JPH07247249A - 含フッ素第４級アンモニウム塩の製造方法 - Google Patents
含フッ素第４級アンモニウム塩の製造方法Info
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- JPH07247249A JPH07247249A JP6039902A JP3990294A JPH07247249A JP H07247249 A JPH07247249 A JP H07247249A JP 6039902 A JP6039902 A JP 6039902A JP 3990294 A JP3990294 A JP 3990294A JP H07247249 A JPH07247249 A JP H07247249A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 安全かつ経済的に含フッ素第４級アンモニウ
ム塩を製造する方法を提供する。 【構成】ｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルとアルコール
またはアミンとの反応により、対応するエステルまたは
アミドを合成する。エステルまたはアミドの末端で第３
級アミンを構成する窒素原子に対して、付加反応によ
り、第４級アンモニウム塩を合成する。基性触媒の存在
下、第４級アンモニウムの構造中に存在するフェノール
とフルオロアルケンとの反応により、一般式（Ｇ）の含
フッ素第４級アンモニウム塩を合成する。 〔式中、Ｒ３〜Ｒ８はアルキル基等、Ｙは０またはＮＨ
２等、ｍは、２〜６の整数、Ｘは脱離基を示す〕
ム塩を製造する方法を提供する。 【構成】ｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルとアルコール
またはアミンとの反応により、対応するエステルまたは
アミドを合成する。エステルまたはアミドの末端で第３
級アミンを構成する窒素原子に対して、付加反応によ
り、第４級アンモニウム塩を合成する。基性触媒の存在
下、第４級アンモニウムの構造中に存在するフェノール
とフルオロアルケンとの反応により、一般式（Ｇ）の含
フッ素第４級アンモニウム塩を合成する。 〔式中、Ｒ３〜Ｒ８はアルキル基等、Ｙは０またはＮＨ
２等、ｍは、２〜６の整数、Ｘは脱離基を示す〕
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、含フッ素第４級アンモ
ニウム塩の製造方法に関する。
ニウム塩の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フッ素系第４級アンモニウム化合物は、
強い吸着性、荷電制御性などの性質を有するため注目さ
れており、電子材料などの分野で応用されている。この
フッ素系第４級アンモニウム塩の１種である下記式
（Ｈ）：
強い吸着性、荷電制御性などの性質を有するため注目さ
れており、電子材料などの分野で応用されている。この
フッ素系第４級アンモニウム塩の１種である下記式
（Ｈ）：
【０００３】
【化７】
【０００４】のフッ素系第４級アンモニウム塩の製造方
法としては、パーフルオロノネンとｐ−ヒドロキシ安息
香酸とを非プロトン性極性溶媒中、塩基性触媒の存在下
で反応させ、対応するパーフルオロノネニルオキシ安息
香酸を得たのち、酸ハロゲン化物として、アミンまたは
アルコールと反応させ、末端をヨウ化メチルで４級化さ
せる方法が知られている（特開昭５１−１１０８４号公
報）。しかしながら、この方法は、以下の問題点を有す
る。
法としては、パーフルオロノネンとｐ−ヒドロキシ安息
香酸とを非プロトン性極性溶媒中、塩基性触媒の存在下
で反応させ、対応するパーフルオロノネニルオキシ安息
香酸を得たのち、酸ハロゲン化物として、アミンまたは
アルコールと反応させ、末端をヨウ化メチルで４級化さ
せる方法が知られている（特開昭５１−１１０８４号公
報）。しかしながら、この方法は、以下の問題点を有す
る。
【０００５】１．酸ハロゲン化物を得るために毒性の強
い塩化チオニルなどを用いるため危険性が高い。
い塩化チオニルなどを用いるため危険性が高い。
【０００６】２．有害物（ＨＣｌ、ＳＯ2 など）を副次
的に生成するため、廃水処理工程がさらに必要になる。
的に生成するため、廃水処理工程がさらに必要になる。
【０００７】３．最初の工程で高価なパーフルオロノネ
ンを使用するため経済的ではない。
ンを使用するため経済的ではない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、安全にかつ
経済的に含フッ素第４級アンモニウム塩を製造する方法
を提供することを主な目的とする。
経済的に含フッ素第４級アンモニウム塩を製造する方法
を提供することを主な目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、よ
り安全で廃水処理の必要のない含フッ素第４級アンモニ
ウム塩の製造方法を見い出した。
な従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、よ
り安全で廃水処理の必要のない含フッ素第４級アンモニ
ウム塩の製造方法を見い出した。
【００１０】すなわち、本発明は、（工程（１））一般
式（Ａ）：
式（Ａ）：
【００１１】
【化８】
【００１２】〔式中、Ｒ1 は、炭素数１〜５のアルキル
基である〕で表されるｐ−ヒドロキシ安息香酸エステル
と一般式（Ｂ）：
基である〕で表されるｐ−ヒドロキシ安息香酸エステル
と一般式（Ｂ）：
【００１３】
【化９】
【００１４】〔式中、Ｙは、ＯまたはＮＲ2 （Ｒ2 は、
水素原子または炭素数１〜４のアルキル基である）であ
り、Ｒ3 およびＲ4 は、同一または相異なって、炭素数
１〜４のアルキル基を表し、ｍは、２〜６の整数であ
る〕で表されるアルコールまたはアミンとを溶媒の存在
下または非存在下に反応させて一般式（Ｃ）:
水素原子または炭素数１〜４のアルキル基である）であ
り、Ｒ3 およびＲ4 は、同一または相異なって、炭素数
１〜４のアルキル基を表し、ｍは、２〜６の整数であ
る〕で表されるアルコールまたはアミンとを溶媒の存在
下または非存在下に反応させて一般式（Ｃ）:
【００１５】
【化１０】
【００１６】のエステルまたはアミドを合成し、（工程
（２））次いで生成した該エステルまたはアミドと一般
式（Ｄ）：Ｒ5 Ｘ〔式中、Ｒ5 は、炭素数１〜４のアル
キル基を示し、Ｘは、脱離基を示す〕で表される化合物
とを反応させて一般式（Ｅ）：
（２））次いで生成した該エステルまたはアミドと一般
式（Ｄ）：Ｒ5 Ｘ〔式中、Ｒ5 は、炭素数１〜４のアル
キル基を示し、Ｘは、脱離基を示す〕で表される化合物
とを反応させて一般式（Ｅ）：
【００１７】
【化１１】
【００１８】で表される第４級アンモニウム塩としたの
ち、（工程（３））該第４級アンモニウム塩を塩基性触
媒の存在下で、一般式（Ｆ）：
ち、（工程（３））該第４級アンモニウム塩を塩基性触
媒の存在下で、一般式（Ｆ）：
【００１９】
【化１２】
【００２０】〔式中、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は、同一ま
たは相異なって、炭素数１〜４のフッ化炭化水素基であ
る〕で表されるフルオロアルケンを反応させることを特
徴とする一般式（Ｇ）：
たは相異なって、炭素数１〜４のフッ化炭化水素基であ
る〕で表されるフルオロアルケンを反応させることを特
徴とする一般式（Ｇ）：
【００２１】
【化１３】
【００２２】〔式中、Ｘ、Ｙ、ｍ、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は、上記に同じ〕で表される含フ
ッ素第４級アンモニウム塩の製造方法を提供するもので
ある。
Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は、上記に同じ〕で表される含フ
ッ素第４級アンモニウム塩の製造方法を提供するもので
ある。
【００２３】Ｒ1 としては、炭素数１〜４の直鎖または
分枝を有するアルキル基が挙げられる。
分枝を有するアルキル基が挙げられる。
【００２４】炭素数１〜４のアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基などが例示され、より好ましくは、エチル基およ
びイソプロピル基が例示される。
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基などが例示され、より好ましくは、エチル基およ
びイソプロピル基が例示される。
【００２５】Ｙとしては、ＯおよびＮＲ2 が挙げられ
る。
る。
【００２６】Ｒ2 としては、水素原子および炭素数１〜
４の直鎖または分枝を有するアルキル基が挙げられる。
４の直鎖または分枝を有するアルキル基が挙げられる。
【００２７】アルキル基としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが
例示される。
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが
例示される。
【００２８】Ｒ3 およびＲ4 としては、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基な
どが例示される。
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基な
どが例示される。
【００２９】ｍは、２〜６の整数であり、２〜４の整数
であることがより好ましい。
であることがより好ましい。
【００３０】Ｒ5 としては、炭素数１〜４の直鎖または
分枝を有するアルキル基が挙げられる。
分枝を有するアルキル基が挙げられる。
【００３１】Ｒ5 で表されるアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基などが例示される。
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基などが例示される。
【００３２】Ｘとしては、ハロゲン原子、ＯＭｓ（Ｍｓ
は、メタンスルホニル基）、ＯＴｓ（Ｔｓは、ｐ−トル
エンスルホニル基）などの脱離基が挙げられる。
は、メタンスルホニル基）、ＯＴｓ（Ｔｓは、ｐ−トル
エンスルホニル基）などの脱離基が挙げられる。
【００３３】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示される。
原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示される。
【００３４】Ｒ6 およびＲ7 としては、ＣＦ3 、ＣＦ3
ＣＦ2 、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ、ＣＦ3ＣＦ2 ＣＦ2 などが
例示される。
ＣＦ2 、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ、ＣＦ3ＣＦ2 ＣＦ2 などが
例示される。
【００３５】Ｒ8 としては、ＣＦ3 、ＣＦ3 ＣＦ2 、Ｃ
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＦ2 などが例示される。
Ｆ3 ＣＦ2 ＣＦ2 などが例示される。
【００３６】本発明で好適に製造される化合物として
は、Ｘ＝ハロゲン原子、Ｙ＝ＮＲ2 またはＯ、ｍ＝２〜
４、Ｒ1 ＝エチル基またはイソプロピル基、Ｒ2 ＝水素
原子、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝メチル基、Ｒ6 ＝（ＣＦ3 ）
2 ＣＦ、Ｒ7 ＝（ＣＦ3 ）2 ＣＦ、Ｒ8 ＝ＣＦ3 である
化合物が例示される。
は、Ｘ＝ハロゲン原子、Ｙ＝ＮＲ2 またはＯ、ｍ＝２〜
４、Ｒ1 ＝エチル基またはイソプロピル基、Ｒ2 ＝水素
原子、Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝メチル基、Ｒ6 ＝（ＣＦ3 ）
2 ＣＦ、Ｒ7 ＝（ＣＦ3 ）2 ＣＦ、Ｒ8 ＝ＣＦ3 である
化合物が例示される。
【００３７】以下、工程（１）〜（３）を説明する。
【００３８】工程（１） 一般式（Ａ）で表されるｐ−ヒドロキシ安息香酸エステ
ルと一般式（Ｂ）で表されるアルコールまたはアミンと
の反応により、対応する一般式（Ｃ）で表されるエステ
ルまたはアミドを合成する。
ルと一般式（Ｂ）で表されるアルコールまたはアミンと
の反応により、対応する一般式（Ｃ）で表されるエステ
ルまたはアミドを合成する。
【００３９】ｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルとアルコ
ールまたはアミンとのモル比は、（ｐ−ヒドロキシ安息
香酸エステル）：（アルコールまたはアミン）＝１：１
〜５とし、１：１〜２とすることがより好ましい。
ールまたはアミンとのモル比は、（ｐ−ヒドロキシ安息
香酸エステル）：（アルコールまたはアミン）＝１：１
〜５とし、１：１〜２とすることがより好ましい。
【００４０】溶媒を使用する場合には、極性溶媒を単独
または２種以上の混合物として使用することができる。
または２種以上の混合物として使用することができる。
【００４１】溶媒を使用しない場合には、発生するアル
コールを除去するため、減圧下で反応を行なうことが好
ましい。
コールを除去するため、減圧下で反応を行なうことが好
ましい。
【００４２】アルコールを使用する場合において、反応
時間は、５〜１００時間程度とし、１０〜５０時間程度
とすることがより好ましい。
時間は、５〜１００時間程度とし、１０〜５０時間程度
とすることがより好ましい。
【００４３】反応温度は、１００〜２００℃程度とし、
１００〜１５０℃程度とすることがより好ましい。
１００〜１５０℃程度とすることがより好ましい。
【００４４】溶媒としては、ジメチルアセトアミド、Ｎ
−メチルピロリドンなどが例示される。
−メチルピロリドンなどが例示される。
【００４５】アミンを使用する場合において、反応時間
は、５〜１００時間程度とし、１０〜５０時間程度とす
ることがより好ましい。
は、５〜１００時間程度とし、１０〜５０時間程度とす
ることがより好ましい。
【００４６】反応温度は、１００〜２００℃程度とし、
１００〜１５０℃程度とすることがより好ましい。
１００〜１５０℃程度とすることがより好ましい。
【００４７】溶媒としては、ブタノール、ヘキサノー
ル、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなど
が例示される。
ル、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなど
が例示される。
【００４８】工程（２） 一般式（Ｃ）エステルまたはアミドと一般式（Ｄ）の化
合物（Ｒ5 Ｘ）との反応、すなわち、エステルまたはア
ミドの末端で第３級アミンを構成する窒素原子に対し
て、Ｒ5 Ｘが付加する反応により、一般式（Ｅ）の第４
級アンモニウム塩を合成する。
合物（Ｒ5 Ｘ）との反応、すなわち、エステルまたはア
ミドの末端で第３級アミンを構成する窒素原子に対し
て、Ｒ5 Ｘが付加する反応により、一般式（Ｅ）の第４
級アンモニウム塩を合成する。
【００４９】Ｒ5 Ｘとエステルまたはアミドとのモル比
は、（Ｒ5 Ｘ）：（エステルまたはアミド）＝１：０．
５〜２とし、１：０．８〜１．２とすることがより好ま
しい。
は、（Ｒ5 Ｘ）：（エステルまたはアミド）＝１：０．
５〜２とし、１：０．８〜１．２とすることがより好ま
しい。
【００５０】反応時間は、１〜１０時間程度とし、２〜
５時間程度とすることがより好ましい。
５時間程度とすることがより好ましい。
【００５１】反応温度は、０〜１００℃程度とし、１０
〜８０℃程度とすることがより好ましい。
〜８０℃程度とすることがより好ましい。
【００５２】工程（３） 塩基性触媒の存在下、一般式（Ｅ）の第４級アンモニウ
ム塩と一般式（Ｆ）のフルオロアルケンとの反応、すな
わち、第４級アンモニウムの構造中に存在するフェノー
ルとフルオロアルケンとの反応により、一般式（Ｇ）の
含フッ素第４級アンモニウム塩を合成する。
ム塩と一般式（Ｆ）のフルオロアルケンとの反応、すな
わち、第４級アンモニウムの構造中に存在するフェノー
ルとフルオロアルケンとの反応により、一般式（Ｇ）の
含フッ素第４級アンモニウム塩を合成する。
【００５３】フルオロアルケンとエステルまたはアミド
とのモル比は、（フルオロアルケン）：（エステルまた
はアミド）＝１：０．８〜１．３とし、１：０．９〜
１．１とすることがより好ましい。
とのモル比は、（フルオロアルケン）：（エステルまた
はアミド）＝１：０．８〜１．３とし、１：０．９〜
１．１とすることがより好ましい。
【００５４】反応時間は、２〜２０時間程度とし、３〜
１０時間程度とすることがより好ましい。
１０時間程度とすることがより好ましい。
【００５５】反応温度は、０〜５０℃程度とし、１０〜
４０℃程度とすることがより好ましい。
４０℃程度とすることがより好ましい。
【００５６】反応溶媒は、非プロトン性極性溶媒を単独
または２種以上の混合物として使用することがより好ま
しい。
または２種以上の混合物として使用することがより好ま
しい。
【００５７】反応溶媒としては、アセトニトリル、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジン、Ｎ−メチルピ
ロリドンなどが例示される。
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジン、Ｎ−メチルピ
ロリドンなどが例示される。
【００５８】塩基性触媒としては、炭酸のアルカリ金属
塩および第３級アミンが使用される。
塩および第３級アミンが使用される。
【００５９】炭酸のアルカリ金属塩としては、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウムなどが例示される。
リウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素
カリウムなどが例示される。
【００６０】第３級アミンとしては、トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリンなどが例示される。
ン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリンなどが例示される。
【００６１】触媒使用量は、特に限定されないが、一般
式（Ｆ）のフルオロアルケンと等モル以上で使用するこ
とが好ましい。
式（Ｆ）のフルオロアルケンと等モル以上で使用するこ
とが好ましい。
【００６２】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、生成物の収
率を低下させることなく、安全にかつ経済的に含フッ素
第４級アンモニウム塩を得ることができる。また、ＳＯ
Ｃｌ2を使用しないことから、廃水処理設備を必要とせ
ず、同時に自然環境を汚染しない。
率を低下させることなく、安全にかつ経済的に含フッ素
第４級アンモニウム塩を得ることができる。また、ＳＯ
Ｃｌ2を使用しないことから、廃水処理設備を必要とせ
ず、同時に自然環境を汚染しない。
【００６３】
【実施例】以下に実施例を示す。なお、本発明は、以下
の実施例のみに限定されるものではない。
の実施例のみに限定されるものではない。
【００６４】実施例１ （工程（１））冷却管、撹拌装置を備えた５００ｍｌの
４つ口フラスコに、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチル５０
ｇ（０．３０モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンジアミ
ン６１．５ｇ（０．６０モル）を入れ、１２０℃で４５
時間反応させた。反応終点は、液体クロマトグラフィー
により反応収率９５％であることを確認した。
４つ口フラスコに、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチル５０
ｇ（０．３０モル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンジアミ
ン６１．５ｇ（０．６０モル）を入れ、１２０℃で４５
時間反応させた。反応終点は、液体クロマトグラフィー
により反応収率９５％であることを確認した。
【００６５】液体クロマトグラフィー条件 装置：Ｓｈｉｍａｚｕ ６Ａ ｓｙｓｔｅｍ カラム：Ｆｌｕｏｆｉｘ １２０Ｎ ４．６φ×１５０
ｍｍ（ネオス社製） 移動相：ＭｅＣＮ：ＤＤＳ：Ｈ2 Ｏ＝１４：６：８０ ＤＤＳ＝ドデカンスルホン酸およびバッファー物質 ｐ
Ｈ＝３．５ イオン対クロマトグラフィー用（ＭＥＲＣ
Ｋ） カラム温度：４０℃ 流速：１ｍｌ／ｍｉｎ 検出：ＵＶ２５４ｎｍ （工程（２））次に、冷却管、滴下ロート、撹拌装置を
備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、アミド化によっ
て得られたｐ−ヒドロキシ安息香酸−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルプロパン）アミド６４．５ｇ（０．２９モル）をイソ
プロピルアルコール７４ｍｌおよびメタノール７４ｍｌ
の混合溶媒に溶解させ、室温下、撹拌しながら、ヨウ化
メチル４２．８ｇ（０．３０モル）を徐々に滴下した。
その後３時間反応させ、析出した固体を濾過、乾燥さ
せ、対応する第４級化物を９５ｇ得た。
ｍｍ（ネオス社製） 移動相：ＭｅＣＮ：ＤＤＳ：Ｈ2 Ｏ＝１４：６：８０ ＤＤＳ＝ドデカンスルホン酸およびバッファー物質 ｐ
Ｈ＝３．５ イオン対クロマトグラフィー用（ＭＥＲＣ
Ｋ） カラム温度：４０℃ 流速：１ｍｌ／ｍｉｎ 検出：ＵＶ２５４ｎｍ （工程（２））次に、冷却管、滴下ロート、撹拌装置を
備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、アミド化によっ
て得られたｐ−ヒドロキシ安息香酸−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルプロパン）アミド６４．５ｇ（０．２９モル）をイソ
プロピルアルコール７４ｍｌおよびメタノール７４ｍｌ
の混合溶媒に溶解させ、室温下、撹拌しながら、ヨウ化
メチル４２．８ｇ（０．３０モル）を徐々に滴下した。
その後３時間反応させ、析出した固体を濾過、乾燥さ
せ、対応する第４級化物を９５ｇ得た。
【００６６】液体クロマトグラフィーにより純度９８％
であることを確認した。
であることを確認した。
【００６７】（工程（３））さらに、冷却管、滴下ロー
ト、撹拌装置を備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、
上記（２）の反応によって、第４級化物として得られた
ｐ−ヒドロキシ安息香酸アミド４０ｇ（０．１１モ
ル）、アセトニトリル１５０ｍｌ、炭酸カリウム１５．
２ｇ（０．１１モル）を入れ、室温下、撹拌しながらパ
ーフルオロノネン４９．６ｇ（０．１１モル）を徐々に
滴下した。その後４時間反応させ、熱時濾過し、室温に
戻すことによって結晶（生成物（１））を７６ｇ得た。
ト、撹拌装置を備えた５００ｍｌの４つ口フラスコに、
上記（２）の反応によって、第４級化物として得られた
ｐ−ヒドロキシ安息香酸アミド４０ｇ（０．１１モ
ル）、アセトニトリル１５０ｍｌ、炭酸カリウム１５．
２ｇ（０．１１モル）を入れ、室温下、撹拌しながらパ
ーフルオロノネン４９．６ｇ（０．１１モル）を徐々に
滴下した。その後４時間反応させ、熱時濾過し、室温に
戻すことによって結晶（生成物（１））を７６ｇ得た。
【００６８】実施例２〜５ 表１の化合物を使用する以外は実施例と同様の操作を行
なった。
なった。
【００６９】その結果、表２の生成物（１）〜（３）を
得た。
得た。
【００７０】表２に生成物（１）〜（３）の物性値を示
す。
す。
【００７１】
【表１】
【００７２】
【表２】
【００７３】以下に表２の生成物（１）〜（３）の1 Ｈ
−ＮＭＲデータの帰属位置を示す。
−ＮＭＲデータの帰属位置を示す。
【００７４】（化学式中の記号ａ〜ｉは、表２の生成物
にそれぞれ対応する。） 生成物（１）：
にそれぞれ対応する。） 生成物（１）：
【００７５】
【化１４】
【００７６】生成物（２）：
【００７７】
【化１５】
【００７８】生成物（３）：
【００７９】
【化１６】
フロントページの続き (72)発明者 友田 英幸 兵庫県神戸市中央区加納町６丁目２番１号 株式会社ネオス内
Claims (1)
- 【請求項１】（工程（１））一般式（Ａ）： 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、炭素数１〜５のアルキル基である〕で
表されるｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルと一般式
（Ｂ）： 【化２】 〔式中、Ｙは、ＯまたはＮＲ2 （Ｒ2 は、水素原子また
は炭素数１〜４のアルキル基である）であり、Ｒ3 およ
びＲ4 は、同一または相異なって、炭素数１〜４のアル
キル基を表し、ｍは、２〜６の整数である〕で表される
アルコールまたはアミンとを溶媒の存在下または非存在
下に反応させて一般式（Ｃ）: 【化３】 のエステルまたはアミドを合成し、（工程（２））次い
で生成した該エステルまたはアミドと一般式（Ｄ）：Ｒ
5 Ｘ〔式中、Ｒ5 は、炭素数１〜４のアルキル基を示
し、Ｘは、脱離基を示す〕で表される化合物とを反応さ
せて一般式（Ｅ）： 【化４】 で表される第４級アンモニウム塩としたのち、（工程
（３））該第４級アンモニウム塩を塩基性触媒の存在下
で、一般式（Ｆ）： 【化５】 〔式中、Ｒ6 、Ｒ7 およびＲ8 は、同一または相異なっ
て、炭素数１〜４のフッ化炭化水素基である〕で表され
るフルオロアルケンを反応させることを特徴とする一般
式（Ｇ）： 【化６】 〔式中、Ｘ、Ｙ、ｍ、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 お
よびＲ8 は、上記に同じ〕で表される含フッ素第４級ア
ンモニウム塩の製造方法。
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| JP03990294A JP3569788B2 (ja) | 1994-03-10 | 1994-03-10 | 含フッ素第４級アンモニウム塩の製造方法 |
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| JPH07247249A true JPH07247249A (ja) | 1995-09-26 |
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| JP (1) | JP3569788B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010214902A (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-30 | Ricoh Co Ltd | 前処理液、カートリッジ、インクジェット記録装置及び記録方法、インク記録物 |
| CN102921345A (zh) * | 2012-10-11 | 2013-02-13 | 浙江工业大学 | 一种新型枝杈型含氟季铵盐型阳离子表面活性剂的制备方法及其用途 |
| CN102924317A (zh) * | 2012-10-11 | 2013-02-13 | 浙江工业大学 | 一种枝杈型含氟酰胺基季铵盐型阳离子表面活性剂的制备方法及其用途 |
| CN103288672A (zh) * | 2013-03-15 | 2013-09-11 | 山东大学（威海） | 一种树枝状季铵盐表面活性剂的制备方法 |
-
1994
- 1994-03-10 JP JP03990294A patent/JP3569788B2/ja not_active Expired - Lifetime
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