JPH07233176A - 含ケイ素５環性化合物、含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法 - Google Patents
含ケイ素５環性化合物、含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法Info
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- JPH07233176A JPH07233176A JP6324906A JP32490694A JPH07233176A JP H07233176 A JPH07233176 A JP H07233176A JP 6324906 A JP6324906 A JP 6324906A JP 32490694 A JP32490694 A JP 32490694A JP H07233176 A JPH07233176 A JP H07233176A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規な含ケイ素５環性化合物、および耐燃焼
性材料などとして好適な、完全なラダー構造を持つ含ケ
イ素ラダーポリマーを提供する。 【構成】 （イ）１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼ
ン類（Ｉ）と環状ジイン類（II）とを、（ロ）１，２，
４，５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類（III
）と環状ジイン類（II）とを、それぞれ白金化合物の
存在下に反応させる。（イ）の方法により含ケイ素５環
性化合物を、（ロ）の方法により完全なラダー構造を有
する含ケイ素ラダーポリマーを効率的に製造する。
性材料などとして好適な、完全なラダー構造を持つ含ケ
イ素ラダーポリマーを提供する。 【構成】 （イ）１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼ
ン類（Ｉ）と環状ジイン類（II）とを、（ロ）１，２，
４，５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類（III
）と環状ジイン類（II）とを、それぞれ白金化合物の
存在下に反応させる。（イ）の方法により含ケイ素５環
性化合物を、（ロ）の方法により完全なラダー構造を有
する含ケイ素ラダーポリマーを効率的に製造する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐燃焼性材料、耐熱性
材料、導電性材料等の原料として有用な含ケイ素５環性
化合物の製造方法、およびそれにより得られる新規な含
ケイ素５環性化合物に関するものである。また本発明
は、耐燃焼性材料、耐熱性材料、導電性材料および非線
形光学材料としての用途が見込まれる、完全なラダー構
造を有する含ケイ素ラダーポリマー類の製造方法、およ
びそれにより得られる新規な含ケイ素ラダーポリマー類
に関するものである。
材料、導電性材料等の原料として有用な含ケイ素５環性
化合物の製造方法、およびそれにより得られる新規な含
ケイ素５環性化合物に関するものである。また本発明
は、耐燃焼性材料、耐熱性材料、導電性材料および非線
形光学材料としての用途が見込まれる、完全なラダー構
造を有する含ケイ素ラダーポリマー類の製造方法、およ
びそれにより得られる新規な含ケイ素ラダーポリマー類
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、一般式
【０００３】
【化１３】
【０００４】（式中、R1は１価の基であり、R2およびR3
は２価の基である。）で表わされる含ケイ素５環性化合
物とその製造方法は知られていない。従来のポリマーは
主鎖が１本鎖で構成されているのに対し、ラダーポリマ
ーは主鎖が２本鎖で構成されることから耐熱性、機械的
強度及び耐薬品性に優れることが以前から期待されてい
た。また、近年共役型ラダーポリマーは電子材料、非線
形光学材料としても注目されている。しかし、従来の技
術では完全なラダー構造を有するポリマーの製造は困難
であった。ごく最近になり、ディールス・アルダー反応
等を利用した方法がいくつか報告されている（例えば、
Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，３，２８２（１９９１）；Ｍａ
ｃｌｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２６，５５２８（１９９
３））。
は２価の基である。）で表わされる含ケイ素５環性化合
物とその製造方法は知られていない。従来のポリマーは
主鎖が１本鎖で構成されているのに対し、ラダーポリマ
ーは主鎖が２本鎖で構成されることから耐熱性、機械的
強度及び耐薬品性に優れることが以前から期待されてい
た。また、近年共役型ラダーポリマーは電子材料、非線
形光学材料としても注目されている。しかし、従来の技
術では完全なラダー構造を有するポリマーの製造は困難
であった。ごく最近になり、ディールス・アルダー反応
等を利用した方法がいくつか報告されている（例えば、
Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，３，２８２（１９９１）；Ｍａ
ｃｌｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２６，５５２８（１９９
３））。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、容易に入手
可能な原料である１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼ
ン類と環状ジイン類とを、温和な条件で脱水素的に反応
させることによる、含ケイ素５環性化合物の効率的製造
方法、およびそれにより得られる新規な含ケイ素５環性
化合物を提供することをその目的とする。また本発明
は、容易に入手可能な原料である１，２，４，５−テト
ラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイン類と
を、温和な条件で脱水素的に反応させることによる、完
全なラダー構造を有する含ケイ素ラダーポリマー類の効
率的製造方法、およびそれにより得られる新規な含ケイ
素ラダーポリマー類を提供することをその目的とする。
可能な原料である１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼ
ン類と環状ジイン類とを、温和な条件で脱水素的に反応
させることによる、含ケイ素５環性化合物の効率的製造
方法、およびそれにより得られる新規な含ケイ素５環性
化合物を提供することをその目的とする。また本発明
は、容易に入手可能な原料である１，２，４，５−テト
ラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイン類と
を、温和な条件で脱水素的に反応させることによる、完
全なラダー構造を有する含ケイ素ラダーポリマー類の効
率的製造方法、およびそれにより得られる新規な含ケイ
素ラダーポリマー類を提供することをその目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の１，２−ビス
（ヒドロシリル）ベンゼン類と特定の環状ジイン類と
が、白金化合物の存在下、温和な条件下に迅速に反応
し、含ケイ素５環性化合物を与えるという事実を見い出
した。さらに、特定の１，２，４，５−テトラキス（ヒ
ドロシリル）ベンゼン類と特定の環状ジイン類が、白金
化合物の存在下、温和な条件下に迅速に反応し、完全な
ラダー構造を有する含ケイ素ラダーポリマー類を与える
という事実を見い出した。そしてこれらの発見に基づい
て、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、 （１）（ａ）一般式（Ｉ）
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定の１，２−ビス
（ヒドロシリル）ベンゼン類と特定の環状ジイン類と
が、白金化合物の存在下、温和な条件下に迅速に反応
し、含ケイ素５環性化合物を与えるという事実を見い出
した。さらに、特定の１，２，４，５−テトラキス（ヒ
ドロシリル）ベンゼン類と特定の環状ジイン類が、白金
化合物の存在下、温和な条件下に迅速に反応し、完全な
ラダー構造を有する含ケイ素ラダーポリマー類を与える
という事実を見い出した。そしてこれらの発見に基づい
て、本発明を完成させるに至った。すなわち本発明は、 （１）（ａ）一般式（Ｉ）
【０００７】
【化１４】
【０００８】（式中、R1は１価の基である）で表わされ
る１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類と（ｂ）一
般式（II）
る１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類と（ｂ）一
般式（II）
【０００９】
【化１５】
【００１０】（式中、R2およびR3は２価の基である。）
で表わされる環状ジイン類とを、（ｃ）白金化合物の存
在下に反応させることを特徴とする、一般式（III ）
で表わされる環状ジイン類とを、（ｃ）白金化合物の存
在下に反応させることを特徴とする、一般式（III ）
【００１１】
【化１６】
【００１２】（式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と
同じ意味をもつ。）で表わされる含ケイ素５環性化合物
の製造方法（以下、第１発明という）、および （２）（ａ）一般式（IV）
同じ意味をもつ。）で表わされる含ケイ素５環性化合物
の製造方法（以下、第１発明という）、および （２）（ａ）一般式（IV）
【００１３】
【化１７】
【００１４】（式中、R4およびR5は１価の基である。）
で表わされる１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシリ
ル）ベンゼン類と（ｂ）一般式（II）
で表わされる１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシリ
ル）ベンゼン類と（ｂ）一般式（II）
【００１５】
【化１８】
【００１６】（式中、R2およびR3はそれぞれ前記と同じ
意味をもつ。）で表わされる環状ジイン類とを、（ｃ）
白金化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一
般式（Ｖ）
意味をもつ。）で表わされる環状ジイン類とを、（ｃ）
白金化合物の存在下に反応させることを特徴とする、一
般式（Ｖ）
【００１７】
【化１９】
【００１８】（式中、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ前
記と同じ意味をもち、ｎは正の整数である。）で表わさ
れる含ケイ素ラダーポリマー類の製造方法（以下、第２
発明という）に関するものである。また、前記の第２発
明において環状ジイン類として３環性の環状ジイン類を
用いることができ、同様に含ケイ素ラダーポリマーを製
造することができる。すなわち、本発明は、 （３）（ａ）一般式（IV）
記と同じ意味をもち、ｎは正の整数である。）で表わさ
れる含ケイ素ラダーポリマー類の製造方法（以下、第２
発明という）に関するものである。また、前記の第２発
明において環状ジイン類として３環性の環状ジイン類を
用いることができ、同様に含ケイ素ラダーポリマーを製
造することができる。すなわち、本発明は、 （３）（ａ）一般式（IV）
【００１９】
【化２０】
【００２０】（式中、R4およびR5はそれぞれ前記と同じ
意味をもつ。）で表わされる１，２，４，５−テトラキ
ス（ヒドロシリル）ベンゼン類と（ｂ）一般式（VI）
意味をもつ。）で表わされる１，２，４，５−テトラキ
ス（ヒドロシリル）ベンゼン類と（ｂ）一般式（VI）
【００２１】
【化２１】
【００２２】（式中、R6、R7、R8およびR9は２価の基で
あり、R10 は１価の基である。）で表わされる３環性の
環状ジイン類とを、（ｃ）白金化合物の存在下に反応さ
せることを特徴とする、一般式（VII ）
あり、R10 は１価の基である。）で表わされる３環性の
環状ジイン類とを、（ｃ）白金化合物の存在下に反応さ
せることを特徴とする、一般式（VII ）
【００２３】
【化２２】
【００２４】（式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR
10 はそれぞれ前記と同じ意味をもち、ｍは正の整数で
ある。）で表わされる含ケイ素ラダーポリマー類の製造
方法（以下、第３発明という）に関するものである。
10 はそれぞれ前記と同じ意味をもち、ｍは正の整数で
ある。）で表わされる含ケイ素ラダーポリマー類の製造
方法（以下、第３発明という）に関するものである。
【００２５】また本発明は前記一般式（III ）、（Ｖ）
または（VII ）で表わされる化合物に関する。上記の本
発明（第１発明、第２発明および第３発明）の製造方法
において、反応は次式に従って進むものと考えられる。
または（VII ）で表わされる化合物に関する。上記の本
発明（第１発明、第２発明および第３発明）の製造方法
において、反応は次式に従って進むものと考えられる。
【００２６】
【化２３】
【００２７】（式中、 R1 、R2およびR3はそれぞれ前記
と同じ意味をもつ。）、
と同じ意味をもつ。）、
【００２８】
【化２４】
【００２９】（式中、 R2 、R3、R4、R5およびn はそれ
ぞれ前記と同じ意味をもつ。）、または
ぞれ前記と同じ意味をもつ。）、または
【００３０】
【化２５】
【００３１】（式中、 R4 、R5、R6、R7、R8、R9、R10
およびｍはそれぞれ前記と同じ意味をもつ。）。
およびｍはそれぞれ前記と同じ意味をもつ。）。
【００３２】上記反応式中、ｎは正の整数であり、好ま
しくは１〜２００００、さらに好ましくは３〜２０００
である。またｍは正の整数であり、好ましくは１〜２０
０００、さらに好ましくは５〜２０００である。
しくは１〜２００００、さらに好ましくは３〜２０００
である。またｍは正の整数であり、好ましくは１〜２０
０００、さらに好ましくは５〜２０００である。
【００３３】本発明の第１発明で用いる１，２−ビス
（ヒドロシリル）ベンゼン類は一般式（Ｉ）
（ヒドロシリル）ベンゼン類は一般式（Ｉ）
【００３４】
【化２６】
【００３５】で表わされる。式中 R1 は１価の基であ
り、例えば、炭素数１〜１２のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。この
ような置換基を有する一般式（Ｉ）で表わされる１，２
−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類を例示すると、１，
２−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、１，２−ビス
（ジエチルシリル）ベンゼン、１，２−ビス（ジヘキシ
ルシリル）ベンゼン、１，２−ビス（ジフェニルシリ
ル）ベンゼン、１，２−ビス（ジベンジルシリル）ベン
ゼン、１，２−ビス（ジメトキシシリル）ベンゼン、
１，２−ビス（ジイソプロポキシシリル）ベンゼン等が
挙げられる。
り、例えば、炭素数１〜１２のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基等が挙げられる。この
ような置換基を有する一般式（Ｉ）で表わされる１，２
−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類を例示すると、１，
２−ビス（ジメチルシリル）ベンゼン、１，２−ビス
（ジエチルシリル）ベンゼン、１，２−ビス（ジヘキシ
ルシリル）ベンゼン、１，２−ビス（ジフェニルシリ
ル）ベンゼン、１，２−ビス（ジベンジルシリル）ベン
ゼン、１，２−ビス（ジメトキシシリル）ベンゼン、
１，２−ビス（ジイソプロポキシシリル）ベンゼン等が
挙げられる。
【００３６】本発明の第１発明および第２発明で用いる
環状ジイン類は一般式（II）
環状ジイン類は一般式（II）
【００３７】
【化２７】
【００３８】で表わされる。式中 R2 およびR3は２価の
基であり、例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラ
ルキレン基、-CH2OCH2- 、-CH2CH2OCH2CH2- 、-CH2OCH2
CH2OCH2-、-CH2OCH2CH2OCH2CH2OCH2- 、-CH2NRCH2-、-
(CH3)2Si-O-Si(CH3)2- 、１，１’−フェロセニレン基
等が挙げられる。これらの置換基を有し一般式（II）で
表される環状ジイン類を例示すると、１，８−シクロテ
トラデカジイン、１，８−シクロペンタデカジイン、
１，５−シクロウンデカジイン、オキサシクロテトラデ
カ−４，１１−ジイン、１，６−ジイソプロピル−１，
６−ジアザシクロデカ−３，８−ジイン、５，６，１
１，１２−テトラデヒドロジベンゾ［ａ，ｅ］シクロオ
クテン、２，２，５，５，７，７，１０，１０−オクタ
メチル−１，６−ジオキサ−２，５，７，１０−テトラ
シラシクロデカ−３，８−ジイン、［２．２］フェロセ
ノファン−１，１３−ジイン、７，８，１２，１３−テ
トラデヒドロ−９Ｈ，１１Ｈ−ナフト［１，８−ｅｆ］
オキセシン等が挙げられる。本発明の第２発明および第
３発明で用いる１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシ
リル）ベンゼン類は一般式（IV）
基であり、例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラ
ルキレン基、-CH2OCH2- 、-CH2CH2OCH2CH2- 、-CH2OCH2
CH2OCH2-、-CH2OCH2CH2OCH2CH2OCH2- 、-CH2NRCH2-、-
(CH3)2Si-O-Si(CH3)2- 、１，１’−フェロセニレン基
等が挙げられる。これらの置換基を有し一般式（II）で
表される環状ジイン類を例示すると、１，８−シクロテ
トラデカジイン、１，８−シクロペンタデカジイン、
１，５−シクロウンデカジイン、オキサシクロテトラデ
カ−４，１１−ジイン、１，６−ジイソプロピル−１，
６−ジアザシクロデカ−３，８−ジイン、５，６，１
１，１２−テトラデヒドロジベンゾ［ａ，ｅ］シクロオ
クテン、２，２，５，５，７，７，１０，１０−オクタ
メチル−１，６−ジオキサ−２，５，７，１０−テトラ
シラシクロデカ−３，８−ジイン、［２．２］フェロセ
ノファン−１，１３−ジイン、７，８，１２，１３−テ
トラデヒドロ−９Ｈ，１１Ｈ−ナフト［１，８−ｅｆ］
オキセシン等が挙げられる。本発明の第２発明および第
３発明で用いる１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシ
リル）ベンゼン類は一般式（IV）
【００３９】
【化２８】
【００４０】で表わされる。式中 R4 およびR5は１価の
基であり、R4としては例えば、炭素数１〜１２のアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、R5とし
ては水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アルコキシメチル
基、およびアルケニル基等が挙げられる。これらの置換
基を有し一般式（IV）で表される１，２，４，５−テト
ラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類を例示すると、１，
２，４，５−テトラキス（ジメチルシリル）ベンゼン、
１，２，４，５−テトラキス（ジエチルシリル）ベンゼ
ン、１，２，４，５−テトラキス（ジヘキシルシリル）
ベンゼン、３，６−ジメチル−１，２，４，５−テトラ
キス（ジメチルシリル）ベンゼン、３，６−ジオクチル
−１，２，４，５−テトラキス（ジメチルシリル）ベン
ゼン、３，６−ジオクチルオキシ−１，２，４，５−テ
トラキス（ジメチルシリル）ベンゼン、３，６−ビス
［（オクチルオキシ）メチル］−１，２，４，５−テト
ラキス（ジメチルシリル）ベンゼン等が挙げられる。
基であり、R4としては例えば、炭素数１〜１２のアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、R5とし
ては水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルコキシ基、アルコキシメチル
基、およびアルケニル基等が挙げられる。これらの置換
基を有し一般式（IV）で表される１，２，４，５−テト
ラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類を例示すると、１，
２，４，５−テトラキス（ジメチルシリル）ベンゼン、
１，２，４，５−テトラキス（ジエチルシリル）ベンゼ
ン、１，２，４，５−テトラキス（ジヘキシルシリル）
ベンゼン、３，６−ジメチル−１，２，４，５−テトラ
キス（ジメチルシリル）ベンゼン、３，６−ジオクチル
−１，２，４，５−テトラキス（ジメチルシリル）ベン
ゼン、３，６−ジオクチルオキシ−１，２，４，５−テ
トラキス（ジメチルシリル）ベンゼン、３，６−ビス
［（オクチルオキシ）メチル］−１，２，４，５−テト
ラキス（ジメチルシリル）ベンゼン等が挙げられる。
【００４１】本発明の第３発明で用いる環状ジイン類は
一般式（VI）
一般式（VI）
【００４２】
【化２９】
【００４３】で表わされる。式中R6、R7、R8およびR9は
互いに同じでも異なっていてもよい、２価の基であり、
例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン
基、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、ＣＨ2 ＮＲＣ
Ｈ2 −、−（ＣＨ3)2 Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3)2 −、
１，１’−フェロセニレン基等が挙げられる。この内、
好ましくは炭素数３から１２のアルキレン基、１，２−
フェニレン基、４−アルキル−１，２−フェニレン基、
４，５−ジアルキル−１，２−フェニレン基、１，８−
ナフチレン基、２，３−ナフチレン基、−ＣＨ2 ＯＣＨ
2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣ
Ｈ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−（ＣＨ3)2 Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ
（ＣＨ3)2 −、１，１’−フェロセニレン基であり、さ
らに好ましくは炭素数３から８のアルキレン基、１，２
−フェニレン基、１，８−ナフチレン基、２，３−ナフ
チレン基、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ
2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−
（ＣＨ3)2 Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3)2 −、１，１’−フ
ェロセニレン基である。また式中、R10 は１価の基であ
り、例えば、炭素数１〜５０のアルキル基、アリール
基、アラルキル基等が挙げられる。この内、好ましくは
炭素数３〜４０のアルキル基、アリール基、アラルキル
基であり、さらに好ましくは炭素数４〜３０のアルキル
基、アリール基、アラルキル基である。
互いに同じでも異なっていてもよい、２価の基であり、
例えば、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン
基、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、ＣＨ2 ＮＲＣ
Ｈ2 −、−（ＣＨ3)2 Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3)2 −、
１，１’−フェロセニレン基等が挙げられる。この内、
好ましくは炭素数３から１２のアルキレン基、１，２−
フェニレン基、４−アルキル−１，２−フェニレン基、
４，５−ジアルキル−１，２−フェニレン基、１，８−
ナフチレン基、２，３−ナフチレン基、−ＣＨ2 ＯＣＨ
2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣ
Ｈ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−（ＣＨ3)2 Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ
（ＣＨ3)2 −、１，１’−フェロセニレン基であり、さ
らに好ましくは炭素数３から８のアルキレン基、１，２
−フェニレン基、１，８−ナフチレン基、２，３−ナフ
チレン基、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ
2 ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 −、−
（ＣＨ3)2 Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ3)2 −、１，１’−フ
ェロセニレン基である。また式中、R10 は１価の基であ
り、例えば、炭素数１〜５０のアルキル基、アリール
基、アラルキル基等が挙げられる。この内、好ましくは
炭素数３〜４０のアルキル基、アリール基、アラルキル
基であり、さらに好ましくは炭素数４〜３０のアルキル
基、アリール基、アラルキル基である。
【００４４】本発明の第１発明の製造方法において、反
応原料の１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環
状ジイン類の比は、通常１，２−ビス（ヒドロシリル）
ベンゼン類と環状ジイン類のモル比で１：５０〜１０
０：１の範囲で実施され、好ましくは２：５〜５：１の
範囲である。本発明の第２発明の製造方法において、反
応原料の１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシリル）
ベンゼン類と環状ジイン類の比は、通常１，２，４，５
−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイン
類のモル比で１：１００〜２００：１の範囲で実施さ
れ、好ましくは１：５〜５：１の範囲である。本発明の
第３発明の製造方法において、反応原料の１，２，４，
５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイ
ン類の比は、通常１，２，４，５−テトラキス（ヒドロ
シリル）ベンゼン類と環状ジイン類のモル比で、１：１
００〜１００：１の範囲で実施され、好ましくは１：５
〜５：１の範囲である。
応原料の１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環
状ジイン類の比は、通常１，２−ビス（ヒドロシリル）
ベンゼン類と環状ジイン類のモル比で１：５０〜１０
０：１の範囲で実施され、好ましくは２：５〜５：１の
範囲である。本発明の第２発明の製造方法において、反
応原料の１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシリル）
ベンゼン類と環状ジイン類の比は、通常１，２，４，５
−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイン
類のモル比で１：１００〜２００：１の範囲で実施さ
れ、好ましくは１：５〜５：１の範囲である。本発明の
第３発明の製造方法において、反応原料の１，２，４，
５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイ
ン類の比は、通常１，２，４，５−テトラキス（ヒドロ
シリル）ベンゼン類と環状ジイン類のモル比で、１：１
００〜１００：１の範囲で実施され、好ましくは１：５
〜５：１の範囲である。
【００４５】本発明の第１発明、第２発明および第３発
明の製造方法において触媒として用いられる白金化合物
としては、従来公知の各種のものを使用することができ
るが、反応系に少なくとも一部は可溶の化合物を用いる
のが反応速度的には好ましい。これらの化合物としては
有機配位子を含む錯体が特に好ましく用いられる。本発
明に用いられる配位子を例示すると、ホスフィン、ホス
ホナイト、ホスフィナイト、ホスファイト、オレフィ
ン、アセチレン、β- ジケトナト配位子、共役ケトン、
アミン、一酸化炭素等が挙げられる。これらを具体的に
例示すると、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、トリ（ｐ−トリル）
ホスフィン、トリ（ｐ−アニシル）ホスフィン、ジフェ
ニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン等
の鎖状ホスフィン、Ｐ−メチルホスホレン、Ｐ−メチル
ホスホール、９−メチル−９−ホスファビシクロ［４．
２．１］ノナン等の環状ホスフィン、１，２−ビス（ジ
メチルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジメチルホ
スフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフィ
ノ）ブタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エ
タン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、
１，１’−ビス（ジメチルホスフィノ）フェロセン、
１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、
α，α’−ビス（ジメチルホスフィノ）−ｏ−キシレ
ン、１，２−ビス（ジメチルホスフィノ）ベンゼン等の
ビスホスフィン、ジメチル メチルホスホナイト、ジメ
チル フェニルホスホナイト等のホスホナイト、メチル
ジメチルホスフィナイト、フェニル ジフェニルホス
フィナイト等のホスフィナイト、およびトリエチルホス
ファイト、トリフェニルホスファイト、１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサ−４−エチルビシクロ［２．
２．２］オクタン等のホスファイト、エチレン、プロぺ
ン、シクロオクテン、無水マレイン酸、１，５−ヘキサ
ジエン、１，５−シクロオクタジエン、１，３−シクロ
ペンタジエン、２、５−ノルボルナジエン、１，３，
５，７−シクロオクタテトラエン等のオレフィンやジエ
ン、アセチルアセトナト等のβ−ジケトナト配位子、ジ
ベンジリデンアセトン等の共役ケトン、エチレンジアミ
ン、２，２’−ビピリジル等のアミン、および一酸化炭
素が挙げられる。従って本発明に用いられる白金化合物
を具体的に例示すると、（η- エチレン）ビス（トリフ
ェニルホスフィン）白金、テトラキス（ジフェニルメチ
ルホスフィン）白金、ジクロロビス（フェニルジメチル
ホスフィン）白金、クロロヒドリドビス（トリブチルホ
スフィン）白金、ジクロロ（テトラメチルエチレンジア
ミン）白金、ジブロモビス（トリエチルホスファイト）
白金、ビス（η−１，５−シクロオクタジエン）白金、
ジクロロ（η−１，５−シクロオクタジエン）白金、ジ
カルボニルビス（トリブチルホスフィン）白金、カルボ
ナトビス（トリシクロヘキシルホスフィン）白金、ビス
（ジベンジリデンアセトン）ビス（トリフェニルホスフ
ィン）白金、ビス（ジベンジリデンアセトン）白金等が
挙げられるが、これに制限されるものではない。
明の製造方法において触媒として用いられる白金化合物
としては、従来公知の各種のものを使用することができ
るが、反応系に少なくとも一部は可溶の化合物を用いる
のが反応速度的には好ましい。これらの化合物としては
有機配位子を含む錯体が特に好ましく用いられる。本発
明に用いられる配位子を例示すると、ホスフィン、ホス
ホナイト、ホスフィナイト、ホスファイト、オレフィ
ン、アセチレン、β- ジケトナト配位子、共役ケトン、
アミン、一酸化炭素等が挙げられる。これらを具体的に
例示すると、トリメチルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、トリエチルホスフィン、トリシクロヘキシルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、トリ（ｐ−トリル）
ホスフィン、トリ（ｐ−アニシル）ホスフィン、ジフェ
ニルメチルホスフィン、フェニルジメチルホスフィン等
の鎖状ホスフィン、Ｐ−メチルホスホレン、Ｐ−メチル
ホスホール、９−メチル−９−ホスファビシクロ［４．
２．１］ノナン等の環状ホスフィン、１，２−ビス（ジ
メチルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジメチルホ
スフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフィ
ノ）ブタン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エ
タン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパ
ン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、
１，１’−ビス（ジメチルホスフィノ）フェロセン、
１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、
α，α’−ビス（ジメチルホスフィノ）−ｏ−キシレ
ン、１，２−ビス（ジメチルホスフィノ）ベンゼン等の
ビスホスフィン、ジメチル メチルホスホナイト、ジメ
チル フェニルホスホナイト等のホスホナイト、メチル
ジメチルホスフィナイト、フェニル ジフェニルホス
フィナイト等のホスフィナイト、およびトリエチルホス
ファイト、トリフェニルホスファイト、１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサ−４−エチルビシクロ［２．
２．２］オクタン等のホスファイト、エチレン、プロぺ
ン、シクロオクテン、無水マレイン酸、１，５−ヘキサ
ジエン、１，５−シクロオクタジエン、１，３−シクロ
ペンタジエン、２、５−ノルボルナジエン、１，３，
５，７−シクロオクタテトラエン等のオレフィンやジエ
ン、アセチルアセトナト等のβ−ジケトナト配位子、ジ
ベンジリデンアセトン等の共役ケトン、エチレンジアミ
ン、２，２’−ビピリジル等のアミン、および一酸化炭
素が挙げられる。従って本発明に用いられる白金化合物
を具体的に例示すると、（η- エチレン）ビス（トリフ
ェニルホスフィン）白金、テトラキス（ジフェニルメチ
ルホスフィン）白金、ジクロロビス（フェニルジメチル
ホスフィン）白金、クロロヒドリドビス（トリブチルホ
スフィン）白金、ジクロロ（テトラメチルエチレンジア
ミン）白金、ジブロモビス（トリエチルホスファイト）
白金、ビス（η−１，５−シクロオクタジエン）白金、
ジクロロ（η−１，５−シクロオクタジエン）白金、ジ
カルボニルビス（トリブチルホスフィン）白金、カルボ
ナトビス（トリシクロヘキシルホスフィン）白金、ビス
（ジベンジリデンアセトン）ビス（トリフェニルホスフ
ィン）白金、ビス（ジベンジリデンアセトン）白金等が
挙げられるが、これに制限されるものではない。
【００４６】またこれらの白金化合物を単独でなく、２
種以上を共存させて実施してもよく、さらに白金化合物
と共に該白金化合物にふくまれるものと同一、もしくは
異なる有機配位子を添加して実施することも、本発明の
有利な態様に含まれる。これら白金化合物の使用量は、
１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類または１，
２，４，５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類１
モルに対し、０．００００１〜５モルの範囲で使用され
るが、好ましくは０．００５〜２モルの範囲である。ま
た有機配位子は、白金原子１モルに対し１〜２０モルの
範囲で用いられ、好ましくは１〜４モルの範囲である。
種以上を共存させて実施してもよく、さらに白金化合物
と共に該白金化合物にふくまれるものと同一、もしくは
異なる有機配位子を添加して実施することも、本発明の
有利な態様に含まれる。これら白金化合物の使用量は、
１，２−ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類または１，
２，４，５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類１
モルに対し、０．００００１〜５モルの範囲で使用され
るが、好ましくは０．００５〜２モルの範囲である。ま
た有機配位子は、白金原子１モルに対し１〜２０モルの
範囲で用いられ、好ましくは１〜４モルの範囲である。
【００４７】本発明の反応は特に溶媒を使用することな
く、反応に供すべき１，２−ビス（ヒドロシリル）ベン
ゼン類と環状ジイン類の混合物、または１，２，４，５
−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と、環状ジイ
ン類との混合物を用いることにより容易に実施される。
しかし、溶媒を用いることは本反応の生起にとって障害
となるものでなく、必要に応じ溶媒中で実施される。こ
れらの溶媒の選択は、反応させるべき１，２−ビス（ヒ
ドロシリル）ベンゼン類、または１，２，４，５−テト
ラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類、または環状ジイン
類との反応性や溶解度等を考慮して、一般に用いられる
溶媒、例えば炭化水素系、またはエーテル系の溶媒の中
から選ぶのが好ましい。本発明の各製造方法において反
応は０°Ｃ以下でも進行するが、好ましい速度を達する
ためには２５０°Ｃまでの温度に加熱することもでき
る。原料物質の構造にもよるが、一般的に好ましい温度
領域は０〜１５０°Ｃである。本発明の製造方法におい
ては、反応時間、圧力に特に制限はない。好ましくは反
応時間は１０分〜１００時間である。反応は常圧下で行
うことができる。本発明の製造方法において、反応は窒
素、アルゴンまたはヘリウム等の不活性ガス雰囲気下で
行われることが好ましい。反応後の生成物の分離は、通
常の蒸留、再結晶、クロマトグラフィー、溶媒による抽
出、または再沈等の有機化学的に通常用いられる手段に
より、容易に実施される。
く、反応に供すべき１，２−ビス（ヒドロシリル）ベン
ゼン類と環状ジイン類の混合物、または１，２，４，５
−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と、環状ジイ
ン類との混合物を用いることにより容易に実施される。
しかし、溶媒を用いることは本反応の生起にとって障害
となるものでなく、必要に応じ溶媒中で実施される。こ
れらの溶媒の選択は、反応させるべき１，２−ビス（ヒ
ドロシリル）ベンゼン類、または１，２，４，５−テト
ラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類、または環状ジイン
類との反応性や溶解度等を考慮して、一般に用いられる
溶媒、例えば炭化水素系、またはエーテル系の溶媒の中
から選ぶのが好ましい。本発明の各製造方法において反
応は０°Ｃ以下でも進行するが、好ましい速度を達する
ためには２５０°Ｃまでの温度に加熱することもでき
る。原料物質の構造にもよるが、一般的に好ましい温度
領域は０〜１５０°Ｃである。本発明の製造方法におい
ては、反応時間、圧力に特に制限はない。好ましくは反
応時間は１０分〜１００時間である。反応は常圧下で行
うことができる。本発明の製造方法において、反応は窒
素、アルゴンまたはヘリウム等の不活性ガス雰囲気下で
行われることが好ましい。反応後の生成物の分離は、通
常の蒸留、再結晶、クロマトグラフィー、溶媒による抽
出、または再沈等の有機化学的に通常用いられる手段に
より、容易に実施される。
【００４８】前記一般式（III ）で表わされる含ケイ素
５環性化合物はラダー型の故に、炭素原子からなる単な
る鎖状構造をとるものに比べ本来的に熱安定性が大きく
向上している。この一般式（III ）で表わされる化合物
を耐熱性材料のモノマー原料として用いることができ
る。例えば、両末端に臭素原子等のハロゲン原子を導入
し、これを反応部としてポリマー化する。本発明の前記
一般式（Ｖ）で表わされる含ケイ素ラダーポリマーの分
子量は、通常１，０００〜１０，０００，０００、好ま
しくは２，０００〜１，０００，０００であるが、これ
に限定されるものではない。本発明の前記一般式（VII
）で表わされる含ケイ素ラダーポリマーの分子量は、
通常１，０００〜５００万、好ましくは５，０００〜１
００万であるが、これに限定されるものではない。一般
式（IV）または（VII ）で表わされるポリマーの末端基
は、水素原子又は三重結合であると考えられる。第２発
明および第３発明の製造方法により、ヘリウム雰囲気下
での熱重量分析で、重量減少が５％になる温度が４００
℃以上の含ケイ素ラダーポリマーを製造することができ
る。このような含ケイ素ラダーポリマーそれ自体を、耐
熱性材料または耐燃焼性材料として用いることができ
る。
５環性化合物はラダー型の故に、炭素原子からなる単な
る鎖状構造をとるものに比べ本来的に熱安定性が大きく
向上している。この一般式（III ）で表わされる化合物
を耐熱性材料のモノマー原料として用いることができ
る。例えば、両末端に臭素原子等のハロゲン原子を導入
し、これを反応部としてポリマー化する。本発明の前記
一般式（Ｖ）で表わされる含ケイ素ラダーポリマーの分
子量は、通常１，０００〜１０，０００，０００、好ま
しくは２，０００〜１，０００，０００であるが、これ
に限定されるものではない。本発明の前記一般式（VII
）で表わされる含ケイ素ラダーポリマーの分子量は、
通常１，０００〜５００万、好ましくは５，０００〜１
００万であるが、これに限定されるものではない。一般
式（IV）または（VII ）で表わされるポリマーの末端基
は、水素原子又は三重結合であると考えられる。第２発
明および第３発明の製造方法により、ヘリウム雰囲気下
での熱重量分析で、重量減少が５％になる温度が４００
℃以上の含ケイ素ラダーポリマーを製造することができ
る。このような含ケイ素ラダーポリマーそれ自体を、耐
熱性材料または耐燃焼性材料として用いることができ
る。
【００４９】
【実施例】次に本発明を実施例により更に詳細に説明す
るが、もとより本発明は、これら実施例に限定されるも
のではない。 実施例１ Ｐｔ（ＣＨ2 ＝ＣＨ2 ）（ＰＰｈ3 ）2 を０．０１２ｍ
モル、１，２−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンを０．
５６ｍモル及び、１，８−シクロテトラデカジインを
０．２８ｍモル含むトルエン溶液３．６ｍｌを、アルゴ
ン雰囲気下１００℃にて１３時間反応させた。反応混合
物を薄層クロマトグラフィーで分離することにより９２
％の収率で下記式で表わされる化合物を得た。
るが、もとより本発明は、これら実施例に限定されるも
のではない。 実施例１ Ｐｔ（ＣＨ2 ＝ＣＨ2 ）（ＰＰｈ3 ）2 を０．０１２ｍ
モル、１，２−ビス（ジメチルシリル）ベンゼンを０．
５６ｍモル及び、１，８−シクロテトラデカジインを
０．２８ｍモル含むトルエン溶液３．６ｍｌを、アルゴ
ン雰囲気下１００℃にて１３時間反応させた。反応混合
物を薄層クロマトグラフィーで分離することにより９２
％の収率で下記式で表わされる化合物を得た。
【００５０】
【化３０】
【００５１】（この化合物は、一般式(III) においてＲ
1 がメチル基であり、Ｒ2 及びＲ3 がペンタメチレン基
である化合物である。）
1 がメチル基であり、Ｒ2 及びＲ3 がペンタメチレン基
である化合物である。）
【００５２】本化合物は文献に未収載の新規化合物であ
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：１９１−１９３℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ ０．３９（２４
Ｈ，ｓ），１．６４（１２Ｈ，ｂｒ ｓ），２．４８
（８Ｈ，ｂｒ ｓ），７．４２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．
３，５．４Ｈｚ），７．６３（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．
３，５．４Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −０．２９，２
６．５５，２８．８４，２９．８３，１２８．０９，１
３２．８９，１４５．２７，１５２．７４29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −２０．８４ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４６，１４５８，１４０８，１２
４５，１１２７，１００２，８３０，７７０，７３９，
６４８ｃｍ-1 元素分析 Ｃ34Ｈ52Ｓｉ4 （理論値）Ｃ ７１．２５％； Ｈ ９．１５％： （実測値）Ｃ ７１．３８％； Ｈ ９．３７％
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：１９１−１９３℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ ０．３９（２４
Ｈ，ｓ），１．６４（１２Ｈ，ｂｒ ｓ），２．４８
（８Ｈ，ｂｒ ｓ），７．４２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．
３，５．４Ｈｚ），７．６３（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．
３，５．４Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −０．２９，２
６．５５，２８．８４，２９．８３，１２８．０９，１
３２．８９，１４５．２７，１５２．７４29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −２０．８４ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９４６，１４５８，１４０８，１２
４５，１１２７，１００２，８３０，７７０，７３９，
６４８ｃｍ-1 元素分析 Ｃ34Ｈ52Ｓｉ4 （理論値）Ｃ ７１．２５％； Ｈ ９．１５％： （実測値）Ｃ ７１．３８％； Ｈ ９．３７％
【００５３】実施例２ Ｐｔ（ＣＨ2 ＝ＣＨ2 ）（ＰＰｈ3 ）2 を０．０５２ｍ
モル含むトルエン溶液１ｍｌに１，２−ビス（ジメチル
シリル）ベンゼン０．０５２ｍモルを加え、窒素雰囲気
下室温で１５分間攪拌した。次に５，６，１１，１２−
テトラデヒドロジベンゾ［ａ，ｅ］シクロオクテン０．
０２６ｍモルを加え、窒素雰囲気下室温で１２時間反応
させた。反応混合物を薄層クロマトグラフィーで分離す
ることにより５９％の収率で下記式で表わされる化合物
を得た。
モル含むトルエン溶液１ｍｌに１，２−ビス（ジメチル
シリル）ベンゼン０．０５２ｍモルを加え、窒素雰囲気
下室温で１５分間攪拌した。次に５，６，１１，１２−
テトラデヒドロジベンゾ［ａ，ｅ］シクロオクテン０．
０２６ｍモルを加え、窒素雰囲気下室温で１２時間反応
させた。反応混合物を薄層クロマトグラフィーで分離す
ることにより５９％の収率で下記式で表わされる化合物
を得た。
【００５４】
【化３１】
【００５５】（この化合物は、一般式(III) においてＲ
1 がメチル基であり、Ｒ2 及びＲ3 が１，２−フェニレ
ン基である化合物である。）
1 がメチル基であり、Ｒ2 及びＲ3 が１，２−フェニレ
ン基である化合物である。）
【００５６】本化合物は文献に未収載の新規化合物であ
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：２２６−２２８℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ ０．１０（１２
Ｈ，ｓ），０．４７（１２Ｈ，ｓ），６．９３（４Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．３，５．９Ｈｚ），７．０２（４Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．３，５．９Ｈｚ），７．３２（４Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．３，５．４Ｈｚ），７．５２（４Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．３，５．４Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −１．２９，２．
３０，１２５．０６，１２６．２３，１２８．０６，１
３２．６５，１４２．５０，１４５．０９，１５８．６
３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −２０．９１ ＩＲ（ＫＢｒ）：３０５６，２９５６，１４６８，１４
１２，１２４９，１１２５，９９０，８９７，８６４，
８３２，８１２，７７５，７３９，６８７，６５２ｃｍ
-1 元素分析 Ｃ36Ｈ40Ｓｉ4 （理論値）Ｃ ７３．９１％； Ｈ ６．８９％： （実測値）Ｃ ７３．８１％； Ｈ ６．８５％
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：２２６−２２８℃1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ ０．１０（１２
Ｈ，ｓ），０．４７（１２Ｈ，ｓ），６．９３（４Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．３，５．９Ｈｚ），７．０２（４Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．３，５．９Ｈｚ），７．３２（４Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．３，５．４Ｈｚ），７．５２（４Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．３，５．４Ｈｚ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −１．２９，２．
３０，１２５．０６，１２６．２３，１２８．０６，１
３２．６５，１４２．５０，１４５．０９，１５８．６
３29 Ｓｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）： δ −２０．９１ ＩＲ（ＫＢｒ）：３０５６，２９５６，１４６８，１４
１２，１２４９，１１２５，９９０，８９７，８６４，
８３２，８１２，７７５，７３９，６８７，６５２ｃｍ
-1 元素分析 Ｃ36Ｈ40Ｓｉ4 （理論値）Ｃ ７３．９１％； Ｈ ６．８９％： （実測値）Ｃ ７３．８１％； Ｈ ６．８５％
【００５７】実施例３ Ｐｔ（ＣＨ2 ＝ＣＨ2 ）（ＰＰｈ3 ）2 を０．００６７
ｍモル、１，２，４，５−テトラキス（ジメチルシリ
ル）ベンゼンを０．３８ｍモル及び、１，８−シクロテ
トラデカジインを０．３８ｍモル含むトルエン溶液４ｍ
ｌを、アルゴン雰囲気下１００℃にて１２時間反応させ
た。懸濁した反応液をメタノール（４０ｍｌ）中に注
ぎ、沈殿物をろ過、乾燥することにより９７％の収率で
下記式で表わされる白色ポリマーを得た。
ｍモル、１，２，４，５−テトラキス（ジメチルシリ
ル）ベンゼンを０．３８ｍモル及び、１，８−シクロテ
トラデカジインを０．３８ｍモル含むトルエン溶液４ｍ
ｌを、アルゴン雰囲気下１００℃にて１２時間反応させ
た。懸濁した反応液をメタノール（４０ｍｌ）中に注
ぎ、沈殿物をろ過、乾燥することにより９７％の収率で
下記式で表わされる白色ポリマーを得た。
【００５８】
【化３２】
【００５９】（このポリマーは、一般式（Ｖ）において
Ｒ2 及びＲ3 がペンタメチレン基、Ｒ4 がメチル基、Ｒ
5 が水素原子である含ケイ素ラダーポリマーである。）
Ｒ2 及びＲ3 がペンタメチレン基、Ｒ4 がメチル基、Ｒ
5 が水素原子である含ケイ素ラダーポリマーである。）
【００６０】本化合物は文献に未収載の新規化合物であ
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：３００℃以上 分子量：約３０００（ＩＲによる末端基定量法により見
積もった値である。） ＩＲ（ＫＢｒ）：２９５６、１２５１、８２８、７６４
ｃｍ-1 元素分析 （Ｃ28Ｈ46Ｓｉ4 ）n （理論値）Ｃ ６７．９４％； Ｈ ９．３７％： （実測値）Ｃ ６７．７４％； Ｈ ９．８５％ 熱重量分析（ヘリウム雰囲気下、１０℃／分の昇温速度
で９００℃まで加熱）： ３６０℃ 残存率９９％ ４３５℃ 残存率９５％
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：３００℃以上 分子量：約３０００（ＩＲによる末端基定量法により見
積もった値である。） ＩＲ（ＫＢｒ）：２９５６、１２５１、８２８、７６４
ｃｍ-1 元素分析 （Ｃ28Ｈ46Ｓｉ4 ）n （理論値）Ｃ ６７．９４％； Ｈ ９．３７％： （実測値）Ｃ ６７．７４％； Ｈ ９．８５％ 熱重量分析（ヘリウム雰囲気下、１０℃／分の昇温速度
で９００℃まで加熱）： ３６０℃ 残存率９９％ ４３５℃ 残存率９５％
【００６１】実施例４ Ｐｔ（ＣＨ2 ＝ＣＨ2)（ＰＰｈ3)2 を０．０００７１ｍ
モル、１，２，４，５−テトラキス（ジメチルシリル）
ベンゼンを０．１７５ｍモル及び、環状ジイン
モル、１，２，４，５−テトラキス（ジメチルシリル）
ベンゼンを０．１７５ｍモル及び、環状ジイン
【００６２】
【化３３】
【００６３】を０．１７５ｍモル含むトルエン溶液４ｍ
ｌを、窒素雰囲気下３０℃にて１２時間、５０℃にて４
時間、さらに１１０℃にて２４時間加熱し反応させた。
反応液を室温に冷却後、メタノール（１００ｍｌ）中に
注ぎ、沈殿物をろ過、乾燥することにより９７％の収率
で下記式で表わされる白色ポリマーを得た。
ｌを、窒素雰囲気下３０℃にて１２時間、５０℃にて４
時間、さらに１１０℃にて２４時間加熱し反応させた。
反応液を室温に冷却後、メタノール（１００ｍｌ）中に
注ぎ、沈殿物をろ過、乾燥することにより９７％の収率
で下記式で表わされる白色ポリマーを得た。
【００６４】
【化３４】
【００６５】本化合物は文献に未収載の新規化合物であ
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：３００℃以上1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)： δ ０．２０−０．４５
（ｂｒ），０．８６（ｔ），１．２６（ｓ），１．４−
１．９（ｂｒ），２．０−３．０（ｂｒ），３．７−
４．２（ｂｒ），７．７（ｂｒ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)： δ −０．４２，−０．
３５，１４．１６，２２．７２，２６．３（ｂｒ），２
７．４，２８．４（ｂｒ），２９．３０，２９．３８，
２９．６４，２９．６８，２９．７２，３１．９５，４
４．９８（ｂｒ），１１６．４５，１２７．７６，１３
６．８４，１４２．２９，１４４．２３，１４９．０
１，１５２．１６（ｂｒ），１５２．７３，１５３．０
３，１６２．３０ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９２６，２８５６，１６３８，１５
８４，１５３３，１２４９，１１４９，８２４，７６
６，６６１ｃｍ-1 重量平均分子量（標準ポリスチレン基準、４０℃）：
１．０×１０5 分子量分布指数（重量平均分子量／数平均分子量）：
４．１ 元素分析（Ｃ61Ｈ103 ＮＯＳｉ4)n （理論値）Ｃ ７４．８５％； Ｈ １０．６１％；
Ｎ １．４３％ （実測値）Ｃ ７４．０１％； Ｈ １０．５７％；
Ｎ １．４１％ 熱重量分析（ヘリウム雰囲気下、１０℃／分の昇温速度
で９００℃まで加熱）： ３７０℃ 残存率９９％ ４０２℃ 残存率９５％
り、その物性値、スペクトルデータは以下の通りであっ
た。 融点：３００℃以上1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)： δ ０．２０−０．４５
（ｂｒ），０．８６（ｔ），１．２６（ｓ），１．４−
１．９（ｂｒ），２．０−３．０（ｂｒ），３．７−
４．２（ｂｒ），７．７（ｂｒ）13 Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3)： δ −０．４２，−０．
３５，１４．１６，２２．７２，２６．３（ｂｒ），２
７．４，２８．４（ｂｒ），２９．３０，２９．３８，
２９．６４，２９．６８，２９．７２，３１．９５，４
４．９８（ｂｒ），１１６．４５，１２７．７６，１３
６．８４，１４２．２９，１４４．２３，１４９．０
１，１５２．１６（ｂｒ），１５２．７３，１５３．０
３，１６２．３０ ＩＲ（ＫＢｒ）：２９２６，２８５６，１６３８，１５
８４，１５３３，１２４９，１１４９，８２４，７６
６，６６１ｃｍ-1 重量平均分子量（標準ポリスチレン基準、４０℃）：
１．０×１０5 分子量分布指数（重量平均分子量／数平均分子量）：
４．１ 元素分析（Ｃ61Ｈ103 ＮＯＳｉ4)n （理論値）Ｃ ７４．８５％； Ｈ １０．６１％；
Ｎ １．４３％ （実測値）Ｃ ７４．０１％； Ｈ １０．５７％；
Ｎ １．４１％ 熱重量分析（ヘリウム雰囲気下、１０℃／分の昇温速度
で９００℃まで加熱）： ３７０℃ 残存率９９％ ４０２℃ 残存率９５％
【００６６】
【発明の効果】本発明によれば、入手容易な１，２−ビ
ス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイン類から、耐
燃焼性材料、耐熱性材料および導電性材料等の原料とし
て有用な含ケイ素５環性化合物が一段の反応で得られ
る。また、本発明によれば、入手容易な１，２，４，５
−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と、環状ジイ
ン類とから耐燃焼性材料、耐熱性材料、導電性材料およ
び非線形光学材料としての用途が見込まれる、完全なラ
ダ−構造を有する含ケイ素ラダーポリマー類が一段の反
応で得られる。また特定の環状ジインを用いれば溶解性
が高く、成形性、加工性に優れた含ケイ素ラダーポリマ
ーを得ることができる。従って本発明の産業的意義は多
大である。
ス（ヒドロシリル）ベンゼン類と環状ジイン類から、耐
燃焼性材料、耐熱性材料および導電性材料等の原料とし
て有用な含ケイ素５環性化合物が一段の反応で得られ
る。また、本発明によれば、入手容易な１，２，４，５
−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン類と、環状ジイ
ン類とから耐燃焼性材料、耐熱性材料、導電性材料およ
び非線形光学材料としての用途が見込まれる、完全なラ
ダ−構造を有する含ケイ素ラダーポリマー類が一段の反
応で得られる。また特定の環状ジインを用いれば溶解性
が高く、成形性、加工性に優れた含ケイ素ラダーポリマ
ーを得ることができる。従って本発明の産業的意義は多
大である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ０１Ｊ 31/24 Ｘ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (6)
- 【請求項１】 （ａ）一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、R1は１価の基である。）で表わされる１，２−
ビス（ヒドロシリル）ベンゼン類と（ｂ）一般式（II） 【化２】 （式中、R2およびR3は２価の基である。）で表わされる
環状ジイン類とを、（ｃ）白金化合物の存在下に反応さ
せることを特徴とする、一般式（III ） 【化３】 （式中、R1、R2およびR3はそれぞれ前記と同じ意味をも
つ。）で表わされる含ケイ素５環性化合物の製造方法。 - 【請求項２】 （ａ）一般式（IV） 【化４】 （式中、R4およびR5は１価の基である。）で表わされる
１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン
類と（ｂ）一般式（II） 【化５】 （式中、R2およびR3は２価の基である。）で表わされる
環状ジイン類とを、（ｃ）白金化合物の存在下に反応さ
せることを特徴とする、一般式（Ｖ） 【化６】 （式中、R2、R3、R4およびR5はそれぞれ前記と同じ意味
をもち、ｎは正の整数である。）で表わされる含ケイ素
ラダーポリマー類の製造方法。 - 【請求項３】 （ａ）一般式（IV） 【化７】 （式中、R4およびR5は１価の基である。）で表わされる
１，２，４，５−テトラキス（ヒドロシリル）ベンゼン
類と（ｂ）一般式（VI） 【化８】 （式中、R6、R7、R8およびR9は２価の基であり、R10 は
１価の基である。）で表わされる環状ジイン類とを、
（ｃ）白金化合物の存在下に反応させることを特徴とす
る、一般式（VII ） 【化９】 （式中、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10 はそれぞれ
前記と同じ意味をもち、ｍは正の整数である。）で表わ
される含ケイ素ラダーポリマー類の製造方法。 - 【請求項４】 一般式（III ） 【化１０】 （式中、R1は１価の基であり、R2およびR3は２価の基で
ある。）で表わされる含ケイ素５環性化合物。 - 【請求項５】 一般式（Ｖ） 【化１１】 （式中、R2およびR3は２価の基であり、R4およびR5は１
価の基であり、ｎは正の整数である。）で表わされる含
ケイ素ラダーポリマー類。 - 【請求項６】 一般式（VII ） 【化１２】 （式中、R4およびR5は１価の基であり、R6、R7、R8およ
びR9は２価の基であり、R10 は１価の基であり、ｍは正
の整数である。）で表わされる含ケイ素ラダーポリマー
類。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6324906A JP2535794B2 (ja) | 1993-12-27 | 1994-12-27 | 含ケイ素５環性化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35315893 | 1993-12-27 | ||
| JP5-353158 | 1993-12-27 | ||
| JP6324906A JP2535794B2 (ja) | 1993-12-27 | 1994-12-27 | 含ケイ素５環性化合物及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08065634A Division JP3101706B2 (ja) | 1993-12-27 | 1996-03-22 | 含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07233176A true JPH07233176A (ja) | 1995-09-05 |
| JP2535794B2 JP2535794B2 (ja) | 1996-09-18 |
Family
ID=26571663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6324906A Expired - Lifetime JP2535794B2 (ja) | 1993-12-27 | 1994-12-27 | 含ケイ素５環性化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2535794B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009082914A (ja) * | 2007-10-02 | 2009-04-23 | Wacker Chemie Ag | 硬化可能なシリコーン組成物 |
| JP2011184410A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Okayama Univ | シラフルオレン誘導体の製造方法 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP6324906A patent/JP2535794B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009082914A (ja) * | 2007-10-02 | 2009-04-23 | Wacker Chemie Ag | 硬化可能なシリコーン組成物 |
| JP2011184410A (ja) * | 2010-03-10 | 2011-09-22 | Okayama Univ | シラフルオレン誘導体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2535794B2 (ja) | 1996-09-18 |
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |