JPH0721565Y2 - 高周波焼入装置 - Google Patents
高周波焼入装置Info
- Publication number
- JPH0721565Y2 JPH0721565Y2 JP1991061691U JP6169191U JPH0721565Y2 JP H0721565 Y2 JPH0721565 Y2 JP H0721565Y2 JP 1991061691 U JP1991061691 U JP 1991061691U JP 6169191 U JP6169191 U JP 6169191U JP H0721565 Y2 JPH0721565 Y2 JP H0721565Y2
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- JP
- Japan
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- cooling liquid
- peripheral surface
- work
- tank
- jacket
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
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- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は、ワークを高周波加熱
後、冷却液中に浸漬してワークを冷却する高周波焼入装
置に関する。
後、冷却液中に浸漬してワークを冷却する高周波焼入装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】以下、従来の高周波焼入装置の概略説明
図である図２を参照し、ローラの周面を焼入する場合を
例にとって従来の技術を説明する。環状の高周波加熱コ
イル50によって周面91が加熱されたローラ90は、図示し
ないワーク昇降回転装置によって冷却液タンク20内に一
杯に収容された冷却液Ｌ中に降下浸漬される。次いで、
ローラ90の周面91に対向するように冷却液Ｌ中に配設さ
れている環状のジャケット10から冷却液Ｌを噴射して周
面91を冷却して焼入を終了する。なお、ローラ90は高周
波加熱中および冷却中前記ワーク昇降回転装置によって
ローラ90の軸92を中心として回転されている。そして、
ジャケット10から冷却液Ｌが噴射されている間は、冷却
液Ｌが冷却液タンク20の頂部から溢れて下方へ落下す
る。
図である図２を参照し、ローラの周面を焼入する場合を
例にとって従来の技術を説明する。環状の高周波加熱コ
イル50によって周面91が加熱されたローラ90は、図示し
ないワーク昇降回転装置によって冷却液タンク20内に一
杯に収容された冷却液Ｌ中に降下浸漬される。次いで、
ローラ90の周面91に対向するように冷却液Ｌ中に配設さ
れている環状のジャケット10から冷却液Ｌを噴射して周
面91を冷却して焼入を終了する。なお、ローラ90は高周
波加熱中および冷却中前記ワーク昇降回転装置によって
ローラ90の軸92を中心として回転されている。そして、
ジャケット10から冷却液Ｌが噴射されている間は、冷却
液Ｌが冷却液タンク20の頂部から溢れて下方へ落下す
る。
【０００３】
【考案が解決しようとする課題】ローラ90を上記のよう
に焼入する場合、冷却液タンク20から排出される冷却液
Ｌは、冷却液タンク20の頂部から溢れる冷却液Ｌのみで
あるから、冷却液タンク20内においては、冷却液Ｌは上
方に流れることになり、従って、ジャケット10から側方
に噴射された冷却液Ｌは、若干上向きの流れとなってロ
ーラ90の周面91に到達する。この結果、噴射された冷却
液Ｌは、周面91の下部よりも上部により多く到達するの
で、上部が下部よりも余計に冷却されることとなる。従
って、周面91がその全体にわたって均一に冷却されるこ
とにはならないから、周面91に形成された硬化層の深さ
が均一でなく、また、ローラ90の歪みも発生する。
に焼入する場合、冷却液タンク20から排出される冷却液
Ｌは、冷却液タンク20の頂部から溢れる冷却液Ｌのみで
あるから、冷却液タンク20内においては、冷却液Ｌは上
方に流れることになり、従って、ジャケット10から側方
に噴射された冷却液Ｌは、若干上向きの流れとなってロ
ーラ90の周面91に到達する。この結果、噴射された冷却
液Ｌは、周面91の下部よりも上部により多く到達するの
で、上部が下部よりも余計に冷却されることとなる。従
って、周面91がその全体にわたって均一に冷却されるこ
とにはならないから、周面91に形成された硬化層の深さ
が均一でなく、また、ローラ90の歪みも発生する。
【０００４】本考案は上記事情に鑑みて創案されたもの
であって、ローラや歯車等の周面、即ち、ワークの環状
の周面に均一な硬化層を形成することができ且つワーク
の歪みも少ない高周波焼入装置を提供することを目的と
している。
であって、ローラや歯車等の周面、即ち、ワークの環状
の周面に均一な硬化層を形成することができ且つワーク
の歪みも少ない高周波焼入装置を提供することを目的と
している。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
に、本考案の高周波焼入装置は、ワークの環状の周面を
焼入する高周波焼入装置において、前記周面を加熱する
環状の高周波加熱コイルと、加熱されたワークが浸漬さ
れる冷却液が満載された冷却液タンクと、冷却液中に浸
漬されたワークの周面に冷却液を噴射する環状のジャケ
ットと、ジャケットに冷却液を供給する手段と、冷却液
タンクの下部から冷却液を排出し、且つ排出する冷却液
の量を制御する手段とを備えている。
に、本考案の高周波焼入装置は、ワークの環状の周面を
焼入する高周波焼入装置において、前記周面を加熱する
環状の高周波加熱コイルと、加熱されたワークが浸漬さ
れる冷却液が満載された冷却液タンクと、冷却液中に浸
漬されたワークの周面に冷却液を噴射する環状のジャケ
ットと、ジャケットに冷却液を供給する手段と、冷却液
タンクの下部から冷却液を排出し、且つ排出する冷却液
の量を制御する手段とを備えている。
【０００６】そして、冷却液を排出し、且つ排出する冷
却液の量を制御する手段を、冷却液タンクの下部に取り
付けた冷却液排出管と、この冷却液排出管に設けたバル
ブとすることができる。
却液の量を制御する手段を、冷却液タンクの下部に取り
付けた冷却液排出管と、この冷却液排出管に設けたバル
ブとすることができる。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照して本考案の一実施例を説
明する。図１は本実施例の説明図であって、同図に示す
ように、本実施例の高周波焼入装置は、ワークであるロ
ーラ90の周面91を加熱する環状の高周波加熱コイル50
と、高周波加熱コイル50によって加熱されたローラ90が
浸漬される冷却液Ｌが満載された冷却液タンク20と、冷
却液Ｌ中に浸漬されたローラ90の周面91に冷却液Ｌを噴
射する環状のジャケット10と、ジャケット10に冷却液Ｌ
を供給するポンプ26と、冷却液タンク20の下部に取り付
けた冷却液排出管23とを備えている。
明する。図１は本実施例の説明図であって、同図に示す
ように、本実施例の高周波焼入装置は、ワークであるロ
ーラ90の周面91を加熱する環状の高周波加熱コイル50
と、高周波加熱コイル50によって加熱されたローラ90が
浸漬される冷却液Ｌが満載された冷却液タンク20と、冷
却液Ｌ中に浸漬されたローラ90の周面91に冷却液Ｌを噴
射する環状のジャケット10と、ジャケット10に冷却液Ｌ
を供給するポンプ26と、冷却液タンク20の下部に取り付
けた冷却液排出管23とを備えている。
【０００８】冷却液タンク20の底面22の下方には、底面
42と囲壁41とを備えた機械室40が設けられており、囲壁
41は、冷却液タンク20の囲壁21が下方に延設されたもの
となっている。そして、機械室40の底面42の上にはワー
ク昇降回転装置44が設置されている。このワーク昇降回
転装置44には上方にワーク支持杆43が突設されており、
ワーク昇降回転装置44はワーク支持杆43を昇降および例
えば矢印Ｐの方向に回転することができる。ワーク支持
杆43の先端には、ローラ90が載置される。
42と囲壁41とを備えた機械室40が設けられており、囲壁
41は、冷却液タンク20の囲壁21が下方に延設されたもの
となっている。そして、機械室40の底面42の上にはワー
ク昇降回転装置44が設置されている。このワーク昇降回
転装置44には上方にワーク支持杆43が突設されており、
ワーク昇降回転装置44はワーク支持杆43を昇降および例
えば矢印Ｐの方向に回転することができる。ワーク支持
杆43の先端には、ローラ90が載置される。
【０００９】機械室40および冷却液タンク20を取り囲む
ように冷却液タンク30が設けられている。冷却液タンク
30の底面32は、機械室40の底面42とほぼ同じ平面上に設
置されており、冷却液タンク30の囲壁31の頂部は、冷却
液タンク20の頂部より若干高めに形成されている。
ように冷却液タンク30が設けられている。冷却液タンク
30の底面32は、機械室40の底面42とほぼ同じ平面上に設
置されており、冷却液タンク30の囲壁31の頂部は、冷却
液タンク20の頂部より若干高めに形成されている。
【００１０】ジャケット10と冷却液タンク30の底面32と
は、配管25で接続されており、この配管25に電磁弁28、
バルブ27および前記ポンプ26が設けられている。冷却液
タンク20の囲壁21の下部には、冷却液排出管23が冷却液
タンク30内に突出するように取り付けられており、この
冷却液排出管23には、バルブ24および電磁弁24a が設け
られている。
は、配管25で接続されており、この配管25に電磁弁28、
バルブ27および前記ポンプ26が設けられている。冷却液
タンク20の囲壁21の下部には、冷却液排出管23が冷却液
タンク30内に突出するように取り付けられており、この
冷却液排出管23には、バルブ24および電磁弁24a が設け
られている。
【００１１】次に、本実施例の動作について説明する。
まず、電磁弁24a と28を開き、冷却液タンク20に冷却液
Ｌを満載し、且つ冷却液タンク30に適宜の深さまで冷却
液Ｌを入れる。そして、バルブ24、27を開くと共に、ポ
ンプ26を起動するとジャケット10からの冷却液Ｌの噴射
が開始され、冷却液排出管23から冷却液Ｌが冷却液タン
ク30内に落下し始める。バルブ24の開度は予め適宜にし
て、冷却液排出管23から排出される冷却液量が、ポンプ
26がジャケット10に供給する冷却液量の約半分になるよ
うにしておく。
まず、電磁弁24a と28を開き、冷却液タンク20に冷却液
Ｌを満載し、且つ冷却液タンク30に適宜の深さまで冷却
液Ｌを入れる。そして、バルブ24、27を開くと共に、ポ
ンプ26を起動するとジャケット10からの冷却液Ｌの噴射
が開始され、冷却液排出管23から冷却液Ｌが冷却液タン
ク30内に落下し始める。バルブ24の開度は予め適宜にし
て、冷却液排出管23から排出される冷却液量が、ポンプ
26がジャケット10に供給する冷却液量の約半分になるよ
うにしておく。
【００１２】ワーク昇降回転装置44によってワーク支持
杆43を最も上昇させ、ワーク支持杆43の先端にローラ90
を載置する。次いで、ワーク支持杆43を降下させてロー
ラ90の周面91を高周波加熱コイル50に対向させた後、ワ
ーク昇降回転装置44によってローラ90を軸92を中心とし
て回転させながら、高周波加熱コイル50に高周波電流を
所定時間通電する。この後、ローラ90の回転を低速にす
るか、または停止してから、ワーク支持杆43を降下して
ローラ90を冷却液Ｌ中に浸漬してローラ90の周面91をジ
ャケット10に対向させると、ジャケット10から噴射され
た冷却液Ｌは、冷却液排出管23から冷却液タンク30内に
排出されるのみではなく、冷却液タンク20の頂部から溢
れて同じく冷却液タンク30内に排出される。冷却液タン
ク30内に排出された冷却液Ｌは再びポンプ26によってジ
ャケット10に供給される。
杆43を最も上昇させ、ワーク支持杆43の先端にローラ90
を載置する。次いで、ワーク支持杆43を降下させてロー
ラ90の周面91を高周波加熱コイル50に対向させた後、ワ
ーク昇降回転装置44によってローラ90を軸92を中心とし
て回転させながら、高周波加熱コイル50に高周波電流を
所定時間通電する。この後、ローラ90の回転を低速にす
るか、または停止してから、ワーク支持杆43を降下して
ローラ90を冷却液Ｌ中に浸漬してローラ90の周面91をジ
ャケット10に対向させると、ジャケット10から噴射され
た冷却液Ｌは、冷却液排出管23から冷却液タンク30内に
排出されるのみではなく、冷却液タンク20の頂部から溢
れて同じく冷却液タンク30内に排出される。冷却液タン
ク30内に排出された冷却液Ｌは再びポンプ26によってジ
ャケット10に供給される。
【００１３】ジャケット10から噴射された冷却液Ｌは、
ローラ90の周面91に当たって周面91を冷却する。この
際、ジャケット10から噴射された冷却液Ｌの冷却液タン
ク20外への排出は、前記のように冷却液タンク20の頂部
から溢れる冷却液Ｌと、冷却液タンク20の下部に設けた
冷却液排出管23から排出される冷却液Ｌとにほぼ２分さ
れるから、ジャケット10から噴射された冷却液Ｌは、ロ
ーラ90の周面91に至る間では、殆ど噴射された方向に進
出して周面91に当たる。即ち、周面91は全体にわたって
均一な冷却液Ｌの噴射を受けるので、周面91には均一な
硬化層が形成される。しかも、ローラ90には歪みが発生
しない。
ローラ90の周面91に当たって周面91を冷却する。この
際、ジャケット10から噴射された冷却液Ｌの冷却液タン
ク20外への排出は、前記のように冷却液タンク20の頂部
から溢れる冷却液Ｌと、冷却液タンク20の下部に設けた
冷却液排出管23から排出される冷却液Ｌとにほぼ２分さ
れるから、ジャケット10から噴射された冷却液Ｌは、ロ
ーラ90の周面91に至る間では、殆ど噴射された方向に進
出して周面91に当たる。即ち、周面91は全体にわたって
均一な冷却液Ｌの噴射を受けるので、周面91には均一な
硬化層が形成される。しかも、ローラ90には歪みが発生
しない。
【００１４】次に、他の実施例を図２を参照して説明す
る。図１で説明したものと同等のもには同一の符号を付
している。この実施例が図１に示す実施例と異なってい
る点のみを説明する。図２に示す高周波焼入装置では、
冷却液タンク30の底面32の高さを冷却液タンク20の底面
22と同一のレベルとしてあり、冷却液タンク20の下部に
は冷却液排出孔20a が設けられている。
る。図１で説明したものと同等のもには同一の符号を付
している。この実施例が図１に示す実施例と異なってい
る点のみを説明する。図２に示す高周波焼入装置では、
冷却液タンク30の底面32の高さを冷却液タンク20の底面
22と同一のレベルとしてあり、冷却液タンク20の下部に
は冷却液排出孔20a が設けられている。
【００１５】そして、冷却液タンク30の下部に、冷却液
排出管23の一端が接続されており、冷却液排出管23の他
端と、配管25のジャケット10の反対側の端部との間に
は、冷却液貯蔵タンク29が設けられている。従って、冷
却液タンク20から排出される冷却液Ｌは、上部から冷却
液タンク30へ溢れ落ちる冷却液Ｌと、下部の冷却液排出
孔20a から冷却液タンク30に排出される冷却液Ｌとに別
れる。従って、このような高周波焼入装置においても、
ジャケット10から噴射された冷却液Ｌは、ローラの周面
の全体にわたって均一に当たるので、図１の高周波焼入
装置と同様な効果がえられる。
排出管23の一端が接続されており、冷却液排出管23の他
端と、配管25のジャケット10の反対側の端部との間に
は、冷却液貯蔵タンク29が設けられている。従って、冷
却液タンク20から排出される冷却液Ｌは、上部から冷却
液タンク30へ溢れ落ちる冷却液Ｌと、下部の冷却液排出
孔20a から冷却液タンク30に排出される冷却液Ｌとに別
れる。従って、このような高周波焼入装置においても、
ジャケット10から噴射された冷却液Ｌは、ローラの周面
の全体にわたって均一に当たるので、図１の高周波焼入
装置と同様な効果がえられる。
【００１６】
【考案の効果】以上説明したように本考案の高周波焼入
装置は、ワークの環状の周面を焼入する高周波焼入装置
において、前記周面を加熱する環状の高周波加熱コイル
と、加熱されたワークが浸漬される冷却液が満載された
冷却液タンクと、冷却液中に浸漬されたワークの周面に
冷却液を噴射する環状のジャケットと、ジャケットに冷
却液を供給する手段と、冷却液タンクの下部から冷却液
を排出し、且つ排出する冷却液の量を制御する手段とを
備えている。
装置は、ワークの環状の周面を焼入する高周波焼入装置
において、前記周面を加熱する環状の高周波加熱コイル
と、加熱されたワークが浸漬される冷却液が満載された
冷却液タンクと、冷却液中に浸漬されたワークの周面に
冷却液を噴射する環状のジャケットと、ジャケットに冷
却液を供給する手段と、冷却液タンクの下部から冷却液
を排出し、且つ排出する冷却液の量を制御する手段とを
備えている。
【００１７】従って、本考案の高周波焼入装置によれ
ば、冷却液中に浸漬されたワークの環状の周面にジャケ
ットから噴射される冷却液は、上方にも下方にも変位す
ることなくワークの周面に当たるから、ワークの周面が
均一に冷却される。従って、ワークの周面に均一の硬化
層を形成することができ、しかも、ワークに歪みが発生
しない。
ば、冷却液中に浸漬されたワークの環状の周面にジャケ
ットから噴射される冷却液は、上方にも下方にも変位す
ることなくワークの周面に当たるから、ワークの周面が
均一に冷却される。従って、ワークの周面に均一の硬化
層を形成することができ、しかも、ワークに歪みが発生
しない。
【図１】本考案の一実施例の説明図である。
【図２】本考案の他の実施例の説明図である。
【図３】従来の高周波焼入装置の概略説明図である。
10 ジャケット 20 冷却液タンク 23 冷却液排出管 24 バルブ 26 ポンプ 50 高周波加熱コイル 90 ローラ 91 周面 Ｌ 冷却液
Claims (2)
- 【請求項１】 ワークの環状の周面を焼入する高周波焼
入装置において、前記周面を加熱する環状の高周波加熱
コイルと、加熱されたワークが浸漬される冷却液が満載
された冷却液タンクと、冷却液中に浸漬されたワークの
周面に冷却液を噴射する環状のジャケットと、ジャケッ
トに冷却液を供給する手段と、冷却液タンクの下部から
冷却液を排出し、且つ排出する冷却液の量を制御する手
段とを備えたことを特徴とする高周波焼入装置。 - 【請求項２】 冷却液を排出し、且つ排出する冷却液の
量を制御する手段が、冷却液タンクの下部に取り付けた
冷却液排出管と、この冷却液排出管に設けたバルブであ
る請求項１記載の高周波焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991061691U JPH0721565Y2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 高周波焼入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991061691U JPH0721565Y2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 高周波焼入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH055845U JPH055845U (ja) | 1993-01-26 |
| JPH0721565Y2 true JPH0721565Y2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=13178534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991061691U Expired - Lifetime JPH0721565Y2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 高周波焼入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721565Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010024516A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Fuji Electronics Industry Co Ltd | 高周波焼入装置の浸漬冷却装置 |
| CN114807569A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-07-29 | 重庆钢铁集团三峰工业有限公司 | 一种热处理装置 |
-
1991
- 1991-07-09 JP JP1991061691U patent/JPH0721565Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH055845U (ja) | 1993-01-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |