JP2808078B2 - モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents
モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物Info
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- JP2808078B2 JP2808078B2 JP7379994A JP7379994A JP2808078B2 JP 2808078 B2 JP2808078 B2 JP 2808078B2 JP 7379994 A JP7379994 A JP 7379994A JP 7379994 A JP7379994 A JP 7379994A JP 2808078 B2 JP2808078 B2 JP 2808078B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリアセタール樹脂の成
形加工時における、ホルム臭と金型表面に付着するモー
ルドデポジットを大巾に低減せしめ、作業環境の改善と
成形品の表面性、寸法精度を損なうことなく長時間の連
続成形が可能なポリアセタール樹脂組成物に関する。
形加工時における、ホルム臭と金型表面に付着するモー
ルドデポジットを大巾に低減せしめ、作業環境の改善と
成形品の表面性、寸法精度を損なうことなく長時間の連
続成形が可能なポリアセタール樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリアセタール樹脂は、優れた機械特性
や成形性を有するためにエンジニアリング樹脂として、
電気・電子部品及び機械機構部品等幅広い分野で利用さ
れている。しかしながら、ポリアセタール樹脂には、熱
安定性に乏しく成形加工時に熱分解によってホルムアル
デヒドガスが発生し、作業環境を悪化させたり、又発生
したホルムアルデヒドやポリアセタール樹脂中に含有さ
れている安定剤等の添加物由来の揮発成分が金型表面に
析出し、いわゆるモールドデポジットを形成し、その結
果成形品の表面を著しく損なったり、あるいは成形品の
寸法精度の低下を来たす等の問題がある。又、モールド
デポジットが発生した場合には、モールドデポジットの
発生毎に金型の分解掃除をしなければならず、これには
多大の時間と労力を要し、生産性の低下を来たすという
問題も有しており、その改良が強く望まれている。
や成形性を有するためにエンジニアリング樹脂として、
電気・電子部品及び機械機構部品等幅広い分野で利用さ
れている。しかしながら、ポリアセタール樹脂には、熱
安定性に乏しく成形加工時に熱分解によってホルムアル
デヒドガスが発生し、作業環境を悪化させたり、又発生
したホルムアルデヒドやポリアセタール樹脂中に含有さ
れている安定剤等の添加物由来の揮発成分が金型表面に
析出し、いわゆるモールドデポジットを形成し、その結
果成形品の表面を著しく損なったり、あるいは成形品の
寸法精度の低下を来たす等の問題がある。又、モールド
デポジットが発生した場合には、モールドデポジットの
発生毎に金型の分解掃除をしなければならず、これには
多大の時間と労力を要し、生産性の低下を来たすという
問題も有しており、その改良が強く望まれている。
【０００３】上記問題を解決するために、これまでに種
々の提案がされており、例えば、熱分解によって発生す
るホルムアルデヒドの低減を目的に、ポリアミド（特公
昭３４−５４４０号公報）、アミドオリゴマー（特公昭
５４−３２６５８号公報）等を添加する方法、あるいは
ヒンダードフェノール／カルボン酸の金属塩／ポリアミ
ド（特開平３−１４８５９号公報）を添加する方法が提
案されている。しかしながらこれらの方法においては、
ポリアセタールの安定化が不充分であるために成形加工
時のホルムアルデヒドガスの発生に起因する臭気や、モ
ールドデポジットの発生の点においても満足し得るもの
ではなかった。
々の提案がされており、例えば、熱分解によって発生す
るホルムアルデヒドの低減を目的に、ポリアミド（特公
昭３４−５４４０号公報）、アミドオリゴマー（特公昭
５４−３２６５８号公報）等を添加する方法、あるいは
ヒンダードフェノール／カルボン酸の金属塩／ポリアミ
ド（特開平３−１４８５９号公報）を添加する方法が提
案されている。しかしながらこれらの方法においては、
ポリアセタールの安定化が不充分であるために成形加工
時のホルムアルデヒドガスの発生に起因する臭気や、モ
ールドデポジットの発生の点においても満足し得るもの
ではなかった。
【０００４】一方成形歪（反り）、ハイサイクル性を改
良する目的でポリアセタール樹脂にイオン吸着体である
ハイドロタルサイトを添加する方法も開示されている
（特公平２−５０９４８号公報）。しかしながら該方法
は、モールドデポジットの改良を目的とするものではな
く、事実、該公報に記述されている樹脂組成物では本願
の目的とする効果は全く得られない。又熱安定性を改良
する目的でポリオキシメチレンにイオン吸着体であるア
ルカリ土類金属珪酸塩を添加する方法も開示されている
（特開昭６３−５６５５２号公報）。しかしながら該公
報の方法では本願の目的とする効果は得られない。この
ことは後述する比較例によって明白となる。
良する目的でポリアセタール樹脂にイオン吸着体である
ハイドロタルサイトを添加する方法も開示されている
（特公平２−５０９４８号公報）。しかしながら該方法
は、モールドデポジットの改良を目的とするものではな
く、事実、該公報に記述されている樹脂組成物では本願
の目的とする効果は全く得られない。又熱安定性を改良
する目的でポリオキシメチレンにイオン吸着体であるア
ルカリ土類金属珪酸塩を添加する方法も開示されている
（特開昭６３−５６５５２号公報）。しかしながら該公
報の方法では本願の目的とする効果は得られない。この
ことは後述する比較例によって明白となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような従
来のポリアセタール樹脂が有する欠点を克服し、成形加
工時に金型表面に発生するモールドデポジットが著しく
低減され、かつホルムアルデヒド臭の極めて少ないポリ
アセタール樹脂組成物を提供することを目的としてなさ
れたものである。
来のポリアセタール樹脂が有する欠点を克服し、成形加
工時に金型表面に発生するモールドデポジットが著しく
低減され、かつホルムアルデヒド臭の極めて少ないポリ
アセタール樹脂組成物を提供することを目的としてなさ
れたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは成形加工時
におけるホルムアルデヒド臭とモールドデポジットの発
生を効果的に抑制したポリアセタール樹脂組成物を開発
すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のポリオキシメチレ
ン共重合体に、ある特定のヒンダードフェノール系酸化
防止剤又はヒンダードフェノール系酸化防止剤とヒンダ
ードアミン系光安定剤との混合物とイオン吸着体を所定
量配合せしめたポリアセタール樹脂組成物が前記目的を
達成し得ることを見い出し，この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。
におけるホルムアルデヒド臭とモールドデポジットの発
生を効果的に抑制したポリアセタール樹脂組成物を開発
すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のポリオキシメチレ
ン共重合体に、ある特定のヒンダードフェノール系酸化
防止剤又はヒンダードフェノール系酸化防止剤とヒンダ
ードアミン系光安定剤との混合物とイオン吸着体を所定
量配合せしめたポリアセタール樹脂組成物が前記目的を
達成し得ることを見い出し，この知見に基づいて本発明
を完成するに至った。
【０００７】すなわち本発明は、 （Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体１００重量部と、 （Ｂ）空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
揮発成分量が５重量％以下であるヒンダードフェノール
系酸化防止剤０．０５〜２重量部、又は場合により該ヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤と空気気流下で６０分
間加熱した時の揮発成分量が５重量％以下であるヒンダ
ードアミン系光安定剤との混合物０．０５〜２重量部
と、 （Ｃ）ナトリウム、リチウムもしくはカリウムからなる
アルカリ金属の酸化物及びマグネシウム、ストロンチウ
ム、もしくはバリウムからなるアルカリ土類金属の酸化
物より選ばれる少なくとも１種の酸化物と、３価元素の
酸化物より選ばれる少なくとも１種の酸化物とよりなる
２種以上の酸化物を主成分とするイオン吸着体、および
下記一般式（１）で表わされるイオン吸着体から選ばれ
る少なくとも１種のイオン吸着体０．００２〜０．３重
量部とからなるモールドデポジットの改良されたポリア
セタール樹脂組成物を提供するものである。
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体１００重量部と、 （Ｂ）空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
揮発成分量が５重量％以下であるヒンダードフェノール
系酸化防止剤０．０５〜２重量部、又は場合により該ヒ
ンダードフェノール系酸化防止剤と空気気流下で６０分
間加熱した時の揮発成分量が５重量％以下であるヒンダ
ードアミン系光安定剤との混合物０．０５〜２重量部
と、 （Ｃ）ナトリウム、リチウムもしくはカリウムからなる
アルカリ金属の酸化物及びマグネシウム、ストロンチウ
ム、もしくはバリウムからなるアルカリ土類金属の酸化
物より選ばれる少なくとも１種の酸化物と、３価元素の
酸化物より選ばれる少なくとも１種の酸化物とよりなる
２種以上の酸化物を主成分とするイオン吸着体、および
下記一般式（１）で表わされるイオン吸着体から選ばれ
る少なくとも１種のイオン吸着体０．００２〜０．３重
量部とからなるモールドデポジットの改良されたポリア
セタール樹脂組成物を提供するものである。
【０００８】 Ｍ１１−ｘＭ２ｘ（ＯＨ）２Ａｎ− ｘ／ｎ・ｍＨ２Ｏ ・・・（１） （式中、Ｍ１はアルカリ土類金属より選ばれる少なくと
も１種の２価金属を示し、Ｍ２は３価金属を示し、Ａ
ｎ−はｎ価のアニオンを示す。ｘは０＜ｘ≦０．５であ
り、ｍは正の数である。）以下本発明を詳細に説明す
る。
も１種の２価金属を示し、Ｍ２は３価金属を示し、Ａ
ｎ−はｎ価のアニオンを示す。ｘは０＜ｘ≦０．５であ
り、ｍは正の数である。）以下本発明を詳細に説明す
る。
【０００９】本発明の組成物に用いられるポリオキシメ
チレン共重合体（Ａ）は該ポリオキシメチレン共重合体
を窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時のホル
ムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下であること
が必要である。ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐ
ｐｍを越える場合にはホルムアルデヒド臭とモールドデ
ポジットの抑制効果が不充分となる。好ましくは３００
ｐｐｍ以下である。
チレン共重合体（Ａ）は該ポリオキシメチレン共重合体
を窒素気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時のホル
ムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下であること
が必要である。ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐ
ｐｍを越える場合にはホルムアルデヒド臭とモールドデ
ポジットの抑制効果が不充分となる。好ましくは３００
ｐｐｍ以下である。
【００１０】この様なポリオキシメチレン共重合体はホ
ルムアルデヒドもしくはトリオキサンと環状エーテル、
環状ホルマールとの共重合によって得られるポリオキシ
メチレン共重合体を、重合直後に分子末端の安定化処理
を行ない、その後溶融状態で水もしくはアルコールま
たはそれらの混合物を注入・混練する工程及び注入さ
れた上記水酸基含有化合物の蒸気および遊離のホルムア
ルデヒドを解放する脱揮工程の少なくとも２段階の工程
からなる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に
連続的に供給し、処理することにより、溶融したポリオ
キシメチレン共重合体から揮発成分を除去することによ
って得られる。又水もしくはアルコールまたはそれらの
混合物を注入・混練する際に、ｐＨ調節剤としてトリエ
チルアミン等の塩基を添加するのが好ましい。
ルムアルデヒドもしくはトリオキサンと環状エーテル、
環状ホルマールとの共重合によって得られるポリオキシ
メチレン共重合体を、重合直後に分子末端の安定化処理
を行ない、その後溶融状態で水もしくはアルコールま
たはそれらの混合物を注入・混練する工程及び注入さ
れた上記水酸基含有化合物の蒸気および遊離のホルムア
ルデヒドを解放する脱揮工程の少なくとも２段階の工程
からなる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に
連続的に供給し、処理することにより、溶融したポリオ
キシメチレン共重合体から揮発成分を除去することによ
って得られる。又水もしくはアルコールまたはそれらの
混合物を注入・混練する際に、ｐＨ調節剤としてトリエ
チルアミン等の塩基を添加するのが好ましい。
【００１１】本発明の組成物において（Ａ）成分として
用いられるポリオキシメチレン共重合体は、ホルムアル
デヒドもしくはトリオキサンと環状エーテル、環状ホル
マールとの共重合によって得られるオキシメチレン単位
−（ＣＨ２Ｏ）−からなる連鎖中に下記一般式（２）で
表わされるオキシアルキレン単位がランダムに挿入され
た構造を有するポリオキシメチレン共重合体である。
用いられるポリオキシメチレン共重合体は、ホルムアル
デヒドもしくはトリオキサンと環状エーテル、環状ホル
マールとの共重合によって得られるオキシメチレン単位
−（ＣＨ２Ｏ）−からなる連鎖中に下記一般式（２）で
表わされるオキシアルキレン単位がランダムに挿入され
た構造を有するポリオキシメチレン共重合体である。
【００１２】
【化１】 （式中のＲ１及びＲ２は、それぞれ水素原子、アルキル
基、又はアリール基であり、それらは同一であっても異
なっていてもよく、ｎは２〜６の整数である）
基、又はアリール基であり、それらは同一であっても異
なっていてもよく、ｎは２〜６の整数である）
【００１３】又、本発明に用いられるポリオキシメチレ
ン共重合体には分子鎖の分岐化された分岐ポリオキシメ
チレン共重合体、及びオキシメチレンの繰り返えし単位
を５０重量％以上含む異種成分ブロックとのポリオキシ
メチレンブロックコポリマーも含まれる。
ン共重合体には分子鎖の分岐化された分岐ポリオキシメ
チレン共重合体、及びオキシメチレンの繰り返えし単位
を５０重量％以上含む異種成分ブロックとのポリオキシ
メチレンブロックコポリマーも含まれる。
【００１４】なおポリオキシメチレン共重合体中の前記
オキシアルキレン単位の挿入率は、オキシメチレン単位
１００モルに対し、０．０５〜５０モル、好ましくは
０．１〜２０モルの範囲である。該オキシアルキレン単
位としては例えばオキシエチレン単位、オキシプロピレ
ン単位、オキシテトラメチレン単位、オキシブチレン単
位、オキシフェニルエチレン単位等が挙げられる。これ
らのオキシエチレン単位の中でもポリアセタール樹脂組
成物の物性を向上させる点から、オキシエチレン単位−
〔（ＣＨ２）２Ｏ〕−及びオキシテトラメチレン単位−
〔（ＣＨ２）４Ｏ〕−が特に好ましい。
オキシアルキレン単位の挿入率は、オキシメチレン単位
１００モルに対し、０．０５〜５０モル、好ましくは
０．１〜２０モルの範囲である。該オキシアルキレン単
位としては例えばオキシエチレン単位、オキシプロピレ
ン単位、オキシテトラメチレン単位、オキシブチレン単
位、オキシフェニルエチレン単位等が挙げられる。これ
らのオキシエチレン単位の中でもポリアセタール樹脂組
成物の物性を向上させる点から、オキシエチレン単位−
〔（ＣＨ２）２Ｏ〕−及びオキシテトラメチレン単位−
〔（ＣＨ２）４Ｏ〕−が特に好ましい。
【００１５】本発明で用いられるポリオキシメチレン共
重合体の分子末端の安定化処理方法としては例えば末端
のヒドロキシル基をエステル化、エーテル化、ウレタン
化等とする方法、あるいは、分子末端の不安定部分を加
水分解によって分子末端の安定化を図る方法が用いられ
る。
重合体の分子末端の安定化処理方法としては例えば末端
のヒドロキシル基をエステル化、エーテル化、ウレタン
化等とする方法、あるいは、分子末端の不安定部分を加
水分解によって分子末端の安定化を図る方法が用いられ
る。
【００１６】本発明の（Ｂ）成分として用いられるヒン
ダードフェノール系酸化防止剤、あるいはヒンダードア
ミン系光安定剤とは、該化合物を空気気流下にて２３０
℃で６０分間加熱した時の揮発成分量が５重量％以下の
化合物であり、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とし
て好適に用いられる該化合物の具体例としては、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛β−
（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、ペンタエリ
スリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ，
Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナアミド）、１，６−ヘキ
サンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，３，
５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，
Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン、１，３，
５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸等のヒンダードフ
ェノール系酸化防止剤が挙げられる。
ダードフェノール系酸化防止剤、あるいはヒンダードア
ミン系光安定剤とは、該化合物を空気気流下にて２３０
℃で６０分間加熱した時の揮発成分量が５重量％以下の
化合物であり、ヒンダードフェノール系酸化防止剤とし
て好適に用いられる該化合物の具体例としては、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ト
リエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−
５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト〕、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛β−
（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、ペンタエリ
スリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、Ｎ，
Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−ヒドロシンナアミド）、１，６−ヘキ
サンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，３，
５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，
Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン、１，３，
５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６
−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸等のヒンダードフ
ェノール系酸化防止剤が挙げられる。
【００１７】特に好ましくは、トリエチレングリコール
−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、ペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス
〔１，１−ジメチル−２｛β−（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキ
シ）エチル｝−２，４，８，１０テトラオキサスピロ
〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリス（４−ｔ−
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌル酸が用いられる。
−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオネート〕、ペンタエリスリチ
ル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、３，９−ビス
〔１，１−ジメチル−２｛β−（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキ
シ）エチル｝−２，４，８，１０テトラオキサスピロ
〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリス（４−ｔ−
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌル酸が用いられる。
【００１８】またヒンダードアミン系光安定剤として
は、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−〔２−
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシ〕エチル〕−４−〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシ
エチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン重縮合物、ポリ〔（６−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリア
ジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ）〕、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−アミノプロピル）エ
チレンジアミン／２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）アミノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮
合物等のヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。
は、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−〔２−
〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシ〕エチル〕−４−〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシ
エチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン重縮合物、ポリ〔（６−（１，１，３，
３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリア
ジン−２，４−ジイル〕〔（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ〕ヘキサメチレン
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ）〕、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−アミノプロピル）エ
チレンジアミン／２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）アミノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮
合物等のヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。
【００１９】本発明に用いられるヒンダードフェノール
系酸化防止剤は単独であるいは１種以上を組合せて用い
てもよい。又ヒンダードアミン系光安定剤はヒンダード
フェノール系酸化防止剤との組合せで用いられ、この場
合にも各々１種以上を組合せて用いてもよい。又、その
配合量は（Ａ）成分のポリオキシメチレン共重合体１０
０重量部に対して、０．０５〜２重量部、好ましくは
０．１〜１重量部である。
系酸化防止剤は単独であるいは１種以上を組合せて用い
てもよい。又ヒンダードアミン系光安定剤はヒンダード
フェノール系酸化防止剤との組合せで用いられ、この場
合にも各々１種以上を組合せて用いてもよい。又、その
配合量は（Ａ）成分のポリオキシメチレン共重合体１０
０重量部に対して、０．０５〜２重量部、好ましくは
０．１〜１重量部である。
【００２０】配合量が０．０５重量部未満の場合にはポ
リアセタール樹脂組成物の熱安定性が低下し本発明の目
的を達成できない。又２重量部を越える場合にはモール
ドデポジットが不良となる。又、ヒンダードフェノール
系酸化防止剤とヒンダードアミン系光安定剤との組合せ
で用いられる場合のヒンダードフェノール系酸化防止剤
の配合量は本発明の効果を発揮するためには０．０５重
量部以上必要である。
リアセタール樹脂組成物の熱安定性が低下し本発明の目
的を達成できない。又２重量部を越える場合にはモール
ドデポジットが不良となる。又、ヒンダードフェノール
系酸化防止剤とヒンダードアミン系光安定剤との組合せ
で用いられる場合のヒンダードフェノール系酸化防止剤
の配合量は本発明の効果を発揮するためには０．０５重
量部以上必要である。
【００２１】本発明の（Ｃ）成分として用いられるイオ
ン吸着体の１つとしては、ナトリウム、リチウム、もし
くは、カリウムからなるアルカリ金属の酸化物及びマグ
ネシウム、ストロンチウム、もしくはバリウムからなる
アルカリ土類金属の酸化物より選ばれる少なくとも１種
の酸化物と、３価元素の酸化物より選ばれる少なくとも
１種の酸化物とよりなる２種以上の酸化物を主成分とす
るイオン吸着体がある。アルカリ金属の酸化物の例とし
てはＮａ２Ｏ，Ｋ２Ｏ，ＬｉＯ等が挙げられ、好適には
Ｎａ２Ｏが挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物の例
としては、ＢａＯ，ＭｇＯ，ＳｒＯ等が挙げられ、好適
にはＭｇＯが挙げられる。さらに３価元素の酸化物とし
ては、Ａｌ２Ｏ３が挙げられる。
ン吸着体の１つとしては、ナトリウム、リチウム、もし
くは、カリウムからなるアルカリ金属の酸化物及びマグ
ネシウム、ストロンチウム、もしくはバリウムからなる
アルカリ土類金属の酸化物より選ばれる少なくとも１種
の酸化物と、３価元素の酸化物より選ばれる少なくとも
１種の酸化物とよりなる２種以上の酸化物を主成分とす
るイオン吸着体がある。アルカリ金属の酸化物の例とし
てはＮａ２Ｏ，Ｋ２Ｏ，ＬｉＯ等が挙げられ、好適には
Ｎａ２Ｏが挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物の例
としては、ＢａＯ，ＭｇＯ，ＳｒＯ等が挙げられ、好適
にはＭｇＯが挙げられる。さらに３価元素の酸化物とし
ては、Ａｌ２Ｏ３が挙げられる。
【００２２】これらの酸化物より選ばれる少なくとも２
種の酸化物を主成分とするイオン吸着体として、好適に
は、２．５ＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ，Ｎａ２Ｏ・
Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ，Ｍｇ０．７Ａｌ０．３Ｏ
１．１５，Ｍｇ０．７５Ａｌ０．２５Ｏ１．１２５等が
挙げられる。さらに、本発明で用いられる他のイオン吸
着体としては、下記一般的（１）のイオン吸着体があ
る。
種の酸化物を主成分とするイオン吸着体として、好適に
は、２．５ＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ，Ｎａ２Ｏ・
Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ，Ｍｇ０．７Ａｌ０．３Ｏ
１．１５，Ｍｇ０．７５Ａｌ０．２５Ｏ１．１２５等が
挙げられる。さらに、本発明で用いられる他のイオン吸
着体としては、下記一般的（１）のイオン吸着体があ
る。
【００２３】 Ｍ１１−ｘＭ２ｘ（ＯＨ）２Ａｎ− ｘ／ｎ・ｍＨ２Ｏ ・・・（１） 上記式（１）において、Ｍ１はアルカリ土類金属より選
ばれる少なくとも１種の２価金属を示し、好ましい例と
しては、Ｍｇ、Ｃａを挙げることができる。上記式
（１）において、Ｍ２は、３価金属であり、Ｂ、Ａｌ、
Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ等を示し、好ましい例としてはＡｌを
挙げることができる。
ばれる少なくとも１種の２価金属を示し、好ましい例と
しては、Ｍｇ、Ｃａを挙げることができる。上記式
（１）において、Ｍ２は、３価金属であり、Ｂ、Ａｌ、
Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ等を示し、好ましい例としてはＡｌを
挙げることができる。
【００２４】さらに、上記式（１）に於てＡｎ−はｎ価
のアニオンを示し、例えばＣＯ３ ２−、ＯＨ−、ＨＣＯ
３ −、Ｈ２ＰＯ４ −、ＮＯ３ −、Ｉ−サリチル酸イオン
−、クエン酸イオン−、酒石酸イオン−等である。好ま
しい例としてはＣＯ３ ２−、ＯＨ−を挙げることがで
き、このようなイオン吸着体の具体的な例としては、例
えばＭｇ０．７５Ａｌ０．２５（ＯＨ）２（ＣＯ３）
０．１２５・０．５Ｈ２Ｏで示される天然ハイドロタル
サイト、Ｍｇ４．５Ａｌ２（ＯＨ）１３ＣＯ３・３．５
Ｈ２Ｏ、Ｍｇ６Ａｌ２（ＯＨ）１６ＣＯ３・４Ｈ２Ｏ等
で示される合成ハイドロタルサイト等がある。なお、以
上２種類のイオン吸着体のうち、前者、即ち２種の酸化
物を主成分とするものの方が後者のものより、より好ま
しい。
のアニオンを示し、例えばＣＯ３ ２−、ＯＨ−、ＨＣＯ
３ −、Ｈ２ＰＯ４ −、ＮＯ３ −、Ｉ−サリチル酸イオン
−、クエン酸イオン−、酒石酸イオン−等である。好ま
しい例としてはＣＯ３ ２−、ＯＨ−を挙げることがで
き、このようなイオン吸着体の具体的な例としては、例
えばＭｇ０．７５Ａｌ０．２５（ＯＨ）２（ＣＯ３）
０．１２５・０．５Ｈ２Ｏで示される天然ハイドロタル
サイト、Ｍｇ４．５Ａｌ２（ＯＨ）１３ＣＯ３・３．５
Ｈ２Ｏ、Ｍｇ６Ａｌ２（ＯＨ）１６ＣＯ３・４Ｈ２Ｏ等
で示される合成ハイドロタルサイト等がある。なお、以
上２種類のイオン吸着体のうち、前者、即ち２種の酸化
物を主成分とするものの方が後者のものより、より好ま
しい。
【００２５】本発明で用いられるイオン吸着体の粒径は
特に限定されないが、分散性を向上させるために、１０
０μｍ以下が好ましい。又、イオン吸着体はポリオキシ
メチレン共重合体との相溶性、分散性等を向上させるた
めに、表面処理剤で表面処理をしていてもよく、表面処
理剤としては、２〜３０個の炭素原子と少なくとも１個
の−ＣＯＯＨ基を有する有機酸及び／又は２〜３０個の
炭素原子を有するアルコール（１級、２級又は３級アル
コール）及び前記２者とアルカリ金属、アルカリ土類金
属、アルミニウムよりなる群から選ばれた金属とから構
成される金属塩等があり、例えばステアリン酸、リノー
ル酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸ソーダ、
ステアリン酸マグネシウム、オレイン酸ソーダ等を挙げ
ることができる。
特に限定されないが、分散性を向上させるために、１０
０μｍ以下が好ましい。又、イオン吸着体はポリオキシ
メチレン共重合体との相溶性、分散性等を向上させるた
めに、表面処理剤で表面処理をしていてもよく、表面処
理剤としては、２〜３０個の炭素原子と少なくとも１個
の−ＣＯＯＨ基を有する有機酸及び／又は２〜３０個の
炭素原子を有するアルコール（１級、２級又は３級アル
コール）及び前記２者とアルカリ金属、アルカリ土類金
属、アルミニウムよりなる群から選ばれた金属とから構
成される金属塩等があり、例えばステアリン酸、リノー
ル酸、オレイン酸、ラウリン酸、ステアリン酸ソーダ、
ステアリン酸マグネシウム、オレイン酸ソーダ等を挙げ
ることができる。
【００２６】さらに、本発明におけるイオン吸着体は、
脱結晶水処理をしていてもよく、脱結晶水処理は、例え
ば約１１０℃〜約４００℃の温度で約１〜４０時間空気
中又はＮ２、Ｈｅ、Ｏ２、ＣＯ２等の雰囲気中で処理す
る方法で容易に行なうことができる。上記のイオン吸着
体は１種を用いてもよいし、また、２種以上を組合せて
用いてもよい。その配合量は（Ａ）成分のポリオキシメ
チレン共重合体１００重量部に対して０．００２〜０．
３重量部、好ましくは、０．００５〜０．１重量部であ
る。配合量が０．００２重量部未満の場合には、成形加
工時におけるモールドデポジットの抑制効果が充分に発
揮されず、又０．３重量部を越える場合にはポリアセタ
ール樹脂組成物の熱安定性の低下を来たすと共にモール
ドデポジットの発生が促進されるために好ましくない。
脱結晶水処理をしていてもよく、脱結晶水処理は、例え
ば約１１０℃〜約４００℃の温度で約１〜４０時間空気
中又はＮ２、Ｈｅ、Ｏ２、ＣＯ２等の雰囲気中で処理す
る方法で容易に行なうことができる。上記のイオン吸着
体は１種を用いてもよいし、また、２種以上を組合せて
用いてもよい。その配合量は（Ａ）成分のポリオキシメ
チレン共重合体１００重量部に対して０．００２〜０．
３重量部、好ましくは、０．００５〜０．１重量部であ
る。配合量が０．００２重量部未満の場合には、成形加
工時におけるモールドデポジットの抑制効果が充分に発
揮されず、又０．３重量部を越える場合にはポリアセタ
ール樹脂組成物の熱安定性の低下を来たすと共にモール
ドデポジットの発生が促進されるために好ましくない。
【００２７】本発明のポリアセタール樹脂組成物は、
（Ａ）成分のポリオキシメチレン共重合体と、（Ｂ）成
分であるヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダー
ドアミン系光安定剤及び（Ｃ）成分であるイオン吸着体
との相乗効果によって本発明の目的とする効果が発現出
来るものであり、又、本発明のポリアセタール樹脂組成
物は、前記（Ｂ）成分である、ヒンダードフェノール系
酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤と（Ｃ）成分
であるイオン吸着体の二者を組合せることによってのみ
本発明の目的とする効果を得ることができるのであり、
いずれか１種を欠いても本発明の目的を達成することが
できない。
（Ａ）成分のポリオキシメチレン共重合体と、（Ｂ）成
分であるヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダー
ドアミン系光安定剤及び（Ｃ）成分であるイオン吸着体
との相乗効果によって本発明の目的とする効果が発現出
来るものであり、又、本発明のポリアセタール樹脂組成
物は、前記（Ｂ）成分である、ヒンダードフェノール系
酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤と（Ｃ）成分
であるイオン吸着体の二者を組合せることによってのみ
本発明の目的とする効果を得ることができるのであり、
いずれか１種を欠いても本発明の目的を達成することが
できない。
【００２８】本発明の組成物においては慣用されている
熱安定剤（ホルムアルデヒド補足剤）を添加することが
できる。この熱安定剤としては、例えばポリアミド樹
脂、アミド化合物、尿素誘導体、トリアジン誘導体、ウ
レタン化合物等が挙げられ、具体的には、ジアミンとジ
カルボン酸との縮合、アミノ酸の縮合、ラクタムの開環
重合等によって得られるナイロン６、ナイロン１１、ナ
イロン１２、ナイロン６６、ナイロン６・１０、ナンロ
ン６／６・１０、ナイロン６／６・６、ナイロン６・６
／６・１０、ナイロン６／６・６／６・１０あるいはポ
リβ−アラニン等のポリアミド樹脂、脂肪族モノカルボ
ン酸、ジカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸、ジカル
ボン酸と脂肪族モノアミン、ジアミン、又は芳香族モノ
アミン、ジアミンとから生成されるステアリルステアリ
ン酸アミド、ステアリルオレイン酸アミド、ステアリル
エルカ酸アミド、エチレンジアミン−ジステアリン酸ア
ミド、エチレンジアミン−ジベヘニン酸アミド、ヘキサ
メチレンジアミン−ジステアリン酸アミド、エチレンジ
アミン−ジオレイン酸アミド、エチレンジアミン−ジエ
ルカ酸アミド、キシリレンジアミン−ジエルカ酸アミ
ド、ジ（キシリレンジアミン−ステアリン酸アミド）セ
バシン酸アミド等のアミド化合物、Ｎ−フェニル尿素
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル尿素、Ｎ−フェニルチオ尿素、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルチオ尿素等の尿素誘導体、メラミ
ン、ベンゾグアナミン、Ｎ−フェニルメラミン、メレ
ム、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルメラミン、Ｎ−メチロールメ
ラミン、Ｎ，Ｎ′−トリメチロールメラミン、２，４−
ジアミノ−６−シクロヘキシルトリアジン、メラム等の
トリアジン誘導体等である。
熱安定剤（ホルムアルデヒド補足剤）を添加することが
できる。この熱安定剤としては、例えばポリアミド樹
脂、アミド化合物、尿素誘導体、トリアジン誘導体、ウ
レタン化合物等が挙げられ、具体的には、ジアミンとジ
カルボン酸との縮合、アミノ酸の縮合、ラクタムの開環
重合等によって得られるナイロン６、ナイロン１１、ナ
イロン１２、ナイロン６６、ナイロン６・１０、ナンロ
ン６／６・１０、ナイロン６／６・６、ナイロン６・６
／６・１０、ナイロン６／６・６／６・１０あるいはポ
リβ−アラニン等のポリアミド樹脂、脂肪族モノカルボ
ン酸、ジカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸、ジカル
ボン酸と脂肪族モノアミン、ジアミン、又は芳香族モノ
アミン、ジアミンとから生成されるステアリルステアリ
ン酸アミド、ステアリルオレイン酸アミド、ステアリル
エルカ酸アミド、エチレンジアミン−ジステアリン酸ア
ミド、エチレンジアミン−ジベヘニン酸アミド、ヘキサ
メチレンジアミン−ジステアリン酸アミド、エチレンジ
アミン−ジオレイン酸アミド、エチレンジアミン−ジエ
ルカ酸アミド、キシリレンジアミン−ジエルカ酸アミ
ド、ジ（キシリレンジアミン−ステアリン酸アミド）セ
バシン酸アミド等のアミド化合物、Ｎ−フェニル尿素
Ｎ，Ｎ′−ジフェニル尿素、Ｎ−フェニルチオ尿素、
Ｎ，Ｎ′−ジフェニルチオ尿素等の尿素誘導体、メラミ
ン、ベンゾグアナミン、Ｎ−フェニルメラミン、メレ
ム、Ｎ，Ｎ′−ジフェニルメラミン、Ｎ−メチロールメ
ラミン、Ｎ，Ｎ′−トリメチロールメラミン、２，４−
ジアミノ−６−シクロヘキシルトリアジン、メラム等の
トリアジン誘導体等である。
【００２９】これらの熱安定剤は１種用いてもよく、２
種以上組合せて用いてもよい。これらの熱安定剤の中で
もナイロン６６、ポリβ−アラニン、エチレンジアミン
−ジステアリン酸アミド、エチレンジアミン−ジベヘニ
ン酸アミド、エチレンジアミン−ジエルカ酸アミド、ジ
（キシリレンジアミン−ステアリン酸アミド）セバシン
酸アミド等が好適である。さらに本発明の組成物には、
所望に応じて他の添加剤、例えば滑剤、離型剤、帯電防
止剤、あるいはガラス繊維等の無機充てん剤や炭素繊維
等の補強剤、顔料等を所望に応じて配合することができ
る。
種以上組合せて用いてもよい。これらの熱安定剤の中で
もナイロン６６、ポリβ−アラニン、エチレンジアミン
−ジステアリン酸アミド、エチレンジアミン−ジベヘニ
ン酸アミド、エチレンジアミン−ジエルカ酸アミド、ジ
（キシリレンジアミン−ステアリン酸アミド）セバシン
酸アミド等が好適である。さらに本発明の組成物には、
所望に応じて他の添加剤、例えば滑剤、離型剤、帯電防
止剤、あるいはガラス繊維等の無機充てん剤や炭素繊維
等の補強剤、顔料等を所望に応じて配合することができ
る。
【００３０】上記熱安定剤や他の添加剤は、本発明の目
的効果を損なわないためにも、ポリオキシメチレン共重
合体に対して分解作用の低い添加剤、あるいは熱安定剤
又は他の添加剤自体の熱安定性が高いものであることが
望ましい。本発明の組成物においては、（Ａ）成分のポ
リオキシメチレン重合体に対して配合される前記各成分
との混合は、通常用いられている溶融混合法によって行
なうことができ、又熱安定剤や、他の添加剤と併用する
場合は、これらと同時に溶融混合してもよい。又添加さ
れる各成分の添加形態は、粉体であっても溶融状態であ
ってもよい。
的効果を損なわないためにも、ポリオキシメチレン共重
合体に対して分解作用の低い添加剤、あるいは熱安定剤
又は他の添加剤自体の熱安定性が高いものであることが
望ましい。本発明の組成物においては、（Ａ）成分のポ
リオキシメチレン重合体に対して配合される前記各成分
との混合は、通常用いられている溶融混合法によって行
なうことができ、又熱安定剤や、他の添加剤と併用する
場合は、これらと同時に溶融混合してもよい。又添加さ
れる各成分の添加形態は、粉体であっても溶融状態であ
ってもよい。
【００３１】
【発明の効果】本発明のポリアセタール樹脂組成物は、
従来のポリアセタール樹脂にくらべ、成形加工時のホル
ムアルデヒド臭と金型表面に付着するモールドデポジッ
トが極めて少ないため、作業環境が大幅に改善されると
同時に長時間の連続成形が可能となり、生産性の向上に
大きく寄与することができる。
従来のポリアセタール樹脂にくらべ、成形加工時のホル
ムアルデヒド臭と金型表面に付着するモールドデポジッ
トが極めて少ないため、作業環境が大幅に改善されると
同時に長時間の連続成形が可能となり、生産性の向上に
大きく寄与することができる。
【００３２】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。なお実施例及び比較例における組成物の各
特性は次のようにして求めた。 （１）連続成形によるモールドデポジットの評価 射出成形機 東洋機械金属（株）製 Ｔｉ−３０
Ｇ 射出圧力 ５００Ｋｇ／ｃｍ２ 射出速
度 ６０％ シリンダー温度 ２２５℃ 射出時間 ６ｓｅｃ 冷却 ４ｓｅｃ 金型温度 ４０℃ 成形品 長さ３５ｍｍ、巾１４ｍｍ、厚さ２
ｍｍ 金型 ピンゲート金型
するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるも
のではない。なお実施例及び比較例における組成物の各
特性は次のようにして求めた。 （１）連続成形によるモールドデポジットの評価 射出成形機 東洋機械金属（株）製 Ｔｉ−３０
Ｇ 射出圧力 ５００Ｋｇ／ｃｍ２ 射出速
度 ６０％ シリンダー温度 ２２５℃ 射出時間 ６ｓｅｃ 冷却 ４ｓｅｃ 金型温度 ４０℃ 成形品 長さ３５ｍｍ、巾１４ｍｍ、厚さ２
ｍｍ 金型 ピンゲート金型
【００３３】上記条件下で連続的に成形し、５０００シ
ョット実施後、金型に付着しているモールドデポジット
の状態を肉眼で観察し、次の判定基準に従って評価し
た。 ◎ ；モールドデポジットが全く認められない。 ○ ；モールドデポジットがほとんど認められない。 △ ；モールドデポジットがうっすらと認められる。 × ；モールドデポジットがはっきりと認められる。 ××；モールドデポジットが金型全面に厚く付着してい
る。
ョット実施後、金型に付着しているモールドデポジット
の状態を肉眼で観察し、次の判定基準に従って評価し
た。 ◎ ；モールドデポジットが全く認められない。 ○ ；モールドデポジットがほとんど認められない。 △ ；モールドデポジットがうっすらと認められる。 × ；モールドデポジットがはっきりと認められる。 ××；モールドデポジットが金型全面に厚く付着してい
る。
【００３４】（２）ホルムアルデヒドガス発生量 ３ｇのポリオキシメチレン重合体をアルミニウム製容器
に入れ、窒素気流下（６Ｎｌ／ＭＩＮ）で２３０℃で６
０分間溶融加熱した時に発生したホルムアルデヒドガス
を１ｍｏｌ／リットルの亜硫酸ナトリウム溶液に導入
し、０．０１規定の塩酸で滴定して、発生したホルムア
ルデヒドガスの発生量を測定した。サンプル単位重量当
りのｐｐｍで表わした。
に入れ、窒素気流下（６Ｎｌ／ＭＩＮ）で２３０℃で６
０分間溶融加熱した時に発生したホルムアルデヒドガス
を１ｍｏｌ／リットルの亜硫酸ナトリウム溶液に導入
し、０．０１規定の塩酸で滴定して、発生したホルムア
ルデヒドガスの発生量を測定した。サンプル単位重量当
りのｐｐｍで表わした。
【００３５】（３）揮発成分量 理学（株）製熱天秤を用い、電気炉にサンプルを５０ｍ
ｇと空気５Ｎｌ／ｈｒをフィードし、４０℃から２０℃
／分の割合で昇温させる。２３０℃になってから６０分
間加熱し、その時のサンプル重量減少率を測定した。こ
の値が小さいほど揮発成分量が少ない。
ｇと空気５Ｎｌ／ｈｒをフィードし、４０℃から２０℃
／分の割合で昇温させる。２３０℃になってから６０分
間加熱し、その時のサンプル重量減少率を測定した。こ
の値が小さいほど揮発成分量が少ない。
【００３６】（４）熱安定性 ギヤオーブン〔（株）田葉井製作所、ＧＰＳ−２２２
型、排気ダクト２０°開放〕を用いて１４０℃×４００
時間の長期熱風試験を行なった。評価については初期成
形品と滞留後成形品について、引張伸度（測定はＡＳＴ
Ｍ Ｄ−６３８に準拠）を測定し、下記式によりその保
持率を求めた。この値が大きいほど熱安定性に優れる。 保持率（％）＝滞留成形品の引張伸度／初期成形品の引
張伸度×１００
型、排気ダクト２０°開放〕を用いて１４０℃×４００
時間の長期熱風試験を行なった。評価については初期成
形品と滞留後成形品について、引張伸度（測定はＡＳＴ
Ｍ Ｄ−６３８に準拠）を測定し、下記式によりその保
持率を求めた。この値が大きいほど熱安定性に優れる。 保持率（％）＝滞留成形品の引張伸度／初期成形品の引
張伸度×１００
【００３７】（５）成形品のホルムアルデヒド溶出量 成形直後の試験片を２００ｍｌの純水に浸し、９５℃で
３時間抽出操作を行ない、その溶液についてアセチルア
セトンによる比色法で成形品から溶出るしたホルムアル
デヒドの定量を行なった。成形品単位重量当りのｐｐｍ
で表わした。この値が低いほどホルムアルデヒド臭が少
ない。又、表中の記号は次のものを示す。
３時間抽出操作を行ない、その溶液についてアセチルア
セトンによる比色法で成形品から溶出るしたホルムアル
デヒドの定量を行なった。成形品単位重量当りのｐｐｍ
で表わした。この値が低いほどホルムアルデヒド臭が少
ない。又、表中の記号は次のものを示す。
【００３８】ビンダードフェノール Ａ−１；トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート〕 Ａ−２；ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕 Ａ−３；３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２｛β−
（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン Ａ−４；２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール） Ａ−５；２−ｔ−ブチル−６−（３′−ｔ−ブチル−
５′−メチル−２′−ヒドロキシベンジル）４−メチル
フェニルアクリレート Ａ−６；１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル
酸。
−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート〕 Ａ−２；ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート〕 Ａ−３；３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２｛β−
（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０
テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン Ａ−４；２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ
−ブチルフェノール） Ａ−５；２−ｔ−ブチル−６−（３′−ｔ−ブチル−
５′−メチル−２′−ヒドロキシベンジル）４−メチル
フェニルアクリレート Ａ−６；１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル
酸。
【００３９】ヒンダードアミン Ｌ−１；ポリ［〔６−（１，１，３−テトラメチルブチ
ル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイ
ル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６，−テ
トメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］ Ｌ−２；Ｎ，Ｎ′−ビス（３−アミノプロピル）エチレ
ンジアミン／２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物 Ｌ−３；１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチ
ル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン Ｌ−４；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート Ｌ−５；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）セバケート
ル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイ
ル〕〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６，−テ
トメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］ Ｌ−２；Ｎ，Ｎ′−ビス（３−アミノプロピル）エチレ
ンジアミン／２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ〕−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物 Ｌ−３；１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチ
ル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン Ｌ−４；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート Ｌ−５；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジル）セバケート
【００４０】〔参考例〕（ホルムアルデヒドガス発生量
が５００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体
の調整） ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体は、例えば、あらかじめ、
分子末端が加水分解処理等によって安定化されたポリオ
キシメチレン共重合体を溶融状態で水もしくはアルコ
ールまたはそれらの混合物を注入・混練する工程、及び
注入された上記水酸基含有化合物の蒸気及び遊離のホ
ルムアルデヒドを解放する脱揮工程、の少なくとも２段
階の工程からなる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー
押出機に連続的に供給し、処理することによって得られ
る。
が５００ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体
の調整） ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下である
ポリオキシメチレン共重合体は、例えば、あらかじめ、
分子末端が加水分解処理等によって安定化されたポリオ
キシメチレン共重合体を溶融状態で水もしくはアルコ
ールまたはそれらの混合物を注入・混練する工程、及び
注入された上記水酸基含有化合物の蒸気及び遊離のホ
ルムアルデヒドを解放する脱揮工程、の少なくとも２段
階の工程からなる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー
押出機に連続的に供給し、処理することによって得られ
る。
【００４１】図１は、異方向回転２軸スクリューの断面
説明図である。図２は、非かみ合型スクリューの斜視図
である。図３は、安定化されたポリオキシメチレン共重
合体が、異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機で
処理される工程を示した概略図である。図３の供給口
（１）から溶融加水分解されたオキシメチレン共重合体
が供給される。揮発性物質はリアベント（２）及びベン
ト（３）より除去される。トリエチルアミンを含む水が
注入口（４）より供給される。揮発性物質はベント
（５）より除去される。次に、注入口（６）よりトリエ
チルアミンを含む水溶液が供給・混練される。揮発性物
質はベント（７）より除去される。溶融ポリマーはダイ
（８）を通って排出される。
説明図である。図２は、非かみ合型スクリューの斜視図
である。図３は、安定化されたポリオキシメチレン共重
合体が、異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機で
処理される工程を示した概略図である。図３の供給口
（１）から溶融加水分解されたオキシメチレン共重合体
が供給される。揮発性物質はリアベント（２）及びベン
ト（３）より除去される。トリエチルアミンを含む水が
注入口（４）より供給される。揮発性物質はベント
（５）より除去される。次に、注入口（６）よりトリエ
チルアミンを含む水溶液が供給・混練される。揮発性物
質はベント（７）より除去される。溶融ポリマーはダイ
（８）を通って排出される。
【００４２】以下ホルムアルデヒドガス発生量が５００
ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体の製造方
法の一例を示す。 （１）トリオキサンから誘導されたオキシメチレン単位
（−ＯＣＨ２−）９７．８重量％と１，３−ジオキソラ
ンから誘導されるオキシエチレン単位（−ＯＣＨ２ＣＨ
２−）２．２重量％とを含有するポリオキシメチレン共
重合体を三フッ化ホウ素ジブチルエーテルを触媒として
調整し、米国特許３，３１８，８４８号明細書記載の方
法（２００℃，０．１％のＮＨ３ を含む、６０／４０
メチルアルコール／水の溶液で加水分解処理を行な
う。）により加水分解処理を行ない、分子末端の安定化
を行なった。
ｐｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体の製造方
法の一例を示す。 （１）トリオキサンから誘導されたオキシメチレン単位
（−ＯＣＨ２−）９７．８重量％と１，３−ジオキソラ
ンから誘導されるオキシエチレン単位（−ＯＣＨ２ＣＨ
２−）２．２重量％とを含有するポリオキシメチレン共
重合体を三フッ化ホウ素ジブチルエーテルを触媒として
調整し、米国特許３，３１８，８４８号明細書記載の方
法（２００℃，０．１％のＮＨ３ を含む、６０／４０
メチルアルコール／水の溶液で加水分解処理を行な
う。）により加水分解処理を行ない、分子末端の安定化
を行なった。
【００４３】（２）上記方法により調整されたメルトイ
ンデックス９．１ｇ／１０分、ホルムアルデヒドガス発
生量が４１００ｐｐｍのポリオキシメチレン共重合体を
溶融状態で図３に示した内径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４８よ
りなる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に供
給口（１）より毎時３０Ｋｇで供給した。溶融ポリマー
の供給温度は、２１０℃であった。リアベント（２）の
減圧度は１５０ｍｍＨｇとし、ベント（３）の減圧度は
３０ｍｍＨｇとし揮発成分を除去した。注入口（４）よ
り１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶液を毎時１
Ｋｇで注入し混練した。次いでベント（５）の減圧度を
５０ｍｍＨｇとし、揮発物を除去した。次いで注入口
（６）より１５重量％のトリエチルアミン含む水溶液を
毎時０．５Ｋｇ注入した。その後ベント（７）より減圧
度３０ｍｍＨｇで揮発物を除去した。溶融樹脂はダイヘ
ッドより排出されストランドカッターによりペレットに
した。又押出工程を通して溶融樹脂温度は２１０℃に保
持した。得られたポリオキシメチレン共重合体のホルム
アルデヒドガス発生量は１５０ｐｐｍであった。
ンデックス９．１ｇ／１０分、ホルムアルデヒドガス発
生量が４１００ｐｐｍのポリオキシメチレン共重合体を
溶融状態で図３に示した内径３０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝４８よ
りなる異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機に供
給口（１）より毎時３０Ｋｇで供給した。溶融ポリマー
の供給温度は、２１０℃であった。リアベント（２）の
減圧度は１５０ｍｍＨｇとし、ベント（３）の減圧度は
３０ｍｍＨｇとし揮発成分を除去した。注入口（４）よ
り１５重量％のトリエチルアミンを含む水溶液を毎時１
Ｋｇで注入し混練した。次いでベント（５）の減圧度を
５０ｍｍＨｇとし、揮発物を除去した。次いで注入口
（６）より１５重量％のトリエチルアミン含む水溶液を
毎時０．５Ｋｇ注入した。その後ベント（７）より減圧
度３０ｍｍＨｇで揮発物を除去した。溶融樹脂はダイヘ
ッドより排出されストランドカッターによりペレットに
した。又押出工程を通して溶融樹脂温度は２１０℃に保
持した。得られたポリオキシメチレン共重合体のホルム
アルデヒドガス発生量は１５０ｐｐｍであった。
【００４４】なお、上記製造条件を変えることで種々の
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下のポリ
オキシメチレン共重合体を調整できる。例えば、 （３）前記製造条件において、リアベント（２）、ベン
ト（５）を閉じ、注入口（６）を閉じてトリエチルアミ
ンを含む水溶液の注入を止め、ベント（３）の減圧度２
００ｍｍＨｇ、べント（７）の減圧度を３０ｍｍＨｇと
した他は前記製造方法と同じ操作を行なったところ、ホ
ルムアルデヒドガス発生量が４１０ｐｐｍであるポリオ
キシメチレン共重合体を得た。
ホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐｐｍ以下のポリ
オキシメチレン共重合体を調整できる。例えば、 （３）前記製造条件において、リアベント（２）、ベン
ト（５）を閉じ、注入口（６）を閉じてトリエチルアミ
ンを含む水溶液の注入を止め、ベント（３）の減圧度２
００ｍｍＨｇ、べント（７）の減圧度を３０ｍｍＨｇと
した他は前記製造方法と同じ操作を行なったところ、ホ
ルムアルデヒドガス発生量が４１０ｐｐｍであるポリオ
キシメチレン共重合体を得た。
【００４５】（実施例１〜２３，比較例１〜２０）第１
表に示すホルムアルデヒドガス発生量を有するポリオキ
シメチレン共重合体（トリオキサン９６．３重量％と
１，３−ジオキソラン３．７重量％との共重合により得
られた重合体）１００重量部に、第１表に示した揮発成
分量を有する（Ｂ）成分であるヒンダードフェノール系
酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、（Ｃ）成分
であるイオン吸着体を第１表に示す添加量で添加し、ヘ
ンシェルミキサーにより、均質に混合した。次いでこの
混合物を５０φ押出機に通し、溶融混練し、ダイヘッド
からストランドとして得た。得られたストランドは、た
だちに切断してペレットとし、ポリアセタール樹脂組成
物を得た。得られたポリアセタール樹脂組成物を乾燥
後、各特性の評価を実施し、その結果を第１表に示し
た。なお、実施例、比較例で用いたイオン吸着体の粒径
は以下の粒径のものを用いた。
表に示すホルムアルデヒドガス発生量を有するポリオキ
シメチレン共重合体（トリオキサン９６．３重量％と
１，３−ジオキソラン３．７重量％との共重合により得
られた重合体）１００重量部に、第１表に示した揮発成
分量を有する（Ｂ）成分であるヒンダードフェノール系
酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、（Ｃ）成分
であるイオン吸着体を第１表に示す添加量で添加し、ヘ
ンシェルミキサーにより、均質に混合した。次いでこの
混合物を５０φ押出機に通し、溶融混練し、ダイヘッド
からストランドとして得た。得られたストランドは、た
だちに切断してペレットとし、ポリアセタール樹脂組成
物を得た。得られたポリアセタール樹脂組成物を乾燥
後、各特性の評価を実施し、その結果を第１表に示し
た。なお、実施例、比較例で用いたイオン吸着体の粒径
は以下の粒径のものを用いた。
【００４６】 Ｍｇ０．７５Ａｌ０．２５Ｏ１．１２５ ； ２〜９μｍ Ｍｇ０．７ Ａｌ０．３ Ｏ １．１５ ； ２〜９μｍ ２．５ＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３・ｎＨ２Ｏ ； ４０〜７０μｍ Ａｌ２Ｏ３・Ｎａ２Ｏ・ｎＨ２Ｏ ； ４０〜７０μｍ Ｍｇ４．５Ａｌ２（ＯＨ）１３ＣＯ３・３．５Ｈ２Ｏ ； ４０〜７０μｍ ＭｇＯ・１．５ＳｉＯ２・ｎＨ２Ｏ ； ２０〜４０μｍ Ｍｇ０．７Ａｌ０．３（ＯＨ）２（ＣＯ３）０．１５・３．５Ｈ２Ｏ ； ４０〜７０μｍ
【００４７】第１表の結果より次のことがわかる。 いずれの実施例においても成形加工時におけるホル
ムアルデヒド臭も少なく、又モールドデポジットの発生
量においても優れた効果を有している。 比較例１〜４はポリオキシメチレン共重合体のホル
ムアルデヒドガス発生量が過多であるためモールドデポ
ジットが著しく不良であった。 比較例５〜６は、ヒンダードフェノール系酸化防止
剤の添加量が過多であるためにモールドデポジットの発
生量が著しく増加した。 比較例７はヒンダードフェノール系酸化防止剤の添
加量が過少であるために熱安定性が低下し、ホルムアル
デヒド臭が強くなると共にモールドデボジットの発生量
が著しく増加した。 比較例８〜１１はヒンダードフェノール系酸化防止
剤、ヒンダードアミン系光安定剤の揮発成分量が過多で
あるためにモールドデポジットの発生量が著しく増加し
た。
ムアルデヒド臭も少なく、又モールドデポジットの発生
量においても優れた効果を有している。 比較例１〜４はポリオキシメチレン共重合体のホル
ムアルデヒドガス発生量が過多であるためモールドデポ
ジットが著しく不良であった。 比較例５〜６は、ヒンダードフェノール系酸化防止
剤の添加量が過多であるためにモールドデポジットの発
生量が著しく増加した。 比較例７はヒンダードフェノール系酸化防止剤の添
加量が過少であるために熱安定性が低下し、ホルムアル
デヒド臭が強くなると共にモールドデボジットの発生量
が著しく増加した。 比較例８〜１１はヒンダードフェノール系酸化防止
剤、ヒンダードアミン系光安定剤の揮発成分量が過多で
あるためにモールドデポジットの発生量が著しく増加し
た。
【００４８】 比較例１２〜１３はイオン吸着体の添
加量が過多であるために熱安定性が低下し、ホルムアル
デヒド臭が強くなると同時にモールドデポジットの発生
量が著しく増加した。 比較例１４はイオン吸着体の添加量が過少であった
ためにモールドデポジット発生量の抑制効果が低下し
た。 比較例１５〜１７はイオン吸着体が添加されていな
いためにモールドデポジットの発生量が抑制されずモー
ルドデジットが著しく増加した。 比較例１８〜１９はフェノール系酸化防止剤が添加
されていないため熱安定性が大幅に低下すると共にホル
ムアルデヒド臭が極めて強くなりモールドデポジットの
発生量も大幅に増加した。
加量が過多であるために熱安定性が低下し、ホルムアル
デヒド臭が強くなると同時にモールドデポジットの発生
量が著しく増加した。 比較例１４はイオン吸着体の添加量が過少であった
ためにモールドデポジット発生量の抑制効果が低下し
た。 比較例１５〜１７はイオン吸着体が添加されていな
いためにモールドデポジットの発生量が抑制されずモー
ルドデジットが著しく増加した。 比較例１８〜１９はフェノール系酸化防止剤が添加
されていないため熱安定性が大幅に低下すると共にホル
ムアルデヒド臭が極めて強くなりモールドデポジットの
発生量も大幅に増加した。
【００４９】（１０） 比較例２０は特開昭６３−５６
５５２号公報に開示されているアルカリ土類金属珪酸塩
を添加したものであり、該公報の方法では本願の目的と
する効果は得られなかった。 （１１） 比較例２１は特公平２−５０９４８号公報に
開示されているハイドロタルサイトを添加したものであ
り、該公報の方法では本願の目的とする効果は得られな
かった。
５５２号公報に開示されているアルカリ土類金属珪酸塩
を添加したものであり、該公報の方法では本願の目的と
する効果は得られなかった。 （１１） 比較例２１は特公平２−５０９４８号公報に
開示されているハイドロタルサイトを添加したものであ
り、該公報の方法では本願の目的とする効果は得られな
かった。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【表２】
【００５２】
【表３】
【００５３】
【表４】
【００５４】
【表５】
【図１】異方向回転２軸スクリューの断面説明図。
【図２】非かみ合型スクリューの斜視図。
【図３】異方向回転非かみ合型２軸スクリュー押出機を
使用した揮発物の脱揮態様を示す概略図。
使用した揮発物の脱揮態様を示す概略図。
１ 流路 ２ リアベント ３ ベント ４ 注入口 ５ ベント ６ 注入口 ７ ベント ８ ダイ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C08L 59/00 - 59/04 C08K 3/20 C08K 3/22 C08K 5/13 C08K 5/17 - 5/19
Claims (10)
- 【請求項１】 （Ａ）窒素気流下にて２３０℃で６０分
間加熱した時のホルムアルデヒドガス発生量が５００ｐ
ｐｍ以下であるポリオキシメチレン共重合体１００重量
部と、 （Ｂ）空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱した時の
揮発成分量が５重量％以下であるヒンダードフェノール
系酸化防止剤０．０５〜２重量部と、 （Ｃ）ナトリウム、リチウムもしくはカリウムからなる
アルカリ金属の酸化物及びマグネシウム、ストロンチウ
ム、もしくはバリウムからなるアルカリ土類金属の酸化
物より選ばれる少なくとも１種の酸化物と、３価元素の
酸化物より選ばれる少なくとも１種の酸化物とからなる
２種以上の酸化物を主成分とするイオン吸着体、及び下
記一般式（１） で表わされるイオン吸着体から選ばれる少なくとも１種
のイオン吸着体０．００２〜０．３重量部とからなるモ
ールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成
物。 Ｍ１１−ｘＭ２ｘ（ＯＨ）２Ａｎ− ｘ／ｎ・ｍＨ２Ｏ ・・・（１） （式中、Ｍ１ はアルカリ土類金属より選ばれる少なく
とも１種の２価金属を示し、Ｍ２は３価金属を示し、Ａ
ｎ−はｎ価のアニオンを示し、ｘは０＜ｘ≦０．５、ｍ
は正の数を表す。） - 【請求項２】 空気気流下にて２３０℃で６０分間加熱
した時の揮発成分量が５％以下であるヒンダードアミン
系光安定剤０．０５〜２重量部を含有してなる請求項１
記載のポリアセタール樹脂組成物。 - 【請求項３】 （Ａ）成分が窒素気流下にて２３０℃で
６０分間加熱した時のホルムアルデヒドガス発生量が３
００ｐｐｍ以のポリオキシメチレン共重合体である請求
項１記載のポリアセタール樹脂組成物。 - 【請求項４】 （Ｂ）成分のヒンダードフェノール系酸
化防止剤がトリエチレングリコール−ビス〔３−（３−
ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオネート、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート〕、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−
２｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，
８，１０テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、
１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ
−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌル酸である請
求項１記載のポリアセタール樹脂組成物。 - 【請求項５】 （Ｃ）成分のイオン吸着体が、ナトリウ
ム、リチウム、もしくはカリウムからなるアルカリ金属
の酸化物及びマグネシウム、ストロンチウム、もしくは
バリウムからなるアルカリ土類金属の酸化物より選ばれ
る少なくとも１種の酸化物と、３価元素の酸化物より選
ばれる少なくとも１種の酸化物とからなる２種以の酸化
物を主成分とするイオン吸着体である請求項１記載のポ
リアセタール樹脂組成物。 - 【請求項６】 （Ｃ）成分のイオン吸着体の粒径が１０
０μｍ以下である請求項１記載のポリアセタール樹脂組
成物。 - 【請求項７】 アルカリ金属の酸化物がＮａ２ Ｏであ
る請求項５記載のポリアセタール樹脂組成物。 - 【請求項８】 アルカリ土類金属の酸化物がＭｇＯであ
る請求項５記載のポリアセタール樹脂組成物。 - 【請求項９】 ３価元素の酸化物がＡｌ２Ｏ３である請
求項５記載のポリアセタール樹脂組成物。 - 【請求項１０】 イオン吸着体が２．５ＭｇＯ・Ａｌ２
Ｏ３・ｎＨ２Ｏ、Ａｌ２Ｏ３・Ｎａ２Ｏ・ｎＨ２Ｏ、Ｍ
ｇ０．７Ａｌ０．３Ｏ１．１５、Ｍｇ０．７５Ａｌ
０．２５Ｏ１．１２５から選ばれたものである請求項１
記載のポリアセタール樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7379994A JP2808078B2 (ja) | 1993-04-08 | 1994-03-22 | モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10493093 | 1993-04-08 | ||
| JP5-104930 | 1993-04-08 | ||
| JP7379994A JP2808078B2 (ja) | 1993-04-08 | 1994-03-22 | モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06340792A JPH06340792A (ja) | 1994-12-13 |
| JP2808078B2 true JP2808078B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=26414954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7379994A Expired - Lifetime JP2808078B2 (ja) | 1993-04-08 | 1994-03-22 | モールドデポジットの改良されたポリアセタール樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2808078B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| MY114026A (en) * | 1995-09-01 | 2002-07-31 | Asahi Chemical Ind | Polyacetal resin molded article and process for producing the same |
| JP4556026B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2010-10-06 | 富田製薬株式会社 | ホルムアルデヒドガス処理剤及びホルムアルデヒドガス処理方法 |
| TW201037028A (en) * | 2009-04-14 | 2010-10-16 | Fdc Lees Chemical Industry Co | Motified polyacetal with high thermal stability |
| KR101711942B1 (ko) * | 2010-12-31 | 2017-03-03 | 코오롱플라스틱 주식회사 | 폴리옥시메틸렌 수지 조성물 및 이를 포함하는 성형품 |
-
1994
- 1994-03-22 JP JP7379994A patent/JP2808078B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06340792A (ja) | 1994-12-13 |
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