JPH07194571A - 核スピン共鳴装置におけるシムコイル及び傾斜磁場コイルを流れる電流の調整方法 - Google Patents
核スピン共鳴装置におけるシムコイル及び傾斜磁場コイルを流れる電流の調整方法Info
- Publication number
- JPH07194571A JPH07194571A JP5094199A JP9419993A JPH07194571A JP H07194571 A JPH07194571 A JP H07194571A JP 5094199 A JP5094199 A JP 5094199A JP 9419993 A JP9419993 A JP 9419993A JP H07194571 A JPH07194571 A JP H07194571A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- pulse
- gradient
- gradient magnetic
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 claims description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 238000003325 tomography Methods 0.000 claims description 6
- 238000000079 presaturation Methods 0.000 claims description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 31
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 238000000264 spin echo pulse sequence Methods 0.000 description 6
- 238000002592 echocardiography Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 230000003340 mental effect Effects 0.000 description 2
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 2
- 238000012552 review Methods 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 101100377706 Escherichia phage T5 A2.2 gene Proteins 0.000 description 1
- 206010034912 Phobia Diseases 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002405 diagnostic procedure Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 208000019899 phobic disease Diseases 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/44—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance using nuclear magnetic resonance [NMR]
- G01R33/48—NMR imaging systems
- G01R33/54—Signal processing systems, e.g. using pulse sequences ; Generation or control of pulse sequences; Operator console
- G01R33/56—Image enhancement or correction, e.g. subtraction or averaging techniques, e.g. improvement of signal-to-noise ratio and resolution
- G01R33/565—Correction of image distortions, e.g. due to magnetic field inhomogeneities
- G01R33/56563—Correction of image distortions, e.g. due to magnetic field inhomogeneities caused by a distortion of the main magnetic field B0, e.g. temporal variation of the magnitude or spatial inhomogeneity of B0
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/385—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field using gradient magnetic field coils
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3875—Compensation of inhomogeneities using correction coil assemblies, e.g. active shimming
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 できるだけ高い均質性（均一性）が短時間に
達成されるように当該磁場のシミング方法を実現するこ
とが本発明の目的である。 【構成】 先ず（傾斜）磁場不均一性を求めるため勾配
エコーシーケンス又はスピンエコーシーケンス動作が非
中心位置の１８０°高周波パルスを以て実施される。そ
のようにして得られた核スピン共鳴信号（Ｓ）をフーリ
ェ変換し、それにより、所定の方向の核スピンの位相カ
ーブを求める。上記ステップを両極性の傾斜磁場パルス
（ＧＲＯ）の種々異なる方向を以て多重に（複数回）繰
返す。当該の得られた位相カーブをＦｉｔ方法で解析
し、上記のＦｉｔ方法で得られた、ｉ（番目の）次
（数）の多項式から、当該の磁場分布を表わすｉ次の球
面調和関数の係数を求め当該オフセット電流を求める。
達成されるように当該磁場のシミング方法を実現するこ
とが本発明の目的である。 【構成】 先ず（傾斜）磁場不均一性を求めるため勾配
エコーシーケンス又はスピンエコーシーケンス動作が非
中心位置の１８０°高周波パルスを以て実施される。そ
のようにして得られた核スピン共鳴信号（Ｓ）をフーリ
ェ変換し、それにより、所定の方向の核スピンの位相カ
ーブを求める。上記ステップを両極性の傾斜磁場パルス
（ＧＲＯ）の種々異なる方向を以て多重に（複数回）繰
返す。当該の得られた位相カーブをＦｉｔ方法で解析
し、上記のＦｉｔ方法で得られた、ｉ（番目の）次
（数）の多項式から、当該の磁場分布を表わすｉ次の球
面調和関数の係数を求め当該オフセット電流を求める。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は核スピン共鳴装置におけ
るシムコイル及び傾斜磁場コイルを流れる電流の調整方
法に関する。
るシムコイル及び傾斜磁場コイルを流れる電流の調整方
法に関する。
【０００２】核スピン共鳴装置においては、基本磁場の
均質性（均一性）は結像品質にとって決定的な要因であ
る。像生成に際して画像領域にて磁場不均質性によって
は磁場偏差に比例する幾何学的ひずみが生ぜしめられ
る。特に重要であるのはエコープレーナ法における磁場
不均質性（不均一性）である。
均質性（均一性）は結像品質にとって決定的な要因であ
る。像生成に際して画像領域にて磁場不均質性によって
は磁場偏差に比例する幾何学的ひずみが生ぜしめられ
る。特に重要であるのはエコープレーナ法における磁場
不均質性（不均一性）である。
【０００３】更に、スペクトロスコピーの領域では、当
該スペクトル線にて十分な分解能を達成するために、磁
場不均質性（不均一性）に対して高い要求が課せられ
る。磁場不均質性（非均質性）によってはスペクトル線
の重畳が生ぜしめられる。
該スペクトル線にて十分な分解能を達成するために、磁
場不均質性（不均一性）に対して高い要求が課せられ
る。磁場不均質性（非均質性）によってはスペクトル線
の重畳が生ぜしめられる。
【０００４】論文“Ａｓｐｅｃｔｓ ｏｆ ｓｈｉｍｍ
ｉｎｇ ａ ｓｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｗｈｏ
ｌｅ ｂｏｄｙ ＭＲＩ ｍａｇｎｅｔ”，Ｇ．Ｆｒｅ
ｓｔｅｔ ａｌ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈ
ｅ ９ｔｈ Ｉｎｔ．Ｃｏｎｆ．ｏｎ Ｍａｇ． Ｔｅ
ｃｈｎ． Ｚｕｅｒｉｃｈ， ９．−１３．９．１９８
５，第２４９−２５１頁において述べられているよう
に、磁場は球面調和関数の展開係数により表現され得
る。上記の論文からは磁場偏差が電気的シムコイルによ
り補償され得ることも既に公知である。直線的磁場偏差
即ち１次の磁場誤差は次のようにしても補償され得る、
即ち傾斜磁場コイルにオフセット電流即ち勾配パルスシ
ーケンスに重畳される一定の電流を供給することによっ
ても補償され得る。
ｉｎｇ ａ ｓｕｐｅｒｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｗｈｏ
ｌｅ ｂｏｄｙ ＭＲＩ ｍａｇｎｅｔ”，Ｇ．Ｆｒｅ
ｓｔｅｔ ａｌ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ ｏｆ ｔｈ
ｅ ９ｔｈ Ｉｎｔ．Ｃｏｎｆ．ｏｎ Ｍａｇ． Ｔｅ
ｃｈｎ． Ｚｕｅｒｉｃｈ， ９．−１３．９．１９８
５，第２４９−２５１頁において述べられているよう
に、磁場は球面調和関数の展開係数により表現され得
る。上記の論文からは磁場偏差が電気的シムコイルによ
り補償され得ることも既に公知である。直線的磁場偏差
即ち１次の磁場誤差は次のようにしても補償され得る、
即ち傾斜磁場コイルにオフセット電流即ち勾配パルスシ
ーケンスに重畳される一定の電流を供給することによっ
ても補償され得る。
【０００５】磁場均質性（不均一性）への比較的高い要
求のある場合は直線的磁場偏差のみならず、比較的高次
の磁場偏差をも補償しなければならない。このために、
傾斜磁場コイルのほかに付加的に、適当な電流を供給さ
るべき特別なシムコイルが設けられる。画像生成におい
て、シミング、即ち、個々のシムコイルを介しての当該
電流の調整、及び場合により傾斜磁場コイルのオフセッ
ト電流の調整が、有利に夫々の患者の検査前に、スペク
トロスコピーでは典型的に各測定前に実施される。
求のある場合は直線的磁場偏差のみならず、比較的高次
の磁場偏差をも補償しなければならない。このために、
傾斜磁場コイルのほかに付加的に、適当な電流を供給さ
るべき特別なシムコイルが設けられる。画像生成におい
て、シミング、即ち、個々のシムコイルを介しての当該
電流の調整、及び場合により傾斜磁場コイルのオフセッ
ト電流の調整が、有利に夫々の患者の検査前に、スペク
トロスコピーでは典型的に各測定前に実施される。
【０００６】最適の磁場均質性を得るための傾斜磁場コ
イルに対するオフセット電流及びシムコイルに対する電
流の調整は複雑な問題を提起しており、この問題は従来
屡々繰返し（逐次）式に解決されていた。繰返し（逐
次）式手法は相当時間を要し、その結果核スピントモグ
ラフィにおける患者の滞留時間が延長される。このこと
は患者に対する心的（精神的）負担に鑑みて（殊に密閉
室恐怖症のある場合）も、患者に対する診断検査処置能
力の制約に鑑みても不利である。
イルに対するオフセット電流及びシムコイルに対する電
流の調整は複雑な問題を提起しており、この問題は従来
屡々繰返し（逐次）式に解決されていた。繰返し（逐
次）式手法は相当時間を要し、その結果核スピントモグ
ラフィにおける患者の滞留時間が延長される。このこと
は患者に対する心的（精神的）負担に鑑みて（殊に密閉
室恐怖症のある場合）も、患者に対する診断検査処置能
力の制約に鑑みても不利である。
【０００７】磁石の一般的シミングのための非反復性
（非逐次性）手法は次の論文中に記載されている。
（非逐次性）手法は次の論文中に記載されている。
【０００８】論文“Ｆａｓｔ，ｎｏｎ−ｉｔｅｒａｔｉ
ｖｅ ｓｈｉｍｍｉｎｇ ｏｆ ｓｐａｔｉａｌｌｙ
ｌｏｃａｌｉｚｅｄ ｓｉｇｎａｌｓ”ｉｎ Ｊｏｕｒ
ｎａｌ ｏｆ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃ
ｅ， Ｓ．３２３ ｂｉｓ ３３４（１９９２）。その
場合、複数の投影の方向での核スピンの位相が、生成さ
れたエコーシーケンスにより求められる。位相特性に基
いて、当該投影にて磁気的特性経過が測定され、もっ
て、球面調和関数での磁場の表現の際当該係数が求めら
れ得る。核シムコイルはｎ次及びｍ次数（オーダ）の球
面調和関数に対応付けられている。上述の手法により求
められた係数はシムコイル供給さるべき電流に対する尺
度として使用される。
ｖｅ ｓｈｉｍｍｉｎｇ ｏｆ ｓｐａｔｉａｌｌｙ
ｌｏｃａｌｉｚｅｄ ｓｉｇｎａｌｓ”ｉｎ Ｊｏｕｒ
ｎａｌ ｏｆ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｒｅｓｏｎａｎｃ
ｅ， Ｓ．３２３ ｂｉｓ ３３４（１９９２）。その
場合、複数の投影の方向での核スピンの位相が、生成さ
れたエコーシーケンスにより求められる。位相特性に基
いて、当該投影にて磁気的特性経過が測定され、もっ
て、球面調和関数での磁場の表現の際当該係数が求めら
れ得る。核シムコイルはｎ次及びｍ次数（オーダ）の球
面調和関数に対応付けられている。上述の手法により求
められた係数はシムコイル供給さるべき電流に対する尺
度として使用される。
【０００９】
【発明の目的】本発明の目的ないし課題とするところは
できるだけ高い均質性（均一性）が短時間に達成される
ように当該磁場のシミング方法を実現することである。
できるだけ高い均質性（均一性）が短時間に達成される
ように当該磁場のシミング方法を実現することである。
【００１０】
【発明の構成】上記課題は請求項１の構成要件により解
決され、さらに、選択的実施例にて請求項２〜４の構成
要件により解決される。有利な実施態様は引用請求項に
記載されている。
決され、さらに、選択的実施例にて請求項２〜４の構成
要件により解決される。有利な実施態様は引用請求項に
記載されている。
【００１１】次に本発明の実施例を図１〜図３４を用い
て説明する。
て説明する。
【００１２】
【図面の説明】公知のように、核スピントモグラフィー
における核スピン共鳴信号の局所分解が次のようにして
行なわれる、即ち、１テスラのオーダの均質なスタチッ
クな基本磁場に直線的磁場勾配ないし傾斜磁場が重畳さ
れるようにするのである。画像生成の原理、方式は例え
ば、論文Ｂｏｔｔｏｍｌｅｙ著述“ＮＭＲ−ｉｍａｇｉ
ｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａ
ｔｉｏｎｓ：Ａ ｒｅｖｉｅｗ”ｉｎ Ｒｅｖｉｅｗ
ｏｆ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｎｓｔｒｕｍ．，５３
（９），９／８２，第１３１９ ｂｉｓ １３３７頁、
に記載されている。
における核スピン共鳴信号の局所分解が次のようにして
行なわれる、即ち、１テスラのオーダの均質なスタチッ
クな基本磁場に直線的磁場勾配ないし傾斜磁場が重畳さ
れるようにするのである。画像生成の原理、方式は例え
ば、論文Ｂｏｔｔｏｍｌｅｙ著述“ＮＭＲ−ｉｍａｇｉ
ｎｇ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａ
ｔｉｏｎｓ：Ａ ｒｅｖｉｅｗ”ｉｎ Ｒｅｖｉｅｗ
ｏｆ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ Ｉｎｓｔｒｕｍ．，５３
（９），９／８２，第１３１９ ｂｉｓ １３３７頁、
に記載されている。
【００１３】３つのディメンションでの局所分解のた
め、３つの有利に相互に垂直の方向で磁場勾配ないし傾
斜磁場が形成されねばならない。図１及び図２にはそれ
ぞれの磁場勾配の方向を表わすべき直交座標Ｘ，Ｙ，Ｚ
が夫々示してある。図１はＹ方向での傾斜磁場ＧＹを形
成するための傾斜磁場コイルの従来配置構成を示す。傾
斜磁場コイル２は鞍形コイルとして構成されており、こ
のコイルは支持管１上に取付けられている。導体セクシ
ョン２ａにより、球状被検体積１１内部に、Ｙ方向に著
しく一定の傾斜磁場ＧＹが生ぜしめられる。当該戻り導
体によっては被検体積１１からの比較的大きな距離に基
づき、そこにはたんに無視可能な成分のみが生ぜしめら
れる。
め、３つの有利に相互に垂直の方向で磁場勾配ないし傾
斜磁場が形成されねばならない。図１及び図２にはそれ
ぞれの磁場勾配の方向を表わすべき直交座標Ｘ，Ｙ，Ｚ
が夫々示してある。図１はＹ方向での傾斜磁場ＧＹを形
成するための傾斜磁場コイルの従来配置構成を示す。傾
斜磁場コイル２は鞍形コイルとして構成されており、こ
のコイルは支持管１上に取付けられている。導体セクシ
ョン２ａにより、球状被検体積１１内部に、Ｙ方向に著
しく一定の傾斜磁場ＧＹが生ぜしめられる。当該戻り導
体によっては被検体積１１からの比較的大きな距離に基
づき、そこにはたんに無視可能な成分のみが生ぜしめら
れる。
【００１４】Ｘ傾斜磁場に対する傾斜磁場コイルはＹ傾
斜磁場コイル２と同じように構成されており、ただし、
支持管１上で９０°だけ方位方向に回転されている。
斜磁場コイル２と同じように構成されており、ただし、
支持管１上で９０°だけ方位方向に回転されている。
【００１５】更に、図１には同じく鞍形コイルとして構
成されているシムコイル４〜６が示してある。シムコイ
ル４〜６はたんに略示してあるに過ぎず、シムコイルの
設計についての説明は例えば米国特許第３５６９８２３
号明細書になされている。各シムコイル４〜６には夫々
電流給電部Ｉ４〜Ｉ６が配属されており、これら電流給
電部はそれぞれのシムコイル４〜６に電流Ｉ４〜Ｉ６を
供給する。当該電流Ｉ４〜Ｉ６は計算ユニットＣを介し
て可調整である。
成されているシムコイル４〜６が示してある。シムコイ
ル４〜６はたんに略示してあるに過ぎず、シムコイルの
設計についての説明は例えば米国特許第３５６９８２３
号明細書になされている。各シムコイル４〜６には夫々
電流給電部Ｉ４〜Ｉ６が配属されており、これら電流給
電部はそれぞれのシムコイル４〜６に電流Ｉ４〜Ｉ６を
供給する。当該電流Ｉ４〜Ｉ６は計算ユニットＣを介し
て可調整である。
【００１６】Ｚ方向での傾斜磁場に対する傾斜磁場コイ
ル３は図２には略示してある。当該コイルはリング状に
構成されており、被検体積１１の中心点に対して対称的
に配置されている。２つの個別コイル３ａ，３ｂはここ
には図２に示す形式で逆方向に電流が流れるので、Ｚ方
向に傾斜磁場を生じさせる。更に図２には−やはりたん
に略示してあるが−本事例ではリング状のシムコイル７
〜９が示してあり、これらシムコイルは同様に電流給電
部ＳＨ４〜ＳＨ６を介して、電流Ｉ４〜Ｉ６の供給を受
ける。上記電流Ｉ４〜Ｉ６はやはり計算ユニットＣによ
り可制御である。
ル３は図２には略示してある。当該コイルはリング状に
構成されており、被検体積１１の中心点に対して対称的
に配置されている。２つの個別コイル３ａ，３ｂはここ
には図２に示す形式で逆方向に電流が流れるので、Ｚ方
向に傾斜磁場を生じさせる。更に図２には−やはりたん
に略示してあるが−本事例ではリング状のシムコイル７
〜９が示してあり、これらシムコイルは同様に電流給電
部ＳＨ４〜ＳＨ６を介して、電流Ｉ４〜Ｉ６の供給を受
ける。上記電流Ｉ４〜Ｉ６はやはり計算ユニットＣによ
り可制御である。
【００１７】傾斜磁場コイルの構成についての詳細な説
明はＥＰ−Ａ１−００７３４０２になされている。更に
図１及び図２には傾斜磁場コイル２，３に対する電流給
電部はＶが示してある。夫々の傾斜磁場コイル２，３を
流れる電流は測定シーケンスを設定する（与える）パル
ス発生器Ｐと電流に対する発生器Ｏとによって定められ
る。ＰとＯの出力信号は相加えられる。
明はＥＰ−Ａ１−００７３４０２になされている。更に
図１及び図２には傾斜磁場コイル２，３に対する電流給
電部はＶが示してある。夫々の傾斜磁場コイル２，３を
流れる電流は測定シーケンスを設定する（与える）パル
ス発生器Ｐと電流に対する発生器Ｏとによって定められ
る。ＰとＯの出力信号は相加えられる。
【００１８】既述の論文Ｆｒｅｓｔ ｅｔ ａｌ“Ａｓ
ｐｅｃｔｓ ｏｆ ｓｈｉｍｍｉｎｇ ａ ｓｕｐｅｒ
ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｗｈｏｌｅ ｂｏｄｙ ＭＲＩ
ｍａｇｎｅｔ”にて述べられているように、磁場は球
面調和関数に基づき表示表現され得る。磁場のここで専
ら関心のある（注目すべき）軸方向成分ＢＺについては
下記関係式が成立つ。
ｐｅｃｔｓ ｏｆ ｓｈｉｍｍｉｎｇ ａ ｓｕｐｅｒ
ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ ｗｈｏｌｅ ｂｏｄｙ ＭＲＩ
ｍａｇｎｅｔ”にて述べられているように、磁場は球
面調和関数に基づき表示表現され得る。磁場のここで専
ら関心のある（注目すべき）軸方向成分ＢＺについては
下記関係式が成立つ。
【００１９】
【数１】
【００２０】但し、Ｒ，θ，φはベクトルｒの球面座標
である。Ｒは結像（写像）さるべき体積の半径である。
Ｐ（ｎ，ｍ）は次数ｎ及びｍ次（オーダ）の相応のルジ
ャンドル（Ｌｅｇｅｎｄｒｅ）−多項式である。Ａ
（ｎ，ｍ）及びＢ（ｎ，ｍ）は球面調和関数の係数であ
る。当該係数Ａ（ｏ，ｏ）は均質な基本磁場を表わし、
他のすべての係数が均質性偏差を表わす。同様に既に引
用された米国特許第３，５６９，８２３号明細書に記載
されているように、シムコイルを次のように構成でき
る、即ち、実質的に、それらの係数のうちの１つに影響
を与え、即ちそれらの係数に相応する磁場障害（ノイ
ズ）を補償するように構成できる。
である。Ｒは結像（写像）さるべき体積の半径である。
Ｐ（ｎ，ｍ）は次数ｎ及びｍ次（オーダ）の相応のルジ
ャンドル（Ｌｅｇｅｎｄｒｅ）−多項式である。Ａ
（ｎ，ｍ）及びＢ（ｎ，ｍ）は球面調和関数の係数であ
る。当該係数Ａ（ｏ，ｏ）は均質な基本磁場を表わし、
他のすべての係数が均質性偏差を表わす。同様に既に引
用された米国特許第３，５６９，８２３号明細書に記載
されているように、シムコイルを次のように構成でき
る、即ち、実質的に、それらの係数のうちの１つに影響
を与え、即ちそれらの係数に相応する磁場障害（ノイ
ズ）を補償するように構成できる。
【００２１】実際上は勿論、限られた数のシムコイルの
みしか設けられ得ず、それにより、球面調和関数の上述
の係数の相応の数が零にセットされ得る。核スピントモ
グラフィー及びスペクトロスコピーにおいて、高い要求
の場合にも一般に、９つの非直線性のシムコイルで事足
り、その結果３つの傾斜磁場コイルと共に１２の球面係
数（これらは磁場分布に最も強く障害を与える）は零に
され得る。
みしか設けられ得ず、それにより、球面調和関数の上述
の係数の相応の数が零にセットされ得る。核スピントモ
グラフィー及びスペクトロスコピーにおいて、高い要求
の場合にも一般に、９つの非直線性のシムコイルで事足
り、その結果３つの傾斜磁場コイルと共に１２の球面係
数（これらは磁場分布に最も強く障害を与える）は零に
され得る。
【００２２】シミングのため、先ず、存在する磁場経過
を検出することが必要である。
を検出することが必要である。
【００２３】
【実施例の説明】本発明の方法を以下図３〜図１０を用
いて説明する。
いて説明する。
【００２４】図３は従来の勾配エコーシーケンスを示
し、ここでは高周波励起パルスＲＦの後励起されたスピ
ンが傾斜磁場ＧROにより先ずディフェーズされ、次い
で、当該傾斜磁場ＧROの反転によりリフェイズされる。
当該傾斜磁場ＧROを別として完全に均質な磁場におい
て、時点ｔ0にて、勾配エコー信号Ｓが現われ、その際
当該時点ｔ0は次のようにして規定される、即ち有効傾
斜磁場ＧROについての時間積分が零になるようにして規
定される。
し、ここでは高周波励起パルスＲＦの後励起されたスピ
ンが傾斜磁場ＧROにより先ずディフェーズされ、次い
で、当該傾斜磁場ＧROの反転によりリフェイズされる。
当該傾斜磁場ＧROを別として完全に均質な磁場におい
て、時点ｔ0にて、勾配エコー信号Ｓが現われ、その際
当該時点ｔ0は次のようにして規定される、即ち有効傾
斜磁場ＧROについての時間積分が零になるようにして規
定される。
【００２５】
【数２】
【００２６】図４は同じパルス列を示すが、但し、当該
基本磁場には本例では直線的として仮定された、均質性
磁場ＢＩが当該傾斜磁場ＧROの方向で重畳されている。
傾斜磁場ＧROの方向での当該の直線的均質磁場が、上記
傾斜磁場ＧROに加えられ、而して、今や、エコー条件が
早目に充足され、換言すれば、当該信号Ｓは通常のエコ
ー時点ｔ0より時間間隔ｔ1だけ前に現われる。
基本磁場には本例では直線的として仮定された、均質性
磁場ＢＩが当該傾斜磁場ＧROの方向で重畳されている。
傾斜磁場ＧROの方向での当該の直線的均質磁場が、上記
傾斜磁場ＧROに加えられ、而して、今や、エコー条件が
早目に充足され、換言すれば、当該信号Ｓは通常のエコ
ー時点ｔ0より時間間隔ｔ1だけ前に現われる。
【００２７】図５は図３の勾配エコーシーケンスを示
し、ここで、負の直線的磁場偏差が、傾斜磁場ＧROの方
向で生じる。そこでそれによって、エコー時点は通常の
エコー時点ｔ0より時間間隔Δｔ2だけ後に位置する。
し、ここで、負の直線的磁場偏差が、傾斜磁場ＧROの方
向で生じる。そこでそれによって、エコー時点は通常の
エコー時点ｔ0より時間間隔Δｔ2だけ後に位置する。
【００２８】要するに時間ずれΔｔは傾斜磁場ＧROの方
向での直線的磁場偏差に対する尺度である。
向での直線的磁場偏差に対する尺度である。
【００２９】均質磁場についての情報を勾配エコーによ
ってのみならず、図６〜図８の実施例ではスピンエコー
により得ることができる。説明の都合上、図６に先ず従
来のスピンエコーシーケンスを示す。その際高周波パル
スＨＦにつづいて傾斜磁場Ｇがつづき、次いで、１８０
°高周波パルスＲＦ＊がつづき、更に、傾斜磁場Ｇ＊が
つづき、このＧ＊のもとで、スピンエコー信号Ｓが読出
される。当該時間全体中傾斜磁場Ｇの方向に、直線状均
質磁場ＢＩ、すなわち、１次の均質磁場が作用する。こ
の均質磁場は傾斜磁場の方向での付加的傾斜磁場に相応
する。
ってのみならず、図６〜図８の実施例ではスピンエコー
により得ることができる。説明の都合上、図６に先ず従
来のスピンエコーシーケンスを示す。その際高周波パル
スＨＦにつづいて傾斜磁場Ｇがつづき、次いで、１８０
°高周波パルスＲＦ＊がつづき、更に、傾斜磁場Ｇ＊が
つづき、このＧ＊のもとで、スピンエコー信号Ｓが読出
される。当該時間全体中傾斜磁場Ｇの方向に、直線状均
質磁場ＢＩ、すなわち、１次の均質磁場が作用する。こ
の均質磁場は傾斜磁場の方向での付加的傾斜磁場に相応
する。
【００３０】通常の場合において、当該１８０°高周波
パルスＲＦ＊は高周波パルスＲＦとスピンエコー信号Ｓ
との間の中央に配置されている。それによって、一定の
均質磁場がスピンエコー信号Ｓの位置に影響を与えない
ようになる、それというのは１８０°高周波パルスＲＦ
＊の右、左側で傾斜磁場面積は等しいからである。
パルスＲＦ＊は高周波パルスＲＦとスピンエコー信号Ｓ
との間の中央に配置されている。それによって、一定の
均質磁場がスピンエコー信号Ｓの位置に影響を与えない
ようになる、それというのは１８０°高周波パルスＲＦ
＊の右、左側で傾斜磁場面積は等しいからである。
【００３１】均質磁場ＢＩを求めるため、図７の第１の
シーケンスでは１８０°高周波パルスＲＦ＊が中央位置
に対して左方へずらされている。均質磁場がないとすれ
ばスピンエコーＳ１の位置へ何ら影響、作用が及ぼされ
なくなる、それというのも、エコー条件にとって傾斜磁
場ＧＩ，ＧＩ＊の傾斜磁場面積のみが規定的となるから
である。ところが、当該の直線的均質磁場によってはエ
コー信号Ｓ１は左方へシフトされる（要するに早めに生
じる）ようになる。このことは第１の高周波パルスＲＦ
１と１８０°高周波パルスＲＦ＊との間の面積と、１８
０°高周波パルスＲＦ＊とエコー信号Ｓ１との間の総合
面積との比較により明らかになる。
シーケンスでは１８０°高周波パルスＲＦ＊が中央位置
に対して左方へずらされている。均質磁場がないとすれ
ばスピンエコーＳ１の位置へ何ら影響、作用が及ぼされ
なくなる、それというのも、エコー条件にとって傾斜磁
場ＧＩ，ＧＩ＊の傾斜磁場面積のみが規定的となるから
である。ところが、当該の直線的均質磁場によってはエ
コー信号Ｓ１は左方へシフトされる（要するに早めに生
じる）ようになる。このことは第１の高周波パルスＲＦ
１と１８０°高周波パルスＲＦ＊との間の面積と、１８
０°高周波パルスＲＦ＊とエコー信号Ｓ１との間の総合
面積との比較により明らかになる。
【００３２】第２高周波パルスＲＦ２と、第２傾斜磁場
パルスＧ２とを有する第２シーケンスにおいて、１８０
°高周波パルスＲＦ２＊は中央位置に対して右方へシフ
トされる。それにより、所属のスピンエコー信号Ｓ２へ
の均質磁場ＢＪの作用により右方へシフトされ、このこ
とは同じく有効傾斜磁場面積の比較により明らかにな
る。
パルスＧ２とを有する第２シーケンスにおいて、１８０
°高周波パルスＲＦ２＊は中央位置に対して右方へシフ
トされる。それにより、所属のスピンエコー信号Ｓ２へ
の均質磁場ＢＪの作用により右方へシフトされ、このこ
とは同じく有効傾斜磁場面積の比較により明らかにな
る。
【００３３】もって、図７及び図８による両シーケンス
におけるエコー位置の比較により、時間差Δｔが求めら
れ得、この時間差は同じく直線的磁場不均一性ＢＩに対
する尺度を成す。
におけるエコー位置の比較により、時間差Δｔが求めら
れ得、この時間差は同じく直線的磁場不均一性ＢＩに対
する尺度を成す。
【００３４】要するに、エコー時点のシフトに基づき、
所定の方向での直線的磁場不均一性（非均質性）を当該
の方向での傾斜磁場を有するスピンエコーシーケンス又
は勾配エコーシーケンスにより検出し得る。当該時間差
の直接測定の欠点とするところはそれによっては直線的
磁場偏差しか検出されず、エコー中心（センタ）の所要
の検出がさして簡単ではないことである。一般的種類の
磁場不均一性（非均質性）はエコー信号のフーリエ変換
後得られた位相カーブの解析により求められ得これにつ
いては以下説明する。
所定の方向での直線的磁場不均一性（非均質性）を当該
の方向での傾斜磁場を有するスピンエコーシーケンス又
は勾配エコーシーケンスにより検出し得る。当該時間差
の直接測定の欠点とするところはそれによっては直線的
磁場偏差しか検出されず、エコー中心（センタ）の所要
の検出がさして簡単ではないことである。一般的種類の
磁場不均一性（非均質性）はエコー信号のフーリエ変換
後得られた位相カーブの解析により求められ得これにつ
いては以下説明する。
【００３５】完全に均質（均一）な磁場の場合或１つの
勾配エコーのすべてのスピンは同じ位相位置を有する。
要するに当該エコー信号をフーリエ変換し位相位置に関
し評価する際、スピン位置について位相位置状態の一定
値が得られる。図９には完全に均質の磁場の場合に対す
るエコー位置（ポジション）及び位相カーブが示してあ
る。勾配エコーは丁度通常のエコー位置ｔ0を有し、ス
ピン位置ＳＰに関して略示された位相Ｐｈはスピン位置
ＳＰに無関係に一定の値を有する。
勾配エコーのすべてのスピンは同じ位相位置を有する。
要するに当該エコー信号をフーリエ変換し位相位置に関
し評価する際、スピン位置について位相位置状態の一定
値が得られる。図９には完全に均質の磁場の場合に対す
るエコー位置（ポジション）及び位相カーブが示してあ
る。勾配エコーは丁度通常のエコー位置ｔ0を有し、ス
ピン位置ＳＰに関して略示された位相Ｐｈはスピン位置
ＳＰに無関係に一定の値を有する。
【００３６】図１０には図５に相応して、負の直線的磁
場偏差、即ち、傾斜磁場ＧROの方向での１次の磁場分布
が示してある。この場合において、エコー時点は右方へ
シフトされており、当該位相カーブは次のような勾配を
有する、即ちエコー時間シフトに精確に相応すると共に
傾斜磁場ＧROの方向での１次の均質磁場についての情報
を表わす勾配を有する。同様の場合（事例）は図１１に
正の直線的磁場偏差（すなわち同じく１次の非均質磁場
ないし不均一磁場）に対して示してある。
場偏差、即ち、傾斜磁場ＧROの方向での１次の磁場分布
が示してある。この場合において、エコー時点は右方へ
シフトされており、当該位相カーブは次のような勾配を
有する、即ちエコー時間シフトに精確に相応すると共に
傾斜磁場ＧROの方向での１次の均質磁場についての情報
を表わす勾配を有する。同様の場合（事例）は図１１に
正の直線的磁場偏差（すなわち同じく１次の非均質磁場
ないし不均一磁場）に対して示してある。
【００３７】ところが、フーリエ変換を用いては１次の
磁場偏差のみならず、比較的に高い次数の磁場偏差をも
検出できる。図１２は左方に時間領域における信号を示
し、ここには当該磁場は１次の磁場不均一性を有しない
が２次の磁場不均一性を有する。その場合、エコー時点
はシフトされないが、エコーは拡げられる。個々のスピ
ンの略示した位相位置を以ての所属の位相カーブは２次
の磁場不均一性を表わす。
磁場偏差のみならず、比較的に高い次数の磁場偏差をも
検出できる。図１２は左方に時間領域における信号を示
し、ここには当該磁場は１次の磁場不均一性を有しない
が２次の磁場不均一性を有する。その場合、エコー時点
はシフトされないが、エコーは拡げられる。個々のスピ
ンの略示した位相位置を以ての所属の位相カーブは２次
の磁場不均一性を表わす。
【００３８】図１３は比較的に高い次数の磁場不均一性
（非均質性磁場）に係わる。ここには磁場不均一性（非
均質性磁場）に関する時間信号は直接的にはもはや情報
内容を含まない。但し、当該位相カーブは比較的に高次
の磁場不均一性（非均質性磁場）をも明瞭に表わす。
（非均質性磁場）に係わる。ここには磁場不均一性（非
均質性磁場）に関する時間信号は直接的にはもはや情報
内容を含まない。但し、当該位相カーブは比較的に高次
の磁場不均一性（非均質性磁場）をも明瞭に表わす。
【００３９】要するに一般的に云って、勾配エコー又は
スピンエコーの生成、得られた核共鳴信号のフーリエ変
換、及び、それにより得られた位相情報の評価により、
適用された傾斜磁場の方向での磁場（特性）経過が求め
られ得る。第ｎ次の不均一磁場（非均質磁場）は同じ次
数の位相カーブにおいて有効性が現われる。磁場不均一
性（非均質磁場）についての十分な情報を得るには複数
の傾斜磁場方向（以下たんに投影と称される）に対する
その種プロセスが実施されねばならない。所要の投影の
数は球面調和関数による磁場の表現における、磁場不均
一性（非均質磁場）を表わす次の幾つが補償さるべきで
あるかに依存する。要するに、除去さるべき球面調和関
数の各係数が、投影により求められねばならない。所要
の投影の数をわずかにするために、当該投影軸は次のよ
うに選択される、即ち個々の係数への作用、影響ができ
るだけ簡単に選別識別され得るように選択される。表１
中には（図２０）通常磁場不均一性（非均質磁場）への
最高の寄与度を与える１２の球面係数Ａ（ｎ，ｍ）、Ｂ
（ｎ，ｍ）が示してある。上記係数は式（１）に相応す
る基本磁場の表示、表現に係わる。更に同じ列（欄、コ
ラム）には当該成分に対して直交座標記号表示を略称で
示してある。
スピンエコーの生成、得られた核共鳴信号のフーリエ変
換、及び、それにより得られた位相情報の評価により、
適用された傾斜磁場の方向での磁場（特性）経過が求め
られ得る。第ｎ次の不均一磁場（非均質磁場）は同じ次
数の位相カーブにおいて有効性が現われる。磁場不均一
性（非均質磁場）についての十分な情報を得るには複数
の傾斜磁場方向（以下たんに投影と称される）に対する
その種プロセスが実施されねばならない。所要の投影の
数は球面調和関数による磁場の表現における、磁場不均
一性（非均質磁場）を表わす次の幾つが補償さるべきで
あるかに依存する。要するに、除去さるべき球面調和関
数の各係数が、投影により求められねばならない。所要
の投影の数をわずかにするために、当該投影軸は次のよ
うに選択される、即ち個々の係数への作用、影響ができ
るだけ簡単に選別識別され得るように選択される。表１
中には（図２０）通常磁場不均一性（非均質磁場）への
最高の寄与度を与える１２の球面係数Ａ（ｎ，ｍ）、Ｂ
（ｎ，ｍ）が示してある。上記係数は式（１）に相応す
る基本磁場の表示、表現に係わる。更に同じ列（欄、コ
ラム）には当該成分に対して直交座標記号表示を略称で
示してある。
【００４０】表１（図２６）の係数を求めるため磁場特
性経過を次の投影で求めるのが有利であることが判って
いる、即ち：Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、軸Ｘ＝Ｙ、軸Ｘ＝−
Ｙ、軸Ｘ＝Ｚ、軸Ｘ＝−Ｚ、軸Ｙ＝Ｚ、軸Ｙ＝−Ｚを決
定すると有利であることが判っている。表１には球面係
数Ａ（ｎ，ｍ）、Ｂ（ｎ，ｍ）により表わされる非均質
磁界がどのように当該投影に作用を及ぼすかが示されて
いる。その際、γは原点からの距離間隔を示し、αは係
数を表わす。例えば次の関係性が認められる。
性経過を次の投影で求めるのが有利であることが判って
いる、即ち：Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、軸Ｘ＝Ｙ、軸Ｘ＝−
Ｙ、軸Ｘ＝Ｚ、軸Ｘ＝−Ｚ、軸Ｙ＝Ｚ、軸Ｙ＝−Ｚを決
定すると有利であることが判っている。表１には球面係
数Ａ（ｎ，ｍ）、Ｂ（ｎ，ｍ）により表わされる非均質
磁界がどのように当該投影に作用を及ぼすかが示されて
いる。その際、γは原点からの距離間隔を示し、αは係
数を表わす。例えば次の関係性が認められる。
【００４１】係数Ａ２．０により表わされる磁場不均一
性はすべての投影に影響を及ぼす。係数Ａ２．２により
表わされる磁場不均一性はＸ、Ｙ、Ｘ＝Ｚ、Ｙ＝Ｚ、Ｙ
＝−Ｚの投影に影響を及ぼす。
性はすべての投影に影響を及ぼす。係数Ａ２．２により
表わされる磁場不均一性はＸ、Ｙ、Ｘ＝Ｚ、Ｙ＝Ｚ、Ｙ
＝−Ｚの投影に影響を及ぼす。
【００４２】係数Ｂ２．２により表わされる磁場不均一
性は投影Ｘ＝Ｙ、Ｘ＝−Ｙにおいて現われる、即ち、Ｘ
／Ｙ平面内で４５°又は１３５°を有する軸上に現われ
る。当該のテーブルに基づき、すべての１２の球面（調
和関数）係数が求められ得る。
性は投影Ｘ＝Ｙ、Ｘ＝−Ｙにおいて現われる、即ち、Ｘ
／Ｙ平面内で４５°又は１３５°を有する軸上に現われ
る。当該のテーブルに基づき、すべての１２の球面（調
和関数）係数が求められ得る。
【００４３】実際上フーリエ変換により得られた位相カ
ーブは次のように評価される、即ち、フーリエ変換の後
先ず、平滑化、次いでＦｉｔプロセス（手法）を実施
し、これにより多項係数が得られ、この多項係数を式
（１）の多項式−係数に関連付けるように評価される。
もって、歩進的に、表１からすべての多項式−係数を求
め得、従って、球面係数が得られる。当該プロセス（手
法）の精度は各投影ごとに１回の測定を行なうのみなら
ず複数回の測定を平均化することにより、改善され得
る。実際上、更に、表１の９回の測定のみにとどまらな
い、それは、オフセット−効果を除去しなければならな
いからである。このことは図４及び図５を用いて示され
得る。当該時間ずれ−Δｔ1をオフセットなしで求める
ため、傾斜磁場ＧROの逆極性を以て同一シーケンスを経
過させ得る。もって、負の時間ずれ−Δｔ1（図４）は
正の時間ずれ＋Δｔ1となり、両時間の差から、実際の
時間ずれが求められ得る。このことは相応にフーリエ変
換方式にも、比較的に高い次数の項にも当嵌まる。
ーブは次のように評価される、即ち、フーリエ変換の後
先ず、平滑化、次いでＦｉｔプロセス（手法）を実施
し、これにより多項係数が得られ、この多項係数を式
（１）の多項式−係数に関連付けるように評価される。
もって、歩進的に、表１からすべての多項式−係数を求
め得、従って、球面係数が得られる。当該プロセス（手
法）の精度は各投影ごとに１回の測定を行なうのみなら
ず複数回の測定を平均化することにより、改善され得
る。実際上、更に、表１の９回の測定のみにとどまらな
い、それは、オフセット−効果を除去しなければならな
いからである。このことは図４及び図５を用いて示され
得る。当該時間ずれ−Δｔ1をオフセットなしで求める
ため、傾斜磁場ＧROの逆極性を以て同一シーケンスを経
過させ得る。もって、負の時間ずれ−Δｔ1（図４）は
正の時間ずれ＋Δｔ1となり、両時間の差から、実際の
時間ずれが求められ得る。このことは相応にフーリエ変
換方式にも、比較的に高い次数の項にも当嵌まる。
【００４４】図１４には有利に表により１２の球面係数
を求めるため用いられるパルスシーケンスを示す。その
場合、ＡＤＣによっては夫々核スピン共鳴信号に対する
走査インターバルを示す。Ｘ−、Ｙ−、Ｚ−投影は夫々
１２回、傾斜磁場の異なる極性を以て実施される。残り
の投影（Ｘ＝Ｙ、Ｘ＝−Ｙ、Ｘ＝Ｚ、Ｘ＝−Ｚ、Ｙ＝
Ｚ、Ｙ＝−Ｚ）は夫々一度実施される。Ｘ−、Ｙ−、Ｚ
−投影に対する第２測定により夫々、オフセット効果の
除去のための基準量が得られる。
を求めるため用いられるパルスシーケンスを示す。その
場合、ＡＤＣによっては夫々核スピン共鳴信号に対する
走査インターバルを示す。Ｘ−、Ｙ−、Ｚ−投影は夫々
１２回、傾斜磁場の異なる極性を以て実施される。残り
の投影（Ｘ＝Ｙ、Ｘ＝−Ｙ、Ｘ＝Ｚ、Ｘ＝−Ｚ、Ｙ＝
Ｚ、Ｙ＝−Ｚ）は夫々一度実施される。Ｘ−、Ｙ−、Ｚ
−投影に対する第２測定により夫々、オフセット効果の
除去のための基準量が得られる。
【００４５】シム方法を、検査体積全体に関連づけない
で、各投影方向に対して１つのブロック（これは投影の
方向に延在する）に関連づけることも有利である。この
ことは図１５〜図１９に示されているようなパルスシー
ケンスを用いて予備飽和により行なわれ得る。その場合
第１の周波数選択性高周波パルスＲＦ１が、傾斜磁場Ｇ
ｙ（図１８）と共に入力照射され、その結果Ｙ方向に対
して垂直方向のスライス（層）が励起される。それにひ
きつづいて、３つのスポイラ傾斜磁場Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇ
ｚ、次いで別の高周波パルスＲＦ２が起こり、この別の
高周波パルスＲＦ２は第１高周波パルスＲＦ１とは異な
る周波数スペクトルを有し、同様に傾斜磁場Ｇｙのもと
に作用印加される。さらに、３つのスポイラ傾斜磁場が
つづいている。これまで説明されたパルスシーケンスに
より、Ｙ軸に対して垂直方向に位置する中心のスライス
(層)外に位置するすべてのスピンが飽和される。さらな
る高周波パルスＲＦ３，ＲＦ４（これらは夫々傾斜磁場
Ｇｚ(図１９)の作用下で投入印加される）および、各高
周波パルスＲＦ３，ＲＦ４につづくスポイラー（スポイ
リング）傾斜磁場によっては、すべてのスピン、即ちＺ
軸に対して垂直に位置する中心スライス（層）外にある
すべてのスピンが飽和される。それにより、Ｘ方向に延
在するブロック（図２０）のスピンのみが非飽和状態に
おかれる。当該の事前（予備）飽和の後、なお非飽和状
態のスピンが、さらなる高周波パルスＲＦ５で励起さ
れ、前掲の例におけるように勾配エコーＳが読出され
る。当該パルスシーケンスは前述のように複数方向に対
して実施されなければならない。
で、各投影方向に対して１つのブロック（これは投影の
方向に延在する）に関連づけることも有利である。この
ことは図１５〜図１９に示されているようなパルスシー
ケンスを用いて予備飽和により行なわれ得る。その場合
第１の周波数選択性高周波パルスＲＦ１が、傾斜磁場Ｇ
ｙ（図１８）と共に入力照射され、その結果Ｙ方向に対
して垂直方向のスライス（層）が励起される。それにひ
きつづいて、３つのスポイラ傾斜磁場Ｇｘ、Ｇｙ、Ｇ
ｚ、次いで別の高周波パルスＲＦ２が起こり、この別の
高周波パルスＲＦ２は第１高周波パルスＲＦ１とは異な
る周波数スペクトルを有し、同様に傾斜磁場Ｇｙのもと
に作用印加される。さらに、３つのスポイラ傾斜磁場が
つづいている。これまで説明されたパルスシーケンスに
より、Ｙ軸に対して垂直方向に位置する中心のスライス
(層)外に位置するすべてのスピンが飽和される。さらな
る高周波パルスＲＦ３，ＲＦ４（これらは夫々傾斜磁場
Ｇｚ(図１９)の作用下で投入印加される）および、各高
周波パルスＲＦ３，ＲＦ４につづくスポイラー（スポイ
リング）傾斜磁場によっては、すべてのスピン、即ちＺ
軸に対して垂直に位置する中心スライス（層）外にある
すべてのスピンが飽和される。それにより、Ｘ方向に延
在するブロック（図２０）のスピンのみが非飽和状態に
おかれる。当該の事前（予備）飽和の後、なお非飽和状
態のスピンが、さらなる高周波パルスＲＦ５で励起さ
れ、前掲の例におけるように勾配エコーＳが読出され
る。当該パルスシーケンスは前述のように複数方向に対
して実施されなければならない。
【００４６】図１５〜図１９によるパルスシーケンスの
実施例は前述のパルスシーケンスと異なって、Ｘ−方向
での運動−リフォーカシング（再収束）する傾斜磁場パ
ルス（これはＧＭＲ（ｇｒａｄｉｅｎｔ ｍｏｔｉｏｎ
ｒｅｆｏｃｕｓｓｉｎｇ）で示す）を含む（図１
７）。上記の両極性傾斜磁場によっては運動アーケファ
クトが回避され得る。運動リフォーカシングパルスの作
用は例えば米国特許第４６１６１８０号明細書に記載さ
れている。
実施例は前述のパルスシーケンスと異なって、Ｘ−方向
での運動−リフォーカシング（再収束）する傾斜磁場パ
ルス（これはＧＭＲ（ｇｒａｄｉｅｎｔ ｍｏｔｉｏｎ
ｒｅｆｏｃｕｓｓｉｎｇ）で示す）を含む（図１
７）。上記の両極性傾斜磁場によっては運動アーケファ
クトが回避され得る。運動リフォーカシングパルスの作
用は例えば米国特許第４６１６１８０号明細書に記載さ
れている。
【００４７】更に、当該シーケンスの終りにて、なお、
依然として位相コヒーレンスを損なうＸ方向でのスポイ
ラー傾斜磁場ＧＳ（図１７）が示してあり、その結果、
他の投影に対するさらなるパルスシーケンスが直ちにつ
づいて実施され得る。
依然として位相コヒーレンスを損なうＸ方向でのスポイ
ラー傾斜磁場ＧＳ（図１７）が示してあり、その結果、
他の投影に対するさらなるパルスシーケンスが直ちにつ
づいて実施され得る。
【００４８】ブロック形式の被検体積の選択（これは前
述の例では事前磁化によって達成されている）は選択的
励起によっても達成され得る。相応の実施例を図２１〜
図２５を用いて説明する。
述の例では事前磁化によって達成されている）は選択的
励起によっても達成され得る。相応の実施例を図２１〜
図２５を用いて説明する。
【００４９】図２１は図２２によるスライス（層）選択
傾斜磁場ＧSL1の作用下で作用印加される周波数選択性
の９０°高周波パルスＲＦ１を示す。それにより、第１
スライス選択傾斜磁場ＧSL1に対して垂直のスライスが
励起される。それにひきつづいて、第１スライス選択傾
斜磁場ＧSL1の反転によっては正の部分パルスで惹起さ
れたディフエーズが再び解消される。後続の、同様に周
波数選択性の１８０°−高周波パルスにより、スピン集
合ないし母集団（ｓｐｉｍｐｏｐｕｌｄｔｉｏｎ）が反
転される。１８０°−高周波パルスは第２のスライス選
択傾斜磁場が第１のスライス選択傾斜磁場に対して垂直
である。従って、１８０°−高周波パルスＲＦ２によ
り、選択的に次のような核スピンが反転される、即ち、
第２スライス選択傾斜磁場ＧSL2の方向に対して垂直な
スライス内に位置する核スピンのみが反転される、更
に、読出傾斜磁場ＧROが負の方向に作用印加され、次い
で反転される。読出傾斜磁場ＧROの正の部分のもとに、
核スピン共鳴信号が読出され、このことは図２５中個々
の走査時点ＡＤで示される。
傾斜磁場ＧSL1の作用下で作用印加される周波数選択性
の９０°高周波パルスＲＦ１を示す。それにより、第１
スライス選択傾斜磁場ＧSL1に対して垂直のスライスが
励起される。それにひきつづいて、第１スライス選択傾
斜磁場ＧSL1の反転によっては正の部分パルスで惹起さ
れたディフエーズが再び解消される。後続の、同様に周
波数選択性の１８０°−高周波パルスにより、スピン集
合ないし母集団（ｓｐｉｍｐｏｐｕｌｄｔｉｏｎ）が反
転される。１８０°−高周波パルスは第２のスライス選
択傾斜磁場が第１のスライス選択傾斜磁場に対して垂直
である。従って、１８０°−高周波パルスＲＦ２によ
り、選択的に次のような核スピンが反転される、即ち、
第２スライス選択傾斜磁場ＧSL2の方向に対して垂直な
スライス内に位置する核スピンのみが反転される、更
に、読出傾斜磁場ＧROが負の方向に作用印加され、次い
で反転される。読出傾斜磁場ＧROの正の部分のもとに、
核スピン共鳴信号が読出され、このことは図２５中個々
の走査時点ＡＤで示される。
【００５０】すべての核共鳴信号は或領域から由来する
ものであり、該領域は一方では９０°高周波パルスによ
り励起されるスライス中に位置しなければならず、更
に、１８０°−高周波パルスＲＦ２により反転される層
（スライス）内に位置するものである。従って、図示の
パルスシーケンスによっては２つの選択されたスライス
の断面集合体に相応する体積がしらべられる。このこと
は図２０に相応するブロック内に示してあり、その際当
該ブロックの長手方向が、スライス選択傾斜磁場
ＧSL1，ＧSL2の方向により選択され得る。当該ブロック
の厚さは高周波パルスＲＦ１，ＲＦ２の周波数スペクト
ルにより定まる。
ものであり、該領域は一方では９０°高周波パルスによ
り励起されるスライス中に位置しなければならず、更
に、１８０°−高周波パルスＲＦ２により反転される層
（スライス）内に位置するものである。従って、図示の
パルスシーケンスによっては２つの選択されたスライス
の断面集合体に相応する体積がしらべられる。このこと
は図２０に相応するブロック内に示してあり、その際当
該ブロックの長手方向が、スライス選択傾斜磁場
ＧSL1，ＧSL2の方向により選択され得る。当該ブロック
の厚さは高周波パルスＲＦ１，ＲＦ２の周波数スペクト
ルにより定まる。
【００５１】図６及び図８を用いて上述したように、次
のような際のみスピンエコーシーケンスにおける当該不
均一性（非均質性）についての情報が得られる、即ち、
１８０°高周波励起パルスＲＦ２が高周波励起パルスＦ
Ｒ１とエコー時点Ｔｅとの間で中央に位置しない際のみ
当該の情報が得られる。図２１〜図２５によるパルスシ
ーケンスではエコー時点Ｔｅ＊からの実際のエコー時点
Ｔｅの間隔がΔＴｅで示してあり、当該エコー時点Ｔｅ
＊から見て１８０°高周波パルスＲＦ２が中心に位置す
る（センタリングされる）べきものである。
のような際のみスピンエコーシーケンスにおける当該不
均一性（非均質性）についての情報が得られる、即ち、
１８０°高周波励起パルスＲＦ２が高周波励起パルスＦ
Ｒ１とエコー時点Ｔｅとの間で中央に位置しない際のみ
当該の情報が得られる。図２１〜図２５によるパルスシ
ーケンスではエコー時点Ｔｅ＊からの実際のエコー時点
Ｔｅの間隔がΔＴｅで示してあり、当該エコー時点Ｔｅ
＊から見て１８０°高周波パルスＲＦ２が中心に位置す
る（センタリングされる）べきものである。
【００５２】直線的磁場誤差の補正に限定する場合、傾
斜磁場にオフセット電流を加えることで十分である。こ
れまで述べた一般的手法の簡単な特別事例として適当な
オフセット電流を求める手法は図２７及び図２８を用い
て説明する。
斜磁場にオフセット電流を加えることで十分である。こ
れまで述べた一般的手法の簡単な特別事例として適当な
オフセット電流を求める手法は図２７及び図２８を用い
て説明する。
【００５３】先ず、被検体積に９０°−高周波パルスＲ
Ｆが作用印加される。時点Ｔ1から時点Ｔ2まで傾斜磁場
コイルのうちの１つに電流が供給され、この電流によっ
ては負のＸ−、Ｙ−又はＺ−方向に傾斜磁場Ｇ１~が生
ぜしめられる。傾斜磁場Ｇ１~の上昇時間はΔＴで示さ
れ、同じ下降時間は同様にΔＴで示され、それの振幅は
−Ａdeで示される。それにひきつづいて、電流方向が傾
斜磁場コイルにより反転され、それにより生じる、正の
Ｘ−，Ｙ−又はＺ−方向の傾斜磁場がＧ１+で示され、
それの振幅はＡrdで、そしてそれの上昇ないし下降時間
はΔＴで示される。
Ｆが作用印加される。時点Ｔ1から時点Ｔ2まで傾斜磁場
コイルのうちの１つに電流が供給され、この電流によっ
ては負のＸ−、Ｙ−又はＺ−方向に傾斜磁場Ｇ１~が生
ぜしめられる。傾斜磁場Ｇ１~の上昇時間はΔＴで示さ
れ、同じ下降時間は同様にΔＴで示され、それの振幅は
−Ａdeで示される。それにひきつづいて、電流方向が傾
斜磁場コイルにより反転され、それにより生じる、正の
Ｘ−，Ｙ−又はＺ−方向の傾斜磁場がＧ１+で示され、
それの振幅はＡrdで、そしてそれの上昇ないし下降時間
はΔＴで示される。
【００５４】傾斜磁場反転によってはＨＦパルスＲＴ１
で励起されたスピンが、公知のようにリフォーカミング
され、その結果時点Ｔｅにて、勾配エコー信号Ｓが生じ
る。公知のように、エコーの時点は次のようにして与え
られる、即ち、正の傾斜磁場成分Ｇ１+の時間積分が、
負の傾斜磁場成分Ｇ１~の時間積分に等しくなければな
らない、又は、―換言すれば、―両傾斜磁場成分Ｇ１
~，Ｇ１+のもとでの積分が等しくなければならないとい
うことにより与えられる。
で励起されたスピンが、公知のようにリフォーカミング
され、その結果時点Ｔｅにて、勾配エコー信号Ｓが生じ
る。公知のように、エコーの時点は次のようにして与え
られる、即ち、正の傾斜磁場成分Ｇ１+の時間積分が、
負の傾斜磁場成分Ｇ１~の時間積分に等しくなければな
らない、又は、―換言すれば、―両傾斜磁場成分Ｇ１
~，Ｇ１+のもとでの積分が等しくなければならないとい
うことにより与えられる。
【００５５】基本磁場が傾斜磁場Ｇ１の方向で一定でな
い場合はそれにより与えられる不所望の傾斜磁場は次の
ような傾斜磁場に重畳される、即ち、相応の傾斜磁場コ
イルを流れる電流により惹起される傾斜磁場に重畳され
る。それにより惹起される傾斜磁場オフセットは図２７
の実施例では正であって、Ａoffで示されている。エコ
ー条件（正の傾斜磁場面積＝負の傾斜磁場面積）の場
合、磁場不均質性により惹起される傾斜磁場オフセット
Ａoffが考慮されるべきであり、図２７の実施例ではエ
コー信号Ｓ１は左方へシフトされるようになる。図２７
では傾斜磁場オフセットＡoffの考慮下で作用する（有
効な）負の面積が点点で示されており、正の面積はハッ
チングで示されている。両面積はエコー信号Ｓの発生の
ためには等しくなければならない。
い場合はそれにより与えられる不所望の傾斜磁場は次の
ような傾斜磁場に重畳される、即ち、相応の傾斜磁場コ
イルを流れる電流により惹起される傾斜磁場に重畳され
る。それにより惹起される傾斜磁場オフセットは図２７
の実施例では正であって、Ａoffで示されている。エコ
ー条件（正の傾斜磁場面積＝負の傾斜磁場面積）の場
合、磁場不均質性により惹起される傾斜磁場オフセット
Ａoffが考慮されるべきであり、図２７の実施例ではエ
コー信号Ｓ１は左方へシフトされるようになる。図２７
では傾斜磁場オフセットＡoffの考慮下で作用する（有
効な）負の面積が点点で示されており、正の面積はハッ
チングで示されている。両面積はエコー信号Ｓの発生の
ためには等しくなければならない。
【００５６】図２８に示すように、同じシーケンスを、
傾斜磁場Ｇの反転した極性を以て経過させる場合、当該
エコー信号は同じ傾斜磁場オフセットのもとで時間軸上
にて右方へシフトされる。この場合においてエコー条件
は当該面積ＩとＩＩの比較から容易にわかるように、よ
り早期に達せられる（充足される）。
傾斜磁場Ｇの反転した極性を以て経過させる場合、当該
エコー信号は同じ傾斜磁場オフセットのもとで時間軸上
にて右方へシフトされる。この場合においてエコー条件
は当該面積ＩとＩＩの比較から容易にわかるように、よ
り早期に達せられる（充足される）。
【００５７】傾斜磁場オフセットＡoffが無いとすれ
ば、当該エコー信号は図２７及び図２８のシーケンスの
場合ＨＦパルスＲＦの後の同じ時点ｔｅで生じることと
なる。
ば、当該エコー信号は図２７及び図２８のシーケンスの
場合ＨＦパルスＲＦの後の同じ時点ｔｅで生じることと
なる。
【００５８】図２７及び図２８のシーケンスの場合にお
いて、夫々のＨＦパルスＲＦ１，ＲＦ２に対する夫々の
エコー信号Ｓ１，Ｓ２の間隔間の差から、下記の手法に
従って存在する傾斜磁場オフセットＡoffが求められ得
る。図２７及びエコー条件から出発して、即ち、傾斜磁
場全体Ｇ（ｔ）に亘っての時間積分が零に等しくなけれ
ばならない、というエコー条件から出発して、次の方程
式（関係式）が得られる。
いて、夫々のＨＦパルスＲＦ１，ＲＦ２に対する夫々の
エコー信号Ｓ１，Ｓ２の間隔間の差から、下記の手法に
従って存在する傾斜磁場オフセットＡoffが求められ得
る。図２７及びエコー条件から出発して、即ち、傾斜磁
場全体Ｇ（ｔ）に亘っての時間積分が零に等しくなけれ
ばならない、というエコー条件から出発して、次の方程
式（関係式）が得られる。
【００５９】
【数３】
【００６０】ここにおいて、傾斜磁場全体Ｇ（ｔ）は傾
斜磁場Ｇ１~，Ｇ１+、傾斜磁場オフセットＡoffから合
成される。
斜磁場Ｇ１~，Ｇ１+、傾斜磁場オフセットＡoffから合
成される。
【００６１】
【数４】
【００６２】その場合当該積分は次のように算出され
る。
る。
【００６３】
【数５】
【００６４】但し、Ａdeは傾斜磁場Ｇ１~の振幅を示
し、Ａrdは傾斜磁場Ｇ１+の振幅を示す。 式（２）に
（４），（５）を代入すると次のようになる。
し、Ａrdは傾斜磁場Ｇ１+の振幅を示す。 式（２）に
（４），（５）を代入すると次のようになる。
【００６５】
【数６】
【００６６】それによりエコー時点Ｔelは次のように得
られる。
られる。
【００６７】
【数７】
【００６８】上記式を図２８の測定シーケンスに適用す
ると、相応のエコー時間Ｔezは次のようになる。
ると、相応のエコー時間Ｔezは次のようになる。
【００６９】
【数８】
【００７０】式（７）と（８）から次のようになる。
【００７１】
【数９】
【００７２】もって、下記の傾斜磁場オフセットＡoff
が得られる。
が得られる。
【００７３】
【数１０】
【００７４】その場合、Ｔe1，Ｔe2は図２７及び図２８
による両シーケンスに基づき測定され得、傾斜磁気場振
幅Ａedは傾斜磁場コイルに由来する傾斜磁場に対する規
定量であり、もって既知である。
による両シーケンスに基づき測定され得、傾斜磁気場振
幅Ａedは傾斜磁場コイルに由来する傾斜磁場に対する規
定量であり、もって既知である。
【００７５】傾斜磁場オフセットをそのようにして計算
すると、当該オフセットを次のようにして補償できる、
即ち、夫々の傾斜磁場コイル相応のオフセット電流を供
給してのオフセット電流はパルス発生器により設定され
る傾斜磁場電流に加えられるようにするのである。もっ
て上記オフセット電流は時間の要する反復（逐次）手法
を用いずに簡単な計算法で見出され得る。
すると、当該オフセットを次のようにして補償できる、
即ち、夫々の傾斜磁場コイル相応のオフセット電流を供
給してのオフセット電流はパルス発生器により設定され
る傾斜磁場電流に加えられるようにするのである。もっ
て上記オフセット電流は時間の要する反復（逐次）手法
を用いずに簡単な計算法で見出され得る。
【００７６】シミングの一般的事例に対して既述されて
いるように、時間間隔Ｔe1，Ｔe2を次のようにして求め
得る、即ち、各エコー信号をフーリェ変換し、それによ
り得られた位相カーブの勾配を比較するのである。上記
勾配はフーリェ変換のための時間原点とエコー信号との
間の時間間隔に対する尺度である。エコー位置と時間原
点が一致する場合、一定の位相経過が生じる、そして、
一致しない場合は正又は負の勾配（これは当該時間間隔
に比例する）が生じる。基本磁場が比較的に高次の偏差
を有する場合当該位相カーブは直線的でない。従って、
位相カーブに直線的（リニア）−Ｆｉｔ−方法を適用す
ると有利である。
いるように、時間間隔Ｔe1，Ｔe2を次のようにして求め
得る、即ち、各エコー信号をフーリェ変換し、それによ
り得られた位相カーブの勾配を比較するのである。上記
勾配はフーリェ変換のための時間原点とエコー信号との
間の時間間隔に対する尺度である。エコー位置と時間原
点が一致する場合、一定の位相経過が生じる、そして、
一致しない場合は正又は負の勾配（これは当該時間間隔
に比例する）が生じる。基本磁場が比較的に高次の偏差
を有する場合当該位相カーブは直線的でない。従って、
位相カーブに直線的（リニア）−Ｆｉｔ−方法を適用す
ると有利である。
【００７７】傾斜磁場オフセットが存在する場合当該シ
ーケンスの位相カーブの勾配は等しくない。当該勾配の
偏差は傾斜磁場Ａoffに対する尺度を成す。上記偏差に
基づき、同様に、傾斜磁場オフセットＡffを補償するた
めに必要な傾斜磁場オフセット電流を計算できる。
ーケンスの位相カーブの勾配は等しくない。当該勾配の
偏差は傾斜磁場Ａoffに対する尺度を成す。上記偏差に
基づき、同様に、傾斜磁場オフセットＡffを補償するた
めに必要な傾斜磁場オフセット電流を計算できる。
【００７８】すべての３つの空間方向で磁場の１次の誤
差項を補償するため、一般に、前述のプロセス過程を、
３つの空間方向で、つまり、３つの存在する傾斜磁場コ
イルに関して実施する。相応のシーケンスが図２９〜図
３４に示してある。このために実施例中、全部で６つの
ＨＦパルスＲＦ１〜ＲＦ６の１つのシーケンス（列）が
投入照射される。当該測定をできるだけ速やかに実施し
得るため、２つのＨＦ−パルスＲＦ２〜ＲＦ６間でスピ
ンの緩和時間は待機されない。後続する測定への或１つ
の測定の影響を回避するため、各ＨＦパルスＲＦには各
傾斜磁場方向でスポイラ傾斜磁場ＧＳｘ，ＧＳｙ，ＧＳ
ｚ（これはなお存在する位相コヒーレンスを損なう）が
前置される。上記スポイラー傾斜磁場ＧＳは直ぐ先行す
る傾斜磁場と同じ方向を有する、それは、それよりそれ
の作用が増強されるからである。
差項を補償するため、一般に、前述のプロセス過程を、
３つの空間方向で、つまり、３つの存在する傾斜磁場コ
イルに関して実施する。相応のシーケンスが図２９〜図
３４に示してある。このために実施例中、全部で６つの
ＨＦパルスＲＦ１〜ＲＦ６の１つのシーケンス（列）が
投入照射される。当該測定をできるだけ速やかに実施し
得るため、２つのＨＦ−パルスＲＦ２〜ＲＦ６間でスピ
ンの緩和時間は待機されない。後続する測定への或１つ
の測定の影響を回避するため、各ＨＦパルスＲＦには各
傾斜磁場方向でスポイラ傾斜磁場ＧＳｘ，ＧＳｙ，ＧＳ
ｚ（これはなお存在する位相コヒーレンスを損なう）が
前置される。上記スポイラー傾斜磁場ＧＳは直ぐ先行す
る傾斜磁場と同じ方向を有する、それは、それよりそれ
の作用が増強されるからである。
【００７９】ＨＦパルスＲＦ１，ＲＦ２によって先ず、
図２７、図２８を用いて説明されたパルスシーケンス動
作が、Ｘ傾斜磁場に対して実施される。その際得られた
信号Ｓ１，Ｓ２は既述のようにＸ方向でのオフセット調
整のため使用される。ＨＦパルスＲＦ３，ＲＦ４ないし
ＲＦ５，ＲＦ６によってはＹ−ないしＺ−傾斜磁場に対
する相応のシーケンスが実施される。その際そのつど生
じる信号Ｓ３，Ｓ４ないしＳ５，Ｓ８は同じくＹ−ない
しＺ−傾斜磁場のオフセット調整のため使用される。
図２７、図２８を用いて説明されたパルスシーケンス動
作が、Ｘ傾斜磁場に対して実施される。その際得られた
信号Ｓ１，Ｓ２は既述のようにＸ方向でのオフセット調
整のため使用される。ＨＦパルスＲＦ３，ＲＦ４ないし
ＲＦ５，ＲＦ６によってはＹ−ないしＺ−傾斜磁場に対
する相応のシーケンスが実施される。その際そのつど生
じる信号Ｓ３，Ｓ４ないしＳ５，Ｓ８は同じくＹ−ない
しＺ−傾斜磁場のオフセット調整のため使用される。
【００８０】傾斜磁場オフセットの補償のための上述の
方法は迅速に実施され得る。必要な場合、当該調整は核
スピントモグラフィー装置での各検査の前に、検査時間
の大した延長なしで可能である。
方法は迅速に実施され得る。必要な場合、当該調整は核
スピントモグラフィー装置での各検査の前に、検査時間
の大した延長なしで可能である。
【００８１】所要の傾斜磁場オフセットはスピンエコー
に基づいても求められ得る（図６〜図８を用いて既に述
べたように）。
に基づいても求められ得る（図６〜図８を用いて既に述
べたように）。
【００８２】もって、図７及び図８による両シーケンス
におけるエコー位置の比較により、同じく傾斜磁場Ａ
offに対する尺度を成す時間差Δｔを求め得る。当該時
間差は有利に、既述のように、エコー信号Ｓ１，Ｓ２の
フーリェ変換及びそれにより得られた位相カーブの勾配
の比較により求められ得る。当該時間差Δｔからは傾斜
磁場オフセットＡoffの補償に必要なオフセット電流Ｉ
offを求め得る。
におけるエコー位置の比較により、同じく傾斜磁場Ａ
offに対する尺度を成す時間差Δｔを求め得る。当該時
間差は有利に、既述のように、エコー信号Ｓ１，Ｓ２の
フーリェ変換及びそれにより得られた位相カーブの勾配
の比較により求められ得る。当該時間差Δｔからは傾斜
磁場オフセットＡoffの補償に必要なオフセット電流Ｉ
offを求め得る。
【００８３】
【発明の効果】本発明によればできるだけ高い均質性
（均一性）が短時間に達成されるように当該磁場のシミ
ング方法を実現出来るという効果が得られる。
（均一性）が短時間に達成されるように当該磁場のシミ
ング方法を実現出来るという効果が得られる。
【図１】Ｘ−ないしＹ−傾斜磁場コイル及び鞍形配置さ
れたシムコイルの実施例を示す構成略図である。
れたシムコイルの実施例を示す構成略図である。
【図２】Ｚ−傾斜磁場コイル及び別のシムコイルの実施
例の構成略図である。
例の構成略図である。
【図３】従来勾配エコーシーケンスの特性図である。
【図４】図３と同じパルスシーケンス（列）であるが傾
斜磁場の方向に均質磁界を重畳した当該シーケンスを示
す特性用である。
斜磁場の方向に均質磁界を重畳した当該シーケンスを示
す特性用である。
【図５】同じく図３の勾配エコーシーケンスであるが但
し、傾斜磁場の方向で負の直線的磁場偏差を含む当該シ
ーケンスを示す特性図である。
し、傾斜磁場の方向で負の直線的磁場偏差を含む当該シ
ーケンスを示す特性図である。
【図６】従来のスピンシーケンスの特性図である。
【図７】１８０°高周波パルスを中心位置に対して左方
へシフトした状態を示す特性図である。
へシフトした状態を示す特性図である。
【図８】１８０°高周波パルスを中心位置に対して右方
へシフトした状態を示す特性図である。
へシフトした状態を示す特性図である。
【図９】完全に均質な磁場ａ場合に対する位相カーブ及
びエコー位置を示す特性図である。
びエコー位置を示す特性図である。
【図１０】図５に相応して、負の直線的磁場偏差のある
場合の図９に相応する当該の特性図である。
場合の図９に相応する当該の特性図である。
【図１１】正の直線的磁場偏差のある場合の図９に相応
する当該の特性図である。
する当該の特性図である。
【図１２】当該磁場が１次の磁場不均質性を有しない場
合における同様な当該の特性図である。
合における同様な当該の特性図である。
【図１３】比較的高次の磁場不均質性のある場合の同様
な当該の特性図である。
な当該の特性図である。
【図１４】種々の投影におけるパルスシーケンスのセッ
トの様子と示す特性図である。
トの様子と示す特性図である。
【図１５】事前（予備）磁化及び運動リフォーカシング
の場合における勾配エコーシーケンス発生の際の高周波
パルス列の特性図である。
の場合における勾配エコーシーケンス発生の際の高周波
パルス列の特性図である。
【図１６】当該勾配エコーシーケンス作成の際の走査時
点ＡＤにおける当該の読出された核スピン共鳴信号の特
性図である。
点ＡＤにおける当該の読出された核スピン共鳴信号の特
性図である。
【図１７】当該勾配エコーシーケンス発生の際のＧＭＲ
及びＧｓを示す特性図である。
及びＧｓを示す特性図である。
【図１８】当該勾配エコーシーケンス発生の際のＧｙを
示す特性図である。
示す特性図である。
【図１９】同様にＧｚを示す特性図である。
【図２０】励振されるブロックの概念図である。
【図２１】ブロックの選択的励起を行なう際のスピンエ
コーシーケンス発生の際のＲＦ１とＲＦ２の生起の様子
を示す特性図である。
コーシーケンス発生の際のＲＦ１とＲＦ２の生起の様子
を示す特性図である。
【図２２】同上当該スピンエコーシーケンス発生の際の
選択傾斜磁場ＧSL1の生起の様子を示す特性図である。
選択傾斜磁場ＧSL1の生起の様子を示す特性図である。
【図２３】当該スピンエコー発生の際の第２スライス選
択傾斜磁場ＧSL2の生起の様子を示す特性図である。
択傾斜磁場ＧSL2の生起の様子を示す特性図である。
【図２４】当該スピンエコー発生の際の読出傾斜磁場Ｇ
ROの生起の様子を示す特性図である。
ROの生起の様子を示す特性図である。
【図２５】当該スピンエコーシーケンス発生の際の個々
の走査時点ＡＤにて読出される核スピン共鳴信号生起の
様子を示す特性図である。
の走査時点ＡＤにて読出される核スピン共鳴信号生起の
様子を示す特性図である。
【図２６】すべての球面（調和関数）係数を求め得るた
めの表を示す図である。
めの表を示す図である。
【図２７】正の傾斜磁場オフセットを以ての勾配エコー
シーケンスの様子を示す特性図である。
シーケンスの様子を示す特性図である。
【図２８】負の傾斜磁場オフセットを以ての勾配エコー
シーケンスの様子を示す特性図である。
シーケンスの様子を示す特性図である。
【図２９】傾斜磁場コイルのオフセット調整のためのパ
ルスシーケンスにおけるＨｆ−ＲＦ（高周波パルス）の
特性図である。
ルスシーケンスにおけるＨｆ−ＲＦ（高周波パルス）の
特性図である。
【図３０】当該オフセット調整における（スポイラ傾斜
磁場）ＧＳxの様子を示す特性図である。
磁場）ＧＳxの様子を示す特性図である。
【図３１】当該オフセット調整におけるＧＳyの様子を
示す特性図である。
示す特性図である。
【図３２】当該オフセット調整におけるＧＳzの様子を
示す特性図である。
示す特性図である。
【図３３】当該オフセット調整にために使用されるＳ信
号の様子を示す特性図である。
号の様子を示す特性図である。
【図３４】当該オフセット調整におけるオフセット電流
のＯＮ状態の際の信号の様子を示す特性図である。
のＯＮ状態の際の信号の様子を示す特性図である。
１ 支持管、 ２，３ 傾斜磁場コイル、 ４〜６ ジ
ムコイル
ムコイル
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０１Ｎ 24/06 ５２０ Ｋ 8203−2Ｇ Ｇ０１Ｒ 33/22 (72)発明者 柿本 茂文 神奈川県厚木市鳶尾２−27−８ (72)発明者 和田 康弘 神奈川県厚木市下荻野1449−４
Claims (11)
- 【請求項１】 核スピン共鳴装置の検査空間における磁
場のシミング（磁場調整）方法であって、当該磁場（Ｂ
Ｚ）は数学的に球面調和関数の形で表わされ、ここにお
いてシムコイル（４〜９）が用いられ該コイルは当該の
球面調和関数の所定係数に相応する磁場分布を実質的に
検査空間中に生じさせるものであるようにした方法にお
いて、下記のステップを有する即ち、 ａ） 所定方向の高周波パルス（ＲＦ）と両極性傾斜磁
場パルス（ＧRO）から成る勾配エコーシーケンスを適用
し、その際生じる核スピン共鳴信号（Ｓ）を検出し、 ｂ） そのようにして得られた核スピン共鳴信号（Ｓ）
をフーリエ変換し、それにより、所定の方向の核スピン
の位相カーブを求め、 ｃ） 上記ステップａ）とｂ）を両極性の傾斜磁場パル
ス（ＧRO）の種々異なる方向を以て多重に（複数回）繰
返し、 ｄ） 当該の得られた位相カーブをＦｉｔ方法で解析
し、 ｅ） 上記のＦｉｔ方法で得られた、ｉ（番目の）次
（数）の多項式から、当該の磁場分布を表わすｉ次の球
面調和関数の係数を求め、以て、所属のシムコイルに供
給さるべき電流を求めるようにしたことを特徴とする核
スピン共鳴装置におけるシムコイル及び傾斜磁場コイル
を流れる電流の調整方法。 - 【請求項２】 核スピン共鳴装置の検査空間における磁
場のシミング（磁場調整）方法であって、当該磁場（Ｂ
Ｚ）は数学的に球面調和関数の形で表わされ、ここにお
いてシムコイル（４〜９）が用いられ該コイルは当該の
球面調和関数の所定係数に相応する磁場分布を実質的に
検査空間中に生じさせるものであるようにした方法にお
いて、時間順序で第１高周波パルス（ＲＦ１）と、所定
方向の第１傾斜磁場パルス（Ｇ１）と、１８０°のフリ
ップ角度を有する第２高周波パルス（ＲＦ＊）と、所定
方向の第２傾斜磁場パルス（Ｇ１＊）とから成るスピン
エコーシーケンスを適用し、上記第２傾斜磁場パルスの
もとで核スピン共鳴信号（Ｓ）を読出し、ここにおい
て、上記第２高周波パルス（ＲＦ１＊）は第１高周波パ
ルス（ＲＦ１）と核共鳴信号（Ｓ）とに関して非中心位
置におかれており（センタリングされていないものであ
り）、 ｂ） そのようにして得られた核スピン共鳴信号（Ｓ）
をフーリエ変換し、それにより、所定の方向の核スピン
の位相カーブを求め、 ｃ） 上記ステップａ）とｂ）を傾斜磁場コイル（Ｇ
１，Ｇ１＊）の異なる方向を以て多重に（複数回）繰返
し、 ｄ） 得られた位相カーブをＦｉｔ方法で解析し、 ｅ） Ｆｉｔ方法で得られた、ｉ次の多項式係数から、
磁場分布を表わすｉ次の球面調和関数の各係数、もっ
て、所属のシムコイルに供給さるべき電流を求めること
を特徴とする方法。 - 【請求項３】 核スピントモグラフィー装置において傾
斜磁場コイル（２，３）を流れる傾斜磁場電流
（Ｉoff）のオフセットを調整する方法において、 下記のステップを有する、即ち ａ） 検査空間における体積を励振する第１のＨｆ（高
周波）パルスを作用印加し、上記検査空間の体積は少な
くとも第１の方向に延在するものであり、 ｂ） 第１方向での第１傾斜磁場パルス（Ｇ１）の作用
印加及びそれにひきつづいての傾斜磁場パルス（Ｇ１）
の反転により、第１の勾配エコー信号（Ｓ１）を生じさ
せ、 ｃ） 検査空間における体積を励振する第２Ｈｆ（高周
波）パルス（ＲＦ２）を作用印加し、上記検査空間の体
積は少なくとも第１方向に延在するものであり、 ｄ） 上記第１方向に対して逆方向での第２傾斜磁場
（Ｇ２）の作用印加およびそれにひきつづく当該傾斜磁
場パルス（Ｇ２）の反転により第２勾配エコー信号（Ｓ
２）を生じさせ、 ｅ） 第１Ｈｆパルス（ＲＦ１）／第１勾配エコー信号
（Ｓ１）と、第２Ｈｆパルス（ＲＦ２）／第２勾配エコ
ー信号（Ｓ２）との間の時間間隔（ｔe1，ｔe2）の差か
らオフセット電流（Ｉoff）を求め、ここにおいて、当
該オフセット電流の、当該傾斜磁場コイル（２，３）へ
の供給の際上記時間間隔の差が零であるようにし、 ｆ） 後続の検査フェーズ中それぞれの傾斜磁場（２，
３）は１つの測定シーケンスの傾斜磁場パルスのほかに
付加的に、そのようにして求められた一定のオフセット
電流（Ｉｏｆｆ）の供給を受けるようにしたことを特徴
とする方法。 - 【請求項４】 核スピントモグラフィー装置において傾
斜磁場コイル（２，３）を流れる傾斜磁場電流
（Ｉoff）のオフセットを調整する方法において、下記
のステップを有する、即ち ａ） 検査空間における体積を励振する第１のＨｆ（高
周波）パルスを作用印加し、上記検査空間は少なくとも
第１の方向に延在するものであり、 ｂ） 第１方向の第１傾斜磁場パルスを作用印加し、 ｃ） 上記第１のＨｆパルス（ＲＦ１）及びエコー時点
に関して中心位置に位置してない第１の１８０°−Ｈｆ
−パルス（ＲＦ１＊）を作用印加し、 ｄ） 第１方向の第１の読出傾斜磁場（Ｇ１＊）のもと
に、第１エコー信号（Ｓ１）を読出し、 ｅ） 検査空間における体積を励振する第２Ｈｆ（高周
波）パルス（ＲＦ２）を作用印加し、上記検査空間の体
積は少なくとも第１方向に延在するものであり、 ｆ） 上記第１方向の第２の傾斜磁場パルスを作用印加
し、 ｇ） 上記の第１の１８０°Ｈｆパルス（ＲＦ１＊）と
第１のＨｆパルス（ＲＦ１）との間隔とは異なった間隔
を、第２のＨｆ−パルス（ＲＦ２）との間に有する第２
の１８０°−Ｈｆ−パルス（ＲＦ２＊）を作用印加し、 ｈ） 第１方向の第２読出傾斜磁場（Ｇ２＊）のもとで
第２スピンエコー信号（Ｓ２）を読出し、 ｉ） 第１Ｈｆパルス（ＲＦ１）／第１スピンエコー信
号（Ｓ１）と、第２Ｈｆパルス（ＲＦ２）／第２スピン
エコー信号（Ｓ２）との間の時間間隔の差（Δｔ）から
オフセット電流（Ｉoff）を求め、ここにおいて、当該
オフセット電流の、当該傾斜磁場コイル（２，３）への
供給の際上記時間間隔の差が零であるようにし、 ｊ） 後続の検査フェーズ中それぞれの傾斜磁場（２，
３）は１つの測定シーケンスの傾斜磁場パルスのほかに
付加的に、そのようにして求められた一定のオフセット
電流（Ｉoff）の供給を受けるようにしたことを特徴と
する方法。 - 【請求項５】 当該時間間隔（Ｔe1，Ｔe2）の差が間接
的に両エコー信号（Ｓ１，Ｓ２）のフーリエ変換の後当
該位相カーブの平均勾配の比較により求められるように
した請求項３又は４記載の方法。 - 【請求項６】 当該Ｈｆパルス(ＲＦ１，ＲＦ２)の入力
照射中傾斜磁場が作用印加されるようにした請求項３か
ら５までのうちいずれか１項記載の方法。 - 【請求項７】 複数の傾斜磁場方向に対して直ちに相次
いで当該方法（プロセス）過程が実施され、その際各高
周波パルスの前に、スポイラ傾斜磁場（ＧＳ）が作用印
加されるようにした請求項１から６までのうちいずれか
１項記載の方法。 - 【請求項８】 事前（予備）飽和シーケンスを実施し、
該事前飽和シーケンスによっては各パルスシーケンスに
対して夫々の傾斜磁場パルスの方向に延在するブロック
外でスピンが飽和されるようにした請求項１から７まで
のうちいずれか１項記載の方法。 - 【請求項９】 当該高周波パルス（ＲＦ）は周波数選択
性であり、スライス選択傾斜磁場の作用下で入力照射さ
れ、それにより、当該検査容積（体積）の唯１つのスラ
イスのみが励起されるようにした請求項１から８までの
うちいずれか１項記載の方法。 - 【請求項１０】 直線的磁場偏差の補償のため、上記傾
斜磁場コイル（２，３）は請求項１から５までの方法に
より求められたオフセット電流の供給を受けるようにし
た請求項１から９までのうちいずれか１項記載の方法。 - 【請求項１１】 当該方法ステップ過程は各検査フェー
ズ前に実施されるようにした請求項１から１０までのう
ちいずれか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19924213050 DE4213050C2 (de) | 1992-04-21 | 1992-04-21 | Verfahren zur Kompensation von Magnetfeldinhomogenitäten erster Ordnung bei Kernspintomographiegeräten |
| DE4218902.0 | 1992-06-09 | ||
| DE4213050.6 | 1992-06-09 | ||
| DE19924218902 DE4218902C2 (de) | 1992-06-09 | 1992-06-09 | Verfahren zum Einstellen des Stromes durch Shim-Spulen bei Kernspinresonanzgeräten |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002353034A Division JP3569520B2 (ja) | 1992-04-21 | 2002-12-04 | 核スピントモグラフィー装置の一定の主磁場における直線的磁場偏差を傾斜磁場コイルを用いて補償するための方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07194571A true JPH07194571A (ja) | 1995-08-01 |
| JP3431203B2 JP3431203B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=25914089
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09419993A Expired - Fee Related JP3431203B2 (ja) | 1992-04-21 | 1993-04-21 | 検査空間における磁場のシミング方法 |
| JP2002353034A Expired - Fee Related JP3569520B2 (ja) | 1992-04-21 | 2002-12-04 | 核スピントモグラフィー装置の一定の主磁場における直線的磁場偏差を傾斜磁場コイルを用いて補償するための方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002353034A Expired - Fee Related JP3569520B2 (ja) | 1992-04-21 | 2002-12-04 | 核スピントモグラフィー装置の一定の主磁場における直線的磁場偏差を傾斜磁場コイルを用いて補償するための方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5345178A (ja) |
| JP (2) | JP3431203B2 (ja) |
Families Citing this family (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4333440C1 (de) * | 1993-09-30 | 1995-04-06 | Siemens Ag | Verfahren zur Shimmung eines Magnetfeldes in einem Untersuchungsraum eines Kernspinresonanzgerätes |
| DE4437443C2 (de) * | 1994-10-19 | 1996-09-12 | Siemens Ag | Verfahren zum Betrieb eines Kernspintomographiegerätes mit dynamisch lokalisierter Shimmung des Grundmagnetfeldes |
| DE19511791C1 (de) * | 1995-03-30 | 1996-08-22 | Siemens Ag | Verfahren zur Shimmung eines Magnetsystems eines Kernspintomographen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE19511832C2 (de) * | 1995-03-30 | 1997-01-30 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Gradientenstromversorgung für ein Kernspintomographiegerät |
| US5539316A (en) * | 1995-08-25 | 1996-07-23 | Bruker Instruments, Inc. | Shimming method for NMR magnet having large magnetic field inhomogeneities |
| US5617029A (en) * | 1995-12-14 | 1997-04-01 | General Electric Company | Method of magnet shimming |
| US5672969A (en) * | 1996-04-25 | 1997-09-30 | General Electric Company | Reduction of Nyquist ghost artifacts in oblique echo planar imaging |
| JP3884083B2 (ja) * | 1996-07-12 | 2007-02-21 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 磁気共鳴装置 |
| US6064208A (en) * | 1998-04-02 | 2000-05-16 | Picker International, Inc. | Two-peak alignment method of field shimming |
| DE19851582C1 (de) * | 1998-11-09 | 2000-04-20 | Siemens Ag | Schaltbare Gradientenspulenanordnung |
| DE19954926C2 (de) * | 1999-11-16 | 2001-09-13 | Bruker Medical Gmbh | Verfahren zum Korrigieren linearer Feldinhomogenitäten in einer Apparatur der magnetischen Resonanz |
| DE19954925C2 (de) | 1999-11-16 | 2001-10-04 | Bruker Medical Gmbh | Verfahren zum Korrigieren von Feldinhomogenitäten höherer Ordnung in einer Apparatur der magnetischen Resonanz |
| USRE48347E1 (en) | 2000-12-21 | 2020-12-08 | University Of Virginia Patent Foundation | Method and apparatus for spin-echo-train MR imaging using prescribed signal evolutions |
| USRE45725E1 (en) | 2000-12-21 | 2015-10-06 | University Of Virginia Patent Foundation | Method and apparatus for spin-echo-train MR imaging using prescribed signal evolutions |
| US20030079334A1 (en) * | 2001-10-29 | 2003-05-01 | Minfeng Xu | Magnetic homogeneity design method |
| JP4619674B2 (ja) * | 2004-03-24 | 2011-01-26 | 株式会社東芝 | 磁気共鳴イメージング装置 |
| US7215123B2 (en) * | 2004-05-05 | 2007-05-08 | New York University | Method, system storage medium and software arrangement for homogenizing a magnetic field in a magnetic resonance imaging system |
| US7112964B2 (en) * | 2004-08-02 | 2006-09-26 | General Electric Company | Eddy current measurement and correction in magnetic resonance imaging systems with a static phantom |
| DE102004038917A1 (de) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Universitätsklinikum Freiburg | Verfahren zur dynamischen Erfassung und Veränderung der Magnetfeldverteilung bei Messungen der Magnetresonanz (NMR) |
| EP2450720A4 (en) * | 2009-07-03 | 2013-03-27 | Nat Inst For Materials Science | MAGNETIC FIELD HOMOGENIZATION DEVICE FOR SUPERCONDUCTING MAGNET |
| CN101604008B (zh) * | 2009-07-09 | 2012-07-04 | 北京海思威科技有限公司 | 磁体一阶匀场方法 |
| JP5607235B2 (ja) * | 2011-03-16 | 2014-10-15 | 株式会社日立製作所 | 磁気共鳴イメージング装置 |
| CN102508182A (zh) * | 2011-11-30 | 2012-06-20 | 苏州安科医疗系统有限公司 | 一种用于磁共振成像的多阶谐波动态匀场方法 |
| US9846210B2 (en) | 2011-12-23 | 2017-12-19 | Koninklijke Philips N.V. | Gradient coils for correcting higher order B0 field inhomogeneities in MR imaging |
| DE102013202217B4 (de) * | 2013-02-12 | 2015-05-28 | Siemens Aktiengesellschaft | MR-Anlage mit gepulsten Ausgleichsmagnetfeldgradienten |
| KR101541290B1 (ko) * | 2013-07-03 | 2015-08-03 | 삼성전자주식회사 | 자기 공명 신호 측정 방법 및 장치 |
| KR101474757B1 (ko) | 2013-07-08 | 2014-12-19 | 삼성전자주식회사 | 자장 측정 방법 및 장치 |
| WO2016123674A1 (en) * | 2015-02-06 | 2016-08-11 | The University Of Melbourne | Method and system for magnetic resonance imaging |
| RU186685U1 (ru) * | 2018-08-27 | 2019-01-29 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Федеральный исследовательский центр "Казанский научный центр Российской академии наук" | Датчик для измерения объемного распределения магнитного поля |
| DE102019207907B3 (de) * | 2019-05-29 | 2020-07-30 | Siemens Healthcare Gmbh | Shimabhängige Spoilergradienten |
| US20230194639A1 (en) * | 2021-12-16 | 2023-06-22 | Siemens Healthcare Gmbh | Method for acquiring a magnetic resonance image dataset of a subject and magnetic resonance imaging system |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3135335A1 (de) * | 1981-09-07 | 1983-08-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Kernspin-tomographie-verfahren |
| IL68344A (en) * | 1983-04-10 | 1988-10-31 | Yeda Res & Dev | Method to eliminate the effects of magnetic field inhomogeneities in nmr imaging |
| JPS60161552A (ja) * | 1984-02-01 | 1985-08-23 | Hitachi Ltd | Νｍｒ検査装置の静磁場強度分布測定方法 |
| US4680551A (en) * | 1985-10-07 | 1987-07-14 | General Electric Company | Method for homogenizing a static magnetic field over an arbitrary volume |
| US4987371A (en) * | 1989-11-27 | 1991-01-22 | General Electric Company | Method for in-vivo shimming |
| US5168232A (en) * | 1990-06-29 | 1992-12-01 | General Electric Company | Method for rapid magnet shimming |
-
1993
- 1993-04-19 US US08/047,307 patent/US5345178A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-21 JP JP09419993A patent/JP3431203B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-12-04 JP JP2002353034A patent/JP3569520B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003199725A (ja) | 2003-07-15 |
| US5345178A (en) | 1994-09-06 |
| JP3569520B2 (ja) | 2004-09-22 |
| JP3431203B2 (ja) | 2003-07-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3431203B2 (ja) | 検査空間における磁場のシミング方法 | |
| KR100481740B1 (ko) | 와전류들에의해유도된공간적및시간적으로변화하는자계들을측정하고보상하는방법 | |
| JP3402916B2 (ja) | 核スピントモグラフ装置のマグネット装置のシム調整方法及び方法を実施する装置 | |
| JP4106053B2 (ja) | 磁気共鳴イメージング装置及び渦電流補償導出方法 | |
| JP2012205897A (ja) | 磁気共鳴画像内の位相情報の補正方法および磁気共鳴設備 | |
| US5592091A (en) | Method for shimming a magnetic field in an examination space of a nuclear magnetic resonance apparatus including use of fuzzy logic | |
| US5391990A (en) | Iterative shimming method for a basic field magnet of a nuclear magnetic resonance tomography apparatus | |
| JPH0233998B2 (ja) | ||
| JPH0644904B2 (ja) | 磁界強度の空間的な変動を決定する装置，非均質性マップからシム勾配を計算する装置，非均質性マップで表されている磁界を補正する装置，及び中心外れの２次成分を有する磁界を補正する装置 | |
| US4553096A (en) | Nuclear magnetic resonance method and apparatus | |
| CA2042148A1 (en) | Method for rapid magnet shimming | |
| US5451877A (en) | Method for the compensation of eddy currents caused by gradients in a nuclear magnetic resonance apparatus | |
| JPH08206094A (ja) | 核スピン断層撮影装置 | |
| JPS59132346A (ja) | 核磁気共鳴方法および装置 | |
| JPH09215672A (ja) | 磁界の生体内急速シム作用を行う方法 | |
| JPS62189056A (ja) | 磁界の均質性を改善する方法 | |
| JP2000262490A (ja) | 磁気共鳴イメージング方法および磁気共鳴イメージング装置 | |
| JP4319035B2 (ja) | 磁気共鳴イメージング装置 | |
| JPH0751249A (ja) | 測定対象の局所分解磁気共鳴検査方法および装置 | |
| JP2585278B2 (ja) | 核磁気共鳴を用いた検査装置 | |
| JP3887082B2 (ja) | 磁気共鳴イメージング装置 | |
| GB2141826A (en) | Nuclear magnetic resonance method and apparatus | |
| JPH04208133A (ja) | 磁気共鳴装置 | |
| US20140292329A1 (en) | Determining Positions of a Magnetic Field Probe in a Magnetic Resonance Measurement | |
| Zöllner et al. | Correcting gradient chain induced fat quantification errors in radial multi-echo Dixon imaging using a gradient modulation transfer function |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030410 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090523 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100523 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110523 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |