JPH05269838A - 二軸配向積層フイルム - Google Patents
二軸配向積層フイルムInfo
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- JPH05269838A JPH05269838A JP10013292A JP10013292A JPH05269838A JP H05269838 A JPH05269838 A JP H05269838A JP 10013292 A JP10013292 A JP 10013292A JP 10013292 A JP10013292 A JP 10013292A JP H05269838 A JPH05269838 A JP H05269838A
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- JP
- Japan
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- particles
- film
- biaxially oriented
- outermost layer
- laminated film
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- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ３層以上の積層構造を有し、少なくとも片面
側の最外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（ｎ
ｍ）と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が０．２ｄ
≦ｔ≦１０ｄであり、フイルム表面の突起個数が３×１
０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 であるか又は該式の関係を
満たす粒径の粒子数が３×１０3 〜１．５×１０5 個／
ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無機粒子を含有する二軸
配向積層フイルム。 【効果】 最外層含有粒子の平均粒径と最外層の層厚さ
とを特定の関係とし、表面突起数あるいは該関係を満た
す粒径の粒子数を特定の範囲とするとともに、中間層に
無機粒子を含有させることにより、フイルムの表面に削
れにくいかつ所望の突起を効率よく形成して望ましい表
面形態にすることができ、優れた走行性を発揮させるこ
とができるとともに、磁気媒体用として優れた画質、ド
ロップアウト特性を得ることができる。
側の最外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（ｎ
ｍ）と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が０．２ｄ
≦ｔ≦１０ｄであり、フイルム表面の突起個数が３×１
０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 であるか又は該式の関係を
満たす粒径の粒子数が３×１０3 〜１．５×１０5 個／
ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無機粒子を含有する二軸
配向積層フイルム。 【効果】 最外層含有粒子の平均粒径と最外層の層厚さ
とを特定の関係とし、表面突起数あるいは該関係を満た
す粒径の粒子数を特定の範囲とするとともに、中間層に
無機粒子を含有させることにより、フイルムの表面に削
れにくいかつ所望の突起を効率よく形成して望ましい表
面形態にすることができ、優れた走行性を発揮させるこ
とができるとともに、磁気媒体用として優れた画質、ド
ロップアウト特性を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向積層フイルム
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】二軸配向積層フイルム、例えば二軸配向
ポリエステルフイルムとしては、ポリエステルにコロイ
ド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子を含有
せしめたフイルムが知られている（たとえば特開昭５９
−１７１６２３号公報）。
ポリエステルフイルムとしては、ポリエステルにコロイ
ド状シリカに起因する実質的に球形のシリカ粒子を含有
せしめたフイルムが知られている（たとえば特開昭５９
−１７１６２３号公報）。
【０００３】しかし、フイルムの加工工程、特に磁気媒
体用途における磁性層塗布・カレンダー及び巻取、カセ
ット組み込み工程などの工程速度の増大に伴い、接触す
るロールやガイドでフイルム表面、とくに微小凹凸を有
するフイルム表面が削り取られやすいという欠点があっ
た。また、従来のものでは、高速磁界転写などによるダ
ビングの増速化にともない、ダビング時の画質低下のた
めに、画質すなわちＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）も不
十分という欠点があった。
体用途における磁性層塗布・カレンダー及び巻取、カセ
ット組み込み工程などの工程速度の増大に伴い、接触す
るロールやガイドでフイルム表面、とくに微小凹凸を有
するフイルム表面が削り取られやすいという欠点があっ
た。また、従来のものでは、高速磁界転写などによるダ
ビングの増速化にともない、ダビング時の画質低下のた
めに、画質すなわちＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）も不
十分という欠点があった。
【０００４】このような欠点を解消するため、積層フイ
ルムの最外層を薄層とし、該層厚さに対し比較的粒径の
大きな粒子を含有させ、該層厚さと粒子の粒径を特定の
関係にすることにより、フイルム表面に削り取られにく
い微小突起を形成するようにした二軸配向積層フイルム
が提案されている（特開平２−７７４３１号公報）。
ルムの最外層を薄層とし、該層厚さに対し比較的粒径の
大きな粒子を含有させ、該層厚さと粒子の粒径を特定の
関係にすることにより、フイルム表面に削り取られにく
い微小突起を形成するようにした二軸配向積層フイルム
が提案されている（特開平２−７７４３１号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の従来
技術における問題点を解決するとともに、特開平２−７
７４３１号公報提案の技術をさらに改良するもので、フ
イルム表面の微小突起をより最適化して走行性を一層向
上し、特に磁気媒体用途とした時にダビング時等の画質
低下が少なくしかもドロップアウト特性の良好な（以
下、電磁変換特性に優れるということもある。）二軸配
向積層フイルムを提供することを目的とする。
技術における問題点を解決するとともに、特開平２−７
７４３１号公報提案の技術をさらに改良するもので、フ
イルム表面の微小突起をより最適化して走行性を一層向
上し、特に磁気媒体用途とした時にダビング時等の画質
低下が少なくしかもドロップアウト特性の良好な（以
下、電磁変換特性に優れるということもある。）二軸配
向積層フイルムを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向積層フイルムは、少なくとも３層以上の積層構
造からなる二軸配向積層フイルムにおいて、その少なく
とも片面側の最外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径
ｄ（ｎｍ）と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ であり、該最外層側のフイルム表面の突起個数が３×１
０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無
機粒子を含有するものから成る。
二軸配向積層フイルムは、少なくとも３層以上の積層構
造からなる二軸配向積層フイルムにおいて、その少なく
とも片面側の最外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径
ｄ（ｎｍ）と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ であり、該最外層側のフイルム表面の突起個数が３×１
０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無
機粒子を含有するものから成る。
【０００７】また、もう一つの本発明の二軸配向積層フ
イルムは、少なくとも３層以上の積層構造からなる二軸
配向積層フイルムにおいて、その少なくとも片面側の最
外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（ｎｍ）と該
最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ であり、該式の関係を満たす粒径の粒子数が３×１０3
〜１．５×１０5 個／ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無
機粒子を含有するものから成る。
イルムは、少なくとも３層以上の積層構造からなる二軸
配向積層フイルムにおいて、その少なくとも片面側の最
外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（ｎｍ）と該
最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ であり、該式の関係を満たす粒径の粒子数が３×１０3
〜１．５×１０5 個／ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無
機粒子を含有するものから成る。
【０００８】まず、本発明のフイルムは少なくとも３層
以上の積層構造である必要がある。３層以上であれば、
４層でも５層でもかまわないが３層構造の場合に本発明
の効果がより一層良好となり好ましい。しかし、単層や
２層構造のフイルムでは高速削れ性や電磁変換特性を満
足させることはできず、良好な画質や良好なドロップア
ウト特性を得ることができない。
以上の積層構造である必要がある。３層以上であれば、
４層でも５層でもかまわないが３層構造の場合に本発明
の効果がより一層良好となり好ましい。しかし、単層や
２層構造のフイルムでは高速削れ性や電磁変換特性を満
足させることはできず、良好な画質や良好なドロップア
ウト特性を得ることができない。
【０００９】次に、本発明のフイルムは、これを構成す
る上記各層の少なくとも一層が二軸に配向している必要
がある。３層以上の積層構造の内、全部の層が二軸に配
向していると特に好ましい。全ての層が無配向や一軸配
向では本発明の特性を満足することはできない。
る上記各層の少なくとも一層が二軸に配向している必要
がある。３層以上の積層構造の内、全部の層が二軸に配
向していると特に好ましい。全ての層が無配向や一軸配
向では本発明の特性を満足することはできない。
【００１０】本発明の二軸配向積層フイルムを構成する
ポリマーは特に限定されないが、磁気媒体用途としては
ポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては特に限
定されないが、エチレンテレフタレート、エチレンα，
β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４，４’−
ジカルボキシレート、エチレン２，６─ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に特に好ましい。中でもエチレンテレフタ
レートを主要構成成分とするポリエステルの場合が特に
好ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、２種以
上のポリエステルを混合しても良いし、共重合ポリマを
用いても良い。
ポリマーは特に限定されないが、磁気媒体用途としては
ポリエステルが好ましい。ポリエステルとしては特に限
定されないが、エチレンテレフタレート、エチレンα，
β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４，４’−
ジカルボキシレート、エチレン２，６─ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に特に好ましい。中でもエチレンテレフタ
レートを主要構成成分とするポリエステルの場合が特に
好ましい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、２種以
上のポリエステルを混合しても良いし、共重合ポリマを
用いても良い。
【００１１】本発明の二軸配向積層フイルムの少なくと
も片面の最外層には、まず、粒子が、該粒子の平均粒径
ｄ（ｎｍ）と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ になるように含有される。ｔが０．２ｄよりも小さいと
走行性が悪化し、ｔが１０ｄよりも大きいと磁気テープ
としたときの画質が低下する。
も片面の最外層には、まず、粒子が、該粒子の平均粒径
ｄ（ｎｍ）と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ になるように含有される。ｔが０．２ｄよりも小さいと
走行性が悪化し、ｔが１０ｄよりも大きいと磁気テープ
としたときの画質が低下する。
【００１２】そして、該粒子は、上記式の関係を満たす
粒径の粒子数が３×１０3 〜１．５×１０5 個／ｍｍ2
になるように含有される。このように、粒子の粒径と最
外層の層厚さとが特定の関係を満たす粒径の粒子数を特
定の範囲とすることにより、まず、該含有粒子自身によ
り、フイルム表面に所望の微小突起が効率よく形成され
る。
粒径の粒子数が３×１０3 〜１．５×１０5 個／ｍｍ2
になるように含有される。このように、粒子の粒径と最
外層の層厚さとが特定の関係を満たす粒径の粒子数を特
定の範囲とすることにより、まず、該含有粒子自身によ
り、フイルム表面に所望の微小突起が効率よく形成され
る。
【００１３】そして、本発明の二軸配向積層フイルムに
おいては、中間層に無機粒子が含有されるから、該中間
層含有無機粒子の突起形成作用が薄層の最外層にも現
れ、該無機粒子による突起形成面にさらに上記最外層含
有粒子による突起が上乗せされた形態で突起が形成さ
れ、より削り取られにくい、一層良好な走行性を発揮で
きる望ましい突起が形成される。中間層に無機粒子を含
有させないと、とくに、磁気テープとしたときの、テー
プ端部でのドロップアウトが増加する。
おいては、中間層に無機粒子が含有されるから、該中間
層含有無機粒子の突起形成作用が薄層の最外層にも現
れ、該無機粒子による突起形成面にさらに上記最外層含
有粒子による突起が上乗せされた形態で突起が形成さ
れ、より削り取られにくい、一層良好な走行性を発揮で
きる望ましい突起が形成される。中間層に無機粒子を含
有させないと、とくに、磁気テープとしたときの、テー
プ端部でのドロップアウトが増加する。
【００１４】このように最外層含有粒子に加え中間層含
有無機粒子も突起形成作用を奏する結果、本発明の二軸
配向積層フイルムにおいては、最外層側のフイルム表面
の突起個数は３×１０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 とされ
る。
有無機粒子も突起形成作用を奏する結果、本発明の二軸
配向積層フイルムにおいては、最外層側のフイルム表面
の突起個数は３×１０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 とされ
る。
【００１５】最外層側フイルム表面の突起個数が上記範
囲よりも少ないと、摩擦係数が高くなって、良好な走行
性が得られない。逆に突起個数が上記範囲よりも多い
と、磁気テープとしたときの画質が低下する。
囲よりも少ないと、摩擦係数が高くなって、良好な走行
性が得られない。逆に突起個数が上記範囲よりも多い
と、磁気テープとしたときの画質が低下する。
【００１６】また、最外層含有粒子の、前記式を満たす
粒径の粒子数が前記範囲よりも少ないと、やはり良好な
走行性が得られず、前記範囲よりも多いと、磁気テープ
としたときの画質が低下する。
粒径の粒子数が前記範囲よりも少ないと、やはり良好な
走行性が得られず、前記範囲よりも多いと、磁気テープ
としたときの画質が低下する。
【００１７】中間層に含有される無機粒子は、特に限定
されないが、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ジル
コニア、酸化チタンから選ばれた少なくとも１種類であ
ることが好ましい。
されないが、炭酸カルシウム、シリカ、アルミナ、ジル
コニア、酸化チタンから選ばれた少なくとも１種類であ
ることが好ましい。
【００１８】中間層含有無機粒子が炭酸カルシウムであ
る場合には、その結晶形態はカルサイト型またはバテラ
イト型であることが好ましい。また、該無機粒子がシリ
カである場合には、コロイダルシリカであることが好ま
しい。さらに、該無機粒子がアルミナである場合には、
その結晶形態はδ型またはγ型であることが好ましい。
る場合には、その結晶形態はカルサイト型またはバテラ
イト型であることが好ましい。また、該無機粒子がシリ
カである場合には、コロイダルシリカであることが好ま
しい。さらに、該無機粒子がアルミナである場合には、
その結晶形態はδ型またはγ型であることが好ましい。
【００１９】なお、本発明のフイルム中には、本発明の
目的を阻害しない範囲内で、異種ポリマをブレンドして
もよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸
収剤などの有機添加剤が通常添加される程度添加されて
いてもよい。
目的を阻害しない範囲内で、異種ポリマをブレンドして
もよいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸
収剤などの有機添加剤が通常添加される程度添加されて
いてもよい。
【００２０】次に本発明フイルムの製造方法を、ポリエ
ステルフイルムの場合について説明する。まず、ポリエ
ステルに粒子を含有せしめる方法としては、例えばジオ
ール成分であるエチレングリコールに粒子を所定割合に
てスラリーの形で分散せしめ、このエチレングリコール
を所定のジカルボン酸成分と重合せしめる方法が好まし
い。粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成時に得
られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させることな
く添加すると粒子の分散性が非常によく、高速削れ性、
電磁変換特性を共に良好とすることができる。また粒子
の水スラリーを直接所定のポリエステルペレットと混合
し、ベント方式の２軸混練押出機に供給しポリエステル
に練り込む方法も本発明の効果をより一層良好とするの
に非常に有効である。粒子の含有量、個数を調節する方
法としては、上記方法で高濃度の粒子マスターを作って
おき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しないポリエ
ステルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効で
ある。
ステルフイルムの場合について説明する。まず、ポリエ
ステルに粒子を含有せしめる方法としては、例えばジオ
ール成分であるエチレングリコールに粒子を所定割合に
てスラリーの形で分散せしめ、このエチレングリコール
を所定のジカルボン酸成分と重合せしめる方法が好まし
い。粒子を添加する際には、例えば、粒子を合成時に得
られる水ゾルやアルコールゾルを一旦乾燥させることな
く添加すると粒子の分散性が非常によく、高速削れ性、
電磁変換特性を共に良好とすることができる。また粒子
の水スラリーを直接所定のポリエステルペレットと混合
し、ベント方式の２軸混練押出機に供給しポリエステル
に練り込む方法も本発明の効果をより一層良好とするの
に非常に有効である。粒子の含有量、個数を調節する方
法としては、上記方法で高濃度の粒子マスターを作って
おき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しないポリエ
ステルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が有効で
ある。
【００２１】次にこのポリエステルのペレットを用いて
３層以上の積層構造をもったポリエステルフイルムとす
る。上記の方法にて得られたポリエステルのペレットを
所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用
押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出
し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸
フイルムを作る。すなわち、２または３台以上の押出
機、３層以上のマニホールドまたは合流ブロック（例え
ば角型合流部を有する合流ブロック）を用いて、各最外
層を構成するフイルム層、中間層を構成するフイルム層
を積層し、口金から３層以上のシートを押し出し、キャ
スティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。こ
の場合、ポリマ流路にスタティックミキサー、ギヤポン
プを設置する方法は有効である。また、最表層積層部側
のポリマーを押出す押出機の溶融温度を基層部側より５
〜１０℃低くすることが、有効である。
３層以上の積層構造をもったポリエステルフイルムとす
る。上記の方法にて得られたポリエステルのペレットを
所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用
押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押出
し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸
フイルムを作る。すなわち、２または３台以上の押出
機、３層以上のマニホールドまたは合流ブロック（例え
ば角型合流部を有する合流ブロック）を用いて、各最外
層を構成するフイルム層、中間層を構成するフイルム層
を積層し、口金から３層以上のシートを押し出し、キャ
スティングロールで冷却して未延伸フイルムを作る。こ
の場合、ポリマ流路にスタティックミキサー、ギヤポン
プを設置する方法は有効である。また、最表層積層部側
のポリマーを押出す押出機の溶融温度を基層部側より５
〜１０℃低くすることが、有効である。
【００２２】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．５〜６．５倍で行なう方法は特に好まし
い。長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異
なり一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜１
３０℃とし、２段目以降はそれより高くすることが有効
である。長手方向延伸速度は５０００〜５００００％／
分の範囲が好適である。幅方向の延伸方法としてはステ
ンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は、３．０
〜５．０倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、
１０００〜２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の
範囲が好適である。次にこの延伸フイルムを熱処理す
る。この場合の熱処理温度は１７０〜２２０℃、特に１
８０〜２００℃、時間は０．２〜２０秒の範囲が好適で
ある。
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．５〜６．５倍で行なう方法は特に好まし
い。長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異
なり一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜１
３０℃とし、２段目以降はそれより高くすることが有効
である。長手方向延伸速度は５０００〜５００００％／
分の範囲が好適である。幅方向の延伸方法としてはステ
ンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は、３．０
〜５．０倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、
１０００〜２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の
範囲が好適である。次にこの延伸フイルムを熱処理す
る。この場合の熱処理温度は１７０〜２２０℃、特に１
８０〜２００℃、時間は０．２〜２０秒の範囲が好適で
ある。
【００２３】［物性の測定方法ならびに効果の評価方
法］本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。 （１）粒子の平均粒径、粒子数 フイルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子画像
をイメージアナライザーで処理する。ＳＥＭの倍率はお
よそ２０００〜１００００倍、また、１回の測定での視
野は１辺がおよそ１０〜５０μｍから適宜選択する。観
察箇所をかえて粒子数５０００個以上で、粒径とその体
積分率から、次式で体積平均径ｄを得る。 ｄ＝Σｄi ・Ｎｖi ここでｄi は粒径、Ｎｖi はその体積分率である。粒子
数は、積層厚みと平均粒径の関係を満たすものについ
て、体積分率から求め、ｍｍ2 あたりに換算する。粒子
が有機粒子等で、プラズマ低温灰化処理法で大幅にダメ
ージを受ける場合には、以下の方法を用いてもよい。フ
イルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、３０
００〜１０００００倍で観察する。ＴＥＭの切片厚さは
約１０００Åとし、場所を変えて５００視野以上測定
し、上記の式から体積平均径ｄを求める。
法］本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。 （１）粒子の平均粒径、粒子数 フイルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子画像
をイメージアナライザーで処理する。ＳＥＭの倍率はお
よそ２０００〜１００００倍、また、１回の測定での視
野は１辺がおよそ１０〜５０μｍから適宜選択する。観
察箇所をかえて粒子数５０００個以上で、粒径とその体
積分率から、次式で体積平均径ｄを得る。 ｄ＝Σｄi ・Ｎｖi ここでｄi は粒径、Ｎｖi はその体積分率である。粒子
数は、積層厚みと平均粒径の関係を満たすものについ
て、体積分率から求め、ｍｍ2 あたりに換算する。粒子
が有機粒子等で、プラズマ低温灰化処理法で大幅にダメ
ージを受ける場合には、以下の方法を用いてもよい。フ
イルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、３０
００〜１０００００倍で観察する。ＴＥＭの切片厚さは
約１０００Åとし、場所を変えて５００視野以上測定
し、上記の式から体積平均径ｄを求める。
【００２４】（２）積層ポリエステル層の厚さ（最外層
の厚さ：ｔ） ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００nmの範囲のフイルム中の粒子の内もっと
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００nmまで厚さ方向の分析を行なう。表層では表
面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかる
につれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの場合は
一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この
濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２と
なる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を
求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ATOMIKA 社製 A-DIDA3000 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ2 + １次イオン加速電圧：１２KV １次イオン電流：２００nA ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０-9Torr Ｅ−ＧＵＮ ：０．５KV−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００nmの範囲にもっとも多く含
有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定
が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ
線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様
のデプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには積層
ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを求
めることもできる。
の厚さ：ｔ） ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ３０００nmの範囲のフイルム中の粒子の内もっと
も高濃度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元
素の濃度比（Ｍ+ ／Ｃ+ ）を粒子濃度とし、表面から深
さ３０００nmまで厚さ方向の分析を行なう。表層では表
面という界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかる
につれて粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの場合は
一旦極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この
濃度分布曲線をもとに表層粒子濃度が極大値の１／２と
なる深さ（この深さは極大値となる深さよりも深い）を
求め、これを積層厚さとした。条件は次の通り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） 西独、ATOMIKA 社製 A-DIDA3000 測定条件 １次イオン種 ：Ｏ2 + １次イオン加速電圧：１２KV １次イオン電流：２００nA ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０-9Torr Ｅ−ＧＵＮ ：０．５KV−３．０Ａ なお、表層から深さ３０００nmの範囲にもっとも多く含
有する粒子が有機高分子粒子の場合はＳＩＭＳでは測定
が難しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ
線光電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様
のデプスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良い
し、また、電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変
化状態やポリマの違いによるコントラストの差から界面
を認識し積層厚さを求めることもできる。さらには積層
ポリマを剥離後、薄膜段差測定機を用いて積層厚さを求
めることもできる。
【００２５】（３）フイルム表面の突起個数、突起高さ ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−3200、エリ
オニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリ
オニクス（株）製］においてフイルム表面の平坦面の高
さを０として走査したときの突起の高さ測定値を画像処
理装置［ＩＢＡＳ2000、カールツァイス（株）製］に送
り、画像処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築す
る。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得
られた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高
さとし、これを個々の突起について求める。この測定を
場所をかえて５００回繰返し、２０ｎｍ以上の高さのも
のを突起とし、突起個数を求め、測定された突起につい
てその高さの平均値を平均高さとした。また走査型電子
顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間を選択する。なお、
場合によっては、高精度光干渉式３次元表面解析装置
（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２
００倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得られる
高さ情報を上記ＳＥＭの値に読み替えて用いてもよい。
オニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、エリ
オニクス（株）製］においてフイルム表面の平坦面の高
さを０として走査したときの突起の高さ測定値を画像処
理装置［ＩＢＡＳ2000、カールツァイス（株）製］に送
り、画像処理装置上にフイルム表面突起画像を再構築す
る。次に、この表面突起画像で突起部分を２値化して得
られた個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高
さとし、これを個々の突起について求める。この測定を
場所をかえて５００回繰返し、２０ｎｍ以上の高さのも
のを突起とし、突起個数を求め、測定された突起につい
てその高さの平均値を平均高さとした。また走査型電子
顕微鏡の倍率は、1000〜8000倍の間を選択する。なお、
場合によっては、高精度光干渉式３次元表面解析装置
（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄ、対物レンズ：４０〜２
００倍、高解像度カメラ使用が有効）を用いて得られる
高さ情報を上記ＳＥＭの値に読み替えて用いてもよい。
【００２６】（４）画質（クロマＳ／Ｎ） フイルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００kg/cm でカレン
ダー処理した後、７０℃、４８時間キュアリングする。
上記テープ原反を１／２インチにスリットし、長さ２５
０ｍの長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセット
テープとした。 （磁性塗料の組成） ・Ｃｏ含有酸化鉄（ＢＥＴ値50ｍ2 ／ｇ） ：100 重量部 ・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体） ：10重量部 ・ニッポラン2304（日本ポリウレタン製ポリウレタンエラストマ）：10重量部 ・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネ―ト） ：５重量部 ・レシチン ：１重量部 ・メチルエチルケトン ：75重量部 ・メチルイソブチルケトン ：75重量部 ・トルエン ：75重量部 ・カーボンブラック ：２重量部 ・ラウリン酸 ：1.5 重量部 このテ―プに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテレビ
試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ706 ）により100 ％クロマ
信号を記録し、その再生信号からシバソク製カラービデ
オノイズ測定器（925 Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定し
た。
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００kg/cm でカレン
ダー処理した後、７０℃、４８時間キュアリングする。
上記テープ原反を１／２インチにスリットし、長さ２５
０ｍの長さをＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセット
テープとした。 （磁性塗料の組成） ・Ｃｏ含有酸化鉄（ＢＥＴ値50ｍ2 ／ｇ） ：100 重量部 ・エスレックＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体） ：10重量部 ・ニッポラン2304（日本ポリウレタン製ポリウレタンエラストマ）：10重量部 ・コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソシアネ―ト） ：５重量部 ・レシチン ：１重量部 ・メチルエチルケトン ：75重量部 ・メチルイソブチルケトン ：75重量部 ・トルエン ：75重量部 ・カーボンブラック ：２重量部 ・ラウリン酸 ：1.5 重量部 このテ―プに家庭用ＶＴＲを用いてシバソク製のテレビ
試験波形発生器（ＴＧ７／Ｕ706 ）により100 ％クロマ
信号を記録し、その再生信号からシバソク製カラービデ
オノイズ測定器（925 Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定し
た。
【００２７】（５）走行性（摩擦係数μｋ） フイルムを幅１／２インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機ＳＦＴ−７００型（（株）横浜
システム研究所製）を使用し、２０℃、６０％ＲＨ雰囲
気で走行させ、初期の摩擦係数を下記の式より求めた
（フイルム幅は１／２インチとした）。 μｋ＝２／πｌｎ（Ｔ2 ／Ｔ1 ） ここで、Ｔ1 は入側張力、Ｔ2 は出側張力である。ガイ
ド径は６ｍｍφであり、ガイド材質はＳＵＳ２７（表面
粗度０．２Ｓ）、巻き付け角は９０°、走行速度は３．
３ｃｍ／秒である。この測定によって得られたμｋが
０．３以下の場合は摩擦係数：良好、０．３を越える場
合は摩擦係数：不良と判定した。このμｋはフイルムを
磁気記録媒体、コンデンサ、包装用などの加工をする時
のハンドリング性を左右する臨界点である。
のをテープ走行性試験機ＳＦＴ−７００型（（株）横浜
システム研究所製）を使用し、２０℃、６０％ＲＨ雰囲
気で走行させ、初期の摩擦係数を下記の式より求めた
（フイルム幅は１／２インチとした）。 μｋ＝２／πｌｎ（Ｔ2 ／Ｔ1 ） ここで、Ｔ1 は入側張力、Ｔ2 は出側張力である。ガイ
ド径は６ｍｍφであり、ガイド材質はＳＵＳ２７（表面
粗度０．２Ｓ）、巻き付け角は９０°、走行速度は３．
３ｃｍ／秒である。この測定によって得られたμｋが
０．３以下の場合は摩擦係数：良好、０．３を越える場
合は摩擦係数：不良と判定した。このμｋはフイルムを
磁気記録媒体、コンデンサ、包装用などの加工をする時
のハンドリング性を左右する臨界点である。
【００２８】（６）磁気テープにおけるドロップアウト
評価 テープにＶＴＲを用い、ＴＶ試験信号発生機（シバソク
製ＴＧ−７／１型）からの信号を録画させた後、２５
℃、５０％ＲＨで１００パス（１２０分×１００パス）
走行させた。このテープをドロップアウトカウンターを
用いて、ドロップアウトの幅が５μ秒以上で、再生され
た信号の減衰がマイナス１６ｄＢ以上のものをピックア
ップしてドロップアウトとした。測定は１０巻について
行ない、１分間当りに換算したドロップアウト個数が１
０個未満の場合はドロップアウト良好、１０個以上の場
合を不良とした。
評価 テープにＶＴＲを用い、ＴＶ試験信号発生機（シバソク
製ＴＧ−７／１型）からの信号を録画させた後、２５
℃、５０％ＲＨで１００パス（１２０分×１００パス）
走行させた。このテープをドロップアウトカウンターを
用いて、ドロップアウトの幅が５μ秒以上で、再生され
た信号の減衰がマイナス１６ｄＢ以上のものをピックア
ップしてドロップアウトとした。測定は１０巻について
行ない、１分間当りに換算したドロップアウト個数が１
０個未満の場合はドロップアウト良好、１０個以上の場
合を不良とした。
【００２９】
【実施例】次に実施例に基づき、本発明の実施態様を説
明する。 実施例１（表１） 最外層に含有させる粒子をエチレングリコール中にて、
５０μｍ径のガラスビーズをメディアとして分散させ、
ガラスビーズを除去したのちテレフタル酸と重合し、ポ
リエチレンテレフタレートのマスターペレットとした。
明する。 実施例１（表１） 最外層に含有させる粒子をエチレングリコール中にて、
５０μｍ径のガラスビーズをメディアとして分散させ、
ガラスビーズを除去したのちテレフタル酸と重合し、ポ
リエチレンテレフタレートのマスターペレットとした。
【００３０】次に、中間層に含有させる粒子としてカル
サイト型炭酸カルシウム粒子を上記メディア分散法を用
いてエチレングリコール中に均一に分散させ、上記と同
様にして該粒子含有のマスターペレットを得た。
サイト型炭酸カルシウム粒子を上記メディア分散法を用
いてエチレングリコール中に均一に分散させ、上記と同
様にして該粒子含有のマスターペレットを得た。
【００３１】上記それぞれのマスターペレットを、粒子
を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレットで
所定割合にて希釈し、１８０℃で８時間減圧乾燥（３Ｔ
ｏｒｒ）した後、押出機１、押出機２（たとえばベント
式二軸混練押出機）にそれぞれ供給し、２８０℃、２９
０℃で溶解した。この２つのポリマを、それぞれ高精度
濾過した後、矩形積層部を備えた３層合流ブロックに
て、中間層部にカルサイト型炭酸カルシウム粒子含有ポ
リマが、両面表層積層部に前記粒子含有ポリマがくるよ
うに積層し、フィッシュテール型の口金よりシート状に
して押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温
度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化
し、厚さ約１６０μｍの未延伸フイルムを作った。この
時のドラフト比は６．５であった。
を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレットで
所定割合にて希釈し、１８０℃で８時間減圧乾燥（３Ｔ
ｏｒｒ）した後、押出機１、押出機２（たとえばベント
式二軸混練押出機）にそれぞれ供給し、２８０℃、２９
０℃で溶解した。この２つのポリマを、それぞれ高精度
濾過した後、矩形積層部を備えた３層合流ブロックに
て、中間層部にカルサイト型炭酸カルシウム粒子含有ポ
リマが、両面表層積層部に前記粒子含有ポリマがくるよ
うに積層し、フィッシュテール型の口金よりシート状に
して押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温
度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化
し、厚さ約１６０μｍの未延伸フイルムを作った。この
時のドラフト比は６．５であった。
【００３２】この未延伸フイルムを長手方向に３段階に
分け、１２３℃で１．２倍、１２６℃で１．４５倍、１
１４℃で２．３倍それぞれ延伸した。この一軸フイルム
をステンタを用いて幅方向に２段階に分け、１１１℃で
３．７倍、１１３℃で１．２倍延伸し、定長下で２００
℃にて５秒間熱処理し、厚さ１３μｍのフイルムを得
た。得られたフイルムの最外層部積層厚さｔは、１００
０ｎｍで、最外層の積層厚さｔと含有粒子の平均粒径ｄ
との関係ｔ／ｄは１．５であった。また、両表面の突起
数は同じであり、該表面突起数は１８０００個／ｍｍ2
であった。さらに、ｔ／ｄが０．２〜１０の粒子数は１
４０００個／ｍｍ2 であった。
分け、１２３℃で１．２倍、１２６℃で１．４５倍、１
１４℃で２．３倍それぞれ延伸した。この一軸フイルム
をステンタを用いて幅方向に２段階に分け、１１１℃で
３．７倍、１１３℃で１．２倍延伸し、定長下で２００
℃にて５秒間熱処理し、厚さ１３μｍのフイルムを得
た。得られたフイルムの最外層部積層厚さｔは、１００
０ｎｍで、最外層の積層厚さｔと含有粒子の平均粒径ｄ
との関係ｔ／ｄは１．５であった。また、両表面の突起
数は同じであり、該表面突起数は１８０００個／ｍｍ2
であった。さらに、ｔ／ｄが０．２〜１０の粒子数は１
４０００個／ｍｍ2 であった。
【００３３】このフイルムで作成したＶＴＲテープの画
質を測定すると、クロマＳ／Ｎで２．５ｄＢであった。
また、フイルムの走行性（摩擦係数）も０．２４と良好
であった。さらに、テープ端部でのドロップアウトを評
価したところ、良好であった。このように、最外層積層
部に含有される粒子と積層厚さとの関係、該関係を満た
す粒子数、表面突起数が本発明の範囲内であり、かつ、
中間層に粒子を含有する場合には、優れた画質、走行
性、ドロップアウト特性が得られる。
質を測定すると、クロマＳ／Ｎで２．５ｄＢであった。
また、フイルムの走行性（摩擦係数）も０．２４と良好
であった。さらに、テープ端部でのドロップアウトを評
価したところ、良好であった。このように、最外層積層
部に含有される粒子と積層厚さとの関係、該関係を満た
す粒子数、表面突起数が本発明の範囲内であり、かつ、
中間層に粒子を含有する場合には、優れた画質、走行
性、ドロップアウト特性が得られる。
【００３４】実施例２〜４、比較例１〜４（表１） 実施例１と同様にして、最外層の積層厚さ、該積層厚さ
ｔと含有粒子の平均粒径ｄとの関係ｔ／ｄ、表面突起
数、ｔ／ｄが０．２〜１０の粒子数、および中間層含有
粒子の種類を種々変更するとともに、中間層に粒子を含
有させる場合とさせない場合とについて、各種二軸配向
積層ポリエステルフイルムを作成した（但し、実施例４
においては、中間層をポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）フイルムとし、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フイルムとＰＥＴ／ＰＥＮ／ＰＥＴの３層積層構成
とした。また、比較例４は、単層のフイルムとし
た。）。最外層の積層厚さ、該積層厚さｔと含有粒子の
平均粒径ｄとの関係ｔ／ｄ、表面突起数、ｔ／ｄが０．
２〜１０の粒子数が本発明の範囲内であり、かつ、中間
層に粒子を含有する場合には、いずれも優れた画質、走
行性、ドロップアウト特性が得られたが（実施例２〜
４）、中間層に粒子を含有しない場合には、たとえ一部
他の条件が本発明の範囲内であっても、画質、走行性、
ドロップアウト特性の全てを満足させることはできなか
った（比較例１〜４）。
ｔと含有粒子の平均粒径ｄとの関係ｔ／ｄ、表面突起
数、ｔ／ｄが０．２〜１０の粒子数、および中間層含有
粒子の種類を種々変更するとともに、中間層に粒子を含
有させる場合とさせない場合とについて、各種二軸配向
積層ポリエステルフイルムを作成した（但し、実施例４
においては、中間層をポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）フイルムとし、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フイルムとＰＥＴ／ＰＥＮ／ＰＥＴの３層積層構成
とした。また、比較例４は、単層のフイルムとし
た。）。最外層の積層厚さ、該積層厚さｔと含有粒子の
平均粒径ｄとの関係ｔ／ｄ、表面突起数、ｔ／ｄが０．
２〜１０の粒子数が本発明の範囲内であり、かつ、中間
層に粒子を含有する場合には、いずれも優れた画質、走
行性、ドロップアウト特性が得られたが（実施例２〜
４）、中間層に粒子を含有しない場合には、たとえ一部
他の条件が本発明の範囲内であっても、画質、走行性、
ドロップアウト特性の全てを満足させることはできなか
った（比較例１〜４）。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【発明の効果】本発明の二軸配向積層フイルムによれ
ば、少なくとも３層以上の積層構造の少なくとも片面側
の最外層に、特定の粒子平均粒径と最外層の層厚さとの
関係を満たすように粒子を含有させ、表面突起数あるい
は該関係を満たす粒径の粒子数を特定の範囲とするとと
もに、中間層に無機粒子を含有させたので、積層フイル
ムの表面に削れにくいかつ所望の突起を効率よく形成し
て望ましい表面形態にすることができ、優れた走行性を
発揮させることができるとともに、磁気媒体用として優
れた画質、ドロップアウト特性を得ることができる。
ば、少なくとも３層以上の積層構造の少なくとも片面側
の最外層に、特定の粒子平均粒径と最外層の層厚さとの
関係を満たすように粒子を含有させ、表面突起数あるい
は該関係を満たす粒径の粒子数を特定の範囲とするとと
もに、中間層に無機粒子を含有させたので、積層フイル
ムの表面に削れにくいかつ所望の突起を効率よく形成し
て望ましい表面形態にすることができ、優れた走行性を
発揮させることができるとともに、磁気媒体用として優
れた画質、ドロップアウト特性を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 27/36 Ｇ１１Ｂ 5/704 7215−5Ｄ // Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 4Ｆ 9:00 4Ｆ
Claims (6)
- 【請求項１】 少なくとも３層以上の積層構造からなる
二軸配向積層フイルムにおいて、その少なくとも片面側
の最外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（ｎｍ）
と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ であり、該最外層側のフイルム表面の突起個数が３×１
０3 〜２×１０5 個／ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無
機粒子を含有することを特徴とする二軸配向積層フイル
ム。 - 【請求項２】 少なくとも３層以上の積層構造からなる
二軸配向積層フイルムにおいて、その少なくとも片面側
の最外層に粒子を含有し、該粒子の平均粒径ｄ（ｎｍ）
と該最外層の層厚さｔ（ｎｍ）との関係が ０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄ であり、該式の関係を満たす粒径の粒子数が３×１０3
〜１．５×１０5 個／ｍｍ2 であり、かつ、中間層に無
機粒子を含有することを特徴とする二軸配向積層フイル
ム。 - 【請求項３】 前記中間層の無機粒子が炭酸カルシウ
ム、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタンから選
ばれた少なくとも１種類である請求項１又は２の二軸配
向積層フイルム。 - 【請求項４】 前記炭酸カルシウムの結晶形態がカルサ
イト型またはバテライト型である請求項３の二軸配向積
層フイルム。 - 【請求項５】 前記シリカがコロイダルシリカである請
求項３の二軸配向積層フイルム。 - 【請求項６】 前記アルミナの結晶形態がδ型またはγ
型である請求項３の二軸配向積層フイルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4100132A JP2803770B2 (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 二軸配向積層フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4100132A JP2803770B2 (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 二軸配向積層フイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05269838A true JPH05269838A (ja) | 1993-10-19 |
| JP2803770B2 JP2803770B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=14265794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4100132A Expired - Lifetime JP2803770B2 (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | 二軸配向積層フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2803770B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100602482B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2006-07-19 | 한국지질자원연구원 | 무전해 니켈도금법에 의한 니켈-다이아몬드 복합분말의형상제어 제조방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62290535A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | 東レ株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルムならびにその製造方法 |
| JPH0277431A (ja) * | 1988-06-08 | 1990-03-16 | Toray Ind Inc | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム |
-
1992
- 1992-03-27 JP JP4100132A patent/JP2803770B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62290535A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | 東レ株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルムならびにその製造方法 |
| JPH0277431A (ja) * | 1988-06-08 | 1990-03-16 | Toray Ind Inc | 二軸配向熱可塑性樹脂フィルム |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100602482B1 (ko) * | 2004-06-29 | 2006-07-19 | 한국지질자원연구원 | 무전해 니켈도금법에 의한 니켈-다이아몬드 복합분말의형상제어 제조방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2803770B2 (ja) | 1998-09-24 |
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|---|---|---|---|
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