JP2890579B2 - X線顕微鏡用の試料ホルダ - Google Patents

X線顕微鏡用の試料ホルダ

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JP2890579B2 JP1336471A JP33647189A JP2890579B2 JP 2890579 B2 JP2890579 B2 JP 2890579B2 JP 1336471 A JP1336471 A JP 1336471A JP 33647189 A JP33647189 A JP 33647189A JP 2890579 B2 JP2890579 B2 JP 2890579B2
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、生体の高倍率観察に威力を発揮する軟X線
の透過観察に用いられて好適な液封型の試料カプセル、
特にその破裂防止技術に関する。
[従来の技術] 医学や生物工学等における、生体の高倍率観察に対す
る要求の高まりに対応して、波長2〜5nm程度の軟X線
を用いるX線顕微鏡が注目されており、このX線顕微鏡
を用いて生体観察を行うための試料カプセルとしては、
特開昭63−263500号や同63−298200号に示されるものが
知られている。
第4図は、軟X線を用いるX線顕微鏡の一例の構造を
簡単に示し、また、第5図(a)、(b)は、種々の材
料における軟X線の波長と線吸収係数の関係を示す。
軟X線は、X線と呼ばれる波長1pm〜10nmの領域の電
磁波のうち、通常は、200pm以上の波長を有するものと
され、波長400〜800nmの可視光線よりも2桁以上も短い
波長の電磁波である。また、この軟X線は、透過する物
質に良く吸収され、種々の物質内における光路単位長さ
当りの吸収率、すなわち線吸収係数は、物質の密度に比
例し、一般的には波長が長くなるほど高くなるが、第5
図(a)、(b)にも示されるように、各物質の分子構
造に応じた波長の、低い線吸収係数の領域をいくつか有
する。
第4図において、コンデンサー光学系Cと試料ホルダ
Hと結像光学系Iと撮像装置Kは、X線発生器Gの出力
光軸上に直列に配置され、X線発生器Gから撮像装置K
までのX線光学系の光路長は約2mである。また、この光
学系全体は、排気系Vを有する真空槽R内に納められて
いる。
さて、観察試料を装填した試料カプセルBを試料ホル
ダHにセットした後、排気系Vを作動して真空槽R内を
真空排気し、真空度を4.8×10-2Pa以下に維持した状態
で観察を行う。X線発生器Gから射出された軟X線ビー
ムは、コンデンサー光学系Cにより収束され、試料ホル
ダHにセットされた試料カプセルBを透過する。透過し
た軟X線は、結像光学系Iにより撮像装置K上に結像し
て真空槽R外のモニタ装置Mに観察像を与える。
軟X線を用いたX線顕微鏡は、軟X線に対し1気圧下
で2×10-3μm-1程度の吸収率を有する大気による吸収
を避けるために、光学系全体をその光路長に応じた高い
真空度に保つ必要があり、軟X線の収束に係るレンズ素
子に性能の良いものが得にくい等の欠点を有するが、可
視光線より格段に短い波長のX線を用いるため、従来の
光学顕微鏡よりも高い解像度を期待できる。また、生体
の直接観察を透過材料越しに行うことが可能で、組成培
養液とともに生体を液封した試料カプセルを用いれば、
生体試料を損傷することなく長時間にわたるその生理観
察を実行できる。従って、電子ビームを試料表面に対し
て直接照射する電子顕微鏡の場合のような、試料の乾燥
や金属蒸着等、観察物にダメージを与える前処理を不要
とすることができる。
また、第5図(a)の水に対する線吸収係数において
V字状に示されている、水の窓と呼ばれる水に対し同係
数が低い波長領域(2.3nm〜4.4nm)においては、第5図
(a)に示されるように、軟X線の水に対する吸収率
と、生体を構成する蛋白質等に対する吸収率との差が大
きい。従って、この波長領域の軟X線を使用すれば、例
えば細胞内に浮遊する小器官等を観察する場合に、その
観察画像のコントラストが良いという利点もある。
ところで、上述したように軟X線は、種々の物質によ
り簡単に吸収されてしまうから、軟X線光路中に挿入さ
れる、観察試料を気密封入した試料カプセルにおいて
は、その試料層の厚さを薄く採るとともに、密閉を兼ね
た観察窓材の軟X線の吸収量を極力小さくする必要があ
る。従って、この窓材には、軟X線に対する線吸収係数
が低くて膜強度も高い材料、例えば第5図(b)の窒化
シリコンSi3N4等を薄膜形成したものが一般的に採用さ
れている。
第3図は、従来の試料カプセル及び試料容器からなる
試料ホルダの構造を説明するためのもので、(a)は、
試料カプセルに用いられるスペーサの構造を、また
(b)は、試料カプセル及び試料容器からなる試料ホル
ダの断面構造を示す。本従来例は、X線透過窓1c、2cを
形成した2枚のチップ1、2の間にリング状のスペーサ
3Rを挿入し、スペーサ3Rの内側の密閉空間に試料液を保
持するものである。
第3図(a)、(b)において、チップ1、2は、シ
リコン板1a、2a上に窒化シリコン薄膜1b、2bを形成した
後に、X線透過窓1c、2cに相当する部分のシリコン層を
エッチングにより除去したものである。ここで、中央の
矢印のようにX線を透過させるための、薄膜1b、2bの張
られたX線透過窓1c、2cは200μm角の正方形であり、
その膜厚は、0.05〜0.1μmである。
また、チップ1、2の対向する薄膜面の間に挿入され
る円環状のスペーサ3Rは、試料層の厚さを保持するもの
で、用途に応じて1〜15μmの範囲で適切な厚さのもの
が選択される。例えば、軟X線の波長を2.3nmに選択し
て、窒化シリコン薄膜1b、2b膜厚をそれぞれ0.1μm、
また試料層(水)の厚さを10μmとすれば、それぞれの
軟X線透過率は39%、27.3%となり、全体では約11%の
透過率が確保される。
一方、スペーサ3Rは、表裏両面にシール面を有し、2
枚のチップ1、2と密着して円環の内側の試料空間の密
封を行う機能を兼ね備える。また、試料容器4R、5Rは、
ねじ6により相互に固定されるとともに、Oリング8を
介してその内部に納めたチップ1、2を対向方向に押圧
するためのもので、この押圧力によりスペーサ3Rとチッ
プ1、2の接触面に、試料カプセルを真空中で保持する
ために必要な密着性が付与される。
[発明が解決しようとする課題] 従来例の試料カプセルにおいては、チップ1上にスペ
ーサ3Rを載置して、その内側に液状の観察試料、例えば
培養液中に浮遊させた細胞を滴定した後、チップ2をか
ぶせ、試料容器4R、5Rに納めねじ6で固定して試料準備
を完了する。ところが、このときチップ1、2とスペー
サ3Rとで密閉された試料空間中の培養液も圧縮状態とな
り、内圧を高めてX線透過窓1c、2cの窒化シリコン薄膜
1b、2bを破裂させる事故が発生した。また、試料装填時
に破裂しなくても、後に第4図のX線顕微鏡にセットし
て真空排気を行った際に破裂する可能性があるため、窒
化シリコン薄膜1b、2b強度の安全率を高く採り、その厚
さを必要以上に厚く形成しておく必要があった。
本発明は、観察試料を装填する際にその内圧が高まら
ない、安全確実な試料カプセル及び試料容器からなる試
料ホルダを提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明に係わる試料ホルダは、対向させた2枚のX線
透過窓付平板と両平板間の距離を保持するスペーサとか
らなるX線顕微鏡用試料カプセル及びカプセルを収容す
る試料容器からなるX線顕微鏡用試料ホルダであって、
試料カプセルはスペーサの一部に試料の逃げ口を有し、
試料容器はカプセルを外部より遮断する真空シールを有
することを特徴とするものである。
[作用] 本発明に係る試料カプセルにおいては、スペーサを挟
んで対向した平板間の、スペーサの内側の空間に液状の
試料を保持した状態で、一方のX線透過窓から他方の窓
へ軟X線を透過させて観察を行う。
一方、スペーサには、その一部に試料の逃げ口が開い
ているから、試料の内圧が高まるとここから試料があふ
れ出して内圧の上昇を緩和する。従って、例えば試料装
填時に、両平板を対向方向に押圧してスペーサが変形す
るような場合においても試料内圧の上昇量は小さく、観
察窓に対する負荷もあまり大きくならない。ここで、ス
ペーサ自体は試料の密閉機能を持たないから、試料カプ
セルを真空中に保持するためには、スペーサの外部に密
閉手段を設ける必要があるが、これは、スペーサの外側
の基板間に設けた環状のシール部材としても良いが、両
平板の対向しない面をシール面とする密閉容器等として
も良い。この密閉手段とスペーサの間に形成された空間
が、あふれ出た観察試料を受け止めるとともに、スペー
サ内の試料空間における圧力上昇を緩和する。
[本発明の実施例] 本発明の実施例を図面を参照して説明する。ここで、
第3図(a)、(b)の従来例の場合と同様な構造と機
能を有する部材には同一の符号を付してその説明を省略
する。
第1図は、本発明の第1実施例に係る試料カプセル及
び試料容器からなる試料ホルダの構造を説明するための
もので、(a)は、試料カプセルに用いられるスペーサ
の構造を、また(b)は、試料カプセル及び試料容器か
らなる試料ホルダの断面構造を示す。本実施例は、試料
の逃げ道3aを形成したスペーサ3およびチップ1、2
(平板)で構成される試料空間の密閉を、試料容器4、
5に備えた3つのOリングシール8及び8aで行うもので
ある。
第1図(a)において、チップ1上に載置されたスペ
ーサ3は、X線透過窓1c、2cに相当する部分を含む面積
の長方形の試料空間と、試料の逃げ道である溝部3aとを
備える。
また、第1図(b)において、チップ1、2を収納し
た試料容器4、5は、X線透過窓1c、2cを露出させる窓
と、この窓に沿ったOリング8によるチップ1、2に対
する環状のシール面と、試料容器4、5相互間のOリン
グ8aによるシール面とを有する。この3つのシール面で
閉じられた空間が、スペーサ3内部の試料空間を含む、
外部に対する密閉空間である。
ところで、本実施例において、チップ1、2の製作は
次の手順で行った。
まず、シリコン板1a、2a上にLP−CVD法により窒化シ
リコン薄膜を形成した。プロセス条件は、減圧された雰
囲気ガス(NH3ガスおよびSiH2Cl2ガス)中で700〜900℃
に温度維持したシリコン板1a、2aの表裏両面に窒化シリ
コンSi3N4層を気相成長させ、内部応力が109〜1011dyn/
cm2に制御された薄膜1b、2bを形成した。このLP−CVD法
は、量産性に優れ、膜中の内部欠陥が少なく、膜の内部
応力のコントロールも容易である。
次に、裏面の窒化シリコン薄膜にフォトリソグラフィ
法により、X線透過窓1c、2cに相当する孔を形成し、こ
の孔から異方性エッチングによりシリコン層を、表面の
窒化シリコン板1b、2bに達するまで除去した。ここで、
エッチング液にはエチレンジアミンとピロカテコールと
水の混合液を用いた。
以上により、窒化シリコン薄膜1b、2bの張られたX線
透過窓1c、2cを有するチップ1、2を得た。
さて、チップ1上にスペーサ3を載置してその内側に
液状の観察試料を滴定し、チップ2をかぶせた後に、こ
れを試料容器4、5に納めてねじ6で締付けると、Oリ
ングシール8及び8aによる各シール面に必要なシール機
能が付与されるとともに、圧縮された試料空間からスペ
ーサ3の溝部3aを通って余分な試料があふれ出して、試
料空間の圧力上昇が緩和される。
ところで、スペーサは、この実施例の形状および材料
に限定されないから、スペーサは、金属、プラスチック
ス、ガラス等の箔を貼付けても良いし、メッキや蒸着に
より所定厚さの膜を形成しても良い。また、シリコンを
エッチングして所定厚さの段差を形成した後、窒化シリ
コン膜を付け、スペーサとしても良い。簡単には、感光
性レジストまたは感光性ガラスを用いて、所定厚さに塗
布後、第2図にも示されるような形状に露光、現像して
得ることができる。なお形状は第2図に示したものは一
例であり、これに限られないが、逃げ口の幅としては、
0.1〜1.5mmが適当である。
第2図(a)〜(d)は、本発明の別の実施例に係る
試料カプセルに用いられるそれぞれのスペーサの構造を
示す。
第2図(a)のスペーサ3Aは、その内側に、チップ
1、2のX線透過窓1c、2cよりも格段に大きな試料空間
面積を形成するが、X線透過窓1c、2cに相当する部分に
受け部3bが設けられているから、この試料カプセルを縦
型に保持した際に、培養液中の細胞等が沈降してX線透
過窓1c、2cから外れることが避けられる。
また、第2図(b)のスペーサ3Bは、X線透過窓1c、
2cに相当する試料空間から上下左右4方向に溝部3aが形
成されている。これらの溝部3aは細いので、圧力がかか
った場合以外には液体の流動が無い。
また、第2図(c)のスペーサ3Cは、X線透過窓1c、
2cに相当する試料空間の上部に十分な培養液を蓄えられ
るように、空間を設けたものである。
また、第2図(d)のスペーサ3は、試料空間を大き
く取ったものである。
また、この他にも、例えばスペーサ3を多孔性の材料
で形成して圧力上昇分の液体を吸収させたり、スペーサ
3の一部分をダイアフラム状に形成して圧力上昇分を外
部にふくらませる構造としたりする等の変形が可能であ
り、スペーサ3はチップ1に固定されたものでも良い。
[発明の効果] 本発明に係る試料カプセルでは、内圧が上昇すると、
スペーサに形成された試料の逃げ口から余分な液体試料
があふれ出て、内圧の上昇を緩和するから、観察窓に対
する負荷はあまり大きくならない。従って、観察窓の厚
さは必要最小限とすることが可能で、これを薄くすれ
ば、軟X線の透過率が増してより鮮明な画像を得ること
も可能である。また、従来のようなスペーサ内に装填す
る試料の量の厳密な制御が不要となり、試料装填後の試
料カプセル取扱いも自由となる。さらに、頻繁に試料の
詰替えや再使用を行っても試料カプセルおよび各構成部
材の寿命も伸び、信頼性も向上するから、観察作業全体
における能率化、材料費の低減を容易に達成できる。
【図面の簡単な説明】 第1図は、本発明の実施例に係る試料カプセル及び試料
容器からなる試料ホルダの構造を示し、(a)は、試料
カプセルに用いられるスペーサの平面図、(b)は、試
料カプセル及び試料容器からなる試料ホルダを示した断
面図である。 第2図(a)〜(d)は、本発明の別の実施例に係る試
料カプセルにそれぞれ用いられるスペーサの平面図であ
る。 第3図は、従来例の試料カプセル及び試料容器からなる
試料ホルダの構造を示したもので、(a)は、試料カプ
セルに用いられるスペーサの平面図、(b)は、試料カ
プセル及び試料容器からなる試料ホルダを示した断面図
である。 第4図は、一般的な、軟X線を用いるX線顕微鏡の構成
を示す模式図である。 第5図(a)(b)は、各種物質の軟X線に対する線吸
収係数を示す線図である。 [主要部分の符号の説明] 1、2……チップ、3……スペーサ 4、5……試料容器、3a……溝部 1c、2c……X線透過窓 8a……本発明のシール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01N 1/28 G01N 23/04 G21K 7/00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】対向させた2枚のX線透過窓付平板と両平
    板間の距離を保持するスペーサとからなるX線顕微鏡用
    試料カプセル及び該カプセルを収容する試料容器からな
    るX線顕微鏡用試料ホルダであって、 前記試料カプセルは前記スペーサの一部に試料の逃げ口
    を有し、 前記試料容器は前記カプセルを外部より遮断する真空シ
    ールを有する ことを特徴とするX線顕微鏡用試料ホルダ。
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