JPH07223287A - 二軸配向積層フィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 磁気媒体用途において、高速工程でフィルム
表面が削り取られ難く、また傷つき難く、しかも耐トラ
ッキング性のよい二軸配向積層フィルムを提供する。 【構成】 少なくとも２層以上の積層構造からなり、そ
の少なくとも片面側の最外層に粒子を０．１〜１０重量
％含有し、該粒子の平均粒径と該最外層の層厚さ、およ
びフィルムの長手方向と幅方向の熱収縮率の比、さらに
フィルムの長手方向と幅方向のＦ５値の和が一定の範囲
内である二軸配向積層フィルムである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向積層フィルム
に関する。

【０００２】

【従来の技術】二軸配向積層フィルムとしては、例えば
少なくとも片面にモース硬度８以上の粒子を含有したフ
ィルムが知られている（たとえば特開平３−１９４１号
公報）。

【０００３】しかし、フィルムの加工工程、特に磁気媒
体用途における磁性層塗布・カレンダー及び巻取、カセ
ット組み込み工程などの工程速度の増大に伴い、接触す
るロールやガイドでフィルム表面、とくに微小凹凸を有
するフィルム表面が削り取られやすいという欠点があっ
た。また、従来のものでは、高速磁界転写などによるダ
ビングの増速化にともない、ダビング時の画質低下のた
めに、画質すなわちＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）も不
十分という欠点があった。さらに、ハイビジョン用、デ
ジタルＶＴＲ用、高性能フレキシブルディスク用などの
高密度磁気記録媒体として使用する場合、磁気記録媒体
の熱収縮率が長手方向と幅方向とで異なりトラッキング
ずれが生じ、記録再生時の画質低下やエラー率の増加等
を引き起こすことが問題となっている。

【０００４】本発明はかかる問題点を解決し、特に高速
工程でフィルム表面が削り取られにくく（以下高速削れ
性に優れるという。）、また傷つきにくく（以下耐スク
ラッチ性に優れるという。）、しかもハイビジョン用、
デジタルＶＴＲ用、高性能フレキシブルディスク用など
の高密度磁気記録媒体用途としたときにトラッキングず
れのない（以下トラッキング特性に優れるという。）二
軸配向積層フィルムを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向積層フィルムは、少なくとも２層以上の積層構
造からなり、その少なくとも片面側の最外層に粒子を
０．１〜１０重量％を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（μ
ｍ）と該最外層の層厚さｔ（μｍ）との関係が ０．２≦ｔ／ｄ≦１０ であり、フィルムの長手方向の１００℃での熱収縮率Ｓ
MD（％）、フィルムの幅方向の１００℃での熱収縮率Ｓ
TD（％）の比が ０．８≦ＳMD／ＳTD≦１．２ を満足し、さらに、長手方向のＦ５値Ｆ５MD（ kg/m
m² ）と幅方向のＦ５値Ｆ５TD（ kg/mm² ）との関係が Ｆ５MD＋Ｆ５TD≧２５ kg/mm² であるものからなる。

【０００６】まず、本発明の二軸配向積層フィルムは、
少なくとも２層以上の積層構造である必要がある。２層
以上であれば、３層でも４層でも構わない。しかし、単
層のフィルムでは高速削れ性や耐スクラッチ性を満足さ
せることは出来ない。

【０００７】次に本発明の二軸配向積層フィルムは、こ
れを構成する上記各層の少なくとも１層が二軸に配向し
ている必要がある。２層以上の積層構造の内、全部の層
が二軸に配向していると特に好ましい。全部の層が無配
向や一軸配向では高速削れ性、耐スクラッチ性さらにト
ラッキング特性を満足させることができない。

【０００８】また、本発明を構成するポリマーは結晶性
である場合に高速削れ性や耐スクラッチ性、耐トラッキ
ング性がより一層良好となるので望ましい。ここでいう
結晶性とはいわゆる非晶質でないことを示すものであ
り、定量的には結晶化パラメータにおける冷結晶化温度
Ｔｃｃが検出され、かつ結晶化パラメータΔＴｃｇが１
５０℃以下のものである。さらに、示差走査熱量計で測
定された融解熱（融解エンタルピー変化）が７．５ｃａ
ｌ／ｇ以上の結晶性を示す場合に高速削れ性や耐スクラ
ッチ性、耐トラッキング性がより一層良好となるのでき
わめて望ましい。本発明の二軸配向積層フィルムは上述
したように、構成するポリマーが結晶性であることが望
ましいが、結晶化パラメータΔＴｃｇが２５〜６５℃で
ある場合に高速削れ性や耐スクラッチ性、耐トラッキン
グ性がより一層良好となるのできわめて望ましい。

【０００９】本発明の二軸配向積層フィルムを構成する
ポリマーは特に限定されないが、磁気媒体用途としては
ポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては特に限
定されないが、エチレンテレフタレート、エチレンα、
β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４，４′−
ジカルボキシレート、エチレン２，６−ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に耐トラッキング性がより一層良好となる
ので好ましい。中でもエチレンテレフタレートを主要構
成成分とするポリエステルの場合が特に好ましい。な
お、本発明を阻害しない範囲内で、２種以上のポリエス
テルを混合しても良いし、共重合ポリマを用いても良
い。さらに、最外層とその他の層のポリマーは、同一で
も相違していても構わない。

【００１０】本発明を構成する最外層中の粒子の含有量
は０．１〜１０重量％であることが必要であり、好まし
くは０．１〜８重量％、より好ましくは０．３〜６重量
％である。含有量が０．１重量％未満であると、表面突
起個数が少なくなりすぎるので摩擦係数が高くなって耐
スクラッチ性が悪くなる。逆に１０重量％を超えると、
粒子数が多くなりすぎ層自身が脆くなり高速削れ性が悪
化する。

【００１１】さらに、該粒子の平均粒径ｄと最外層の層
厚さｔとの関係が次式を満足することが必要である。

【００１２】０．２≦ｔ／ｄ≦１０ 相対関係をこの範囲とすることにより高さの揃った、し
かも所望高さの表面突起が形成される。好ましくは、 ０．３≦ｔ／ｄ≦８ より好ましくは、 ０．５≦ｔ／ｄ≦５ である。この均一な所望の表面突起形成によって、高速
削れ性、耐スクラッチ性とともに耐トラッキング性が向
上される。そして、本発明の二軸配向積層フィルムを用
いた磁気記録媒体においては、優れた画質（Ｓ／Ｎ）が
得られる。

【００１３】本発明フィルムの粒子を含有する最外層の
フィルム厚みは、特に限定されないが、高速削れ性、耐
スクラッチ性の点から、好ましくは０．０３〜５μｍ、
より好ましくは０．０５〜４μｍである。

【００１４】本発明フィルムの粒子を含有する最外層部
のフィルム表面の突起個数は３×１０³ 〜３×１０⁷ 個
／ｍｍ² の範囲が好ましく、より好ましくは５×１０³
〜１．５×１０⁷ 個／ｍｍ² である。突起数が少なすぎ
ると耐スクラッチ性が劣る傾向にある。また、多すぎる
と高速削れ性及び電磁変換特性が悪くなる傾向にある。

【００１５】該最外層に含有される式を満足する粒子
の個数は３×１０³ 〜２．４×１０⁷ 個／ｍｍ² が好ま
しく、より好ましくは５×１０³ 〜１．２×１０⁷ 個／
ｍｍ² である。粒子個数が少なすぎると耐スクラッチ性
が劣る傾向にある。また、多すぎると高速削れ性及び電
磁変換特性が悪くなる傾向にある。

【００１６】本発明の二軸配向積層フィルムにおいて
は、１００℃、３０分間熱処理した場合の長手方向の熱
収縮率ＳMD（％）、幅方向の熱収縮率ＳTD（％）の比が ０．８≦ＳMD／ＳTD≦１．２ を満足する必要がある。好ましくは０．８５≦ＳMD／Ｓ
TD≦１．１５、より好ましくは０．８７≦ＳMD／ＳTD≦
１．１２である。熱収縮率が上記の範囲より外れると、
特に高密度磁気記録媒体とした時にトラッキングずれが
生じ、記録再生時の画質が低下する。

【００１７】本発明の二軸配向積層フィルムの好ましい
熱収縮率（１００℃、３０分間熱処理した場合）として
は、長手方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）それぞれ１％以
下、好ましくは０．８％以下である。

【００１８】更に６０℃、７２時間熱処理した場合の長
手方向の熱収縮率Ｓ₆₀が好ましくは０．０８％以下、よ
り好ましくは０．０６％以下であるのが良い。

【００１９】本発明の二軸配向積層フィルムにおいて
は、フィルムの長手方向Ｆ５値Ｆ５MD（ kg/mm² ）と幅
方向のＦ５値Ｆ５TD（ kg/mm² ）との関係が Ｆ５MD＋Ｆ５TD≧２５ kg/mm² を満足する必要がある。好ましくはＦ５MD＋Ｆ５TD≧２
６ kg/mm² 、より好ましくはＦ５MD＋Ｆ５TD≧２７ kg/
mm² である。Ｆ５値の和が上記の範囲にあると、例え
ば、高密度化に対応するためテープの厚さが１０μｍ以
下とかなり薄くなっても、良好なトラッキング性を維持
できるので好ましい。また、Ｆ５MD、Ｆ５TDの値は、そ
れぞれ１０ kg/mm² 以上であるのが好ましく、より好ま
しくはそれぞれ１１ kg/mm² 以上である。

【００２０】本発明における最外層中の粒子の種類は特
に限定されないが、コロイダルシリカに起因する実質的
に球形のシリカ粒子、架橋高分子による粒子（例えば架
橋ポリスチレンや架橋ジビニルベンゼン）、シリコーン
粒子等があげられる。しかし、その他の粒子、例えば二
酸化チタン、炭酸カルシウム、アルミナ、ジルコニア等
の粒子でも、フィルム厚さと平均粒径の適切なコントロ
ールにより十分使いこなせるものであり、また、２種類
以上の粒子を併用することもできる。

【００２１】架橋ジビニルベンゼン粒子の架橋度として
は、好ましくは５１％以上、よりこのましくは６０％以
上、さらに好ましくは７５％以上の粒子が高速削れ性、
耐スクラッチ性、耐トラッキング性がより一層良好とな
るので特に好ましい。ここでいう架橋度とは、粒子を構
成する全モノマー中の架橋成分の重量％をいう。

【００２２】粒子の大きさは、特に限定されないが、
０．０２〜２μｍ、特に０．０３〜１．５μｍの場合に
高速削れ性がより一層良好となるので好ましい。

【００２３】また本発明のフィルムの積層部、中間層に
は、本発明の目的を阻害しない範囲内で、異種ポリマを
ブレンドしてもよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑
剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常添加される程
度添加されていてもよい。

【００２４】本発明フィルムのフィルム厚みとしては、
特に限定されないが磁気記録媒体用としては、１〜１０
０μｍ、好ましくは３〜８０μｍが例示される。

【００２５】次に本発明フィルムの製造方法を、ポリエ
ステルフィルムの場合について説明する。

【００２６】まずポリエステルに粒子を含有せしめる方
法としては、例えばジオール成分であるエチレングリコ
ールに粒子を所定割合にてスラリーの形で分散せしめ、
このエチレングリコールを所定のジカルボン酸成分と重
合せしめる方法が好ましい。粒子を添加する際には、例
えば、粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾル
を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が非
常によく、高速削れ性、耐スクラッチ性、耐トラッキン
グ性を良好とすることができる。また粒子の水スラリー
を直接所定のポリエステルペレットと混合し、ベント方
式の二軸混練押出機に供給しポリエステルに練り込む方
法も本発明の効果をより一層良好とするのに非常に有効
である。粒子の含有量を調節する方法としては、上記方
法で高濃度の粒子マスターを作っておき、それを製膜時
に粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈して粒
子の含有量を調節する方法が有効である。

【００２７】次にこのポリエステルのペレットを用いて
２層以上の積層構造を持ったポリエステルフィルムとす
る。上記の方法にて得られたポリエステルのペレットを
所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融押出機
に供給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キ
ャスティングロール状で冷却固化せしめて未延伸フィル
ムを作る。すなわち、２または３台以上の押出機、２層
以上のマニホールドまたは合流ブロック（例えば角型合
流部を有する合流ブロック）を用いて積層し、口金から
３層以上のシートを押出し、キャスティングロールで冷
却して未延伸フィルムを作る。この場合、ポリマ流路に
スタティックミキサー、ギヤポンプを設置する方法は有
効である。また、最外層積層側のポリマーの溶融温度を
基層部側より５〜１０℃低くすることが有効である。

【００２８】次にこの未延伸フィルムを２軸延伸し、２
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次２軸延伸法ま
たは同時２軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次２軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．０〜５．０倍で行なう方法は、所望の耐
スクラッチ性、耐トラッキング性を得るために特に好ま
しい。長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって
異なり一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜
１３０℃とし、２段目以降それより高くすることが有効
であるが、所望の耐スクラッチ性と耐トラッキング性を
得るためには、８０〜１３０℃の範囲で行なうことが有
効である。長手方向延伸速度は５０００〜５００００％
／ｍｉｎの範囲が好適である。幅方向の延伸方法として
はステンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は
３．０〜５．０倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速
度は１０００〜２００００％／ｍｉｎ、温度は８０〜１
６０℃の範囲が好適である。次にこの延伸フィルムを熱
処理する。この場合の熱処理温度は１７０〜２２０℃、
特に１８０〜２００℃、時間は０．２〜２０秒の範囲が
所望の耐トラッキング性を得るために好適である。

【００２９】更にフィルム長手方向の６０℃、７２時間
熱処理時の熱収縮率を本願発明の範囲内とするために
は、熱固定終了後のフィルムをロール上で弱加熱処理す
る方法が有効である。条件としては、フィルムを構成す
るポリエステルのガラス転移温度以下で、数時間〜数日
間処理することが望ましい。この場合の有効な温度の下
限は、ポリエステル種によるため一概にはいえないが、
例えばポリエチレンテレフタレートの場合では４５℃付
近である。また、製膜工程内において、熱固定後冷却す
る際に徐冷条件で行う方法も好ましい。具体的には１０
０℃→５０℃間での冷却速度を３０℃／秒以下とするこ
とが好ましい条件である。更に、テンタ内あるいはロー
ル間において長手方向の搬送張力を緩和した状態で熱処
理する方法も有効である。

【００３０】上記の方法は、個別に用いても十分有効な
手段となり得るが、これらを組み合わせる事によって更
に大きな効果を発揮するので望ましい。

【００３１】かくして得られた二軸配向積層フィルムの
好ましい用途としては、例えば磁気記録媒体用途であ
り、中でも高密度磁気記録媒体用、特にハイビジョン方
式、デジタル記録方式のビデオテープ、フロッピーディ
スク等があげられる。

【００３２】

【物性の測定方法ならびに効果の評価方法】本発明の物
性の測定方法ならびに効果の評価方法は次の通りであ
る。

【００３３】（１）粒子の平均粒径、一次粒子径および
粒子個数 フィルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子画像をイ
メージアナライザーで処理する。ＳＥＭの倍率はおよそ
２０００〜１００００倍、また、１回の測定での視野は
１辺がおよそ１０〜５０μｍから適宜選択する。観察箇
所をかえて粒子数５０００個以上で、粒径とその体積分
率から、次式で体積平均径ｄを得る。

【００３４】ｄ＝Σｄｉ・Ｎｖｉ ここで、ｄｉは粒径、Ｎｖはその体積分率である。

【００３５】粒子個数は、積層厚みと平均粒径の関係を
満たすものについて、体積分率から求め、ｍｍ² 当たり
に換算する。

【００３６】粒子が有機粒子等で、プラズマ低温灰化処
理法だ大幅にダメージを受ける場合には、以下の方法を
用いても良い。

【００３７】フィルム表面を透過型顕微鏡（ＴＥＭ）を
用い、３０００〜１０００００倍で観察する。ＴＥＭの
切片厚さは約０．１μｍとし、場所を変えて５００視野
以上測定し、上記の式から体積平均径ｄを求める。

【００３８】凝集粒子の一次径については、フィルム断
面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、５０万倍以上
の倍率で観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１００ｎｍと
し、場所を変えて１００視野以上測定する。凝集粒子の
一次粒径とは、分割できない粒子最小単位について等価
円相等径の平均値である。

【００３９】（２）粒子の含有量 フィルム母材を溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をフィルム母材から遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
また必要に応じて熱分散ガスクロマトグラフィーや赤外
分光法や蛍光Ｘ線分析法、ラマン散乱、ＳＥＭ−ＸＭＡ
などを利用して定量することもできる。積層部および基
層部の粒子の含有量は、各積層部を削りとることにより
区別できる。また、必要に応じてＴＥＭを用いて各断面
に観察される粒子の個数から計算することもできる。

【００４０】（３）積層ポリエステル層の厚さ（最外層
の厚さ：ｔ） ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も
高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素
の濃度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から３０
００ｎｍまで厚さ方向の分析を行なう。表層では表面と
いう界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるに
つれれ粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合は一
旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃
度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２とな
る深さ（この深さは極大値となる深さより深い）を求
め、これを積層厚さとした。条件は次の通りである。

【００４１】測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ATOMIKA 社製 A-DIDA3000 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ₂ １次イオン加速電圧 ：１２KV １次イオン電流 ：２００nA ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０^-9Torr Ｅ−ＧＵＮ ：０．５KV−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が架橋高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が
難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線
光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様の
デプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やコントラストの差から界面を認識し積層厚さを
求めることもできる。

【００４２】（４）フィルム表面の突起個数、突起高さ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡「ＥＳＭ-3200 、エリ
オニクス（株）製」と断面測定装置「ＰＭＳ−１ エリ
オニクス（株）製」においてフィルム表面の平坦面の高
さを０として走査した時の突起高さ測定値を画像処理装
置「ＩＢＡＳ2000 カールツァイス（株）製」に送り、
画像処理装置上にフィルム表面突起画像を再構築する。
次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得られ
た個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さと
し、これを個々の突起について求める。この測定を場所
を替えて５００回繰り返し、２０ｎｍ以上の高さのもの
を突起とし、突起個数を求め、測定された突起について
その高さの平均値を平均高さとした。また、走査型電子
顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間を選択する。なお、
場合によっては、高精度光干渉式３次元表面解析装置
（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：40〜200
倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得られる高さ
情報を上記ＳＥＭの値に読み替えて用いてもよい。

【００４３】（５）Ｆ５値 ＪＩＳ−Ｚ−１７０２に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引張試験機を用いて、２５℃、６
５％ＲＨにて測定した。Ｆ５値とは５％伸長時の強度の
ことである。

【００４４】（６）熱収縮率比 フィルムの長手方向(MD)、幅方向(TD)に約２００ｍｍ間
隔で標線を入れ、その間の長さを精密に測定する（ＡM
D. ＡTD）。次に該試料を１００℃のオーブンに３０分
間放置した後上記標線間を精密に測定し（ＢMD. ＢT
D）、下式で得られる値を長手方向、幅方向それぞれの
熱収縮率とし（ＳMD、ＳTD）、その比をもってフィルム
の熱収縮率比とした。

【００４５】 ＳMD＝１００×（ＡMD−ＢMD）／ＡMD （％） ＳTD＝１００×（ＡTD−ＢTD）／ＡTD （％） （７）経時による熱収縮率（Ｓ₆₀） フィルムの長手方向（ＭＤ）に約２００ｍｍ間隔で標線
を入れ、その間の長さを精密に測定する（Ｌ₀ ）。次に
該試料を６０℃、５５％ＲＨの環境下に７２時間放置
後、上記標線間を精密に測定し（Ｌ₁ ）、下式によって
得られる値を経時による熱収縮率Ｓ₆₀とした。

【００４６】 Ｓ₆₀＝１００×（Ｌ₀ −Ｌ₁ ）／Ｌ₀ （％） （８）高速削れ性 フィルムを１／２インチ幅のテープ状にスリットしたも
のに角度９０°で片刃を押しあて、０．５ｍｍ押し込ん
で２００ｍ走行させる（速度２００ｍ／ｍｉｎ、張力：
１００ｇ）。片刃に削りとられた粉の付着高さを顕微鏡
で読み取り、削れ量（μｍ）とした。この削れ量が１８
０μｍ以下の場合耐削れ性が良好、それ以上の場合削れ
性が不良である。

【００４７】（９）耐スクラッチ性 フィルムを１／２インチ幅のテープ状にスリットしたも
をテープ走行試験機を使用して、ガイドピン（表面粗
度：Ｒａで０．１μｍ）上を走行させる（走行速度２０
０ｍ／ｍｉｎ、走行張力：９０ｇ、走行回数１パス、巻
き付け角：６０°）。この時、フィルムに入った傷を顕
微鏡で観察し、幅２．５μｍ以上の傷がテープ幅あたり
２本未満は優、２本以上１０本未満は良、１０本以上は
不良と判定した。優が好ましいが良でも実用的には使用
可能である。

【００４８】（１０）トラッキングずれテスト フィルムに下記組成の磁性塗料をグラビアロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００Ｋｇ／ｃｍでカ
レンダー処理した後、７０℃、４８時間キュアリングす
る。上記テープ原反を１／２インチにスリットし、パン
ケーキを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの
長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープ
とした。

【００４９】（磁性塗料の組成） ・Ｃｏ含有酸化鉄 １００重量部 ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 １０重量部 ・ポリウレタンエラストマー １０重量部 ・ポリイソシアネート ５重量部 ・レシチン １重量部 ・メチルエチルケトン ７５重量部 ・メチルイソブチルケトン ７５重量部 ・トルエン ７５重量部 ・カーボンブラック ２重量部 ・ラウリン酸 １．５重量部 このテープを温度２５℃、相対湿度５５％の雰囲気で記
録し、さらに雰囲気条件を６０℃、相対湿度５５％にて
７２時間保持した。この高温下保存テープの出力エンベ
ロープのピーク値を２５℃、５５％ＲＨ以下で７２時間
保存したテープと比較した。この差が小さいほど、優れ
たトラッキング特性を有している。この差が３ｄＢ以上
になると、トラッキングが悪く、評価としては不良であ
り、３〜１ｄＢのものは良、１ｄＢ以内のものは優とし
て評価した。

【００５０】（１１）結晶化パラメータΔＴｃｇ、融解
熱 パーキンエルマー社製のＤＳＣ（示差走査熱量計）II型
を用いて測定した。ＤＳＣの測定条件は、試料１０ｍｇ
をＤＳＣ装置にセットし、３００℃の温度で５分間溶融
した後、液体窒素中に急冷する。この急冷試料を２０℃
／分で昇温し、ガラス転移点Ｔｇを検知する。さらに昇
温を続け、ガラス状態からの結晶化発熱ピーク温度をも
って冷結晶化温度Ｔｃｃとした。さらに昇温を続け、融
解ピークから融解熱を求めた。

【００５１】ここでＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）
を結晶化パラメータΔＴｃｇと定義する。

【００５２】

【実施例】

実施例１ 粒子１として平均粒径０．６μｍのバテライト型炭酸カ
ルシウムをエチレングリコール中にて、５０μｍ径のガ
ラスビーズをメディアとして分散させ、ガラスビーズを
除去した後テレフタル酸と重合し、ポリエチレンテレフ
タレートのマスターペレットとした。

【００５３】次に粒子２として１次径４０ｎｍの酸化ジ
ルコニウムを上記メディア分散法を用いてエチレングリ
コール中に均一に分散させ、上記と同様にして粒子２の
マスターペレットを得た。上記粒子１のマスターペレッ
ト、粒子２のマスターペレット、さらに粒子を含有しな
いポリエチレンテレフタレートのマスターペレットを、
粒子１、粒子２の含有量がそれぞれ０．３重量％、０．
３重量％になるよう混ぜ合わせ、ベント式２軸混練押出
機１に供給し、２８０℃で溶解した（ポリマー１）。さ
らに、もう１台の押出機２を用意し粒子を含有しないペ
レットを１８０℃で３時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）し、
押出機に供給して２９０℃で溶解した（ポリマー２）。
この２つのポリマーを、それぞれ高精度瀘過した後、矩
形積層部を備えた３層合流ブロックにて、基層部にポリ
マー２を、両面表層積層部にポリマー１がくるように積
層し、フィッシュテール型の口金よりシート状にして押
出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃
のキャスティングドラムに巻き付けて冷却固化し、厚さ
約２４０μｍの未延伸フィルムを得た。

【００５４】この未延伸フィルムを長手方向に３段階に
分け、１００℃で１．２倍、１０５℃で１．４５倍、９
５℃で２．３倍それぞれ延伸した。この１軸延伸フィル
ムをステンターを用いて幅方向に２段階に分け、１１０
℃で３．６倍、１１５℃で１．１倍延伸し、定長下で２
００℃にて５秒間熱処理し、厚さ１５μｍのフィルムを
得た。更にこのフィルムを幅８００ｍｍ、長さ１５００
０ｍをロール状に巻取、６５℃で３６時間加熱処理を施
した。得られたフィルムの最表層部積層厚さｔは、１．
０μｍで、最外層の積層厚さｔと含有粒子１の平均粒径
ｄとの関係ｔ／ｄは１．６７であった。フィルム表面の
突起数は１．５×１０⁴ 個／mm² であった。さらにｔ／
ｄが０．２〜１０の粒子数は１．３×１０⁴ 個／mm² で
あった。また熱収縮率比ＳMD／ＳTDは１．１、Ｆ５値の
和は２６ Kg/mm² であった。

【００５５】このフィルムの耐スクラッチ性を測定する
と、優であった。さらに高速削れ性も１１０μｍと良好
であり、耐トラッキング性も優であった。このように、
最表層積層部に含有される粒子の含有量および積層厚さ
との関係、該関係を満たす粒子数、表面突起数、さら
に、フィルムの長手方向と幅方向の熱収縮率比およびＦ
５値の和が本発明の範囲内である場合には、耐スクラッ
チ性、トラッキング性、高速削れ性ともに良好なフィル
ムとすることが出来た。

【００５６】実施例２〜４、比較例１〜４ 実施例１と同様にして、最表層積層部にに含有される粒
子の種類、粒子径、含有量、積層構成および積層厚さ、
延伸条件等を種々変えて二軸配向積層フィルムとした。
最表層部に含有される粒子の含有量、および積層厚さの
関係等が本発明の範囲内でない場合には、耐スクラッチ
性、高速削れ性、トラッキング性ともに良好なフィルム
とすることができなかった。

【００５７】実施例５ マスタポリマとして、ポリエチレンナフタレートを用
い、実施例１と同様の粒子組成にて、Ａ／Ｂ２層の未延
伸積層フィルムを得た。

【００５８】この未延伸積層フィルムを温度１３５℃に
て長手方向に４．２５倍延伸した。この延伸は２組ずつ
のロールの周速差で４段階で行った。この一軸延伸フィ
ルムをテンターを用いて１４０℃で幅方向に５．７倍延
伸し、更に定長下で２１０℃にて３秒間熱処理した。得
られたフィルムはトラッキング性が特に良好であった。

【００５９】

【表１】

【表２】

【００６０】

【発明の効果】本発明の二軸配向積層フィルムを磁気媒
体用、特にハイビジョン用、デジタルＶＴＲ用、高性能
フロッピーディスク用などの高密度磁気記録媒体用途と
したときに、優れた高速削れ性、耐スクラッチ性及び、
トラッキング特性が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２９Ｋ 101:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 9:00 (72)発明者 岡本 克哉 滋賀県大津市園山１丁目１番１号 東レ株 式会社滋賀事業場内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも２層以上の積層構造からなる
   二軸配向積層フィルムにおいて、その少なくとも片面側
   の最外層は、粒子を０．１〜１０重量％含有し、該粒子
   の平均粒径ｄ（μｍ）と該最外層の層厚さｔ（μｍ）と
   の関係が ０．２≦ｔ／ｄ≦１０ であり、フィルムの長手方向の１００℃での熱収縮率Ｓ
   MD（％）、フィルムの幅方向の１００℃での熱収縮率Ｓ
   TD（％）の比が ０．８≦ＳMD／ＳTD≦１．２ を満足し、さらに、長手方向のＦ５値Ｆ５MD（ kg/m
   m² ）と幅方向のＦ５値Ｆ５TD（ kg/mm² ）との関係が Ｆ５MD＋Ｆ５TD≧２５ kg/mm² であることを特徴とする二軸配向積層フィルム。
2. 【請求項２】 ６０℃、７２時間処理時の長手方向の熱
   収縮率Ｓ₆₀が０．０８％以下であることを特徴とする請
   求項１に記載の二軸配向積層フィルム。
3. 【請求項３】 前記最外層表面の突起数が３×１０³ 〜
   ３×１０⁷ 個／ｍｍ² の範囲にあることを特徴とする請
   求項１または２に記載の二軸配向積層フィルム。
4. 【請求項４】 前記最外層中に含有される、式を満足
   する粒子の数が３×１０³ 〜２．４×１０⁷ 個／ｍｍ²
   の範囲である請求項１〜３に記載の二軸配向積層フィル
   ム。