて製造された組成物から得られるカセット構成部
品からなるカセットテープ類において、磁気テープに対
する腐食が生じ好ましくない。
【０００６】ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐ
ｍ以下のポリオキシメチレン共重合体は、ホルムアルデ
ヒドもしくはトリオキサン環状エーテル、環状ホルマー
ルとの共重合によって得られるポリオキシメチレン共重
合体を重合直後に分子末端の安定化処理を行い、その後
溶融状態で、水酸基含有化合物またはこれらの混合物
を注入し、ついで混練する工程、および注入された上
記水酸基含有化合物の蒸気及び遊離のホルムアルデヒド
を解放する脱気工程をもつ少なくとも２段階の工程から
なる異方向回転非かみ合い型２軸スクリュー押出機に連
続的に供給し、処理することにより、溶融したポリオキ
シメチレン共重合体から揮発成分を除去すること等によ
って得られる。上記の水酸基含有化合物またはそれらの
混合物を注入し、ついで混練する際、ＰＨ調整剤として
トリエチルアミン等の塩基性物質を添加するのが好まし
い。
ｍ以下のポリオキシメチレン共重合体は、ホルムアルデ
ヒドもしくはトリオキサン環状エーテル、環状ホルマー
ルとの共重合によって得られるポリオキシメチレン共重
合体を重合直後に分子末端の安定化処理を行い、その後
溶融状態で、水酸基含有化合物またはこれらの混合物
を注入し、ついで混練する工程、および注入された上
記水酸基含有化合物の蒸気及び遊離のホルムアルデヒド
を解放する脱気工程をもつ少なくとも２段階の工程から
なる異方向回転非かみ合い型２軸スクリュー押出機に連
続的に供給し、処理することにより、溶融したポリオキ
シメチレン共重合体から揮発成分を除去すること等によ
って得られる。上記の水酸基含有化合物またはそれらの
混合物を注入し、ついで混練する際、ＰＨ調整剤として
トリエチルアミン等の塩基性物質を添加するのが好まし
い。
【０００７】本発明に用いられるポリオキシメチレン共
重合体はホルムアルデヒドもしくはトリオキサンと環状
エーテル、環状ホルマールとの共重合によって得られる
オキシメチレン単位からなる連鎖中に下記式（１）
重合体はホルムアルデヒドもしくはトリオキサンと環状
エーテル、環状ホルマールとの共重合によって得られる
オキシメチレン単位からなる連鎖中に下記式（１）
【０００８】
【化１】
【０００９】（式中のＲ1 およびＲ2 はそれぞれ水素原
子、アルキル基、またはアリール基であり、それらは同
一であっても異なっていてもよい。ｎは２〜６の整数で
ある。）で表されるオキシアルキレン単位がランダムに
挿入された構造を有するポリオキシメチレン共重合体で
ある。
子、アルキル基、またはアリール基であり、それらは同
一であっても異なっていてもよい。ｎは２〜６の整数で
ある。）で表されるオキシアルキレン単位がランダムに
挿入された構造を有するポリオキシメチレン共重合体で
ある。
【００１０】また、本発明に用いられるポリオキシメチ
レン共重合体には分子鎖の分岐化された分岐ポリオキシ
メチレン共重合体、及びオキシメチレンの繰り返し単位
を５０重量％以上含む異種成分ブロックとのポリオキシ
メチレンブロックコポリマーも含まれる。なお、上記の
ポリオキシメチレン共重合体中のオキシアルキレン単位
の挿入率は、オキシメチレン単位１００モルに対して
０．０５〜５０モル、好ましくは０．１〜２０モルの範
囲である。このオキシアルキレン単位としては、例えば
オキシエチレン単位、オキシプロピレン単位、オキシテ
トラメチレン単位、オキシブチレン単位、およびオキシ
フェニルエチレン単位などがある。これらのオキシエチ
レン単位の中でも、ポリアセタール樹脂組成物の物性を
向上させる点から、オキシエチレン単位、−［（ＣＨ2)
2Ｏ］−、およびオキシテトラチメレン単位、−［（Ｃ
Ｈ2）4Ｏ］−、が特に好ましい。
レン共重合体には分子鎖の分岐化された分岐ポリオキシ
メチレン共重合体、及びオキシメチレンの繰り返し単位
を５０重量％以上含む異種成分ブロックとのポリオキシ
メチレンブロックコポリマーも含まれる。なお、上記の
ポリオキシメチレン共重合体中のオキシアルキレン単位
の挿入率は、オキシメチレン単位１００モルに対して
０．０５〜５０モル、好ましくは０．１〜２０モルの範
囲である。このオキシアルキレン単位としては、例えば
オキシエチレン単位、オキシプロピレン単位、オキシテ
トラメチレン単位、オキシブチレン単位、およびオキシ
フェニルエチレン単位などがある。これらのオキシエチ
レン単位の中でも、ポリアセタール樹脂組成物の物性を
向上させる点から、オキシエチレン単位、−［（ＣＨ2)
2Ｏ］−、およびオキシテトラチメレン単位、−［（Ｃ
Ｈ2）4Ｏ］−、が特に好ましい。
【００１１】本発明でも用いられるポリオキシメチレン
共重合体の分子末端の安定化処理方法としては、例えば
末端のヒドロキシル基をエステル化、エーテル化、ウレ
タン化等の方法を用いる。また、分子末端の不安定部分
を加水分解によって分子末端の安定化をはかる方法も用
いられる。本発明で用いられる、（Ｂ）ヒンダードフェ
ノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン系光安定剤
は、（Ａ）ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に
対し、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダード
アミン系光安定剤それぞれを単独で、さらにヒンダード
フェノール系酸化防止剤とヒンダードアミン系光安定剤
とを組み合わせて０．０５〜２重量部の範囲で使用され
る。０．０５重量部未満では金属腐食防止効果が認めら
れず、２重量部を越えると添加した物質がブリードし磁
気テープに付着し好ましくない。
共重合体の分子末端の安定化処理方法としては、例えば
末端のヒドロキシル基をエステル化、エーテル化、ウレ
タン化等の方法を用いる。また、分子末端の不安定部分
を加水分解によって分子末端の安定化をはかる方法も用
いられる。本発明で用いられる、（Ｂ）ヒンダードフェ
ノール系酸化防止剤またはヒンダードアミン系光安定剤
は、（Ａ）ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に
対し、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダード
アミン系光安定剤それぞれを単独で、さらにヒンダード
フェノール系酸化防止剤とヒンダードアミン系光安定剤
とを組み合わせて０．０５〜２重量部の範囲で使用され
る。０．０５重量部未満では金属腐食防止効果が認めら
れず、２重量部を越えると添加した物質がブリードし磁
気テープに付着し好ましくない。
【００１２】ヒンダードフェノール系酸化防止剤として
は以下のものが挙げられる。例えば、トリエチレングリ
コールービス［３−（ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス−
（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒジロシキ−３，５
−ジ−ｔ−ブチルイニリノ）−１，３，５−トリアジ
ン、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト］、オキデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキ
サンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエ
リスリチル−テハラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジルフォルート−ジエチルエステ
ル、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベン
ゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−
［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニル］ヒドラジン、４，４’−チオビス
−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフエノール）、４，
４’−ブチリデビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフ
ェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−エチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
−（４−エチル−６−ブチルフェノール）、１，１，３
−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチ
ルフェニル）ブタン、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ
−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）
−４−メチルフェニルアクリート、４，４’−ブチルフ
ェノール）、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチ
ル−ヒドロキシ−５−メチルフェニン）プロピオニルオ
キシ］−１，１−ジメチルエチル］２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ［５，５］ウンダカン、ジフルチル
ヒドロキシトルエン等である。
は以下のものが挙げられる。例えば、トリエチレングリ
コールービス［３−（ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス−
（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒジロシキ−３，５
−ジ−ｔ−ブチルイニリノ）−１，３，５−トリアジ
ン、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）プロピオネー
ト］、オキデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，６−ヘキ
サンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエ
リスリチル−テハラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，
Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシベンジルフォルート−ジエチルエステ
ル、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベン
ゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）−イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−
［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニル］ヒドラジン、４，４’−チオビス
−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフエノール）、４，
４’−ブチリデビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフ
ェノール）、２，２’−メチレンビス−（４−エチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
−（４−エチル−６−ブチルフェノール）、１，１，３
−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチ
ルフェニル）ブタン、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ
−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）
−４−メチルフェニルアクリート、４，４’−ブチルフ
ェノール）、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチ
ル−ヒドロキシ−５−メチルフェニン）プロピオニルオ
キシ］−１，１−ジメチルエチル］２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ［５，５］ウンダカン、ジフルチル
ヒドロキシトルエン等である。
【００１３】また、ヒンダードアミン系光安定剤として
は以下のものが挙げられる。例えば、ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペル
ジル）−アジペート、４−ベンゾイルオキシ−２，２，
６，６−テトラチルネピペリジン，４−（フエニルカル
バモイルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチルビペ
リジン等である。
は以下のものが挙げられる。例えば、ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケー
ト、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペル
ジル）−アジペート、４−ベンゾイルオキシ−２，２，
６，６−テトラチルネピペリジン，４−（フエニルカル
バモイルオキシ）−２，２，６，６−テトラメチルビペ
リジン等である。
【００１４】これらの中でヒンダードフェノール系酸化
防止剤、特に空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱し
た時の揮発成分量が５重量％以下のものが好ましい。本
発明で用いられる、（Ｃ）グリセリンの脂肪酸エステル
は、ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に対し
０．０５〜５重量部の範囲で使用される。０．０５重量
部未満では本発明組成物を成形した時に離型が困難とな
り好ましくない。５重量部を越えると添加した物質がブ
リードし、磁気テープに付着し好ましくない。
防止剤、特に空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱し
た時の揮発成分量が５重量％以下のものが好ましい。本
発明で用いられる、（Ｃ）グリセリンの脂肪酸エステル
は、ポリオキシメチレン共重合体１００重量部に対し
０．０５〜５重量部の範囲で使用される。０．０５重量
部未満では本発明組成物を成形した時に離型が困難とな
り好ましくない。５重量部を越えると添加した物質がブ
リードし、磁気テープに付着し好ましくない。
【００１５】グリセリンの脂肪酸エステルとしては以下
のものが挙げられる。すなわち、カプリン酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アウキジン酸、ベ
ヘニン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸等
の炭素数１０以上の飽和脂肪酸とグリセリンとのエステ
ルであり、特に炭素数２０以上の飽和脂肪酸とグリセリ
ンとのエステルが好ましい。また、該グリセリンの脂肪
酸エステルのモノグリセリド含量が４０〜６０％のもの
が好ましい。
のものが挙げられる。すなわち、カプリン酸、ミリスチ
ン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アウキジン酸、ベ
ヘニン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸等
の炭素数１０以上の飽和脂肪酸とグリセリンとのエステ
ルであり、特に炭素数２０以上の飽和脂肪酸とグリセリ
ンとのエステルが好ましい。また、該グリセリンの脂肪
酸エステルのモノグリセリド含量が４０〜６０％のもの
が好ましい。
【００１６】本発明で用いられる、（Ｄ）ホルムアルデ
ヒド反応性窒素を含む重合体は、ポリオキシメチレン共
重合体１００重量部に対し、０．０１〜２重量部、好ま
しくは０．０１〜１．５重量部の範囲で使用される。２
重量部を越えると成形品の外観不良等が生じ好ましくな
い。ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体としては
以下のものが挙げられる。すなわち、ナイロン３、ナイ
ロン４−６、ナイロン６−６、ナイロン６−１０、ナイ
ロン６−１２、ナイロン１２等、またこれらの共重合体
であるナイロン６／６−６／６−１０、ナイロン６／６
−１２等である。
ヒド反応性窒素を含む重合体は、ポリオキシメチレン共
重合体１００重量部に対し、０．０１〜２重量部、好ま
しくは０．０１〜１．５重量部の範囲で使用される。２
重量部を越えると成形品の外観不良等が生じ好ましくな
い。ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体としては
以下のものが挙げられる。すなわち、ナイロン３、ナイ
ロン４−６、ナイロン６−６、ナイロン６−１０、ナイ
ロン６−１２、ナイロン１２等、またこれらの共重合体
であるナイロン６／６−６／６−１０、ナイロン６／６
−１２等である。
【００１７】上記のナイロン３は、アクリルアミドおよ
びその誘導体またはアクリルアミドおよびその誘導体と
他のビニルモノマーとを金属アルコラートの存在下で重
合して得られるポリβーアラニン共重合体や、アクリル
アミドおよびその誘導体またはアクリルアミドおよびそ
の誘導体と他のビニルモノマーとをラジカル重合触媒の
存在下で重合して得られる重合体である。また、アミ
ン、アミド、尿素、ウレタン等窒素含有基を有する重合
体も含まれる。
びその誘導体またはアクリルアミドおよびその誘導体と
他のビニルモノマーとを金属アルコラートの存在下で重
合して得られるポリβーアラニン共重合体や、アクリル
アミドおよびその誘導体またはアクリルアミドおよびそ
の誘導体と他のビニルモノマーとをラジカル重合触媒の
存在下で重合して得られる重合体である。また、アミ
ン、アミド、尿素、ウレタン等窒素含有基を有する重合
体も含まれる。
【００１８】本発明ポリアセタール樹脂組成物の調整方
法については特に制限はなく、添加剤の添加形態は、粉
末であっても溶融状態であってもかまわない。添加剤の
添加方法は、一般に押出機でポリオキシメチレン共重合
体と添加剤を一緒に配合し、練込むことによって行われ
る。この押出機は、単軸あるいは２軸であってもよく、
また重合工程で添加してもかまわない。
法については特に制限はなく、添加剤の添加形態は、粉
末であっても溶融状態であってもかまわない。添加剤の
添加方法は、一般に押出機でポリオキシメチレン共重合
体と添加剤を一緒に配合し、練込むことによって行われ
る。この押出機は、単軸あるいは２軸であってもよく、
また重合工程で添加してもかまわない。
【００１９】本発明の組成物にはその効果を損なわない
範囲で通常のポレオキシメチレン共重合体に使用されて
いる滑剤、顔料、無機充填剤等を単独または組合せて添
加してもよい。
範囲で通常のポレオキシメチレン共重合体に使用されて
いる滑剤、顔料、無機充填剤等を単独または組合せて添
加してもよい。
【００２０】
【実施例】以下、実施例を示すがこれらは本発明の範囲
を制限するものではない。なお、本発明のポリアセター
ル樹脂組成物の各特性は、次に示す方法に従って測定し
た。 （１）ホルムアルデヒド発生量 ３ｇのポリオキシメチレン共重合体をアルミニウム製容
器に入れ、窒素気流下（６ノルマルリットル／分）で２
３０℃で６０分間溶融させた時に発生したホルムアルデ
ヒドガスを１ｍｏｌ／リットルの亜硫酸ナトリウム溶液
に導入し、０．０１規定の塩酸で滴定して、発生したホ
ルムアルデヒドガスの発生量を測定した。サンプル単位
重量当りのｐｐｍで表した。
を制限するものではない。なお、本発明のポリアセター
ル樹脂組成物の各特性は、次に示す方法に従って測定し
た。 （１）ホルムアルデヒド発生量 ３ｇのポリオキシメチレン共重合体をアルミニウム製容
器に入れ、窒素気流下（６ノルマルリットル／分）で２
３０℃で６０分間溶融させた時に発生したホルムアルデ
ヒドガスを１ｍｏｌ／リットルの亜硫酸ナトリウム溶液
に導入し、０．０１規定の塩酸で滴定して、発生したホ
ルムアルデヒドガスの発生量を測定した。サンプル単位
重量当りのｐｐｍで表した。
【００２１】（２）テープ錆テスト 射出成形により得られた８ｍｍＶＴＲリールを、８ｍｍ
ＶＴＲ用テープ（ＴＤＫ製：商標名：Ｈｉ８ＭＥ１２
０）上に置き、６０℃、９０％ＲＨ条件下に２週間放置
のち、テープ表面の錆発生（変色）度合いにより、次の
判定基準に従って評価した。
ＶＴＲ用テープ（ＴＤＫ製：商標名：Ｈｉ８ＭＥ１２
０）上に置き、６０℃、９０％ＲＨ条件下に２週間放置
のち、テープ表面の錆発生（変色）度合いにより、次の
判定基準に従って評価した。
【００２２】◎：テープ面変化無し ○：テープ面にわずかに変色が認められる △：テープ面に若干変色が認められる ×：テープ面に変色が認められる ××：テープ面に著しい変色が認められる 〔製造例〕 （ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下であ
るポリオキシメチレン共重合体の調整）ホルムアルデヒ
ドガス発生量が５００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチ
レン共重合体は、あらかじめ分子末端が加水分解処理等
によって安定化されたポリオキシメチレン共重合体を溶
融状態で、水酸基含有化合物またはこれらの混合物を
注入・混練する工程及び注入された上記水酸基含有化
合物の蒸気及び遊離のホルムアルデヒドを解放する脱揮
工程をもつ少なくとも２段階の工程からなる異方向回転
非かみ合型２軸スクリュー押出機にポリオキシメチレン
共重合体を連続的に供給、処理することによって得られ
る。
るポリオキシメチレン共重合体の調整）ホルムアルデヒ
ドガス発生量が５００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチ
レン共重合体は、あらかじめ分子末端が加水分解処理等
によって安定化されたポリオキシメチレン共重合体を溶
融状態で、水酸基含有化合物またはこれらの混合物を
注入・混練する工程及び注入された上記水酸基含有化
合物の蒸気及び遊離のホルムアルデヒドを解放する脱揮
工程をもつ少なくとも２段階の工程からなる異方向回転
非かみ合型２軸スクリュー押出機にポリオキシメチレン
共重合体を連続的に供給、処理することによって得られ
る。
【００２３】すなわち、図１は、安定化処理されたポリ
オキシメチレン共重合体が、異方向回転非かみ合型２軸
スクリュー押出機を使用した場合の揮発性物質の脱気状
態を示した図である。図１の流路１から溶融加水分解さ
れたオキシメチレン共重合体が供給される。揮発性物質
はリアベント２及びベント３より除去される。水酸基含
有化合物、すなわちトリエチルアミンを含む水が注入口
４より供給される。揮発性物質は、ベント５より除去さ
れる。次に、注入口６よりトリエチルアミンを含む水溶
液が供給・混練される。揮発性物質はベント７より除去
される。溶融ポリマーはダイ８を通って排出される。
オキシメチレン共重合体が、異方向回転非かみ合型２軸
スクリュー押出機を使用した場合の揮発性物質の脱気状
態を示した図である。図１の流路１から溶融加水分解さ
れたオキシメチレン共重合体が供給される。揮発性物質
はリアベント２及びベント３より除去される。水酸基含
有化合物、すなわちトリエチルアミンを含む水が注入口
４より供給される。揮発性物質は、ベント５より除去さ
れる。次に、注入口６よりトリエチルアミンを含む水溶
液が供給・混練される。揮発性物質はベント７より除去
される。溶融ポリマーはダイ８を通って排出される。
【００２４】以下一例をもってホルムアルデヒドガス発
生量が５００ｐｐｍ以下であるボリオキシメチレン共重
合体の製造方法を示す。 （１）トリオキサンから誘導されたオキシメチレン単位
（−ＯＣＨ2−）９７．８重量％と１，３−ジオキソラ
ンから誘導されるオキシエチレン単位（−ＯＣＨ2ＣＨ2
−）２．２重量％とを含有するポリオキシメチレン共重
合体を三フッ化ホウ素ジブチルエーテルを触媒として調
整し、米国特許３，３１８，８４８号記載の方法により
加水分解処理を行い、分子末端の安定化を行った。
生量が５００ｐｐｍ以下であるボリオキシメチレン共重
合体の製造方法を示す。 （１）トリオキサンから誘導されたオキシメチレン単位
（−ＯＣＨ2−）９７．８重量％と１，３−ジオキソラ
ンから誘導されるオキシエチレン単位（−ＯＣＨ2ＣＨ2
−）２．２重量％とを含有するポリオキシメチレン共重
合体を三フッ化ホウ素ジブチルエーテルを触媒として調
整し、米国特許３，３１８，８４８号記載の方法により
加水分解処理を行い、分子末端の安定化を行った。
【００２５】（２）上記の方法により調整されたメルト
インデックス９．１ｇ／１０分、ホルムアルデヒドガス
発生量が２１００ｐｐｍのポリオキシメチレン共重合体
を溶融状態で、図１に示した内径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４
８の異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に供給
口１より３０ｋｇで供給した。溶融ポリマーの供給温度
は、２１０℃であった。リアベント２の減圧度は１５０
ｍｍＨｇとし、ベント３の減圧度は３０ｍｍＨｇとし
た。注入口４より１５重量％のトリエチルアミンを含む
水溶液を毎時１ｋｇで注入した。次いでベント５の減圧
度を５０ｍｍＨｇとし、揮発分を除去した。次いで注入
口より６より１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶
液を毎時０．５ｋｇ注入した。その後ベント７より減圧
度３０ｍｍＨｇで揮発物を除去した。溶融樹脂はダイヘ
ッドより排出されストランドカッターによりペレットに
した。また、押出工程を通して溶融樹脂温度は２１０℃
に保持した。得られたポリオキシメチレン共重合体のホ
ルムアルデヒドガス発生量は１５０ｐｐｍであった。
インデックス９．１ｇ／１０分、ホルムアルデヒドガス
発生量が２１００ｐｐｍのポリオキシメチレン共重合体
を溶融状態で、図１に示した内径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４
８の異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に供給
口１より３０ｋｇで供給した。溶融ポリマーの供給温度
は、２１０℃であった。リアベント２の減圧度は１５０
ｍｍＨｇとし、ベント３の減圧度は３０ｍｍＨｇとし
た。注入口４より１５重量％のトリエチルアミンを含む
水溶液を毎時１ｋｇで注入した。次いでベント５の減圧
度を５０ｍｍＨｇとし、揮発分を除去した。次いで注入
口より６より１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶
液を毎時０．５ｋｇ注入した。その後ベント７より減圧
度３０ｍｍＨｇで揮発物を除去した。溶融樹脂はダイヘ
ッドより排出されストランドカッターによりペレットに
した。また、押出工程を通して溶融樹脂温度は２１０℃
に保持した。得られたポリオキシメチレン共重合体のホ
ルムアルデヒドガス発生量は１５０ｐｐｍであった。
【００２６】つぎに、上記製造条件を変えることで種々
のホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下のポ
リオキシメチレン共重合体を調整した。 （３）前記製造条件において、リアベント２、ベント５
を閉じ、注入口６を閉じてトリエチルアミンを含む水溶
液の注入を止め、ベント３の減圧度２００ｍｍＨＧ、ベ
ント７の減圧度を３０ｍｍＨｇとした他は前記製造方法
と同じ操作を行ったところ、ホルムアルデビドガス発生
量が４１０ｐｐｍであるポリオキシメチレン共重合体を
得た。
のホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下のポ
リオキシメチレン共重合体を調整した。 （３）前記製造条件において、リアベント２、ベント５
を閉じ、注入口６を閉じてトリエチルアミンを含む水溶
液の注入を止め、ベント３の減圧度２００ｍｍＨＧ、ベ
ント７の減圧度を３０ｍｍＨｇとした他は前記製造方法
と同じ操作を行ったところ、ホルムアルデビドガス発生
量が４１０ｐｐｍであるポリオキシメチレン共重合体を
得た。
【００２７】
【実施例１〜６、比較例１〜３】表１に示すホルムアル
デヒドガス発生量を有するポリオキシメチレン共重合体
（トリオキサン９６．３重量％、１，３−ジオキソラン
３．７重量％の共重合により得られる重合体）１００重
量部に対し、トリエチレングリコール−ビス［３−（ｔ
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］とハートマン氏法によるモノグリセリド含
量５０重量％のベヘニン酸グリセライド及びナイロン６
−６を変量して配合してシリンダー温度が２００℃に設
定された２軸押出機で溶融混練し、造粒、製品化した。
得られた材料を用いて８ｍｍＶＴＲリールを成形し、テ
ープ錆テストを実施した。結果を表１に示す。
デヒドガス発生量を有するポリオキシメチレン共重合体
（トリオキサン９６．３重量％、１，３−ジオキソラン
３．７重量％の共重合により得られる重合体）１００重
量部に対し、トリエチレングリコール−ビス［３−（ｔ
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］とハートマン氏法によるモノグリセリド含
量５０重量％のベヘニン酸グリセライド及びナイロン６
−６を変量して配合してシリンダー温度が２００℃に設
定された２軸押出機で溶融混練し、造粒、製品化した。
得られた材料を用いて８ｍｍＶＴＲリールを成形し、テ
ープ錆テストを実施した。結果を表１に示す。
【００２８】
【実施例６〜８、比較例４〜８】実施例１のベヘニン酸
グリセライド（モノグリセリド含有量５０重量％）の代
わりに表２に示す各種滑剤を用い、実施例１と同様に造
粒し、テープ錆テストを実施した。結果を表２に示す。
グリセライド（モノグリセリド含有量５０重量％）の代
わりに表２に示す各種滑剤を用い、実施例１と同様に造
粒し、テープ錆テストを実施した。結果を表２に示す。
【００２９】
【実施例９〜１０】実施例１のトリエチレングリコール
−ビス−［３−（ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドメ
キシフェニル）プロピオネート］の代わりに２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケートまたは
ペンタエスチリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロビオネー
ト］を用い実施例１と同様に造粒し、テープ錆テストと
を実施した。両者共テープ面に変化が生じなかった。
−ビス−［３−（ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドメ
キシフェニル）プロピオネート］の代わりに２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−セバケートまたは
ペンタエスチリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロビオネー
ト］を用い実施例１と同様に造粒し、テープ錆テストと
を実施した。両者共テープ面に変化が生じなかった。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】
【発明の効果】本発明のよれば、窒素気流下にて２３０
℃で６０分間加熱した時のホルムアルデヒド発生量が５
００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体にヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダートアミ
ン系光安定剤、グリセリンの脂肪酸エステル、ホルムア
ルデヒド反応性窒素を含む重合体を添加した組成物は磁
気テープ面への錆発生のない優れた成形品を提供するこ
とができる。
℃で６０分間加熱した時のホルムアルデヒド発生量が５
００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体にヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤またはヒンダートアミ
ン系光安定剤、グリセリンの脂肪酸エステル、ホルムア
ルデヒド反応性窒素を含む重合体を添加した組成物は磁
気テープ面への錆発生のない優れた成形品を提供するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の異方向回転非かみ合型２軸スクリュー
押出機を使用した場合の揮発性物質の脱気状態を示す
図。
押出機を使用した場合の揮発性物質の脱気状態を示す
図。
【符号の説明】 １ 流路 ２ リアベント ３ ベント ４ 注入口 ５ ベント ６ 注入口 ７ ベント ８ ダイ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ０８Ｌ 59/04 77:00）
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分
間加熱した時のホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐ
ｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体１００重量
部、（Ｂ）ヒンダードフェノール系酸化防止剤またはヒ
ンダードアミン系光安定剤０．０５〜２重量部、（Ｃ）
グリセリンの脂肪酸エステル０．０５〜５重量部、およ
び（Ｄ）ホルムアルデヒド反応性窒素を含む重合体０．
０１〜２重量部からなる耐金属腐食性に優れることを特
徴とするポリアセタール樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6045856A JP2742382B2 (ja) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6045856A JP2742382B2 (ja) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07252400A true JPH07252400A (ja) | 1995-10-03 |
| JP2742382B2 JP2742382B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=12730857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6045856A Expired - Fee Related JP2742382B2 (ja) | 1994-03-16 | 1994-03-16 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2742382B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2002024807A1 (ja) * | 2000-09-21 | 2004-01-29 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
| JP2008260955A (ja) * | 2001-08-03 | 2008-10-30 | Toray Ind Inc | 樹脂組成物ならびにそれからなる成形品、フィルムおよび繊維 |
| JP2013155285A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07196889A (ja) * | 1994-01-06 | 1995-08-01 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | オキシメチレン共重合体樹脂組成物の製造方法 |
-
1994
- 1994-03-16 JP JP6045856A patent/JP2742382B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07196889A (ja) * | 1994-01-06 | 1995-08-01 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | オキシメチレン共重合体樹脂組成物の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2002024807A1 (ja) * | 2000-09-21 | 2004-01-29 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物及びその製造方法 |
| JP2008260955A (ja) * | 2001-08-03 | 2008-10-30 | Toray Ind Inc | 樹脂組成物ならびにそれからなる成形品、フィルムおよび繊維 |
| JP2013155285A (ja) * | 2012-01-30 | 2013-08-15 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ポリアセタール樹脂組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2742382B2 (ja) | 1998-04-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2993025A (en) | Polyoxymethylene compositions stabilized with a synthetic superpolyamide | |
| JP2993062B2 (ja) | オキシメチレン共重合体組成物 | |
| US5478895A (en) | Polyoxymethylene composition and molded article thereof | |
| JP3839057B2 (ja) | ポリアセタール樹脂成形体及びその製造方法 | |
| JP3578540B2 (ja) | エージング性に優れたポリアセタール樹脂組成物 | |
| EP0619344B1 (en) | Acetal resin compositions | |
| JPH07252400A (ja) | ポリアセタール樹脂組成物 | |
| KR920007524B1 (ko) | 개선된 폴리옥시메틸렌조성물과 그의 제조방법 | |
| DE69735567T2 (de) | Polyacetalharzzusammensetzung | |
| CN110016201B (zh) | 聚缩醛树脂组合物 | |
| JP3238502B2 (ja) | ポリアセタール樹脂組成物 | |
| JPH10182928A (ja) | ポリアセタール樹脂組成物およびその製造方法 | |
| JP2808078B2 (ja) | モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物 | |
| JP3222343B2 (ja) | ポリオキシメチレン樹脂組成物 | |
| JP2742382C (ja) | ||
| JP3110959B2 (ja) | モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物 | |
| JP3161061B2 (ja) | オキシメチレンコポリマの製造方法 | |
| US3102106A (en) | Stabilized polyoxymethylenes | |
| JPWO2015008537A1 (ja) | オキシメチレン共重合体の製造方法 | |
| JPH06831B2 (ja) | オキシメチレンコポリマの製造方法 | |
| JP2769287B2 (ja) | モ−ルドデポジットの改良されたポリアセタ−ル樹脂組成物の成形方法 | |
| JP3210872B2 (ja) | 安定化オキシメチレン共重合体の製造方法 | |
| JPH0548781B2 (ja) | ||
| WO1995006087A1 (fr) | Composition de polyoxymethylene et articles moules faits de cette matiere | |
| JP2743303B2 (ja) | ポリアセタール樹脂成形材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980113 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080130 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090130 Year of fee payment: 11 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090130 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100130 Year of fee payment: 12 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110130 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110130 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120130 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120130 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130130 Year of fee payment: 15 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |