JPH07188198A - ペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法 - Google Patents
ペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法Info
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- JPH07188198A JPH07188198A JP4034151A JP3415192A JPH07188198A JP H07188198 A JPH07188198 A JP H07188198A JP 4034151 A JP4034151 A JP 4034151A JP 3415192 A JP3415192 A JP 3415192A JP H07188198 A JPH07188198 A JP H07188198A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D273/00—Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D261/00 - C07D271/00
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】式（II）のペルフルオロ−イミンを、置換基と
して電子吸引性の基を有していてもよい過安息香酸によ
り、−５０〜＋１００℃の範囲の温度で酸化することよ
り成る、一般式（Ｉ）を有するペルフルオロ−オキシア
ジリジンの製造法。 （式中、ＲｘはＦ、１〜１０個の炭素原子を有するペル
フルオロアルキル基または−ＮＲｆ ２であり、但しＲｆ
は１〜１０個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル
基であり、ＲｙはＦまたは１〜１０個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキル基であり、Ｒｚは１〜１０個の
炭素原子を有するペルフルオロアルキル基である） 【効果】ペルフルオロ−イミンを、ｍ−クロロ過安息香
酸、ｐ−メトキシ過安息香酸等で酸化することにより、
ペルフルオロ−オキシアジリジンを高収率で製造するこ
とができる。
して電子吸引性の基を有していてもよい過安息香酸によ
り、−５０〜＋１００℃の範囲の温度で酸化することよ
り成る、一般式（Ｉ）を有するペルフルオロ−オキシア
ジリジンの製造法。 （式中、ＲｘはＦ、１〜１０個の炭素原子を有するペル
フルオロアルキル基または−ＮＲｆ ２であり、但しＲｆ
は１〜１０個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル
基であり、ＲｙはＦまたは１〜１０個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキル基であり、Ｒｚは１〜１０個の
炭素原子を有するペルフルオロアルキル基である） 【効果】ペルフルオロ−イミンを、ｍ−クロロ過安息香
酸、ｐ−メトキシ過安息香酸等で酸化することにより、
ペルフルオロ−オキシアジリジンを高収率で製造するこ
とができる。
Description
【０００１】本発明は、ペルフルオロ−オキシアジリジ
ンの製造法に関する。
ンの製造法に関する。
【０００２】最も単純なペルフルオロ−オキシアジリジ
ンは、ペルフルオロ−２−アザプロペンオキシド
ンは、ペルフルオロ−２−アザプロペンオキシド
【化４】 である。
【０００３】この化合物の製造法は、ファラルデュー(F
alardeau) とデスマルテュー(DesMarteau)の J. Am. Ch
em. Soc., 98, 3529 (1976) に記載されている。この方
法はトリフルオロメチルヒドロペルオキシドＣＦ３ＯＯ
Ｈを対応するイミンＣＦ３Ｎ＝ＣＦ２に加えた後、生成
するヒドロペルオキシドをＮａＦによってオキシアジリ
ジンに転換することから成る。
alardeau) とデスマルテュー(DesMarteau)の J. Am. Ch
em. Soc., 98, 3529 (1976) に記載されている。この方
法はトリフルオロメチルヒドロペルオキシドＣＦ３ＯＯ
Ｈを対応するイミンＣＦ３Ｎ＝ＣＦ２に加えた後、生成
するヒドロペルオキシドをＮａＦによってオキシアジリ
ジンに転換することから成る。
【０００４】この方法は幾つかの欠点を示し、その欠点
は主として酸化剤として用いられるヒドロペルオキシド
ＣＦ３ＯＯＨによるものであり、この酸化剤が潜在的に
爆発性であり且つ複雑な多段工程によってしか製造され
ないことによる。
は主として酸化剤として用いられるヒドロペルオキシド
ＣＦ３ＯＯＨによるものであり、この酸化剤が潜在的に
爆発性であり且つ複雑な多段工程によってしか製造され
ないことによる。
【０００５】ファラルデューとデスマルテューによるこ
の方法は、ツェング(Zheng) とデスマルテュー(DesMart
eau)（J. Org. Chem., 48, 4844 (1983)）によって、対
応するイミンから式
の方法は、ツェング(Zheng) とデスマルテュー(DesMart
eau)（J. Org. Chem., 48, 4844 (1983)）によって、対
応するイミンから式
【化５】 （Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）を有するオキシアジリジンを製
造するのに利用されている。しかしながら、この方法に
よれば、炭素原子上でペルフルオロアルキル基によって
置換されたオキシアジリジンを製造することはできな
い。
造するのに利用されている。しかしながら、この方法に
よれば、炭素原子上でペルフルオロアルキル基によって
置換されたオキシアジリジンを製造することはできな
い。
【０００６】ペルフルオロ−オキシアジリジンのもう一
つの製造法が米国特許第４，２８７，１２８号明細書に
記載され、その方法はペルハロアルキルイミンをアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または重炭酸塩
の存在下にて気体状塩素と反応させることからなる。反
応を促進するには、痕跡量の水が存在することが必要で
ある。この事実は、出発イミンと得られるオキシアジリ
ジンとが両方とも、特にそれらが置換基を持たないとき
には容易に加水分解するという欠点につながる。したが
って、この方法は、ペルフルオロ−２−アザプロペンオ
キシドの製造に用いることはできない。
つの製造法が米国特許第４，２８７，１２８号明細書に
記載され、その方法はペルハロアルキルイミンをアルカ
リ金属またはアルカリ土類金属の炭酸塩または重炭酸塩
の存在下にて気体状塩素と反応させることからなる。反
応を促進するには、痕跡量の水が存在することが必要で
ある。この事実は、出発イミンと得られるオキシアジリ
ジンとが両方とも、特にそれらが置換基を持たないとき
には容易に加水分解するという欠点につながる。したが
って、この方法は、ペルフルオロ−２−アザプロペンオ
キシドの製造に用いることはできない。
【０００７】米国特許第４，８７４，８７５号明細書に
は、ペルフルオロ−オキシアジリジンを合成するもう一
つの方法が記載されている。この方法は、ペルフルオロ
イミンとＨ２Ｏ２とを、塩基の存在下にて非プロトン性
の極性溶媒中で反応させることからなっている。Ｈ２Ｏ
２に由来する水が存在するために、この方法もペルフル
オロ−２−アザプロペンオキシドの製造に用いることは
できない。
は、ペルフルオロ−オキシアジリジンを合成するもう一
つの方法が記載されている。この方法は、ペルフルオロ
イミンとＨ２Ｏ２とを、塩基の存在下にて非プロトン性
の極性溶媒中で反応させることからなっている。Ｈ２Ｏ
２に由来する水が存在するために、この方法もペルフル
オロ−２−アザプロペンオキシドの製造に用いることは
できない。
【０００８】したがって、ペルフルオロ−オキシアジリ
ジンの中の最初に述べたものを製造するには、ファラル
デューとデスマルテューによって開示された上記の複雑
な方法だけしか用いることができないが、この方法には
前述のような欠点が伴う。
ジンの中の最初に述べたものを製造するには、ファラル
デューとデスマルテューによって開示された上記の複雑
な方法だけしか用いることができないが、この方法には
前述のような欠点が伴う。
【０００９】本発明者は、ペルフルオロ−オキシアジリ
ジンを、非プロトン性溶媒中で対応するペルフルオロ−
イミンを芳香族ペルオキシ酸と反応させることによって
製造することができ、特に、炭素原子上に置換基を持た
ないペルフルオロ−オキシアジリジン、例えばペルフル
オロ−２−アザプロペンオキシドを高収率で製造するの
に用いることができることを意外にも見出した。
ジンを、非プロトン性溶媒中で対応するペルフルオロ−
イミンを芳香族ペルオキシ酸と反応させることによって
製造することができ、特に、炭素原子上に置換基を持た
ないペルフルオロ−オキシアジリジン、例えばペルフル
オロ−２−アザプロペンオキシドを高収率で製造するの
に用いることができることを意外にも見出した。
【００１０】したがって、本発明の目的は、式
【化６】 （式中、ＲｘはＦ、１〜１０個の炭素原子を有するペル
フルオロアルキル基または−ＮＲｆ ２であり、但しＲｆ
は１〜１０個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル
基であり、ＲｙはＦまたは１〜１０個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキル基であり、Ｒｚは１〜１０個の
炭素原子を有するペルフルオロアルキル基である）を有
するペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法である。
フルオロアルキル基または−ＮＲｆ ２であり、但しＲｆ
は１〜１０個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル
基であり、ＲｙはＦまたは１〜１０個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキル基であり、Ｒｚは１〜１０個の
炭素原子を有するペルフルオロアルキル基である）を有
するペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法である。
【００１１】本発明の方法は、式
【化７】 （式中、Ｒｘ、ＲｙおよびＲｚは前記に定義の通りであ
る）を有するペルフルオロ−イミンを、式
る）を有するペルフルオロ−イミンを、式
【化８】 （式中、ＸはＨまたは電子吸引性の置換基である）を有
する芳香族ペルオキシ酸と、非プロトン性溶媒中で、−
５０〜＋１００℃の範囲の温度で反応させることから成
る。
する芳香族ペルオキシ酸と、非プロトン性溶媒中で、−
５０〜＋１００℃の範囲の温度で反応させることから成
る。
【００１２】出発ペルフルオロ−イミンは既知化合物で
あり、例えば、ダブリュ・エイ・シェパード(W.A. Shep
pard) およびシー・エム・シャーツ(C.M. Sharts) の
「オーガニック・フルオライン・ケミストリー(Organic
Fluorine Chemistry)」、ダブリュ・エイ・ベンジャミ
ン・インコーポレーテド(W.A. Benjamin Inc.)(1969)、
およびケイ・イー・ピーターマン(K.E. Peterman) およ
びジェイ・エム・シュリーブ(J.M. Shreeve)のInorg. C
hem., 14, 1223 (1975) に記載されている方法によって
製造することができる。特に、ＣＦ２＝Ｎ−ＣＦ３につ
いては、バール(Barr)とハスツェルディン(Haszeldine)
のJ. Chem. Soc., 1881 (1955)に記載された方法を用い
ることができる。
あり、例えば、ダブリュ・エイ・シェパード(W.A. Shep
pard) およびシー・エム・シャーツ(C.M. Sharts) の
「オーガニック・フルオライン・ケミストリー(Organic
Fluorine Chemistry)」、ダブリュ・エイ・ベンジャミ
ン・インコーポレーテド(W.A. Benjamin Inc.)(1969)、
およびケイ・イー・ピーターマン(K.E. Peterman) およ
びジェイ・エム・シュリーブ(J.M. Shreeve)のInorg. C
hem., 14, 1223 (1975) に記載されている方法によって
製造することができる。特に、ＣＦ２＝Ｎ−ＣＦ３につ
いては、バール(Barr)とハスツェルディン(Haszeldine)
のJ. Chem. Soc., 1881 (1955)に記載された方法を用い
ることができる。
【００１３】基Ｒｘ、ＲｙおよびＲｚは、好ましくは１
〜８個の炭素原子を有する。基Ｒｆは、好ましくは１〜
３個の炭素原子を有する。
〜８個の炭素原子を有する。基Ｒｆは、好ましくは１〜
３個の炭素原子を有する。
【００１４】式(III) の芳香族ペルオキシ酸に関して
は、置換基Ｘはペルオキシカルボキシル基に対してオル
ト、メタまたはパラ位になることができ、これは好まし
くはＦ、Ｃｌ、−ＮＯ２、−ＣＯＯＲおよび−ＣＯＮＲ
２（但し、ＲはＨであるかまたは好ましくは１〜５個の
炭素原子を有するアルキル基である）から選択される。
は、置換基Ｘはペルオキシカルボキシル基に対してオル
ト、メタまたはパラ位になることができ、これは好まし
くはＦ、Ｃｌ、−ＮＯ２、−ＣＯＯＲおよび−ＣＯＮＲ
２（但し、ＲはＨであるかまたは好ましくは１〜５個の
炭素原子を有するアルキル基である）から選択される。
【００１５】本発明の方法に用いることができる芳香族
ペルオキシ酸の例は、ｍ−クロロ過安息香酸、ｐ−ニト
ロ過安息香酸、ｐ−メトキシカルボキシ−過安息香酸、
モノ過フタル酸である。特に好ましいものは、ｍ−クロ
ロ過安息香酸である。
ペルオキシ酸の例は、ｍ−クロロ過安息香酸、ｐ−ニト
ロ過安息香酸、ｐ−メトキシカルボキシ−過安息香酸、
モノ過フタル酸である。特に好ましいものは、ｍ−クロ
ロ過安息香酸である。
【００１６】前記のように、反応は非プロトン性溶媒中
で行う。ペルオキシ酸およびペルフルオロ−イミンと相
溶性の任意の非プロトン性溶媒を用いることが可能であ
る。例えば、ニトロ（例えば、アセトニトリルおよびベ
ンゾニトリル）、エーテル（例えば、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メトキシエ
チルエーテル）、塩素化炭化水素（例えば、ジクロロメ
タン、テトラクロロメタン、クロロホルム、モノクロロ
エタン）、またはそれらの混合物を用いることができ
る。
で行う。ペルオキシ酸およびペルフルオロ−イミンと相
溶性の任意の非プロトン性溶媒を用いることが可能であ
る。例えば、ニトロ（例えば、アセトニトリルおよびベ
ンゾニトリル）、エーテル（例えば、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２−メトキシエ
チルエーテル）、塩素化炭化水素（例えば、ジクロロメ
タン、テトラクロロメタン、クロロホルム、モノクロロ
エタン）、またはそれらの混合物を用いることができ
る。
【００１７】アセトニトリルとジクロロメタンが好まし
い。
い。
【００１８】反応の前に溶媒と過酸とを十分に脱水し
て、出発アミンとオキシアジリジンの加水分解を避ける
ようにするのが好ましい。この操作は、炭素原子上に置
換基を持たないオキシアジリジン、例えばペルフルオロ
−２−アザプロペンオキシドを製造するときに、特に好
ましい。
て、出発アミンとオキシアジリジンの加水分解を避ける
ようにするのが好ましい。この操作は、炭素原子上に置
換基を持たないオキシアジリジン、例えばペルフルオロ
−２−アザプロペンオキシドを製造するときに、特に好
ましい。
【００１９】この目的には、従来の技術を用いることが
できる。例えばペルオキシ酸を、ペルオキシ酸自身と相
溶性の脱水剤（例えば、Ｐ２Ｏ５、ＣａＣｌ２、ＭｇＳ
Ｏ４など）と接触させたまま、脱水剤の存在下にて溶媒
を蒸留することができる。この目的に好適なものは、例
えば通常のモレキュラーシーブである。
できる。例えばペルオキシ酸を、ペルオキシ酸自身と相
溶性の脱水剤（例えば、Ｐ２Ｏ５、ＣａＣｌ２、ＭｇＳ
Ｏ４など）と接触させたまま、脱水剤の存在下にて溶媒
を蒸留することができる。この目的に好適なものは、例
えば通常のモレキュラーシーブである。
【００２０】反応温度は、−５０°〜＋１００℃、好ま
しくは−５０°〜＋５０℃の範囲である。
しくは−５０°〜＋５０℃の範囲である。
【００２１】ペルオキシ酸／イミンのモル比は、通常は
１：１〜１０：１の範囲であり、好ましくは１：１〜
２：１の範囲である。
１：１〜１０：１の範囲であり、好ましくは１：１〜
２：１の範囲である。
【００２２】反応時間は重要なパラメーターではなく、
選択された反応温度によって変わる。一般的には、反応
は１０分〜２４時間の範囲の時間で終了する。
選択された反応温度によって変わる。一般的には、反応
は１０分〜２４時間の範囲の時間で終了する。
【００２３】本発明の方法によって製造することができ
るペルフルオロ−オキシアジリジンは、高い化学的不活
性および高い熱安定性を特徴とするポリマーまたはコポ
リマー、例えば欧州特許出願第３３８，５８５号明細書
に記載のペルフルオロアミノエーテルポリマーの合成に
用いることができる。
るペルフルオロ−オキシアジリジンは、高い化学的不活
性および高い熱安定性を特徴とするポリマーまたはコポ
リマー、例えば欧州特許出願第３３８，５８５号明細書
に記載のペルフルオロアミノエーテルポリマーの合成に
用いることができる。
【００２４】ペルフルオロ−オキシアジリジンは、ニト
ロンの製造にも利用することができる。更に、ペルフル
オロ−オキシアジリジンは、エチレンモノマーの光重合
の触媒として働く、遷移金属のイオンとの錯体を形成す
る。
ロンの製造にも利用することができる。更に、ペルフル
オロ−オキシアジリジンは、エチレンモノマーの光重合
の触媒として働く、遷移金属のイオンとの錯体を形成す
る。
【００２５】下記の例は例示のためのものであり、本発
明の範囲を限定するものと考えるべきではない。
明の範囲を限定するものと考えるべきではない。
【００２６】 パイレックス(Pyrex) 製の５０ｍｌフラスコに、乾燥箱
内部で、ＭＣＰＢＡ７５〜８０％を含み残りの部分がｍ
−クロロ−安息香酸であるｍ−クロロ−過安息香酸（Ｍ
ＣＰＢＡ）［アルドリッチ社(Aldrich Co.) の市販製
品］２．０ｇ（７．０ミリモル）を入れた。ＭＣＰＢＡ
を、予めＰ２Ｏ５上で蒸留したＣＨ２Ｃｌ２（アルドリ
ッチの市販製品）２５ｍｌに溶解した。溶液を、室温で
５０分間モレキュラーシーブ（フィッシャー(Fisher)Ｍ
−５６４、３Ａ型、８〜１２メッシュ）と接触させた。
次いで、溶液をマグネティックスターラーを備えた別の
５０ｍｌフラスコに移した。このフラスコを液体窒素
（−１９６℃）で冷却して、排気した。パイレックスの
真空管路によって、ペルフルオロ−２−アザプロペン ＣＦ２＝Ｎ−ＣＦ３０．４ｇ（３．０ミリモル）をフラ
スコ中で凝縮した。フラスコを氷水槽に入れた。反応混
合物を、０℃で１５分間撹拌した。真空蒸留によって、
ペルフルオロ−２−アザプロペンオキシド０．２４ｇ
（１．６ミリモル）を回収した（収率：５３％）。この
オキシアジリジンを、ＩＲおよび19Ｆ−ＮＭＲスペクト
ルを文献のデーターと比較することによって同定した。
内部で、ＭＣＰＢＡ７５〜８０％を含み残りの部分がｍ
−クロロ−安息香酸であるｍ−クロロ−過安息香酸（Ｍ
ＣＰＢＡ）［アルドリッチ社(Aldrich Co.) の市販製
品］２．０ｇ（７．０ミリモル）を入れた。ＭＣＰＢＡ
を、予めＰ２Ｏ５上で蒸留したＣＨ２Ｃｌ２（アルドリ
ッチの市販製品）２５ｍｌに溶解した。溶液を、室温で
５０分間モレキュラーシーブ（フィッシャー(Fisher)Ｍ
−５６４、３Ａ型、８〜１２メッシュ）と接触させた。
次いで、溶液をマグネティックスターラーを備えた別の
５０ｍｌフラスコに移した。このフラスコを液体窒素
（−１９６℃）で冷却して、排気した。パイレックスの
真空管路によって、ペルフルオロ−２−アザプロペン ＣＦ２＝Ｎ−ＣＦ３０．４ｇ（３．０ミリモル）をフラ
スコ中で凝縮した。フラスコを氷水槽に入れた。反応混
合物を、０℃で１５分間撹拌した。真空蒸留によって、
ペルフルオロ−２−アザプロペンオキシド０．２４ｇ
（１．６ミリモル）を回収した（収率：５３％）。この
オキシアジリジンを、ＩＲおよび19Ｆ−ＮＭＲスペクト
ルを文献のデーターと比較することによって同定した。
【００２７】 乾燥箱内部で、ＭＣＰＢＡ（実施例１と同様な市販製
品）５．４ｇ（２５．０ミリモル）を５０ｍｌフラスコ
に入れた。ＭＣＰＢＡをＣＨ３ＣＮ（アルドリッチ(Ald
rich) 製の市販製品）３０ｍｌに溶解した。溶液を、室
温で４０分間モレキュラーシーブと接触させた。次い
で、これをマグネティックスターラーを備えたもう一つ
の５０ｍｌフラスコに移し、＋１０℃に冷却した。ＣＦ
３（ＣＦ２）２−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）３ＣＦ３ １
０．０ｇ（２３．０ミリモル）を加えた。反応混合物を
＋１０℃で５分間撹拌下に保持して、１０分間で室温ま
で温度を上げ、次いでＣＨ３ＣＮ７０ｍｌで希釈して、
反応中に形成した沈澱を溶解した。このようにして得ら
れた生成物を分離漏斗によって分離し、ＣａＣｌ２上で
１時間脱水した後、蒸留した。ＩＲ、19Ｆ−ＮＭＲおよ
び質量スペクトルによって特性決定した純粋なオキシア
ジリジン８．２ｇ（１８．３ミリモル）を回収した（収
率：７９％）。
品）５．４ｇ（２５．０ミリモル）を５０ｍｌフラスコ
に入れた。ＭＣＰＢＡをＣＨ３ＣＮ（アルドリッチ(Ald
rich) 製の市販製品）３０ｍｌに溶解した。溶液を、室
温で４０分間モレキュラーシーブと接触させた。次い
で、これをマグネティックスターラーを備えたもう一つ
の５０ｍｌフラスコに移し、＋１０℃に冷却した。ＣＦ
３（ＣＦ２）２−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）３ＣＦ３ １
０．０ｇ（２３．０ミリモル）を加えた。反応混合物を
＋１０℃で５分間撹拌下に保持して、１０分間で室温ま
で温度を上げ、次いでＣＨ３ＣＮ７０ｍｌで希釈して、
反応中に形成した沈澱を溶解した。このようにして得ら
れた生成物を分離漏斗によって分離し、ＣａＣｌ２上で
１時間脱水した後、蒸留した。ＩＲ、19Ｆ−ＮＭＲおよ
び質量スペクトルによって特性決定した純粋なオキシア
ジリジン８．２ｇ（１８．３ミリモル）を回収した（収
率：７９％）。
【００２８】 ＭＣＰＢＡ５．０ｇ（２２．０ミリモル）をＣＨ３ＣＮ
２５ｍｌに溶解したものを、式 ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）４ＣＦ３お
よび ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）４
ＣＦ３ のペルフルオロ−イミンの１：１異性体混合物８．０ｇ
（１５．０ミリモル）と反応させた。実施例２に記載し
たのと同じ方法によって、純粋なオキシアジリジン６．
５ｇ（１１．８ミリモル）を得た（収率：７９％）。沸
点は６８〜７０℃／１３５ｍｍＨｇであった。ＩＲおよ
び19Ｆ−ＮＭＲスペクトルおよびガスクロマトグラフィ
データーに基づいて、得られた生成物は、式 および の２つの異性体の１：１混合物から成っていた。
２５ｍｌに溶解したものを、式 ＣＦ３（ＣＦ２）３−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）４ＣＦ３お
よび ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）４
ＣＦ３ のペルフルオロ−イミンの１：１異性体混合物８．０ｇ
（１５．０ミリモル）と反応させた。実施例２に記載し
たのと同じ方法によって、純粋なオキシアジリジン６．
５ｇ（１１．８ミリモル）を得た（収率：７９％）。沸
点は６８〜７０℃／１３５ｍｍＨｇであった。ＩＲおよ
び19Ｆ−ＮＭＲスペクトルおよびガスクロマトグラフィ
データーに基づいて、得られた生成物は、式 および の２つの異性体の１：１混合物から成っていた。
【００２９】 ＭＣＰＢＡ３．５ｇ（１５．３ミリモル）をＣＨ３ＣＮ
２５ｍｌに溶解したものを、実施例２に示したのと同じ
方法により ＣＦ３−ＣＦ＝Ｎ−ＣＦ（ＣＦ３）２３．５ｇ（１２．
４ミリモル）と反応させた。純粋なオキシアジリジン
１．４ｇ（４．９ミリモル）を得た（収率：３９％）。
生成物は、ＩＲ、19Ｆ−ＮＭＲスペクトルおよび質量ス
ペクトルによって特性決定した。
２５ｍｌに溶解したものを、実施例２に示したのと同じ
方法により ＣＦ３−ＣＦ＝Ｎ−ＣＦ（ＣＦ３）２３．５ｇ（１２．
４ミリモル）と反応させた。純粋なオキシアジリジン
１．４ｇ（４．９ミリモル）を得た（収率：３９％）。
生成物は、ＩＲ、19Ｆ−ＮＭＲスペクトルおよび質量ス
ペクトルによって特性決定した。
【００３０】 ＭＣＰＢＡ４．０ｇ（１７．４ミリモル）をＣＨ３ＣＮ
２５ｍｌに溶解したものを、実施例２に示したのと同じ
方法によりＣＦ３（ＣＦ２）４−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）
５ＣＦ３６．０ｇ（９．５ミリモル）と反応させた。純
粋なオキシアジリジン４．３ｇ（６．６ミリモル）を得
た（収率：７０％）。生成物は、ＩＲおよび19Ｆ−ＮＭ
Ｒスペクトルによって特性決定した。
２５ｍｌに溶解したものを、実施例２に示したのと同じ
方法によりＣＦ３（ＣＦ２）４−ＣＦ＝Ｎ−（ＣＦ２）
５ＣＦ３６．０ｇ（９．５ミリモル）と反応させた。純
粋なオキシアジリジン４．３ｇ（６．６ミリモル）を得
た（収率：７０％）。生成物は、ＩＲおよび19Ｆ−ＮＭ
Ｒスペクトルによって特性決定した。
【００３１】 ＭＣＰＢＡ１．０ｇ（４．４ミリモル）をＣＨ３ＣＮ１
０ｍｌに溶解し、室温で４５分間モレキュラーシーブに
接触させた。溶液を、マグネティックスターラーを備え
た５０ｍｌフラスコに移した。フラスコを液体窒素 （−１９６℃）で冷却した後、排気した。パイレックス
真空管路によって、（ＣＦ３）２Ｎ−ＣＦ＝Ｎ−ＣＦ３
０．８ｇ（３．０ミリモル）をこのフラスコ中で凝縮し
た。反応混合物を１０分間で室温に加熱した後、その温
度で１５分間撹拌した。真空蒸留によって、純粋なオキ
シアジリジン０．５ｇ（１．８２ミリモル）を得た（収
率：６１％）。生成物は、ＩＲおよび19Ｆ−ＮＭＲスペ
クトルを文献データーと比較することによって同定し
た。
０ｍｌに溶解し、室温で４５分間モレキュラーシーブに
接触させた。溶液を、マグネティックスターラーを備え
た５０ｍｌフラスコに移した。フラスコを液体窒素 （−１９６℃）で冷却した後、排気した。パイレックス
真空管路によって、（ＣＦ３）２Ｎ−ＣＦ＝Ｎ−ＣＦ３
０．８ｇ（３．０ミリモル）をこのフラスコ中で凝縮し
た。反応混合物を１０分間で室温に加熱した後、その温
度で１５分間撹拌した。真空蒸留によって、純粋なオキ
シアジリジン０．５ｇ（１．８２ミリモル）を得た（収
率：６１％）。生成物は、ＩＲおよび19Ｆ−ＮＭＲスペ
クトルを文献データーと比較することによって同定し
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダリル、ディー、デスマートー アメリカ合衆国サウス、カロライナ州、ク レムソン、バークレー、ドライブ、1007、 クレムソン、ユニバーシティー (72)発明者 ワルター、ナバリーニ イタリー国ミラノ、ボッファローラ、ティ チノ、ビア、エー、モロ、46／48
Claims (9)
- 【請求項１】式 【化１】 （式中、ＲｘはＦ、１〜１０個の炭素原子を有するペル
フルオロアルキル基または−ＮＲｆ ２であり、但しＲｆ
は１〜１０個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル
基であり、ＲｙはＦまたは１〜１０個の炭素原子を有す
るペルフルオロアルキル基であり、Ｒｚは１〜１０個の
炭素原子を有するペルフルオロアルキル基である）を有
するペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法であっ
て、式 【化２】 （式中、Ｒｘ、ＲｙおよびＲｚは前記に定義の通りであ
る）を有するペルフルオロ−イミンを、式 【化３】 （式中、ＸはＨまたは電子吸引性の置換基である）を有
する芳香族ペルオキシ酸と、非プロトン性溶媒中で、−
５０〜＋１００℃の範囲の温度で反応させることから成
る方法。 - 【請求項２】ＸがＦ、Ｃｌ、−ＮＯ２、−ＣＯＯＲおよ
び−ＣＯＮＲ２（但し、ＲはＨまたはアルキル基）から
選択される、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】ＸがＣｌであり、ペルオキシカルボキシル
基に対してメタ位にある、請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】ＲｘおよびＲｙがＦである、請求項１〜３
のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５】Ｒｚが−ＣＦ３である、請求項４に記載の
方法。 - 【請求項６】溶媒がニトリル、エーテルおよび塩素化炭
化水素、或いはそれらの混合物から選択される、請求項
１〜５のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項７】溶媒がジクロロメタンである、請求項６に
記載の方法。 - 【請求項８】溶媒がアセトニトリルである、請求項６に
記載の方法。 - 【請求項９】請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法
によって得られるペルフルオロ−オキシアジリジン。
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|---|---|---|---|
| IT91A/000172 | 1991-01-24 | ||
| ITMI910172A IT1244688B (it) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | Processo per la preparazione di perfluoro-ossiaziridine |
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|---|---|
| JPH07188198A true JPH07188198A (ja) | 1995-07-25 |
| JP3135659B2 JP3135659B2 (ja) | 2001-02-19 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP04034151A Expired - Fee Related JP3135659B2 (ja) | 1991-01-24 | 1992-01-24 | ペルフルオロ−オキシアジリジンの製造法 |
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|---|---|
| US (1) | US5229525A (ja) |
| EP (1) | EP0496413B1 (ja) |
| JP (1) | JP3135659B2 (ja) |
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| IT (1) | IT1244688B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| NO309619B1 (no) | 1998-05-13 | 2001-02-26 | Frip Ab | Anordning ved hengsel av innsneppingstypen |
Family Cites Families (5)
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|---|---|---|---|---|
| GB743940A (en) * | 1952-07-10 | 1956-01-25 | Bayer Ag | Process for producing isonitrones |
| US4178292A (en) * | 1972-11-03 | 1979-12-11 | Produits Chimiques Ugine Kuhlmann | Process for the preparation of oxaziridine |
| US4287128A (en) * | 1979-06-21 | 1981-09-01 | Allied Corporation | Process for preparing epoxides |
| IT1226066B (it) * | 1987-11-10 | 1990-12-10 | Ausimont Spa | Perfluoro ammino ossaziridine e processo per la loro preparazione. |
| IT1217182B (it) * | 1988-04-22 | 1990-03-14 | Ausimont Spa | Poliperfluoramminoeteri |
-
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- 1991-01-24 IT ITMI910172A patent/IT1244688B/it active IP Right Grant
-
1992
- 1992-01-23 US US07/824,611 patent/US5229525A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-24 JP JP04034151A patent/JP3135659B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-01-24 EP EP92101140A patent/EP0496413B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-01-24 DE DE69202578T patent/DE69202578T2/de not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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| DE69202578T2 (de) | 1996-01-25 |
| EP0496413A1 (en) | 1992-07-29 |
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| JP3135659B2 (ja) | 2001-02-19 |
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| ITMI910172A1 (it) | 1992-07-24 |
| ITMI910172A0 (it) | 1991-01-24 |
| IT1244688B (it) | 1994-08-08 |
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