JPH07247390A - スチレン系樹脂用造核剤およびスチレン系樹脂組成物 - Google Patents
スチレン系樹脂用造核剤およびスチレン系樹脂組成物Info
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- JPH07247390A JPH07247390A JP6040769A JP4076994A JPH07247390A JP H07247390 A JPH07247390 A JP H07247390A JP 6040769 A JP6040769 A JP 6040769A JP 4076994 A JP4076994 A JP 4076994A JP H07247390 A JPH07247390 A JP H07247390A
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- molding
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- styrene resin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】シンジオタクチック構造を有するスチレン系樹
脂の均質な結晶化を促進し，低温金型成型を行った場合
にも，高結晶度で外観の良い成型品を製造することので
きるスチレン系樹脂用造核剤を提供すること。 【構成】一般式（Ｉ）に示される化合物からなるシンジ
オタクチック・スチレン系樹脂用造核剤。 【化１】
脂の均質な結晶化を促進し，低温金型成型を行った場合
にも，高結晶度で外観の良い成型品を製造することので
きるスチレン系樹脂用造核剤を提供すること。 【構成】一般式（Ｉ）に示される化合物からなるシンジ
オタクチック・スチレン系樹脂用造核剤。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスチレン系樹脂の造核剤
に関し，詳しくはシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系樹脂に用いることにより，低温金型成型における
結晶化速度が良好で，結晶性が高く，表面光沢，離型性
にすぐれたスチレン系樹脂の造核剤に関する。
に関し，詳しくはシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系樹脂に用いることにより，低温金型成型における
結晶化速度が良好で，結晶性が高く，表面光沢，離型性
にすぐれたスチレン系樹脂の造核剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からラジカル重合法等により製造さ
れるスチレン系樹脂は，その立体構造がアタクチック構
造を有しており，種々の成形法，例えば射出成形，押出
成形，中空成形，真空成形，注入成形などの方法によっ
て，様々な形状のものに成形され，家庭電気器具，事務
機器，家庭用品，包装容器，玩具，家具，合成紙その他
産業資材などとして幅広く用いられている。しかしなが
ら，このようなアタクチック構造のスチレン系樹脂は，
結晶化しないため，機械的強度や耐熱性，耐薬品性に劣
るという欠点があった。
れるスチレン系樹脂は，その立体構造がアタクチック構
造を有しており，種々の成形法，例えば射出成形，押出
成形，中空成形，真空成形，注入成形などの方法によっ
て，様々な形状のものに成形され，家庭電気器具，事務
機器，家庭用品，包装容器，玩具，家具，合成紙その他
産業資材などとして幅広く用いられている。しかしなが
ら，このようなアタクチック構造のスチレン系樹脂は，
結晶化しないため，機械的強度や耐熱性，耐薬品性に劣
るという欠点があった。
【０００３】シンジオタクチック構造を有するスチレン
系樹脂は，アタクチック構造を有するスチレン系樹脂に
比べて機械的強度，耐熱性，耐溶剤性，電気特性等に優
れた諸特性がえられる素材であるが，これら特性を得る
為には均質で高い結晶化率が望まれ，その結果，成形時
に高い金型温度の設定が必要となっていた。また，特開
昭63-237453 号公報には，特定の造核剤を配合すること
によってシンジオタクチック構造を有するスチレンレン
系樹脂の結晶化を促進することが提案され，離型性，成
形品の外観の改善がなされている。この技術によれば，
得られる組成物や成形品の物性あるいは外観について
は，改善効果が認められるものの，結晶化させるための
温度が高く，結晶促進の度合いが不充分であるとともに
成型品の光沢が低い等，いくつかの改善の余地が残され
ている。
系樹脂は，アタクチック構造を有するスチレン系樹脂に
比べて機械的強度，耐熱性，耐溶剤性，電気特性等に優
れた諸特性がえられる素材であるが，これら特性を得る
為には均質で高い結晶化率が望まれ，その結果，成形時
に高い金型温度の設定が必要となっていた。また，特開
昭63-237453 号公報には，特定の造核剤を配合すること
によってシンジオタクチック構造を有するスチレンレン
系樹脂の結晶化を促進することが提案され，離型性，成
形品の外観の改善がなされている。この技術によれば，
得られる組成物や成形品の物性あるいは外観について
は，改善効果が認められるものの，結晶化させるための
温度が高く，結晶促進の度合いが不充分であるとともに
成型品の光沢が低い等，いくつかの改善の余地が残され
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは，上記問
題を解決すべく鋭意検討した結果，シンジオタクチック
構造を有するスチレン系樹脂の均質な結晶化を促進し，
低温金型成型を行った場合にも，高結晶度で外観の良い
成型品を製造することのできるスチレン系樹脂用造核剤
を見出し，本発明に至った。
題を解決すべく鋭意検討した結果，シンジオタクチック
構造を有するスチレン系樹脂の均質な結晶化を促進し，
低温金型成型を行った場合にも，高結晶度で外観の良い
成型品を製造することのできるスチレン系樹脂用造核剤
を見出し，本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち，本発明は，一
般式（Ｉ）で表される化合物をシンジオタクチック構造
有するスチレン系樹脂用造核剤として提供するものであ
る。一般式（Ｉ）
般式（Ｉ）で表される化合物をシンジオタクチック構造
有するスチレン系樹脂用造核剤として提供するものであ
る。一般式（Ｉ）
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中＞Ｎ−Ｒ−Ｎ＜はヒドラジンまたは
有機ジアミン残基，Ｘはハロゲン原子，ｎは０〜４の整
数を示す。） 本発明に係わる一般式（Ｉ）で示される化合物は不活性
有機溶剤中で，ハロゲン化無水フタル酸と各種有機ジア
ミンとを加熱脱水するか，またはハロゲン化フタルイミ
ドのカリウム塩と２つのハロゲン原子により置換された
炭化水素化合物及びアリール化合物とを極性有機溶媒中
で加熱するいわゆるＧａｂｒｉｅｌ合成法によって得ら
れる。いずれの合成法によっても目的とする一般式から
なる化合物は高純度・高収率で得られるが，工業的製造
方法としては原料の製造及び入手，反応溶媒のコスト，
回収問題等から前者のハロゲン化無水フタル酸よ有機ジ
アミンの脱水による方法がより優れている。
有機ジアミン残基，Ｘはハロゲン原子，ｎは０〜４の整
数を示す。） 本発明に係わる一般式（Ｉ）で示される化合物は不活性
有機溶剤中で，ハロゲン化無水フタル酸と各種有機ジア
ミンとを加熱脱水するか，またはハロゲン化フタルイミ
ドのカリウム塩と２つのハロゲン原子により置換された
炭化水素化合物及びアリール化合物とを極性有機溶媒中
で加熱するいわゆるＧａｂｒｉｅｌ合成法によって得ら
れる。いずれの合成法によっても目的とする一般式から
なる化合物は高純度・高収率で得られるが，工業的製造
方法としては原料の製造及び入手，反応溶媒のコスト，
回収問題等から前者のハロゲン化無水フタル酸よ有機ジ
アミンの脱水による方法がより優れている。
【０００８】また，シンジオタクチック構造を有するス
チレン系樹脂を結晶化させる時，一般式（Ｉ）で示され
る化合物合成時に混在する微量不純物が，結晶化に大き
な悪影響を与えるため，一般式で示される化合物合成
後，ジメチルフォルムアミド等の非プロトン性極性溶媒
による不純物の洗浄が有効で，該処理により，シンジオ
タクチック構造を有するスチレン系樹脂の造核時の上記
課題を更に向上する。一般式（Ｉ）で示される化合物の
製造方法については，製造例として後述するが，原料中
不活性有機溶剤としてはモノクロルベンゼン，ジクロル
ベンゼン，トリクロクベンゼン，モノブロムベンゼン，
ニトロベンゼン，ニトロトルエン，クロルニトロベンゼ
ン，エチルベンゼン，アニソール，フェネトール，アセ
トフェノン，ベンゾフェノン，クロルナフタレン，ニト
ロナフタレン，ピリジン，キノリン，等のアミノ基，カ
ルボキシル基に対して不活性な官能基により核置換され
た芳香族化合物及びα−ピロリドン，ジメチルフォルム
アミド，ジメジルスルフォキシド等の非プロトン性極性
溶媒が有利である。
チレン系樹脂を結晶化させる時，一般式（Ｉ）で示され
る化合物合成時に混在する微量不純物が，結晶化に大き
な悪影響を与えるため，一般式で示される化合物合成
後，ジメチルフォルムアミド等の非プロトン性極性溶媒
による不純物の洗浄が有効で，該処理により，シンジオ
タクチック構造を有するスチレン系樹脂の造核時の上記
課題を更に向上する。一般式（Ｉ）で示される化合物の
製造方法については，製造例として後述するが，原料中
不活性有機溶剤としてはモノクロルベンゼン，ジクロル
ベンゼン，トリクロクベンゼン，モノブロムベンゼン，
ニトロベンゼン，ニトロトルエン，クロルニトロベンゼ
ン，エチルベンゼン，アニソール，フェネトール，アセ
トフェノン，ベンゾフェノン，クロルナフタレン，ニト
ロナフタレン，ピリジン，キノリン，等のアミノ基，カ
ルボキシル基に対して不活性な官能基により核置換され
た芳香族化合物及びα−ピロリドン，ジメチルフォルム
アミド，ジメジルスルフォキシド等の非プロトン性極性
溶媒が有利である。
【０００９】Ｇａｂｒｉｅｌ法で使用する極性有機溶媒
としてはジオキサン，ジメチルフォルムアミド，ジメチ
ルスルフォキシド，α−ピロリドン，メチルイソブチル
ケトン，アニソール，エチレングリコールジメチル（ジ
エチル）エーテル，メチル（エチル）ベンゾエート等が
挙げられるが，特にジメチルフォルムアミド，α−ピロ
リドン，ジメチルスルフォキシドが反応時間，収率，純
度等で優れている。本発明にかかわる一般式（Ｉ）の化
合式は耐熱性，耐侯性，耐薬品性等がきわめて良好でシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系樹脂の成形に
おける高温，高圧処理に対してもその化学構造に何等変
化は認められない。また一般式（Ｉ）で示される化合物
のうち１分子当りのハロゲン化度の高い化合物はその結
晶表面にハロゲン原子が多く位置し，有機物よりもむし
ろ無機物に近似した性質を持つことが予測される。
としてはジオキサン，ジメチルフォルムアミド，ジメチ
ルスルフォキシド，α−ピロリドン，メチルイソブチル
ケトン，アニソール，エチレングリコールジメチル（ジ
エチル）エーテル，メチル（エチル）ベンゾエート等が
挙げられるが，特にジメチルフォルムアミド，α−ピロ
リドン，ジメチルスルフォキシドが反応時間，収率，純
度等で優れている。本発明にかかわる一般式（Ｉ）の化
合式は耐熱性，耐侯性，耐薬品性等がきわめて良好でシ
ンジオタクチック構造を有するスチレン系樹脂の成形に
おける高温，高圧処理に対してもその化学構造に何等変
化は認められない。また一般式（Ｉ）で示される化合物
のうち１分子当りのハロゲン化度の高い化合物はその結
晶表面にハロゲン原子が多く位置し，有機物よりもむし
ろ無機物に近似した性質を持つことが予測される。
【００１０】一般式（Ｉ）で示される化合物の樹脂に対
する添加量としては特に制限はないが，通常樹脂に対し
て０．００１重量％から５重量％の範囲で使用される
が，好ましくは０．００１重量％から１％重量の範囲で
ある。スチレン系樹脂における主としてシンジオタクチ
ック構造とは，立体化学構造が主としてシンジオタクチ
ック構造，即ち炭素─炭素結合から形成される主鎖に対
して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基は交互に反
対方向に位置する立体構造を有するものであり，そのタ
クティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法（13Ｃ
−ＮＭＲ）により定量される。13Ｃ─ＮＭＲ法により測
定されるタクティシティーは，連続する複数個の構成単
位の存在割合，例えば２個の場合はダイアッド，３個の
場合はトリアッド，５個の場合はペンタッドによって示
すことができるが，本発明に言うシンジオタクチック構
造を有するスチレン系樹脂とは，通常はダイアッドで７
５％以上，好ましくは８５％以上，若しくはペンタッド
で３０％以上，好ましくは５０％以上のシンジオタクテ
ィシティーを有するポリスチレン，ポリ（アルキルスチ
レン），ポリ（ハロゲン化スチレン），ポリ（アルコキ
シスチレン），ポリ（ビニル安息香酸エステル），及び
これらの混合物，あるいはこれらを主成分とする共重合
体を示称する。なお，ここでポリ（アルキルスチレン）
としては，ポリ（メチルスチレン），ポリ（エチルスチ
レン），ポリ（イソプロピルスチレン），ポリ（ターシ
ャリーブチルスチレン）などがあり，ポリ（ハロゲン化
スチレン）としては，ポリ（クロロスチレン），ポリ
（ブロモスチレン），ポリ（フルオロスチレン），など
がある。ポリ（アルコキシスチレン）としては，ポリ
（メトキシスチレン），ポリ（エトキシスチレン）など
がある。これらのうち特に好ましいスチレン系樹脂とし
ては，ポリスチレン，ポリ（ｐ−メチルスチレン），ポ
リ（ｍ−メチルスチレン），ポリ（ｐ−ターシャリーブ
チルスチレン），ポリ（ｐ−クロロスチレン），ポリ
（ｍ−クロロスチレン），ポリ（ｐ−フルオロスチレ
ン），更にはスチレンとｐ−メチルスチレンとの共重合
体をあげることができる。
する添加量としては特に制限はないが，通常樹脂に対し
て０．００１重量％から５重量％の範囲で使用される
が，好ましくは０．００１重量％から１％重量の範囲で
ある。スチレン系樹脂における主としてシンジオタクチ
ック構造とは，立体化学構造が主としてシンジオタクチ
ック構造，即ち炭素─炭素結合から形成される主鎖に対
して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基は交互に反
対方向に位置する立体構造を有するものであり，そのタ
クティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法（13Ｃ
−ＮＭＲ）により定量される。13Ｃ─ＮＭＲ法により測
定されるタクティシティーは，連続する複数個の構成単
位の存在割合，例えば２個の場合はダイアッド，３個の
場合はトリアッド，５個の場合はペンタッドによって示
すことができるが，本発明に言うシンジオタクチック構
造を有するスチレン系樹脂とは，通常はダイアッドで７
５％以上，好ましくは８５％以上，若しくはペンタッド
で３０％以上，好ましくは５０％以上のシンジオタクテ
ィシティーを有するポリスチレン，ポリ（アルキルスチ
レン），ポリ（ハロゲン化スチレン），ポリ（アルコキ
シスチレン），ポリ（ビニル安息香酸エステル），及び
これらの混合物，あるいはこれらを主成分とする共重合
体を示称する。なお，ここでポリ（アルキルスチレン）
としては，ポリ（メチルスチレン），ポリ（エチルスチ
レン），ポリ（イソプロピルスチレン），ポリ（ターシ
ャリーブチルスチレン）などがあり，ポリ（ハロゲン化
スチレン）としては，ポリ（クロロスチレン），ポリ
（ブロモスチレン），ポリ（フルオロスチレン），など
がある。ポリ（アルコキシスチレン）としては，ポリ
（メトキシスチレン），ポリ（エトキシスチレン）など
がある。これらのうち特に好ましいスチレン系樹脂とし
ては，ポリスチレン，ポリ（ｐ−メチルスチレン），ポ
リ（ｍ−メチルスチレン），ポリ（ｐ−ターシャリーブ
チルスチレン），ポリ（ｐ−クロロスチレン），ポリ
（ｍ−クロロスチレン），ポリ（ｐ−フルオロスチレ
ン），更にはスチレンとｐ−メチルスチレンとの共重合
体をあげることができる。
【００１１】また，本発明の造核剤を用いたポリスチレ
ン系樹脂の成形品の製造方法では，上述のスチレン系樹
脂組成物を低温下，具体的には室温から２００℃，好ま
しくは６０から１６０℃の金型温度（成形温度）で成形
する。なお，成形の際の樹脂組成物の温度は，通常は２
６０から３４０℃で設定されるが，好ましくは２６０か
ら３２０℃である。また，成形の手法としては製造すべ
き成形品に応じて適宜選択すればよいが，特に従来のア
タクチック構造を有するステレン系重合体の成形体の成
形加工に採用されている熱成形などの種々の成形法，よ
り具体的にはプレス成形，射出成形，押出成形，中空成
形，真空成形，注入成形，注型成形，流延成形，被覆成
形，紡糸成形，浸透法，刷毛塗り法，スプレー法などに
よる塗布成形や一軸延伸，二軸（逐次あるいは同時）延
伸などの手法によればよい。
ン系樹脂の成形品の製造方法では，上述のスチレン系樹
脂組成物を低温下，具体的には室温から２００℃，好ま
しくは６０から１６０℃の金型温度（成形温度）で成形
する。なお，成形の際の樹脂組成物の温度は，通常は２
６０から３４０℃で設定されるが，好ましくは２６０か
ら３２０℃である。また，成形の手法としては製造すべ
き成形品に応じて適宜選択すればよいが，特に従来のア
タクチック構造を有するステレン系重合体の成形体の成
形加工に採用されている熱成形などの種々の成形法，よ
り具体的にはプレス成形，射出成形，押出成形，中空成
形，真空成形，注入成形，注型成形，流延成形，被覆成
形，紡糸成形，浸透法，刷毛塗り法，スプレー法などに
よる塗布成形や一軸延伸，二軸（逐次あるいは同時）延
伸などの手法によればよい。
【００１２】
【実施例】以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明す
る。実施例に先立ち、一般式（Ｉ）で示される化合物の
製造例および参考例を示す。例中「部」とあるのは重量
部を表す。 製造例１ テトラクロル無水フタル酸１４．３部（０．０５モ
ル），１．５−ナフタレンジアミン４．０部（０．０２
５モル）と１００．０部のニトロベンゼン中に充分に懸
濁させ，加熱し副生する水を系外に除去しながら１７０
から１８０℃で５時間かきまぜて反応を終了する。室温
に冷却後，沈殿を濾過分離後，メタノールで充分洗浄し
て淡灰白色の結晶１７．０部を得る。生成物は式（Ｉ
Ｉ）で示される化合物であった。
る。実施例に先立ち、一般式（Ｉ）で示される化合物の
製造例および参考例を示す。例中「部」とあるのは重量
部を表す。 製造例１ テトラクロル無水フタル酸１４．３部（０．０５モ
ル），１．５−ナフタレンジアミン４．０部（０．０２
５モル）と１００．０部のニトロベンゼン中に充分に懸
濁させ，加熱し副生する水を系外に除去しながら１７０
から１８０℃で５時間かきまぜて反応を終了する。室温
に冷却後，沈殿を濾過分離後，メタノールで充分洗浄し
て淡灰白色の結晶１７．０部を得る。生成物は式（Ｉ
Ｉ）で示される化合物であった。
【００１３】式（II）
【００１４】
【化３】
【００１５】製造例２ テトラブロム無水フタル酸２３．３部（０．０５モル）
とヘキサメチレンジアミン２．９部（０．０２５モル）
をオルソジクロロベンゼン８０部に充分に懸濁した後加
熱する。更に１６０から１７０℃で副生する水を系外に
除去しながら５時間加熱攪拌して反応を停止する。淡黄
色の結晶２４．５部を得る。同生成物を２４．５部のジ
メチルホルムアミド中で加熱還流下に５時間処理した
後，室温に冷却後，結晶を分離し，充分にメタノール洗
浄して精製物，淡黄色結晶２４部を得る。精製物は式
（III)で示される化合物であった。
とヘキサメチレンジアミン２．９部（０．０２５モル）
をオルソジクロロベンゼン８０部に充分に懸濁した後加
熱する。更に１６０から１７０℃で副生する水を系外に
除去しながら５時間加熱攪拌して反応を停止する。淡黄
色の結晶２４．５部を得る。同生成物を２４．５部のジ
メチルホルムアミド中で加熱還流下に５時間処理した
後，室温に冷却後，結晶を分離し，充分にメタノール洗
浄して精製物，淡黄色結晶２４部を得る。精製物は式
（III)で示される化合物であった。
【００１６】式（III)
【００１７】
【化４】
【００１８】製造例 ３ テトラブロムフタルイミドのカリウム塩２５．２部
（０．０５モル）と１．６−ジブロモヘキサン６．１部
（０．０２５モル）を１００部のジメチルホルムアミド
中で１４５から１５０℃で５時間加熱攪拌して反応を終
了する。結晶を分離後，充分にメタノールで洗浄して製
造例２と同様，式（III)で表される淡黄色結晶を２４．
５部得る。以下同様の反応操作で各対応する式（IV）〜
式（VI）のフタルイミド化合物、を得ることが出来た。
原料組合せ及び結果を以下表１に示す。
（０．０５モル）と１．６−ジブロモヘキサン６．１部
（０．０２５モル）を１００部のジメチルホルムアミド
中で１４５から１５０℃で５時間加熱攪拌して反応を終
了する。結晶を分離後，充分にメタノールで洗浄して製
造例２と同様，式（III)で表される淡黄色結晶を２４．
５部得る。以下同様の反応操作で各対応する式（IV）〜
式（VI）のフタルイミド化合物、を得ることが出来た。
原料組合せ及び結果を以下表１に示す。
【００１９】
【表１】
【００２０】参考例 （シンジオタクチック構造を有するポリスチレンの製
造）反応容器に、トルエン１ｌと触媒テトラエトキシチ
タン２．５ミリモルおよびメチルアルミノキサンをアル
ミニウム原子として２５０ミリモル加え、５５℃におい
てこれにスチレン７．５ｌを加え、４時間重合反応を行
った。反応終了後、生成物を塩酸−メタノール混合液で
洗浄し、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥し、スチ
レン系重合体（シンジオタクチックポリスチレン）１．
２５ｋｇを得た。次に、この重合体をメチルエチルケト
ンを溶媒としてソックスレー抽出し、抽出残分９７重量
％を得た。このものの重量平均分子量は４００，００
０、数平均分子量は１８０，０００であり、融点は２６
９℃であった。
造）反応容器に、トルエン１ｌと触媒テトラエトキシチ
タン２．５ミリモルおよびメチルアルミノキサンをアル
ミニウム原子として２５０ミリモル加え、５５℃におい
てこれにスチレン７．５ｌを加え、４時間重合反応を行
った。反応終了後、生成物を塩酸−メタノール混合液で
洗浄し、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥し、スチ
レン系重合体（シンジオタクチックポリスチレン）１．
２５ｋｇを得た。次に、この重合体をメチルエチルケト
ンを溶媒としてソックスレー抽出し、抽出残分９７重量
％を得た。このものの重量平均分子量は４００，００
０、数平均分子量は１８０，０００であり、融点は２６
９℃であった。
【００２１】また、この重合体は、13Ｃ−ＮＭＲによる
分析（溶媒、１，２−ジクロロベンゼン）からシンジオ
タクチック構造に起因する１４５．３５ｐｐｍに吸収が
認められ、そのピーク面積から算出したラセミペンタッ
ドでのシンジオタクティシティーは９８％であった。 実施例１〜６ 参考例で得られたシンジオタクチッポリスチレン１００
重量部に、酸化防止剤として(2、6-ジ-tert-ブチル-4メチ
ルフェニル ) ペンタエリスリットールジホスフェイト( 商品
名 PEP-36 : アデカ・アーガス（株）製) 0.5 重量部及
び 2、6-ジ-tert-ブチル−４メチルフェノール( 商品名
スミライザー BHT :住友化学（株）製)0.1重量部、表
２に示す一般式（Ｉ）で示される化合物および量を加
え、ブレンドしたサンプルを射出成形機( 東芝機械製)
を用い、シリンダ−温度 Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3,をそれぞれ 280
℃、270 ℃、260 ℃、金型温度を90℃で、曲げ試験片及
び図１に示すごとき平板を作成し、曲げ強度、曲げ弾性
率、光沢、結晶化熱量、軟化点、成形収縮率を測定し、
測定結果を表４に示す。
分析（溶媒、１，２−ジクロロベンゼン）からシンジオ
タクチック構造に起因する１４５．３５ｐｐｍに吸収が
認められ、そのピーク面積から算出したラセミペンタッ
ドでのシンジオタクティシティーは９８％であった。 実施例１〜６ 参考例で得られたシンジオタクチッポリスチレン１００
重量部に、酸化防止剤として(2、6-ジ-tert-ブチル-4メチ
ルフェニル ) ペンタエリスリットールジホスフェイト( 商品
名 PEP-36 : アデカ・アーガス（株）製) 0.5 重量部及
び 2、6-ジ-tert-ブチル−４メチルフェノール( 商品名
スミライザー BHT :住友化学（株）製)0.1重量部、表
２に示す一般式（Ｉ）で示される化合物および量を加
え、ブレンドしたサンプルを射出成形機( 東芝機械製)
を用い、シリンダ−温度 Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3,をそれぞれ 280
℃、270 ℃、260 ℃、金型温度を90℃で、曲げ試験片及
び図１に示すごとき平板を作成し、曲げ強度、曲げ弾性
率、光沢、結晶化熱量、軟化点、成形収縮率を測定し、
測定結果を表４に示す。
【００２２】なお、各特性は下記の方法により測定し
た。 （１）曲げ強度および曲げ弾性率は、ＪＩＳ Ｋ ７２
０３ に準拠。 （２）光沢は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５ に準拠。 （３）結晶化熱量は、平板より切り出した試料約１０ｍ
ｇを精秤し、ＤＳＣ測定用パンに入れ、窒素雰囲気化で
２０℃／分の速度で３００℃まで昇温を行い、この間の
発熱ピ−クの面積から求めた。 （４）ビカット軟化点は、ＪＩＳ Ｋ ７２０６ に準
拠。 （５）成形収縮率は、図１に示したインジェクションプ
レ−トの所定のＡ（ 120mm ), Ｂ( 60mm )に相当する部
分の長さを、成形１週間後に測定する。Ａの流れ方向の
収縮率をＭＤ、Ｂの流れに直角方向の収縮率をＴＤと
し、ＴＤ／ＭＤを収縮比として求める。
た。 （１）曲げ強度および曲げ弾性率は、ＪＩＳ Ｋ ７２
０３ に準拠。 （２）光沢は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５ に準拠。 （３）結晶化熱量は、平板より切り出した試料約１０ｍ
ｇを精秤し、ＤＳＣ測定用パンに入れ、窒素雰囲気化で
２０℃／分の速度で３００℃まで昇温を行い、この間の
発熱ピ−クの面積から求めた。 （４）ビカット軟化点は、ＪＩＳ Ｋ ７２０６ に準
拠。 （５）成形収縮率は、図１に示したインジェクションプ
レ−トの所定のＡ（ 120mm ), Ｂ( 60mm )に相当する部
分の長さを、成形１週間後に測定する。Ａの流れ方向の
収縮率をＭＤ、Ｂの流れに直角方向の収縮率をＴＤと
し、ＴＤ／ＭＤを収縮比として求める。
【００２３】比較例１ 参考例で得られたシンジオタクチッポリスチレン１００
重量部に、酸化防止剤として(2、6-ジ-tert-ブチル-4メチ
ルフェニル ) ペンタエリスリットールジホスフェイト( 商品
名 PEP-36 : アデカ・アーガス（株）製) 0.5 重量部及
び 2、6-ジ-tert-ブチル−４メチルフェノール( 商品名
スミライザー BHT :住友化学（株）製)0.1重量部を加
え、ブレンドしたサンプルを射出成形機( 東芝機械製)
を用い、シリンダ−温度 Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3,をそれぞれ 280
℃、270 ℃、260 ℃、金型温度を90℃で、曲げ試験片及
び図１に示すごとき平板を作成し、曲げ強度、曲げ弾性
率、光沢、結晶化熱量、軟化点、成形収縮率を測定し、
測定結果を表４に示す。
重量部に、酸化防止剤として(2、6-ジ-tert-ブチル-4メチ
ルフェニル ) ペンタエリスリットールジホスフェイト( 商品
名 PEP-36 : アデカ・アーガス（株）製) 0.5 重量部及
び 2、6-ジ-tert-ブチル−４メチルフェノール( 商品名
スミライザー BHT :住友化学（株）製)0.1重量部を加
え、ブレンドしたサンプルを射出成形機( 東芝機械製)
を用い、シリンダ−温度 Ｃ1,Ｃ2,Ｃ3,をそれぞれ 280
℃、270 ℃、260 ℃、金型温度を90℃で、曲げ試験片及
び図１に示すごとき平板を作成し、曲げ強度、曲げ弾性
率、光沢、結晶化熱量、軟化点、成形収縮率を測定し、
測定結果を表４に示す。
【００２４】比較例２〜６ 配合成分として表３の比較例２〜６に示すものを所定割
合で配合したこと以外は、比較例１と同様にして試験片
を作成して同様の評価を行った。結果を表４に示す。
合で配合したこと以外は、比較例１と同様にして試験片
を作成して同様の評価を行った。結果を表４に示す。
【００２５】
【表２】
【００２６】
【表３】
【００２７】なお、表３において肩付きの符号は下記の
物質を意味する。 (1) P-(tert-ブチル) 安息香酸アルミニウム: PTBBA-Al, 大
日本インキ 化学工業（株）製） (2) ステアリン酸ナトリウム (3) (4-tert-ブチルフェニル) ナトリウム : NA-10 、アデ
カ・アーガス（株）製） (4) (2、4-ジ-tert-ブチルフェノール）アシッドホス
フェートナトリウム: NA-11 、アデカ・アーガス（株）
製）
物質を意味する。 (1) P-(tert-ブチル) 安息香酸アルミニウム: PTBBA-Al, 大
日本インキ 化学工業（株）製） (2) ステアリン酸ナトリウム (3) (4-tert-ブチルフェニル) ナトリウム : NA-10 、アデ
カ・アーガス（株）製） (4) (2、4-ジ-tert-ブチルフェノール）アシッドホス
フェートナトリウム: NA-11 、アデカ・アーガス（株）
製）
【００２８】
【表４】
【００２９】
【発明の効果】表４の結果よりシンジオタクチックポリ
スチレンの結晶化促進効果が，従来の樹脂組成物に比較
して本発明の樹脂組成物の方が顕著に優れている事が明
らかである。その結果，比較的低温の金型温度でも高品
位な成形が可能となり，工業的に高い利用価値が認めら
れる。
スチレンの結晶化促進効果が，従来の樹脂組成物に比較
して本発明の樹脂組成物の方が顕著に優れている事が明
らかである。その結果，比較的低温の金型温度でも高品
位な成形が可能となり，工業的に高い利用価値が認めら
れる。
【図１】は、収縮率の測定を行うためのインジェクショ
ンプレートを示す。
ンプレートを示す。
（１）インジェクションプレート （２）測定のための凸部（０．５ｍｍ） （３）ゲート部
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）で表される化合物からなるシ
ンジオタクチック・スチレン系樹脂用造核剤。 【化１】 （式中＞Ｎ−Ｒ−Ｎ＜はヒドラジンまたは有機ジアミン
残基，Ｘはハロゲン原子，ｎは０〜４の整数を示す。） - 【請求項２】スチレンに対し、一般式（Ｉ）で表される
化合物を０．００１〜５重量％使用してなるスチレン系
樹脂成形物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6040769A JPH07247390A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | スチレン系樹脂用造核剤およびスチレン系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6040769A JPH07247390A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | スチレン系樹脂用造核剤およびスチレン系樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07247390A true JPH07247390A (ja) | 1995-09-26 |
Family
ID=12589846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6040769A Pending JPH07247390A (ja) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | スチレン系樹脂用造核剤およびスチレン系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07247390A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002309019A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 成形品及び成形品の接着方法 |
| WO2019107526A1 (ja) * | 2017-12-01 | 2019-06-06 | 出光興産株式会社 | スチレン系樹脂、スチレン系樹脂組成物及びその成形品、並びにスチレン系樹脂の製造方法 |
-
1994
- 1994-03-11 JP JP6040769A patent/JPH07247390A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002309019A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-23 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | 成形品及び成形品の接着方法 |
| WO2019107526A1 (ja) * | 2017-12-01 | 2019-06-06 | 出光興産株式会社 | スチレン系樹脂、スチレン系樹脂組成物及びその成形品、並びにスチレン系樹脂の製造方法 |
| CN111417658A (zh) * | 2017-12-01 | 2020-07-14 | 出光兴产株式会社 | 苯乙烯系树脂、苯乙烯系树脂组合物及其成形品、以及苯乙烯系树脂的制造方法 |
| JPWO2019107526A1 (ja) * | 2017-12-01 | 2020-11-26 | 出光興産株式会社 | スチレン系樹脂、スチレン系樹脂組成物及びその成形品、並びにスチレン系樹脂の製造方法 |
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