JPH0720011A

JPH0720011A - Ｘ線顕微鏡用試料カプセル

Info

Publication number: JPH0720011A
Application number: JP5143935A
Authority: JP
Inventors: Hisao Ozeki; 尚夫大関
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1993-06-15
Filing date: 1993-06-15
Publication date: 1995-01-24

Abstract

(57)【要約】【目的】試料観察用のＸ線透過窓とは別にＸ線透過窓
を設けて、Ｘ線の光軸方向の位置決めを精度よく行な
う。【構成】対向させた２枚の平板１０，１１と、これら
の平板１０，１１に挾持されるスペーサ１２と、試料観
察用のＸ線透過窓１０ｃ，１１ｃとからなるＸ線顕微鏡
用試料カプセルにおいて、Ｘ線透過窓１０ｃ，１１ｃと
は別にＸ線透過窓１０ｄ，１１ｄを設け、Ｘ線透過窓１
０ｄ，１１ｄを用いて試料カプセルの位置決めを行なう
ため、Ｘ線の光軸方向の位置決めが精度よく行なわれる
とともに、試料観察用のＸ線透過窓１０ｃ，１１ｃを用
いずに位置決めできるため、観察対象物を損傷せずに済
む。また、Ｘ線透過窓１０ｄ，１１ｄを試料観察用に用
いることができるため、観察対象が異なるごとに試料カ
プセルを取り替えずに済む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、観察試料を装填するＸ
線顕微鏡用試料カプセルに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】波長２〜５ｎｍ程度の軟Ｘ線を用いるＸ
線顕微鏡は、生体を高倍率で観察することができるとい
う特徴を有し、このＸ線顕微鏡で試料を観察する場合、
例えば、特開昭６３−２６３５００号公報、特開昭６３
−２９８２００号公報等に示されるように、観察用の生
体試料を試料カプセルに封入する。

【０００３】図１０は軟Ｘ線を用いるＸ線顕微鏡の概要
を示し、図１１は、種々の材料における軟Ｘ線の波長と
線吸収係数との関係を示す。軟Ｘ線は、Ｘ線と呼ばれる
波長１ｐｍ〜１０ｎｍの領域の電磁波のうち、通常は２
００ｐｍ以上の波長を有するものとされ、波長４００〜
８００ｎｍの可視光線よりも２桁以上も短い波長の電磁
波である。この軟Ｘ線は通過する物質によく吸収され、
種々の物質内における光路単位長さ当りの軟Ｘ線の吸収
率、すなわち線吸収係数は、物質の密度に比例して大き
くなるとともに、一般には軟Ｘ線の波長が長くなる程大
きくなる。但し、図１１（ａ），（ｂ）に示すように、
各物質の分子構造に応じて決まる所定範囲の波長の軟Ｘ
線に対しては、各物質とも線吸収係数の値が小さくな
る。なお、図１１（ａ）において、Ｏ端、Ｎ端、Ｃ端と
は、それぞれ酸素の吸収端、窒素の吸収端、および炭素
の吸収端を示し、この吸収端とは、Ｘ線の波長を変化さ
せた場合に、Ｘ線の吸収率が極端に変化する箇所でのＸ
線の波長をいう。

【０００４】図１０に示すように、Ｘ線顕微鏡は、Ｘ線
発生器１の出力光軸上にコンデンサ光学系２、試料容器
３、結合光学系４、撮像装置５を直列に配置して成り、
Ｘ線発生器１から撮像装置５までのＸ線光学系の光路長
は約２ｍである。また、この光学系全体はＸ線の吸収を
防ぐため、排気系６を有する真空槽７に収納されてい
る。

【０００５】以下、図１０に基づいて、Ｘ線顕微鏡を用
いた試料観察について説明する。観察試料を装填した試
料カプセル８を試料容器３内にセットした後、排気系６
により真空槽７内を真空排気し、真空度を４．８×１０
^-2Ｐａ以下に維持した状態で観察を行なう。Ｘ線発生器
１から射出された軟Ｘ線ビームはコンデンサ光学系２に
より収束され、試料容器３にセットされた試料カプセル
８を通過する。試料カプセル８内の観察試料を通過した
軟Ｘ線は結像光学系４により撮像装置５に導かれ、撮像
装置５上に観察像を結像する。撮像装置５はこの観察像
をモニタ装置９に表示する。

【０００６】軟Ｘ線を用いたＸ線顕微鏡には、軟Ｘ線に
対し１気圧下で２×１０^-3μｍ^-1程度の吸収率を有する
大気による吸収を避けるために、光学系全体をその光路
長に応じた高い真空度に保たなければならないという問
題の他、軟Ｘ線を性能よく収束させるレンズ素子が得に
くい等の問題がある。一方、軟Ｘ線は可視光線よりはる
かに波長が短いため、従来の光学顕微鏡に比べて高い解
像度の試料観察が期待できること、組織培養液によって
生体を液封した試料カプセルを用いて生体の観察ができ
るため、生体試料を損傷することなく長時間の生体試料
の生理観察ができること等の利点がある。このため、Ｘ
線顕微鏡を用いると、電子顕微鏡のような、試料の乾燥
や金属蒸着などの観察対象物に損傷を与える前処理が不
要となる。

【０００７】また、図１１（ａ），（ｂ）に示す、いわ
ゆる水の窓と呼ばれる２．３〜４．４ｎｍの波長領域で
は、水の線吸収係数がＶ字状に急低下する。この波長領
域では、軟Ｘ線の水に対する吸収率と、生体を構成する
タンパク質などに対する吸収率との差が大きい。つま
り、この波長領域の軟Ｘ線を使用すれば、例えば細胞内
に浮遊する小気管などを観察するときに、コントラスト
のよい観察画像が得られる。

【０００８】図１２はＸ線顕微鏡に用いられる従来の試
料カプセル８の構造を示す図であり、図１２（ａ）は試
料カプセル８の試料封入部分の平面構造を示し、図１２
（ｂ）は試料容器３とその内部の試料カプセル８の断面
構造を示す。この試料カプセル８は、Ｘ線透過窓１０
ｃ，１１ｃを形成した２枚のチップ１０，１１の間に円
環状のスペーサ１２を挾持し、その内側の密閉空間に観
察試料を装填するものである。チップ１０，１１は、シ
リコン板１０ａ，１１ａ上に窒化シリコン（Ｓｉ₃Ｎ₄）
薄膜１０ｂ，１１ｂを形成した後、Ｘ線透過窓１０ｃ，
１１ｃに対応する部分のシリコン層をエッチングにより
除去したものである。ここで窒化シリコン薄膜Ｓｉ₃Ｎ₄
を用いるのは、軟Ｘ線に対する線吸収係数が小さく、か
つ膜強度が高いからである。

【０００９】窒化シリコン薄膜１０ｂ，１１ｂの張られ
たＸ線透過窓１０ｃ，１１ｃは、２００μｍ角の正方形
であり、その膜厚は０．０５〜０．１μｍである。膜厚
をこのように薄くするのは、軟Ｘ線の吸収をできるだけ
抑えるためである。チップ１０，１１の対向する薄膜面
１０ｂ，１１ｂの間に挿入されている円環状のスペーサ
１２は試料層の厚さを保持するために用いられ、用途に
応じて１〜１５μｍの範囲内の適切な厚さが選択され
る。例えば、波長２．３ｎｍの軟Ｘ線を用い、窒化シリ
コン薄膜１０ｂ，１１ｂの膜厚をそれぞれ０．１μｍ、
試料層（水）の厚さを１０μｍとすると、窒化シリコン
薄膜の軟Ｘ線透過率は３９％、試料層の透過率は１２．
３％となり、全体では１１％の透過率が確保される。

【００１０】スペーサ１２の表面および裏面にはシール
面が設けられ、スペーサ１２と２枚のチップ１０，１１
を密着固定して試料空間が密閉される。試料容器３を構
成する２枚の平板１３，１４はねじ１５ａ，１５ｂによ
り相互に固定され、Ｏリング１６を介してチップ１０，
１１を対向方向に押圧する。この押圧力により試料カプ
セルが真空中で固定される。また、スペーサを越えて
（通過して）外側に試料液が逃げるような場合や、図１
３（ａ）に示すように、スペーサ１２の形状が円環状で
ない場合、スペーサ１２のみでは試料空間を密閉できな
いため、図１３（ｂ）に示すようなＯリング１６Ａ，１
６Ｂ，１６Ｃを設けることにより、試料容器３が密閉さ
れる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】試料カプセル８をＸ線
顕微鏡にセットする際、Ｘ線透過窓１０ｃの中心に向け
Ｘ線発生器１から軟Ｘ線が照射されるように位置決めす
る。しかし、軟Ｘ線の波長は短いため、軟Ｘ線の光軸方
向で１〜２０μｍの位置決め精度で試料カプセル８の設
置位置を調整する必要があり、それ以上のずれが生じる
と満足のいく観察結果は得られない。このため、試料観
察用のＸ線透過窓１０ｃ，１１ｃ内に位置決め用のアラ
イメントマークを設けて、このアライメントマークに照
明光を照射してその反射光によって光軸方向の位置決め
を行なうことも考えられるが、照明光による照射によっ
て、Ｘ線透過窓内の観察対象物である生体試料を損傷す
るおそれがある。また、レーザ干渉計による位置決め機
構を設け、レーザ光を照射する方式でも同様の問題があ
る。一方、Ｏリング１６でシーリングを行なう側の面の
所定箇所１６ａ（図１２（ｂ）参照）に位置決めのため
のアラインメントマークを設けて同様に位置決めを行な
う場合、アライメントマークを設けた箇所のＸ線光軸方
向の厚さ誤差を１〜２０μｍ内に抑えるのは、研磨精度
の点から容易ではない。さらに、従来のＸ線顕微鏡の試
料カプセルには、Ｘ線透過窓は一組（１０ｃ，１１ｃ）
しか設けられていないため、異なる生体試料を観察する
場合、改めて試料容器３から試料カプセル８を取りはず
してその内部の観察対象物を取り替え、その後再び試料
容器３に装着してまた位置決めを行なわねばならず、大
変に手間がかかり、効率が悪い。

【００１２】本発明の目的は、従来から設けられている
試料観察用のＸ線透過窓とは別のＸ線透過窓を設けるこ
とにより、観察する生体などを損傷することなく軟Ｘ線
の光軸方向の位置決めを精度よく行なうことのできるＸ
線顕微鏡用試料カプセルを提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】実施例を示す図１，２に
対応づけて本発明を説明すると、本発明は、それぞれが
試料観察用のＸ線透過窓１０ｃ，１１ｃを有し互いに対
向された２枚の平板１０，１１と、これらの平板１０，
１１に挾持され試料室を画成するスペーサ１２とを有す
るＸ線顕微鏡用試料カプセルに適用され、平板のＸ線透
過窓１０ｃ，１１ｃと所定距離をおいて、更に他のＸ線
透過窓１０ｄ，１１ｄを設けることにより上記目的が達
成される。請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の
Ｘ線顕微鏡用試料カプセルにおいて、付設したＸ線透過
窓１０ｄ，１１ｄに位置決め用マーク１９を付したもの
である。

【００１４】

【作用】請求項１に記載の発明では、平板１０，１１の
試料観察用のＸ線透過窓１０ｃ，１１ｃと所定距離をお
いて他のＸ線透過窓１０ｄ，１１ｄを設けたため、この
Ｘ線透過窓１０ｄ，１１ｄを用いて試料カプセルの位置
決めができるとともに、このＸ線透過窓１０ｄ，１１ｄ
を試料観察用に用いることができる。請求項２に記載の
発明では、付設したＸ線透過窓１０ｄ，１１ｄに位置決
め用マーク１９を設けるため、位置決めが精度よく行な
える。

【００１５】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。

【００１６】

【実施例】図１は本発明による試料カプセルの一実施例
の構成を示す図であり、（ａ）は試料カプセルの断面構
造を示し、（ｂ）は試料封入側から見た平面構造を示
す。なお、図１２（ａ），（ｂ）に示す従来の試料カプ
セル８と共通する構成部分には同一符号を付しており、
以下では相違点を中心に説明する。この試料カプセル
は、平板状のチップ１０，１１と、円環状のスペーサ１
２から構成される。試料観察用のＸ線透過窓１０ｃ，１
１ｃの周りには、試料液１７の中の観察対象１８の位置
決めを目的とした一組のＸ線透過窓１０ｄ，１１ｄが一
対、フォトリソグラフィ法により、いずれも正方形形状
に形成される。これらの試料観察用のＸ線透過窓１０
ｃ，１１ｃや位置決め用のＸ線透過窓１０ｄ，１１ｄ
は、円環状のスペーサ１２に囲まれるように配置され
る。

【００１７】また、位置決め用のＸ線透過窓１０ｄのあ
るチップ１０上には、図２に示すように、フォトリソグ
ラフィ法により形成されたアライメントマーク１９が設
けられている。なお、この実施例では、両方のチップ１
０，１１に観察対象１８の位置決め用のＸ線透過窓１０
ｄ，１１ｄを設けたが、いずれか一方のチップのみに位
置決め用のＸ線透過窓を設けてもよい。また、一対のＸ
線透過窓１０ｄ，１１ｄを中央のＸ線透過窓１０ｃ，１
１ｃの左右に設けたが、１つだけ、あるいは３つ以上設
けてもよい。

【００１８】以下、図３，４によって、図１に示した試
料カプセルの軟Ｘ線光軸方向の位置決め方法を説明す
る。図３は撮像法による位置決め方法、図４は干渉法に
よる位置決め方法を示す。撮像法による場合、図３のよ
うに、Ｘ線透過窓１０ｄ内のアライメントマーク１９に
対して照明装置２０から照明光を照射し、アライメント
マーク１９で反射された反射光を照明装置２０内に設け
られた不図示のＣＣＤ等で撮像し、その撮像結果のボケ
量によって試料カプセルの位置決めを行なう。干渉法に
よる場合、図４のように、アライメントマーク１９に対
して干渉計２１からレーザを照射し、アライメントマー
ク１９で反射されたレーザを干渉計２１で受光し、その
干渉の強さを検出することで試料カプセルの位置決めを
行なう。

【００１９】また図３，４では、試料観察用のＸ線透過
窓１０ｃの上下にアライメントマーク１９を設けて位置
決めを行なっているため、試料カプセルが軟Ｘ線の光軸
に対して垂直に置かれているか否かの検出もできる。し
たがって、例えば試料カプセルが軟Ｘ線の光軸に対して
斜めに置かれていても、垂直になるようにその位置を修
正できる。図３，４ではチップ１０側で位置決めを行な
っているが、チップ１１側に照明装置２０または干渉計
２１を設けて位置決めを行なってもよく、あるいはチッ
プ１０，１１の両側で位置決めを行なってもよい。

【００２０】このように、試料カプセルに位置決め用の
Ｘ線透過窓１０ｄ，１１ｄを設けることにより、観察対
象物に損傷を与えることなく位置決めができる。また、
Ｘ線透過窓１０ｄ内にアライメントマーク１９を設ける
ため、精密な位置決めが可能となり、かつ照明装置２０
または干渉計２１を用いることにより位置決めの自動化
が図れる。

【００２１】以下、図５，６によって、フォトリソグラ
フィ法による図１に示す試料カプセルの製造方法を各製
造工程ごとに順に説明する。なお、以下では試料カプセ
ルを構成するチップ１０，１１とスペーサ１２とを同時
に製造する例を示すが、それぞれ別々に製造してもよ
い。まず、図５（ａ）では、シリコン（Ｓｉ）基板１０
ａの両面に、スパッタリング、ＣＶＤ法などによりＳｉ
Ｏ₂３０のデポジションを行なう。図５（ｂ）では、上
面のＳｉＯ₂膜３０上にレジスト３１をコーティングし
た後、スペーサ部１２のマスク３２を用いてフォトリソ
グラフィを行なう。図５（ｃ）では、マスク３２のレジ
ストパターンに従ってＣＨＦ3などの材料ガスによりＳ
ｉＯ₂膜３０のドライエッチングを行ない、スペーサ部
１２以外のレジスト３１とＳｉＯ₂膜３０を除去する。
図５（ｄ）では、スペーサ部１２のレジスト３１を剥離
した後、ＳｉＯ₂膜３０の付着していないＳｉ基板１０
ａ部分をドライエッチングする。図５（ｅ）では、両面
に付着しているＳｉＯ₂膜３０をエッチングにより除去
する。図５（ｆ）では、ＣＶＤ法などによりＳｉ基板１
０ａの両面にＸ線透過窓材であるＳｉ₃Ｎ₄１０ｂのデポ
ジションを行なう。

【００２２】図６（ａ）では、Ｓｉ基板１０ａの上面と
下面にレジスト３１をコーティングした後、スクライブ
ライン部のマスク３３を用いてフォトリソグラフィを行
なう。ここで、スクライブラインとは、Ｓｉ基板１０ａ
を試料カプセルの寸法に合わせてカットするための基準
ラインである。図６（ｂ）では、マスク３３のレジスト
パターンに従ってＣＦ4 等の材料ガスによりＳｉ₃Ｎ₄膜
１０ｂのドライエッチングを行ない、上面のレジスト３
１とスクライブライン部３４のＳｉ₃Ｎ₄膜１０ｂを除去
する。図６（ｃ）では、両面にレジスト３１をコーディ
ングした後、下面にＸ線透過窓のマスク３５を用いてフ
ォトリソグラフィを行なう。図６（ｄ）では、マスク３
５のレジストパターンに従ってＣＦ₄等の材料ガスによ
りＳｉ₃Ｎ₄膜のドライエッチングを行ない、レジスト３
１と下面のＸ線透過窓を形成する部分のＳｉ₃Ｎ₄膜１０
ｂを除去する。

【００２３】図７（ａ），（ｂ），（ｃ）では、位置決
め用のアライメントマーク１９を作成する。図７（ａ）
では、上面全体にレジスト３１をコーティングした後、
アライメントマーク部３６のマスク（不図示）を用いて
フォトリソグラフィを行ない、次にドライエッチング等
によりアライメントマーク部３６だけレジスト３１を剥
離する。図７（ｂ）では、メッキ、蒸着あるいはスパッ
タリング等によりＣｒ，Ｎｉ，Ａｕ等の金属膜（以下、
代表してＣｒ膜と呼ぶ）３７を上面全体にコーティング
する。図７（ｃ）では、アライメントマーク部３６のマ
スクを用いてフォトリソグラフィを行なった後、ドライ
エッチング等によりアライメントマーク部３６以外のＣ
ｒ膜３７とレジスト３１を除去する。これにより、図２
に示すアライメントマーク１９が形成される。

【００２４】図７（ｄ）では、水酸化カリウム水溶液
（ＫＯＨ）を用いて、Ｓｉ₃Ｎ₄膜１０ｂのパターンに従
ってＳｉ基板１０ａのウェットエッチングを行ない、Ｘ
線透過窓１０ｃ，１０ｄとスクライブライン３８を形成
する。図７（ｅ）では、スクライブライン３８に従って
Ｓｉ基板１０ａをダイシングし、これによりチップ１０
およびスペーサ１２を備える試料カプセルが完成する。
なお、試料カプセルにスペーサ１２を持たない場合の製
造は、図５（ａ）〜（ｅ）の工程が省略され、図５
（ｆ）以降は同様の手順で行なわれる。

【００２５】図８は、図２に示すアライメントマーク１
９の他の製造方法を示す。図６（ｄ）の後、図８（ａ）
において、メッキ、蒸着あるいはスパッタリング等によ
り、Ｃｒ膜３７を上面全体にコーティングする。図８
（ｂ）では、レジスト３１を上面全体にコーティング
し、アライメントマーク部３６のマスク（不図示）を用
いてフォトリソグラフィを行なった後、ドライエッチン
グ等によりアライメントマーク部３６以外のレジスト３
１を剥離する。図８（ｃ）では、上面全体をウェットエ
ッチングまたはドライエッチングし、レジスト３１がコ
ーティングされているアライメントマーク部３６以外の
Ｃｒ膜３７を除去し、次にアライメントマーク部３６の
レジスト３１を剥離する。これにより図２に示すアライ
メントマーク１９が形成され、以下図７（ｄ）以降の製
造を行なう。

【００２６】図１（ｂ）の例では、位置決め用のＸ線透
過窓１０ｄの形状を正方形にしているが、その形状は実
施例に限定されず、上述した撮像法や干渉法により位置
決めができれば、どのような形状、大きさでもよく、そ
のＸ線透過窓をどのように配置してもよい。また、上記
実施例では、位置決め用のＸ線透過窓１０ｄ、１１ｄを
試料観察用のＸ線透過窓１０ｃの左右１個ずつ各チップ
１０，１１に設けているが、その数は上記実施例に限定
されず、位置決め用のＸ線透過窓の数を増やす程、精度
のよい位置決めが可能となる。

【００２７】なお、上記実施例における位置決め用のＸ
線透過窓１０ｄ，１１ｄを試料観察用に用いてもよい。
すなわち図９に示すように、試料カプセルに試料観察用
のＸ線透過窓４０，４１，４２を設け、試料カプセルを
図示のＸ軸Ｙ軸方向に移動させ、観察したい試料のＸ線
透過窓を軟Ｘ線の光軸上に移動させる。これにより、一
つの試料カプセルで３種類の試料が観察でき、試料を観
察するたびに試料カプセルを取換える必要がなくなると
ともに、その移動の際には軟Ｘ線の光軸方向の距離は変
わらないため、位置決めをやり直さずに済む。また、図
９のＸ線透過窓４０，４２を位置決め用と試料観察用に
兼用してもよい。

【００２８】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、従来から設けられている試料観察用のＸ線透過窓
とは別にＸ線透過窓を設けたため、このＸ線透過窓を用
いてＸ線の光軸方向の位置決めを精度よく行なうことが
でき、試料観察用のＸ線透過窓を用いずに位置決めがで
きるため、観察対象物を損傷することがない。また、新
たに設けたＸ線透過窓を、位置決め用に用いずに試料観
察用に用いることができるため、観察対象が異なるごと
に試料カプセルを取換えなくて済むとともに、Ｘ線の光
軸方向の位置決めもやり直さずに済むため、操作性が向
上する。さらに、請求項２に記載の発明によれば、撮像
法や干渉法によって位置決めを精度よく行なうことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による試料カプセルの一実施例の構成を
示す図であり、（ａ）は断面構造を示す図であり、
（ｂ）は片方のチップを取り除いて試料封入側から見た
平面構造を示す図である。

【図２】Ｘ線透過窓に設けられたアライメントマークを
示す図である。

【図３】撮像法による位置決め方法を示す図である。

【図４】干渉法による位置決め方法を示す図である。

【図５】一実施例のチップおよびスペーサの製造方法を
示す図である。

【図６】一実施例のチップおよびスペーサの製造方法を
示す図である。

【図７】一実施例のチップおよびスペーサの製造方法を
示す図である。

【図８】アライメントマークの他の製造方法を示す図で
ある。

【図９】位置決め用のＸ線透過窓を試料観察用に用いた
図である。

【図１０】従来のＸ線顕微鏡の概要を示す図である。

【図１１】各種物質の軟Ｘ線に対する線吸収係数を示す
図である。

【図１２】従来のＸ線顕微鏡用試料カプセルの構造を示
す図である。

【図１３】従来のＸ線顕微鏡用試料カプセルの他の構造
を示す図である。

【符号の説明】

１０，１１チップ１０ａ，１１ａシリコン板１０ｂ，１１ｂ窒化シリコン膜１０ｃ，１１ｃ試料観察用Ｘ線透過窓１０ｄ，１１ｄ位置決め用Ｘ線透過窓１２スペーサ１７試料液１８観察対象物

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ２１Ｋ 7/00 9215−2Ｇ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】それぞれが試料観察用のＸ線透過窓を有
し互いに対向された２枚の平板と、これらの平板に挾持され試料室を画成するスペーサとを
有するＸ線顕微鏡用試料カプセルにおいて、前記平板のＸ線透過窓と所定距離をおいて、更に他のＸ
線透過窓を設けたことを特徴とするＸ線顕微鏡用試料カ
プセル。
【請求項２】請求項１に記載のＸ線顕微鏡用試料カプ
セルにおいて、前記付設したＸ線透過窓に位置決め用マークを付したこ
とを特徴とするＸ線顕微鏡用試料カプセル。