JPH07188582A - 含フッ素硬化性組成物及び反射防止用含フッ素硬化被膜 - Google Patents
含フッ素硬化性組成物及び反射防止用含フッ素硬化被膜Info
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- JPH07188582A JPH07188582A JP33331993A JP33331993A JPH07188582A JP H07188582 A JPH07188582 A JP H07188582A JP 33331993 A JP33331993 A JP 33331993A JP 33331993 A JP33331993 A JP 33331993A JP H07188582 A JPH07188582 A JP H07188582A
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- acid
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- fluoroacrylic acid
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Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式化１で表わされるジ−（α−フルオロア
クリル酸）フルオロアルキルエステル（式中、Ｘ＝Ｆが
３以上のＣ２〜１４のフルオロアルキル基、Ｆが４以上
のＣ４〜１４のフルオロシクロアルキル基）と含フッ素
重合体とを含有することを特徴とする含フッ素硬化性組
成物及びその含フッ素硬化性組成物を重合硬化した鉛筆
硬度Ｈ以上及び屈折率１．４０以下を有する反射防止用
含フッ素硬化被膜。 【化１】 【効果】本発明の含フッ素硬化性組成物を硬化させて得
られる反射防止用含フッ素硬化被膜は、１．４０以下の
低屈折率及び高い光透過性を有し、しかも表面硬度が高
いので、耐摩耗性に優れる。
クリル酸）フルオロアルキルエステル（式中、Ｘ＝Ｆが
３以上のＣ２〜１４のフルオロアルキル基、Ｆが４以上
のＣ４〜１４のフルオロシクロアルキル基）と含フッ素
重合体とを含有することを特徴とする含フッ素硬化性組
成物及びその含フッ素硬化性組成物を重合硬化した鉛筆
硬度Ｈ以上及び屈折率１．４０以下を有する反射防止用
含フッ素硬化被膜。 【化１】 【効果】本発明の含フッ素硬化性組成物を硬化させて得
られる反射防止用含フッ素硬化被膜は、１．４０以下の
低屈折率及び高い光透過性を有し、しかも表面硬度が高
いので、耐摩耗性に優れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高い表面硬度を有し、
各種基材表面等に使用可能な反射防止用含フッ素硬化被
膜及び該硬化被膜の原料として使用できる含フッ素硬化
性組成物に関する。
各種基材表面等に使用可能な反射防止用含フッ素硬化被
膜及び該硬化被膜の原料として使用できる含フッ素硬化
性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】透明フィルムを光線が透過する際、その
一部が表面上の反射によって損なわれることは知られて
いる。反射率はフィルムの屈折率に依存し、例えば屈折
率が１．６５のポリエチレンテレフタラートフィルムで
は、片面で約６．０％の表面反射が存在するため、透過
率は約８８．０％となる。従来から透明フィルムより低
屈折率の樹脂を、可視光の波長の４分の１に相当する
０．１〜０．２μｍの膜厚で塗布することにより透過光
の反射を減少させ、透過率を向上させる方法が理論的に
は考えられている。例えば前述のポリエチレンテレフタ
ラートフィルム上に屈折率１．３８の樹脂を０．１〜
０．２μｍの膜厚で両面に塗布することにより、表面反
射を０．５％に減少させ、透過率を９９．０％まで向上
させることが理論的に考えられているが、具体的には実
現されていないのが現状である。
一部が表面上の反射によって損なわれることは知られて
いる。反射率はフィルムの屈折率に依存し、例えば屈折
率が１．６５のポリエチレンテレフタラートフィルムで
は、片面で約６．０％の表面反射が存在するため、透過
率は約８８．０％となる。従来から透明フィルムより低
屈折率の樹脂を、可視光の波長の４分の１に相当する
０．１〜０．２μｍの膜厚で塗布することにより透過光
の反射を減少させ、透過率を向上させる方法が理論的に
は考えられている。例えば前述のポリエチレンテレフタ
ラートフィルム上に屈折率１．３８の樹脂を０．１〜
０．２μｍの膜厚で両面に塗布することにより、表面反
射を０．５％に減少させ、透過率を９９．０％まで向上
させることが理論的に考えられているが、具体的には実
現されていないのが現状である。
【０００３】一方、フッ素原子を有する化合物が低屈折
率を示すことは知られており、例えばポリテトラフルオ
ロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロア
ルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレ
ン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のパーフルオ
ロ重合体は１．４０以下の低屈折率を有する。しかしな
がら、透明性が不十分な上に、有機溶剤に対する溶解性
に劣り、また熱加工性も悪いため、０．１〜０．２μｍ
の膜厚で塗布することは非常に困難であって反射防止用
樹脂としては不適当である。
率を示すことは知られており、例えばポリテトラフルオ
ロエチレン、テトラフルオロエチレン・パーフルオロア
ルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレ
ン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体等のパーフルオ
ロ重合体は１．４０以下の低屈折率を有する。しかしな
がら、透明性が不十分な上に、有機溶剤に対する溶解性
に劣り、また熱加工性も悪いため、０．１〜０．２μｍ
の膜厚で塗布することは非常に困難であって反射防止用
樹脂としては不適当である。
【０００４】そこでこのような熱加工性の改良、有機溶
剤に対する可溶性の改良を目的として、テトラフルオロ
エチレンモノマーと他のモノマーとの共重合が提案され
ている。しかしながら、これらは屈折率が１．４０以上
になるため、反射防止用樹脂としては不適当である。
剤に対する可溶性の改良を目的として、テトラフルオロ
エチレンモノマーと他のモノマーとの共重合が提案され
ている。しかしながら、これらは屈折率が１．４０以上
になるため、反射防止用樹脂としては不適当である。
【０００５】最近では、「サイトップ」（商品名、旭硝
子株式会社製）、「テフロンＡＦ」（商品名、アメリカ
・デュポン社製）等の非結晶性パーフルオロ樹脂が開発
されている。これらは高い透明性及び溶剤に対する溶解
性を有している。しかしながら、表面硬度が低く、耐摩
耗性に劣るという欠点がある。
子株式会社製）、「テフロンＡＦ」（商品名、アメリカ
・デュポン社製）等の非結晶性パーフルオロ樹脂が開発
されている。これらは高い透明性及び溶剤に対する溶解
性を有している。しかしながら、表面硬度が低く、耐摩
耗性に劣るという欠点がある。
【０００６】また、側鎖にフルオロアルキル基を有する
重合性モノマー、例えばアクリル酸含フルオロアルキル
エステル及びメタクリル酸含フルオロアルキルエステル
を含む重合体、あるいは含フルオロアルキルスチレンを
含む重合体等も提案されている。
重合性モノマー、例えばアクリル酸含フルオロアルキル
エステル及びメタクリル酸含フルオロアルキルエステル
を含む重合体、あるいは含フルオロアルキルスチレンを
含む重合体等も提案されている。
【０００７】しかしながら、含フルオロアルキルスチレ
ン等を含む重合体は、有機溶剤に対する溶解性は改善さ
れているものの、芳香族基が紫外線を吸収して劣化反応
が進むため、長期の安定性（耐候性）に劣り、また芳香
族基が高い屈折率を示すため、反射防止用樹脂としては
不適当である。一方、アクリル酸及びメタクリル酸の長
鎖フルオロアルキルエステルは１．４０以下の屈折率を
示すものの、表面硬度が低いため耐摩耗性が劣るという
欠点がある。
ン等を含む重合体は、有機溶剤に対する溶解性は改善さ
れているものの、芳香族基が紫外線を吸収して劣化反応
が進むため、長期の安定性（耐候性）に劣り、また芳香
族基が高い屈折率を示すため、反射防止用樹脂としては
不適当である。一方、アクリル酸及びメタクリル酸の長
鎖フルオロアルキルエステルは１．４０以下の屈折率を
示すものの、表面硬度が低いため耐摩耗性が劣るという
欠点がある。
【０００８】そこで最近では、α−フルオロアクリル酸
及びそのフルオロアルキルエステルについて種々検討さ
れており、例えば特開昭６１−８５３４５号公報には、
α−フルオロアクリル酸フルオライドの製造法が、また
特開昭６０−７８９４０号公報には、α−フルオロアク
リル酸メチルの製造法が、更に日本化学会誌、１９８
５、（１０）、１９２４〜１９２８、には、α−フルオ
ロアクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルの製造
法が提案されている。しかしながら、これらのα−フル
オロアクリル酸フルオロアルキルエステルは、アクリル
酸フルオロアルキルエステルに比べより低い屈折率を示
すが、表面硬度が低いため耐摩耗性に劣るという欠点が
ある。
及びそのフルオロアルキルエステルについて種々検討さ
れており、例えば特開昭６１−８５３４５号公報には、
α−フルオロアクリル酸フルオライドの製造法が、また
特開昭６０−７８９４０号公報には、α−フルオロアク
リル酸メチルの製造法が、更に日本化学会誌、１９８
５、（１０）、１９２４〜１９２８、には、α−フルオ
ロアクリル酸−２，２，２−トリフルオロエチルの製造
法が提案されている。しかしながら、これらのα−フル
オロアクリル酸フルオロアルキルエステルは、アクリル
酸フルオロアルキルエステルに比べより低い屈折率を示
すが、表面硬度が低いため耐摩耗性に劣るという欠点が
ある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐候
性、耐熱性に優れ、表面硬度が高く、しかも光透過性を
有する屈折率１．４０以下の反射防止用含フッ素硬化被
膜及び該硬化被膜の原料として使用可能な含フッ素硬化
性組成物を提供することにある。
性、耐熱性に優れ、表面硬度が高く、しかも光透過性を
有する屈折率１．４０以下の反射防止用含フッ素硬化被
膜及び該硬化被膜の原料として使用可能な含フッ素硬化
性組成物を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化２で表わされるジ−（α−フルオロアクリル酸）
フルオロアルキルエステル（以下、ジエステルＡと称
す）と含フッ素重合体とを含有することを特徴とする含
フッ素硬化性組成物が提供される。
般式化２で表わされるジ−（α−フルオロアクリル酸）
フルオロアルキルエステル（以下、ジエステルＡと称
す）と含フッ素重合体とを含有することを特徴とする含
フッ素硬化性組成物が提供される。
【００１１】
【化２】
【００１２】また本発明によれば、前記含フッ素硬化性
組成物を重合硬化して得られる鉛筆硬度がＨ以上の表面
硬度と、１．４０以下の屈折率とを有することを特徴と
する反射防止用含フッ素硬化被膜が提供される。
組成物を重合硬化して得られる鉛筆硬度がＨ以上の表面
硬度と、１．４０以下の屈折率とを有することを特徴と
する反射防止用含フッ素硬化被膜が提供される。
【００１３】以下本発明を更に詳細に説明する。
【００１４】本発明の含フッ素硬化性組成物は、前記一
般式化２で表わされるジエステルＡと含フッ素重合体と
含む組成物であって、硬化させた際には、三次元網目構
造を呈し、ガラス転移温度が高く、耐熱性、耐候性等に
優れた硬化被膜を得ることができる。前記一般式化２に
おいて、Ｘの炭素数が１５以上の場合には製造が困難で
ある。
般式化２で表わされるジエステルＡと含フッ素重合体と
含む組成物であって、硬化させた際には、三次元網目構
造を呈し、ガラス転移温度が高く、耐熱性、耐候性等に
優れた硬化被膜を得ることができる。前記一般式化２に
おいて、Ｘの炭素数が１５以上の場合には製造が困難で
ある。
【００１５】前記ジステルＡとしては、例えばジ−（α
−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエ
チルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル
酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペ
ンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリ
ル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６
−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−
（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘ
プチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリ
ル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチ
レングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−
（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘ
プタデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ−（α
−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ノナデカフルオロデシルエチレングリコー
ル、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘンエイコサフル
オロウンデシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオ
ロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，
１１，１２，１２，１２−トリコサフルオロドデシルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル
エチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）
−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロ
プロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアク
リル酸）−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリ
フルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオ
ロアクリル酸）−４−トリフルオロメチル−２，２，
３，３，４，５，５，５−オクタフルオロペンチルエチ
レングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−６
−トリフルオロメチル−２，２，３，３，４，４，５，
５，６，７，７，７−ドデカフルオロヘプチルエチレン
グリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−８−ト
リフルオロメチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，９，９，９−ヘキサデカフルオロ
ノニルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリ
ル酸）−１０−トリフルオロメチル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１１，１１，１１−エイコサフルオロウンデシルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
ペルフルオロシクロペンチルメチルエチレングリコー
ル、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−ペルフルオロシ
クロヘキシルメチルエチレングリコール、ジ−（α−フ
ルオロアクリル酸）−ペルフルオロシクロヘプチルメチ
ルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル
酸）−ペルフルオロシクロオクチルメチルエチレングリ
コール等を好ましく挙げることができ、これらの使用に
際しては、単独若しくは混合物として用いることができ
る。このようなジエステルＡを調製するには、例えばα
−フルオロアルキル酸フルオライドから得られるα−フ
ルオロアクリル酸と相当する含フッ素エポキシとの通常
の開環反応により容易に得ることができるα−フルオロ
アクリル酸ヒドロキシフルオロアルキルエステルと、α
−フルオロアクリル酸フルオライドとの通常のエステル
化反応等により容易に得ることができる。
−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエ
チルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル
酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペ
ンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリ
ル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６
−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−
（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘ
プチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリ
ル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，
７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチ
レングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−
（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘ
プタデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ−（α
−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ノナデカフルオロデシルエチレングリコー
ル、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，
９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘンエイコサフル
オロウンデシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオ
ロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，
１１，１２，１２，１２−トリコサフルオロドデシルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル
エチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）
−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロ
プロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアク
リル酸）−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリ
フルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオ
ロアクリル酸）−４−トリフルオロメチル−２，２，
３，３，４，５，５，５−オクタフルオロペンチルエチ
レングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−６
−トリフルオロメチル−２，２，３，３，４，４，５，
５，６，７，７，７−ドデカフルオロヘプチルエチレン
グリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−８−ト
リフルオロメチル−２，２，３，３，４，４，５，５，
６，６，７，７，８，９，９，９−ヘキサデカフルオロ
ノニルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリ
ル酸）−１０−トリフルオロメチル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１１，１１，１１−エイコサフルオロウンデシルエ
チレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
ペルフルオロシクロペンチルメチルエチレングリコー
ル、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−ペルフルオロシ
クロヘキシルメチルエチレングリコール、ジ−（α−フ
ルオロアクリル酸）−ペルフルオロシクロヘプチルメチ
ルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル
酸）−ペルフルオロシクロオクチルメチルエチレングリ
コール等を好ましく挙げることができ、これらの使用に
際しては、単独若しくは混合物として用いることができ
る。このようなジエステルＡを調製するには、例えばα
−フルオロアルキル酸フルオライドから得られるα−フ
ルオロアクリル酸と相当する含フッ素エポキシとの通常
の開環反応により容易に得ることができるα−フルオロ
アクリル酸ヒドロキシフルオロアルキルエステルと、α
−フルオロアクリル酸フルオライドとの通常のエステル
化反応等により容易に得ることができる。
【００１６】本発明の含フッ素硬化性組成物において、
前記ジエステルＡの配合割合は、組成物全量に対して、
５０重量％以上が好ましく、特に８０重量％以上が望ま
しい。この際ジエステルＡの含有量が５０重量％未満の
場合には所望の低屈折率硬化被膜が得られないので好ま
しくない。
前記ジエステルＡの配合割合は、組成物全量に対して、
５０重量％以上が好ましく、特に８０重量％以上が望ま
しい。この際ジエステルＡの含有量が５０重量％未満の
場合には所望の低屈折率硬化被膜が得られないので好ま
しくない。
【００１７】本発明の含フッ素硬化性組成物に用いる含
フッ素重合体は、含フッ素（メタ）アクリル酸エステル
及び／又は含フッ素フマル酸ジエステルにより構成され
る構成単位を好ましくは５０重量％以上、特に７０重量
％以上含む重合体を挙げることができ、他の共重合可能
なモノマーにより構成される構成単位を５０重量％以下
含んでいても良く、各構成単位はランダムでもブロック
でも良い。この際含フッ素（メタ）アクリル酸エステル
及び／又は含フッ素フマル酸ジエステルで構成される構
成単位が５０重量％未満の場合にはジエステルＡとの相
溶性が悪くなり、均一な塗膜が得られないので好ましく
ない。
フッ素重合体は、含フッ素（メタ）アクリル酸エステル
及び／又は含フッ素フマル酸ジエステルにより構成され
る構成単位を好ましくは５０重量％以上、特に７０重量
％以上含む重合体を挙げることができ、他の共重合可能
なモノマーにより構成される構成単位を５０重量％以下
含んでいても良く、各構成単位はランダムでもブロック
でも良い。この際含フッ素（メタ）アクリル酸エステル
及び／又は含フッ素フマル酸ジエステルで構成される構
成単位が５０重量％未満の場合にはジエステルＡとの相
溶性が悪くなり、均一な塗膜が得られないので好ましく
ない。
【００１８】前記含フッ素重合体の構成単位となりうる
前記含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとしては、例
えば（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロエ
チル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、（メタ）
アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノ
ナフルオロペンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオ
ロヘプチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタ
デカフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、
（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプ
タデカフルオロデシル、（メタ）アクリル酸−２−トリ
フルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、
（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−１
−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピ
ル、（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，
３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル等を好ましく挙
げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物と
して用いることができる。
前記含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとしては、例
えば（メタ）アクリル酸−２，２，２−トリフルオロエ
チル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロピル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、（メタ）
アクリル酸−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノ
ナフルオロペンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオ
ロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオ
ロヘプチル、（メタ）アクリル酸−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタ
デカフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデ
カフルオロオクチル、（メタ）アクリル酸−２，２，
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，
９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロデシル、
（メタ）アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，
６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプ
タデカフルオロデシル、（メタ）アクリル酸−２−トリ
フルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル、
（メタ）アクリル酸−３−トリフルオロメチル−４，
４，４−トリフルオロブチル、（メタ）アクリル酸−１
−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピ
ル、（メタ）アクリル酸−１−メチル−２，２，３，
３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル等を好ましく挙
げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物と
して用いることができる。
【００１９】また前記含フッ素重合体の構成単位となり
うる前記含フッ素フマル酸ジエステルとしては、例えば
フマル酸イソプロピル−２，２，２−トリフルオロエチ
ル、フマル酸イソプロピル−２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロピル、フマル酸イソプロピル−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、フマル酸
イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，５−
ノナフルオロペンチル、フマル酸イソプロピル−２，
２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフ
ルオロヘキシル、フマル酸イソプロピル−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフ
ルオロヘプチル、フマル酸イソプロピル−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペ
ンタデカフルオロオクチル、フマル酸イソプロピル−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチル、フマル酸イソプロピル−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシル、フマル酸イソプロピル−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシル、フマル酸イソプロピル
−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロ
プロピル、フマル酸イソプロピル−３−トリフルオロメ
チル−４，４，４−トリフルオロブチル、フマル酸イソ
プロピル−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフ
ルオロプロピル、フマル酸イソプロピル−１−メチル−
２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、
フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，２−トリフルオ
ロエチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ
−ブチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオ
ロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，
３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、フマ
ル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、フマ
ル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチ
ル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタ
デカフルオロオクチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフル
オロデシル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、フマル酸
−ｔｅｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，
３，３−トリフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ−
ブチル−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフ
ルオロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチ
ル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、フ
マル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，
３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル等を好ましく挙
げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物と
して用いることができる。
うる前記含フッ素フマル酸ジエステルとしては、例えば
フマル酸イソプロピル−２，２，２−トリフルオロエチ
ル、フマル酸イソプロピル−２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロピル、フマル酸イソプロピル−２，２，
３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、フマル酸
イソプロピル−２，２，３，３，４，４，５，５，５−
ノナフルオロペンチル、フマル酸イソプロピル−２，
２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフ
ルオロヘキシル、フマル酸イソプロピル−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフ
ルオロヘプチル、フマル酸イソプロピル−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペ
ンタデカフルオロオクチル、フマル酸イソプロピル−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチル、フマル酸イソプロピル−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシル、フマル酸イソプロピル−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシル、フマル酸イソプロピル
−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロ
プロピル、フマル酸イソプロピル−３−トリフルオロメ
チル−４，４，４−トリフルオロブチル、フマル酸イソ
プロピル−１−メチル−２，２，３，３，３−ペンタフ
ルオロプロピル、フマル酸イソプロピル−１−メチル−
２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル、
フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，２−トリフルオ
ロエチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，
３，３−ペンタフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ
−ブチル−２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオ
ロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，
３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル、フマ
ル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル、フマ
ル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチ
ル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２，３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタ
デカフルオロオクチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−
３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８
−トリデカフルオロオクチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフル
オロデシル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−３，３，
４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１
０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシル、フマル酸
−ｔｅｒｔ−ブチル−２−トリフルオロメチル−３，
３，３−トリフルオロプロピル、フマル酸−ｔｅｒｔ−
ブチル−３−トリフルオロメチル−４，４，４−トリフ
ルオロブチル、フマル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチ
ル−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、フ
マル酸−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メチル−２，２，３，
３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル等を好ましく挙
げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物と
して用いることができる。
【００２０】更に前記含フッ素重合体の構成単位となり
うる前記他の共重合可能なモノマーとしては、オレフィ
ン、（メタ）アクリル酸及びそれらのアルキルエステ
ル；フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、メサコン
酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸等の不飽和多塩
基酸及びそれらのアルキルエステル、脂肪酸のビニルエ
ステル、スチレン類、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビ
ニリデン、ビニルアルキルエーテル、ビニルアルキルケ
トン、ブタジエン類等を好ましく挙げることができ、具
体的には例えばエチレン、プロピレン、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸ブチル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニ
ル、ピバリン酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸アリール、ビニ
ルブチルエーテル、ビニルメチルケトン、ビニルエチル
ケトン、ビニルカルバゾール、１，３−ブタジエン、イ
ソブレン等を好ましく挙げることができ、特に酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、スチレ
ン、ビニルブチルエーテル、ビニルメチルケトン、ブタ
ジエン等が共重合性の点から好ましい。また、これらの
モノマーに、フッ素あるいはフルオロアルキル基を導入
した前記ジエステルＡ以外の他の共重合性モノマーを用
いるのが低屈折率を実現するために好ましい。
うる前記他の共重合可能なモノマーとしては、オレフィ
ン、（メタ）アクリル酸及びそれらのアルキルエステ
ル；フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、メサコン
酸、イタコン酸、テトラヒドロフタル酸等の不飽和多塩
基酸及びそれらのアルキルエステル、脂肪酸のビニルエ
ステル、スチレン類、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビ
ニリデン、ビニルアルキルエーテル、ビニルアルキルケ
トン、ブタジエン類等を好ましく挙げることができ、具
体的には例えばエチレン、プロピレン、アクリル酸メチ
ル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸ブチル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニ
ル、ピバリン酸ビニル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸アリール、ビニ
ルブチルエーテル、ビニルメチルケトン、ビニルエチル
ケトン、ビニルカルバゾール、１，３−ブタジエン、イ
ソブレン等を好ましく挙げることができ、特に酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、スチレ
ン、ビニルブチルエーテル、ビニルメチルケトン、ブタ
ジエン等が共重合性の点から好ましい。また、これらの
モノマーに、フッ素あるいはフルオロアルキル基を導入
した前記ジエステルＡ以外の他の共重合性モノマーを用
いるのが低屈折率を実現するために好ましい。
【００２１】前記含フッ素重合体を調製するには、一般
に用いられるラジカル重合法等により容易に合成でき
る。具体的には、例えばアゾビスイソブチロニトリル、
アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスバレ
ロニトリル等のアゾ系ラジカル重合開始剤；過酸化ベン
ゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドルパーオキシド、クメン
パーオキシド、ジアシルパーオキシド等の有機過酸化物
系ラジカル重合開始剤；過硫酸アンモニウム、過硫酸カ
リウム等の無機系ラジカル重合開始剤；過酸化水素−水
酸化ナトリウム系等のレドックス系開始剤等の各種ラジ
カル重合開始剤等を用いて、溶液重合、塊状重合、乳化
重合、懸濁重合又は放射線重合等の公知のラジカル重合
法等により得ることができる。この際反応温度は１０〜
１００℃、反応時間は１〜１００時間であるのが好まし
い。このようにして得られる前記含フッ素重合体の平均
分子量は１０００〜３０００００であるのが望ましい。
に用いられるラジカル重合法等により容易に合成でき
る。具体的には、例えばアゾビスイソブチロニトリル、
アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、アゾビスバレ
ロニトリル等のアゾ系ラジカル重合開始剤；過酸化ベン
ゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドルパーオキシド、クメン
パーオキシド、ジアシルパーオキシド等の有機過酸化物
系ラジカル重合開始剤；過硫酸アンモニウム、過硫酸カ
リウム等の無機系ラジカル重合開始剤；過酸化水素−水
酸化ナトリウム系等のレドックス系開始剤等の各種ラジ
カル重合開始剤等を用いて、溶液重合、塊状重合、乳化
重合、懸濁重合又は放射線重合等の公知のラジカル重合
法等により得ることができる。この際反応温度は１０〜
１００℃、反応時間は１〜１００時間であるのが好まし
い。このようにして得られる前記含フッ素重合体の平均
分子量は１０００〜３０００００であるのが望ましい。
【００２２】本発明の含フッ素硬化性組成物において、
前記含フッ素重合体の配合割合は、０．００１〜３０重
量％、特に０．０１〜２０重量％が望ましい。前記含フ
ッ素重合体の配合割合が０．００１重量％未満の場合、
薄膜塗装性を改善することができず、３０重量％を越え
ると硬化膜の表面硬度が低下するので好ましくない。
前記含フッ素重合体の配合割合は、０．００１〜３０重
量％、特に０．０１〜２０重量％が望ましい。前記含フ
ッ素重合体の配合割合が０．００１重量％未満の場合、
薄膜塗装性を改善することができず、３０重量％を越え
ると硬化膜の表面硬度が低下するので好ましくない。
【００２３】本発明の含フッ素硬化性組成物において、
前記含フッ素重合体は、硬化性樹脂の粘度を増加させ
て、使用時の操作性を高めたり、膜厚１μｍ以下の薄膜
塗布時の濡れ性を向上させることができる。
前記含フッ素重合体は、硬化性樹脂の粘度を増加させ
て、使用時の操作性を高めたり、膜厚１μｍ以下の薄膜
塗布時の濡れ性を向上させることができる。
【００２４】本発明の含フッ素硬化性組成物において
は、必要に応じて他の硬化性成分として通常用いられる
熱硬化性モノマー、エネルギー線硬化性モノマー等を配
合することができる。例えば重合性不飽和基を２個以上
有する多官能性モノマー、具体的には、ジ−（メタ）ア
クリル酸ヘキサンジオール、ジ−（メタ）アクリル酸ノ
ナンジオール、ジ−（メタ）アクリル酸ネオペンチルグ
リコール、ジ−（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジ
メタノール、トリ−（メタ）アクリル酸ペンタエリスリ
トール、トリス−（アクリロキシエチル）イソシアネー
ト、ジビニルベン、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート等を好ましく挙げることができる。他の硬化
性成分の配合割合は、好ましくは５０重量％以下、特に
３０重量％以下が望ましい。硬化性成分の配合割合が５
０重量％を超える場合には、重合硬化した際に屈折率が
上昇し、所望の硬化被膜が得られないので好ましくな
い。
は、必要に応じて他の硬化性成分として通常用いられる
熱硬化性モノマー、エネルギー線硬化性モノマー等を配
合することができる。例えば重合性不飽和基を２個以上
有する多官能性モノマー、具体的には、ジ−（メタ）ア
クリル酸ヘキサンジオール、ジ−（メタ）アクリル酸ノ
ナンジオール、ジ−（メタ）アクリル酸ネオペンチルグ
リコール、ジ−（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジ
メタノール、トリ−（メタ）アクリル酸ペンタエリスリ
トール、トリス−（アクリロキシエチル）イソシアネー
ト、ジビニルベン、ジエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート等を好ましく挙げることができる。他の硬化
性成分の配合割合は、好ましくは５０重量％以下、特に
３０重量％以下が望ましい。硬化性成分の配合割合が５
０重量％を超える場合には、重合硬化した際に屈折率が
上昇し、所望の硬化被膜が得られないので好ましくな
い。
【００２５】本発明の反射防止用硬化被膜は、前記含フ
ッ素硬化性組成物を重合硬化して得られるものであっ
て、鉛筆硬度Ｈ以上の表面硬度と、１．４０以下の屈折
率とを有する。また得られる膜厚は０．０２〜２０００
μｍが好ましく、特に０．１〜１μｍであるのが望まし
い。
ッ素硬化性組成物を重合硬化して得られるものであっ
て、鉛筆硬度Ｈ以上の表面硬度と、１．４０以下の屈折
率とを有する。また得られる膜厚は０．０２〜２０００
μｍが好ましく、特に０．１〜１μｍであるのが望まし
い。
【００２６】本発明の反射防止用硬化被膜を調製するに
は、例えば前記含フッ素硬化性組成物に、必要に応じて
硬化開始剤、溶媒等を添加混合して後、通常行われる塗
布方法、例えばロールコート法、グラビアコート法、デ
ィップコート法及びスピンコート法等の方法により基材
に塗布し、乾燥後、好ましくは室温〜２００℃で、０．
５〜１００時間加熱硬化させる方法、若しくは紫外線、
電子線、放射線等の活性エネルギー線の照射等により重
合硬化させる方法等により得ることができる。
は、例えば前記含フッ素硬化性組成物に、必要に応じて
硬化開始剤、溶媒等を添加混合して後、通常行われる塗
布方法、例えばロールコート法、グラビアコート法、デ
ィップコート法及びスピンコート法等の方法により基材
に塗布し、乾燥後、好ましくは室温〜２００℃で、０．
５〜１００時間加熱硬化させる方法、若しくは紫外線、
電子線、放射線等の活性エネルギー線の照射等により重
合硬化させる方法等により得ることができる。
【００２７】前記硬化開始剤として、例えばアゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニト
リル、アゾビスバレロニトリル等のアゾ系のラジカル重
合開始剤；過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロ
パーオキシド、クメンパーオキシド、ジアシルパーオキ
シド等の有機過酸化物系のラジカル重合開始剤、更にベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベン
ゾイン系化合物；ベンジル、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ミヒラーズケトン等のカルボニル化合物；アゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化
合物；α−ジケトンと三級アミンとの混合物等の光重合
開始剤が使用できる。前記硬化開始剤の使用量は、含フ
ッ素硬化性組成物中の硬化成分１００重量部に対して
０．０１〜１０重量部であるのが好ましい。
ソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニト
リル、アゾビスバレロニトリル等のアゾ系のラジカル重
合開始剤；過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロ
パーオキシド、クメンパーオキシド、ジアシルパーオキ
シド等の有機過酸化物系のラジカル重合開始剤、更にベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベン
ゾイン系化合物；ベンジル、ベンゾフェノン、アセトフ
ェノン、ミヒラーズケトン等のカルボニル化合物；アゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化
合物；α−ジケトンと三級アミンとの混合物等の光重合
開始剤が使用できる。前記硬化開始剤の使用量は、含フ
ッ素硬化性組成物中の硬化成分１００重量部に対して
０．０１〜１０重量部であるのが好ましい。
【００２８】前記溶媒としては、例えばトリフルオロメ
チルベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベ
ンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘキサフルオロシク
ロヘキサン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペ
ルフルオロメチルシクロヘキサン、オクタフルオロデカ
リン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン等を挙げることができ、また商品名「アサヒ
クリン（ＡＫ２２５）」（旭硝子（株）製）等の市販品
を用いることもできる。
チルベンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベ
ンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、ヘキサフルオロシク
ロヘキサン、ペルフルオロジメチルシクロヘキサン、ペ
ルフルオロメチルシクロヘキサン、オクタフルオロデカ
リン、１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン等を挙げることができ、また商品名「アサヒ
クリン（ＡＫ２２５）」（旭硝子（株）製）等の市販品
を用いることもできる。
【００２９】前記基材としては、特に限定されるもので
はないが、例えばガラス、石、コンクリート、タイル等
の無機材料；塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、
（メタ）アクリル酸エステル樹脂、フェノール樹脂、キ
シレン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン
樹脂、アミノ樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、ビニ
ルエステル樹脂、ポリイミド樹脂等の合成樹脂；鉄、ア
ルミ、銅等の金属、更に木、紙等を挙げることができ
る。
はないが、例えばガラス、石、コンクリート、タイル等
の無機材料；塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、
（メタ）アクリル酸エステル樹脂、フェノール樹脂、キ
シレン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、シリコーン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン
樹脂、アミノ樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、ビニ
ルエステル樹脂、ポリイミド樹脂等の合成樹脂；鉄、ア
ルミ、銅等の金属、更に木、紙等を挙げることができ
る。
【００３０】
【発明の効果】本発明の含フッ素硬化性組成物は、硬化
成分として前記ジエステルＡと含フッ素重合体とを含有
するので、基材にはじかれることなく、膜厚１μｍ以下
の硬化被膜を得ることができる。またこの反射防止用含
フッ素硬化被膜は、１．４０以下の低屈折率及び高い光
透過性を有し、表面硬度が高いので、耐摩耗性に優れ
る。
成分として前記ジエステルＡと含フッ素重合体とを含有
するので、基材にはじかれることなく、膜厚１μｍ以下
の硬化被膜を得ることができる。またこの反射防止用含
フッ素硬化被膜は、１．４０以下の低屈折率及び高い光
透過性を有し、表面硬度が高いので、耐摩耗性に優れ
る。
【００３１】
【実施例】以下、実施例及び比較例により更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
【実施例１】ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，
２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレング
リコール（以下Ｆ17ＥＧＤＡと略す）１０重量部、ポリ
（アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフ
ルオロデシル）（以下ＰＦ17Ａと略す）１重量部、トリ
フルオロメチルベンゼン１００重量部を混合し含フッ素
硬化性組成物を調製した。次いで浸漬式薄膜形成装置
（杉山元医理器社製）を用いてポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（商品名「ルミラーＴ＃２００」、東レ株
式会社製、以下ＰＥＴフィルムと略す）上に乾燥後の膜
厚が０．１５μｍになるように塗布し、含フッ素塗膜を
形成した。乾燥後、電子線照射器（岩崎電気社製）によ
り加速器電圧１７４ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで吸収線量
３０Ｍａｒｄの電子線を片面ずつ両面に照射し、硬化を
行なって含フッ素硬化被膜を調製した。得られたＰＥＴ
上の膜厚０．１５μｍの含フッ素硬化被膜（以下反射防
止膜と称す）を両面に形成したＰＥＴフィルム（以下反
射防止ＰＥＴと略す）の６００ｎｍの可視光に対する透
過率をダイオードアレイ分光光度計（横河電気株式会社
製）を用いて測定した。更に鉛筆硬度をＪＩＳ Ｋ５３
８０に従って測定した。また前記調製した含フッ素硬化
性塗液を別途、ＰＥＴフィルム上に薄膜塗布装置（杉山
元医理器製）を用いて、乾燥後の膜厚が５００μｍにな
るよう片面に塗布して含フッ素塗膜を形成した。次いで
電子線照射器（岩崎電気社製）により加速器電圧１７４
ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで吸収線量１０Ｍａｒｄの電子
線を照射、硬化して、含フッ素硬化被膜（以下厚膜と称
す）を得た。得られた厚膜をＰＥＴフィルムから剥離
し、アッベ屈折計（アタゴ株式会社製）を用いて屈折率
を測定した。結果を表１に示す。
２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，
８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレング
リコール（以下Ｆ17ＥＧＤＡと略す）１０重量部、ポリ
（アクリル酸−３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフ
ルオロデシル）（以下ＰＦ17Ａと略す）１重量部、トリ
フルオロメチルベンゼン１００重量部を混合し含フッ素
硬化性組成物を調製した。次いで浸漬式薄膜形成装置
（杉山元医理器社製）を用いてポリエチレンテレフタレ
ートフィルム（商品名「ルミラーＴ＃２００」、東レ株
式会社製、以下ＰＥＴフィルムと略す）上に乾燥後の膜
厚が０．１５μｍになるように塗布し、含フッ素塗膜を
形成した。乾燥後、電子線照射器（岩崎電気社製）によ
り加速器電圧１７４ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで吸収線量
３０Ｍａｒｄの電子線を片面ずつ両面に照射し、硬化を
行なって含フッ素硬化被膜を調製した。得られたＰＥＴ
上の膜厚０．１５μｍの含フッ素硬化被膜（以下反射防
止膜と称す）を両面に形成したＰＥＴフィルム（以下反
射防止ＰＥＴと略す）の６００ｎｍの可視光に対する透
過率をダイオードアレイ分光光度計（横河電気株式会社
製）を用いて測定した。更に鉛筆硬度をＪＩＳ Ｋ５３
８０に従って測定した。また前記調製した含フッ素硬化
性塗液を別途、ＰＥＴフィルム上に薄膜塗布装置（杉山
元医理器製）を用いて、乾燥後の膜厚が５００μｍにな
るよう片面に塗布して含フッ素塗膜を形成した。次いで
電子線照射器（岩崎電気社製）により加速器電圧１７４
ｋＶ、ビーム電流５ｍＡで吸収線量１０Ｍａｒｄの電子
線を照射、硬化して、含フッ素硬化被膜（以下厚膜と称
す）を得た。得られた厚膜をＰＥＴフィルムから剥離
し、アッベ屈折計（アタゴ株式会社製）を用いて屈折率
を測定した。結果を表１に示す。
【００３３】
【実施例２〜９及び比較例１】表１に示すジエステルＡ
及び含フッ素重合体を用いた以外は、実施例１と同様に
して含フッ素硬化性組成物を調製した。得られた含フッ
素硬化性組成物を用いて実施例１と同様に反射防止膜及
び厚膜を調製し、各測定を行った。結果を表１に示す。
及び含フッ素重合体を用いた以外は、実施例１と同様に
して含フッ素硬化性組成物を調製した。得られた含フッ
素硬化性組成物を用いて実施例１と同様に反射防止膜及
び厚膜を調製し、各測定を行った。結果を表１に示す。
【００３４】
【実施例１０】表１に示すジエステルＡ、含フッ素重合
体及び硬化開始剤として商品名「ＤＡＲＯＣＵＲ１１１
６」（メルク社製、アセトフェノン系化合物）を用い、
更に塗膜の硬化を、電子線照射器の代わりにＵＶ照射器
（ＯＲＣ社製、商品名「ＵＶ−３３０ＡＰ１」）を用
い、３３０ｎｍの紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ2照射し
て行った以外は、実施例１と同様に反射防止膜及び厚膜
を調製した。得られた反射防止膜及び厚膜について実施
例１と同様に各測定を行った。結果を表１に示す。
体及び硬化開始剤として商品名「ＤＡＲＯＣＵＲ１１１
６」（メルク社製、アセトフェノン系化合物）を用い、
更に塗膜の硬化を、電子線照射器の代わりにＵＶ照射器
（ＯＲＣ社製、商品名「ＵＶ−３３０ＡＰ１」）を用
い、３３０ｎｍの紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ2照射し
て行った以外は、実施例１と同様に反射防止膜及び厚膜
を調製した。得られた反射防止膜及び厚膜について実施
例１と同様に各測定を行った。結果を表１に示す。
【００３５】
【実施例１１】表１に示すジエステルＡ、含フッ素重合
体及び硬化開始剤を用いた以外は、実施例１と同様にし
て含フッ素硬化性組成物を調製した。得られた含フッ素
硬化性組成物を用いて反射防止膜の硬化を１００℃、２
時間加熱して行った以外は、実施例１と同様に反射防止
膜及び厚膜を調製した。得られた反射防止膜及び厚膜に
ついて実施例１と同様に各測定を行った。結果を表１に
示す。
体及び硬化開始剤を用いた以外は、実施例１と同様にし
て含フッ素硬化性組成物を調製した。得られた含フッ素
硬化性組成物を用いて反射防止膜の硬化を１００℃、２
時間加熱して行った以外は、実施例１と同様に反射防止
膜及び厚膜を調製した。得られた反射防止膜及び厚膜に
ついて実施例１と同様に各測定を行った。結果を表１に
示す。
【００３６】
【比較例２】ＰＥＴフィルムについて実施例１と同様に
各測定を行った。結果を表１に示す。
各測定を行った。結果を表１に示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】表１中の略記はそれぞれ以下の化合物を示
す。 Ｆ17ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレ
ングリコール Ｆ19ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシルエチレングリコール Ｆ21ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘン
エイコサフルオロウンデシルエチレングリコール Ｆ23ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１
２，１２−トリコサフルオロドデシルエチレングリコー
ル ＮＭＯＤＡ；ジアクリル酸ノナンジオール Ｆ17ＤＥＤＡ；ジアクリル酸−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘ
プタデカフルオロノニルエチレングリコール ＰＦ17Ａ；ポリ（アクリル酸−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシル） ＰＦ17Ｆ；ポリ（フマル酸−ｉｓｏ−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシル） Ｐ（Ｐ17Ａ−Ｂ）；（アクリル酸−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシル−アクリル酸−ｎ
−ブチル）共重合体 重量比（４：１） ＤＡＲ．１１１６；商品名「ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６」
（メルク社製） ＢＰＯ；過酸化ベンゾイル
す。 Ｆ17ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレ
ングリコール Ｆ19ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１０−ノナデカフルオロ
デシルエチレングリコール Ｆ21ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１−ヘン
エイコサフルオロウンデシルエチレングリコール Ｆ23ＥＧＤＦＡ；ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，
８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１
２，１２−トリコサフルオロドデシルエチレングリコー
ル ＮＭＯＤＡ；ジアクリル酸ノナンジオール Ｆ17ＤＥＤＡ；ジアクリル酸−２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘ
プタデカフルオロノニルエチレングリコール ＰＦ17Ａ；ポリ（アクリル酸−３，３，４，４，５，
５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１
０−ヘプタデカフルオロデシル） ＰＦ17Ｆ；ポリ（フマル酸−ｉｓｏ−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシル） Ｐ（Ｐ17Ａ−Ｂ）；（アクリル酸−３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１
０，１０−ヘプタデカフルオロデシル−アクリル酸−ｎ
−ブチル）共重合体 重量比（４：１） ＤＡＲ．１１１６；商品名「ＤＡＲＯＣＵＲ１１１６」
（メルク社製） ＢＰＯ；過酸化ベンゾイル
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式化１で表わされるジ−（α−
フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステルと含フ
ッ素重合体とを含有することを特徴とする含フッ素硬化
性組成物。 【化１】 - 【請求項２】 請求項１記載の含フッ素硬化性組成物を
重合硬化して得られる鉛筆硬度がＨ以上の表面硬度と、
１．４０以下の屈折率とを有することを特徴とする反射
防止用含フッ素硬化被膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33331993A JP3374495B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 反射防止用含フッ素硬化被膜及び反射防止被膜用含フッ素硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33331993A JP3374495B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 反射防止用含フッ素硬化被膜及び反射防止被膜用含フッ素硬化性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07188582A true JPH07188582A (ja) | 1995-07-25 |
| JP3374495B2 JP3374495B2 (ja) | 2003-02-04 |
Family
ID=18264786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33331993A Expired - Fee Related JP3374495B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 反射防止用含フッ素硬化被膜及び反射防止被膜用含フッ素硬化性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3374495B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002226435A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-14 | Daikin Ind Ltd | 含フッ素化合物 |
| WO2007123006A1 (ja) | 2006-04-21 | 2007-11-01 | Konica Minolta Holdings, Inc. | ガスバリアフィルム、有機エレクトロルミネッセンス用樹脂基材、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子及びガスバリアフィルムの製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100737131B1 (ko) * | 2005-11-22 | 2007-07-06 | 제일모직주식회사 | 반사방지 필름용 저굴절층 코팅액 및 이를 채용한반사방지필름 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33331993A patent/JP3374495B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002226435A (ja) * | 2001-02-07 | 2002-08-14 | Daikin Ind Ltd | 含フッ素化合物 |
| WO2007123006A1 (ja) | 2006-04-21 | 2007-11-01 | Konica Minolta Holdings, Inc. | ガスバリアフィルム、有機エレクトロルミネッセンス用樹脂基材、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子及びガスバリアフィルムの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3374495B2 (ja) | 2003-02-04 |
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