JPH07246800A

JPH07246800A - 転写箔

Info

Publication number: JPH07246800A
Application number: JP3943894A
Authority: JP
Inventors: Kenjiro Kuroda; 健二郎黒田; Yoshiaki Shiina; 義明椎名
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 1994-03-10
Filing date: 1994-03-10
Publication date: 1995-09-26

Abstract

(57)【要約】【目的】透明タイプのニューオパール転写箔およびエン
ボス層の下に光輝な層を持たなくてもエンボス模様を表
現できる転写箔を提供する。【構成】本発明は感熱転写絵付けに使用する転写箔に於
いて、ベースフィルム上に、少なくとも剥離層、エンボ
ス層、蒸着層、接着層を順次積層した構成で、該エンボ
ス層に隣合う単位模様の条模様の向きが異なるように複
数の単位模様を組み合わせてなる凸模様（以下ニューオ
パール模様という）を設け、蒸着層に高屈折率を有する
透明蒸着層を設けた転写箔と、ベースフィルム上に、少
なくとも剥離層、エンボス層、蒸着層、隠蔽層、接着層
を順次積層した構成で、該エンボス層にニューオパール
模様を設け、蒸着層に高屈折率を有する転写箔である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は感熱転写絵付けに使用す
る転写箔に関するものであり、被転写基材の表面に立体
感と光沢変化を有する絵柄を設けることを可能にした転
写箔（以下ニューオパール転写箔と呼ぶ）に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来の転写箔によって加飾された被転写
基材の表面は立体感、および光沢変化に乏しいものが多
く、その中で部分的にパターン状に艶を変化させて多少
の光沢変化をさせたものが存在するが、単純な変化で、
従来のものとあまり大差なく意匠性にかけていた。

【０００３】また、ニューオパール感をもつ転写箔は、
存在するが、エンボス層の下にアルミ蒸着層やパール顔
料等の光輝な層がないとその意匠性は異常に損なわれ、
透明タイプでそのエンボス模様を表現できるものは存在
しなかった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑みなされたものであり、透明タイプのニュー
オパール転写箔およびエンボス層の下に光輝な層を持た
なくてもエンボス模様を表現できる転写箔を提供するこ
とを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は感熱転写絵付け
に使用する転写箔に於いて、ベースフィルム上に、少な
くとも剥離層、エンボス層、蒸着層、接着層を順次積層
した構成（以後タイプＩ）で、該エンボス層に隣合う単
位模様の条模様の向きが異なるように複数の単位模様を
組み合わせてなる凸模様（以下ニューオパール模様と呼
ぶ）を設け、蒸着層に高屈折率を有する透明蒸着層を設
けた転写箔と、ベースフィルム上に、少なくとも剥離
層、エンボス層、蒸着層、隠蔽層、接着層を順次積層し
た構成（タイプII）で、該エンボス層にニューオパール
模様を設け、蒸着層に高屈折率を有する転写箔である。

【０００６】本発明は、上記の構成の蒸着層に酸化チタ
ン、酸化ジルコニュ−ム、酸化セレン、硫化亜鉛、酸化
亜鉛、酸化インジューム、酸化タンタルの１種または数
種を積層して層を作ることにより、蒸着層下に光輝性反
射層を使用すること無く、また、被転写基材にもこだわ
ること無く、ニューオパール感を出せる転写箔を提供で
きるようにしたものである。上記透明蒸着層は、エンボ
ス層より高屈折率で透明であり、かつエンボス模様をよ
く表現できる。

【０００７】また、上記の基本構成に、以下のような構
成を追加した実施態様がある。タイプＩでは、前記剥離層と該エンボス層との間にエンボス補助層を
設けた転写箔。前記剥離層と該エンボス層または、前記剥離層と前記
エンボス補助層、前記エンボス層と前記エンボス補助
層、前記エンボス層と前記蒸着層、前記蒸着層と前記接
着層の間のいづれか又は、複数間に絵柄層を設けた転写
箔。前記ベースフィルムと前記剥離層の間にベースフィル
ムより剥離しない離型層を設けた転写箔。タイプIIでは、前記剥離層と前記エンボス層との間にエンボス補助層
を設けた転写箔。前記剥離層と前記エンボス層または、前記剥離層と前
記エンボス補助層、前記エンボス層と前記エンボス補助
層、前記エンボス層と前記蒸着層とのいづれか又は、複
数間に絵柄層を設けた転写箔。前記ベースフィルムと前記剥離層の間に前記ベースフ
ィルムより剥離しない離型層を設けた転写箔。

【０００８】本発明を図面を用いて詳細に説明する。図
１を用いて説明すれば、タイプＩの場合、ベースフィル
ム（１）より剥離層（２）、エンボス層（３）、蒸着層
（４）、接着層（５）を順次形成し転写箔（６）とす
る。

【０００９】ベースフィルム（１）は通常転写箔に使用
するものでよく、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート等
の厚み１２〜５０ミクロン程度のシートを使用する。

【００１０】剥離層（２）としては、ビヒクルとしては
セルロース誘導体、スチレン樹脂、スチレン共重合樹
脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ロジンエステル樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩ビ・酢ビ
共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチ
ラール樹脂、ポリアミド樹脂の１種又は２種以上の混合
物を用いる。通常は透明であるが、透明の色をつけるこ
ともある。

【００１１】エンボス層（３）は、ニューオパール模様
をエンボスし、且つエンボス版への付着防止を目的とし
た層で、熱エンボス可能である層である。使用する樹脂
としては、２液反応型ウレタン樹脂、塩ビ酢ビ共重合体
等を主成分とし塗工適性を上げるためにセルロース誘導
体を使用することもある。またこの層は透明または、透
明色をつける。

【００１２】蒸着層（４）としては酸化チタン、酸化ジ
ルコニュ−ム、酸化セレン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化
インジューム、酸化タンタル等の透明高屈折率物質の１
種または数種を積層して層を作ることにより、エンボス
層下に光輝性反射層（アルミ蒸着等の金属隠蔽層、アル
ミ、パール顔料等を使用した隠蔽層を使用すること無
く、ニューオパール感を表現できる。

【００１３】接着層（５）としてはセルロース誘導体、
スチレン樹脂、スチレン共重合樹脂、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、ロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、ポリ塩化ビニル、塩ビ・酢ビ共重合体、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリオレフィン樹脂、塩素化ポリオレフィン樹
脂の１種又は２種以上の混合物をビヒクルとして用い、
他に色剤等を含む場合もある。被転写基材は、この接着
層の組成を変えることにより種々のものに適用できる。
たとえば、プラスチック基材、紙基材、人工皮革・合成
皮革等である。

【００１４】本発明は、図３に示すように、剥離層
（２）とエンボス層（３）の間にエンボス補助層（７）
を設けることがある。エンボス補助層（７）としてはセ
ルロース誘導体、スチレン樹脂、スチレン共重合樹脂、
アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ロジンエステル樹脂、
ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩ビ・酢ビ共重
合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラー
ル樹脂、ポリアミド樹脂の１種又は２種以上の混合物を
用いる。この層を設けることによりニューオパール模様
をより低温・低圧にてエンボスで形成することが可能と
なる。

【００１５】また、剥離層（２）とエンボス層（３）ま
たは、剥離層（２）とエンボス補助層（７）、エンボス
層（３）とエンボス補助層（７）、エンボス層（３）と
蒸着層（４）、蒸着層（４）と接着層（５）の間のいづ
れか又は、複数間にに絵柄層を設けることがある。絵柄
層をニューオパール模様と同調させることにより、同調
しない時と較べて、より立体感を得ることができるし、
数層に絵柄層を設けることにより、変わった風合いをだ
すことができる。絵柄層のビヒクルとしてはセルロース
誘導体、スチレン樹脂、スチレン共重合樹脂、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、ロジンエステル樹脂、ポリ酢酸
ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩ビ・酢ビ共重合体、ポ
リエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂、
ポリアミド樹脂の１種又は２種以上の混合物を用いる。
他に色剤を含む。通常グラビア印刷法により諧調性のあ
る絵柄を印刷することが可能である。

【００１６】次にタイプIIを図２を用いて説明すれば、
ベースフィルム（１１）より剥離層（１２）、エンボス
層（１３）、蒸着層（１４）、隠蔽層（１５）、接着層
（１６）を順次形成し転写箔（１７）とする。

【００１７】ベースフィルム（１１）、剥離層（１
２）、エンボス層（１３）、蒸着層（１４）、接着層
（１６）はタイプＩと同様のものを使用する。

【００１８】隠ぺい層（１５）を被転写基材の表面色を
隠すため設けることがある。この層に、金属隠蔽蒸着
層、銀ペーストインキ、パールインキ等で作られたの光
輝性反射層を有する場合は問題ないが、通常の顔料、例
えば、白、黒の色を持ってきた場合、エンボス感は著し
く失われる。表現として、このような色が求められた場
合、現状ではなす術を知らなかったが、本発明は透明蒸
着層を設けることでこの点を解決した。隠蔽層のビヒク
ルとしてはセルロース誘導体、スチレン樹脂、スチレン
共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ロジンエ
ステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩
ビ・酢ビ共重合体、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹
脂、ブチラール樹脂、ポリアミド樹脂の１種又は２種以
上の混合物を用いる。

【００１９】タイプIIの場合も図４に示すように、剥離
層（１２）とエンボス層（１３）の間にエンボス補助層
（１８）を設けることがある。エンボス補助層（１８）
としてはタイプＩと同じものである。

【００２０】剥離層（１２）とエンボス層（１３）また
は、剥離層（１２）とエンボス補助層（１８）、エンボ
ス層（１３）とエンボス補助層（１８）、エンボス層
（１３）と蒸着層（１４）との間のいづれか又は、複数
間に絵柄層を設けることがある。絵柄層をニューオパー
ル模様と同調させることにより、同調しない時と較べ
て、より立体感を得ることができるし、数層に絵柄層を
設けることにより、変わった風合いをだすことができ
る。絵柄層のビヒクルとしてはセルロース誘導体、スチ
レン樹脂、スチレン共重合樹脂、アクリル樹脂、メタク
リル樹脂、ロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
ポリ塩化ビニル、塩ビ・酢ビ共重合体、ポリエステル樹
脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂、ポリアミド樹
脂の１種又は２種以上の混合物を用いる。他に色剤を含
む。通常グラビア印刷法により諧調性のある絵柄を印刷
することが可能である。

【００２１】また、タイプＩ、IIともベースフィルム
（１）、（又は（１１））と剥離層（２）、（又は（１
２））の間に離型層を設ける場合がある。その使用樹脂
としては、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アクリルポリ
オール、ウレタン樹脂の１種または２種以上を混合し、
硬化させたものを使用する。これは、基材より剥離が重
い場合にこの方法をとる。また、表面をマットにするた
めにシリカ等の微粒子等が入れることがある。

【００２２】また、表面をマットにする他の方法とし
て、ベースフィルム（１）（又は（１１））にマット剤
練り込みフィルムを使用したり、サンドブラスト加工し
たフィルムを使用する方法がある。

【００２３】

【作用】ニューオパール感をもったエンボス層の下層に
エンボス層より高屈折率（２以上）の透明蒸着層を設け
ることにより、透明タイプのニューオパール転写箔を得
ることができ、被転写基材の表面色に関係なくエンボス
感を得ることができる。また、被転写基材の色目を隠す
ために隠蔽層を白色等で行いたい場合、エンボス層の下
層に白の隠蔽層を設けると従来の構成ではエンボス感が
全く失われていたが、この蒸着層を設けると良好なニュ
ーオパールエンボス感を得ることができる。また、エン
ボス補助層を設けることにより低温・低圧にてエンボス
加工を行うことができるようになる。また、絵柄層をエ
ンボスと同調させたり、各層の間に数カ所設けたりする
ことで、いままでににない意匠性を得ることができる。

【００２４】

【実施例】＜実施例１＞厚さ２５ミクロンのポリエステルフィルム
に（表１）の組成物を１ミクロン、（表２）の組成物を
２ミクロン順次積層した後、その積層面をニューオパー
ル模様のエンボス版にて１５０℃にてエンボスを施した
後、硫化亜鉛をを５００オングストロームの厚みで蒸着
し、その上に（表３）の組成物を１ミクロン塗工し転写
箔を作成した。この転写箔をロール転写機にて温度２２
０℃でポリスチレン被転写基材に転写したところ被転写
基材に光沢変化に富んだ表面を施す事ができた。

【００２５】＜実施例２＞厚さ２５ミクロンのポリエス
テルフィルムに（表１）の組成物を１ミクロン、（表
４）の組成物を４ミクロン、（表２）の組成物を２ミク
ロン積層し、その積層面をニューオパール模様のエンボ
ス版にて１２０℃にてエンボスを施した後、硫化亜鉛を
５００オングストローム蒸着した後、（表３）の組成物
を塗工し転写箔を作成した。この転写箔をロール転写機
にて温度２２０℃でポリスチレン被転写基材に転写した
ところ被転写基材に立体感のある光沢変化に富んだ表面
を施す事ができた。

【００２６】＜実施例３＞厚さ２５ミクロンのポリエス
テルフィルムに（表１）の組成物を１ミクロン、（表
４）の組成物を４ミクロン、（表５）の組成物を絵柄
で、（表２）の組成物を２ミクロン積層し、その積層面
をある程度前記絵柄とニューオパール模様が同調したエ
ンボス版にて１２０℃にてエンボスを施した後、硫化亜
鉛を５００オングストローム蒸着した後、（表３）の組
成物を塗工し転写（表３）の組成物を塗工し転写箔を作
成した。この転写箔をロール転写機にて温度２２０℃で
ポリスチレン被転写基材に転写したところ被転写基材に
さらに立体感のある光沢変化に富んだ表面を施す事がで
きた。

【００２７】＜実施例４＞厚さ２５ミクロンのポリエス
テルフィルムに（表１）の組成物を１ミクロン、（表
２）の組成物を２ミクロン順次積層した後、その積層面
をニューオパール模様のエンボス版にて１５０℃にてエ
ンボスを施した後、硫化亜鉛をを５００オングストロー
ムの厚みで蒸着し、その上に（表６）の組成物を８ミク
ロン、（表３）の組成物を１ミクロン塗工し転写箔を作
成した。この転写箔をロール転写機にて温度２２０℃で
ポリスチレン被転写基材に転写したところ被転写基材に
光沢変化に富んだ表面を施す事ができたし、被転写基材
の色も隠すことができた。

【００２８】＜実施例５＞厚さ２５ミクロンのポリエス
テルフィルムに（表１）の組成物を１ミクロン、（表
４）の組成物を４ミクロン、（表２）の組成物を２ミク
ロン積層し、その積層面をニューオパール模様のエンボ
ス版にて１２０℃にてエンボスを施した後、硫化亜鉛を
５００オングストローム蒸着した後、（表６）の組成物
を８ミクロン、（表３）の組成物を塗工し転写箔を作成
した。この転写箔をロール転写機にて温度２２０℃でポ
リスチレン被転写基材に転写したところ被転写基材に立
体感のある光沢変化に富んだ表面を施す事ができたし、
被転写基材の色も隠すことができた。

【００２９】＜実施例６＞厚さ２５ミクロンのポリエス
テルフィルムに（表１）の組成物を１ミクロン、（表
４）の組成物を４ミクロン、（表５）（表７）（表８）
の組成物を絵柄で、（表２）の組成物を２ミクロン積層
し、その積層面をある程度前記絵柄とニューオパール模
様が同調したエンボス版にて１２０℃にてエンボスを施
した後、硫化亜鉛を５００オングストローム蒸着した
後、（表３）の組成物を塗工し転写（表３）の組成物を
塗工し転写箔を作成した。この転写箔をロール転写機に
て温度２２０℃でポリスチレン被転写基材に転写したと
ころ被転写基材にさらに立体感のある光沢変化に富んだ
表面を施す事ができた。

【００３０】＜実施例７＞厚さ２５ミクロンのポリエス
テルフィルムに（表９）の組成物を１ミクロン、（表
１）の組成物を１ミクロン、（表２）の組成物を２ミク
ロン順次積層した後、その積層面をニューオパール模様
のエンボス版にて１５０℃にてエンボスを施した後、硫
化亜鉛をを５００オングストロームの厚みで蒸着し、そ
の上に（表３）の組成物を１ミクロン塗工し転写箔を作
成した。この転写箔をロール転写機にて温度２２０℃で
ポリスチレン被転写基材に転写したところ被転写基材に
光沢変化に富んだ表面を施す事ができた。

【００３１】

【表１】

【００３２】

【表２】

【００３３】

【表３】

【００３４】

【表４】

【００３５】

【表５】

【００３６】

【表６】

【００３７】

【表７】

【００３８】

【表８】

【００３９】

【表９】

【００４０】

【発明の効果】本発明の転写箔を用いれば、被転写基材
の表面にオパールの様に見る角度により色が変わる、立
体感のあるまた、光沢変化に富んだ絵柄を容易に設ける
ことができる。

【００４１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す断面説明図である。

【図２】本発明の一実施例を示す断面説明図である。

【図３】本発明の別の実施例を示す断面説明図である。

【図４】本発明の別の実施例を示す断面説明図である。

【符号の説明】

１、１１…ベースフィルム２、１２…剥離層３、１
３…エンボス層４、１４…透明蒸着層５、１６…接着層６、１７…
転写箔７、１８…エンボス補助層層１５…隠蔽層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感熱転写絵付けに使用する転写箔に於い
て、ベースフィルム上に、少なくとも剥離層、エンボス
層、蒸着層、接着層を順次積層した構成で、該エンボス
層に隣合う単位模様の条模様の向きが異なるように複数
の単位模様を組み合わせてなる凸模様を設け、該蒸着層
に高屈折率の透明蒸着層を有することを特徴とする転写
箔。
【請求項２】前記剥離層と前記エンボス層との間にエン
ボス補助層を設けたことを特徴とする請求項１記載の転
写箔。
【請求項３】前記剥離層と前記エンボス層または、前記
剥離層と前記エンボス補助層、前記エンボス層と前記エ
ンボス補助層、前記エンボス層と前記蒸着層、前記蒸着
層と前記接着層の間のいづれか又は、複数間に絵柄層を
設けたことを特徴とする請求項１乃至請求項２記載の転
写箔。
【請求項４】前記ベースフィルムと前記剥離層の間にベ
ースフィルムより剥離しない離型層を設けたことを特徴
とする請求項１乃至請求項３記載の転写箔。
【請求項５】前記蒸着層に酸化チタン、酸化ジルコニュ
−ム、酸化セレン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化インジュ
ーム、酸化タンタルを１種または数種を積層する事を特
徴とする請求項１乃至請求項４記載の転写箔。
【請求項６】感熱転写絵付けに使用する転写箔に於い
て、ベースフィルム上に、少なくとも剥離層、エンボス
層、蒸着層、隠蔽層、接着層を順次積層した構成で、該
エンボス層に隣合う単位模様の条模様の向きが異なるよ
うに複数の単位模様を組み合わせてなる凸模様を設け、
該蒸着層に高屈折率の透明蒸着層を有することを特徴と
する転写箔。
【請求項７】前記剥離層と前記エンボス層との間にエン
ボス補助層を設けたことを特徴とする請求項６記載の転
写箔。
【請求項８】前記剥離層と前記エンボス層または、前記
剥離層と前記エンボス補助層、前記エンボス層と前記エ
ンボス補助層、前記エンボス層と前記蒸着層とのいづれ
か又は、複数間に絵柄層を設けたことを特徴とする請求
項６乃至請求項７記載の転写箔。
【請求項９】前記ベースフィルムと前記離層の間に前記
ベースフィルムより剥離しない離型層を設けたことを特
徴とする請求項６乃至請求項８記載の転写箔。
【請求項１０】前記蒸着層に酸化チタン、酸化ジルコニ
ュ−ム、酸化セレン、硫化亜鉛、酸化亜鉛、酸化インジ
ューム、酸化タンタルを１種または数種を積層する事を
特徴とする請求項６乃至請求項９記載の転写箔。