JPH07179848A - 新規な研磨用スラリー - Google Patents

新規な研磨用スラリー

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JPH07179848A
JPH07179848A JP55494A JP55494A JPH07179848A JP H07179848 A JPH07179848 A JP H07179848A JP 55494 A JP55494 A JP 55494A JP 55494 A JP55494 A JP 55494A JP H07179848 A JPH07179848 A JP H07179848A
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polishing
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09G1/00Polishing compositions
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 超硬質材料を研磨するためのスラリーにおい
て、分散する研磨材をダイヤモンドそのものとするより
もはるかにコストが安く、効率が高く、研磨時間が短く
てすみ、金属等への腐食の問題がない研磨用スラリーを
提供する。 【構成】 5ミクロン未満の粒子径を有するダイヤモン
ド粒子、20〜200nmの平均粒子径を有するα−ア
ルミナ粒子、及びダイヤモンド粒子をサスペンション中
に保持するに有効な量の沈降防止剤を用い、ダイヤモン
ド対アルミナの重量比を約1:30〜約1:90として
研磨用スラリーを構成する。好ましくは、ダイヤモンド
粒子は約0.5〜約1.5ミクロンのメジアン径を有
し、α−アルミナ粒子は約40〜約100nmのメジア
ン径を有し、ダイヤモンド対アルミナの重量比は約1:
50〜約1:80であり、固形分が約40〜約80グラ
ム/リットルであり、沈降防止剤はキサンタンガムであ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は研磨材料に関係し、より
詳しくは、硬質物質に精仕上を行うために使用するダイ
ヤモンドをベースにした研磨材料に関係する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】特定の
極めて硬いセラミック材料は、ダイヤモンド研磨スラリ
ーを使用しなければ精仕上に研磨することが非常に困難
である。このような材料は例えば炭化ケイ素、アルミニ
ウム/チタンカーバイド、炭化タングステン、窒化アル
ミニウム、及びα−アルミナの一体の成形体を含む。ダ
イヤモンドは極めて高価であり、したがって研磨プロセ
スはそのものが非常にコストがかかる。
【0003】この用途の典型的なダイヤモンドスラリー
は、直径が2ミクロン未満のダイヤモンド粒子を含み、
1リットルにつき約10〜20カラットのダイヤモンド
を含む。ダイヤモンド粒子はサスペンションに保持する
必要があり、典型的に沈澱防止剤を用いて行われる。こ
こで、米国特許第5149338 号はサスペンション中にダイ
ヤモンド砥粒を保持するためのコロイド状ベーマイトの
使用を教示している。これはpH4において炭化ケイ素
に使用した場合、20Å(オングストローム)RMS未
満の仕上を形成すると言われる。ベーマイトは有意な研
磨性を全く有さず、効率的な仕方でダイヤモンド粒子を
その表面に提出する手段のみの役割である。また、使用
するpHは特殊な耐蝕性ステンレススチール(及び他の
耐蝕性材料)を除き、スラリーに接触する装置の材料に
対して厳しい腐食性を示す。コロイド状シリカ等の材料
がこのような硬いセラミックを研磨するために入手でき
るが、これらはダイヤモンドよりも間違いなく安価であ
るものの、概して有効性が少なく、許容できる仕上を得
るために長時間を要する。
【0004】したがって、使用する装置に有害な作用を
与えることなく硬い材料を研磨するための、ダイヤモン
ドそのものに代わる安価な研磨剤への要求がある。この
要求は、ダイヤモンドそのものを使用するよりも効率が
高く、所望の表面仕上をより速く達成できる本発明によ
って満たされる。コロイド状シリカ程は安くないが、ダ
イヤモンドそのものの研磨スラリーよりもかなり安価で
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段及び作用効果】本発明は、
5ミクロン未満のメジアン粒子径(median particle sid
e)のダイヤモンド粒子、及び平均粒子径(average parti
cle side) が20〜200ナノメートル(nm)のα−
アルミナ粒子を含み、ダイヤモンド対アルミナの重量比
が約1:30〜1:90である水系研磨スラリーを提供
する。またスラリーは、好ましくは、ダイヤモンド成分
の分散を保持するために沈降防止剤を含む。
【0006】ダイヤモンド成分は、従来技術で使用され
るような通常の研磨用の種類であるが、従来の研磨スラ
リーで使用されるよりもかなり少ない使用量のみが必要
である。従来のスラリーは典型的に1リットルの研磨ス
ラリーにつき2〜5グラムのダイヤモンドを含んでい
た。本発明の好ましいスラリーは同じダイヤモンドを1
リットルにつき2グラム未満で含み、通常は約0.5〜
1.5グラムである。
【0007】本発明のα−アルミナ成分は極めて微細な
物質であり、好ましくは粒子径分布が比較的狭く、例え
ばα−アルミナの体積平均粒子径の2倍以上の粒子径を
有する粒子は5体積%より少ない。このような物質は米
国特許第4657754 号に記載の方法により好適に得ること
ができる。この方法は水和アルミナのゾルを形成し、α
−アルミナに転化する中間アルミナの核の成長に適切な
種晶を添加する。適切な種晶にはα−アルミナそのも
の、及び構造がα−アルミナと同等で格子パラメーター
がα−アルミナに近い他の物質、例えばα−酸化第二
鉄、酸化クロム(Cr2 3 の形態)等の酸化物、チタ
ニアの混合酸化物がある。水和アルミナのゾルは種晶粒
子を添加する前又は後にゲル化させることができる。ゲ
ル化は酸による解凝固又は水含有率の低下によって行う
ことができる。その後ゲルを乾燥し、次いで殆どのアル
ミナがα−アルミナに転化するが、α−アルミナ粒子の
焼結を有意に生じさせるには不十分な温度と時間で焼成
する。得られた生成物は所望の粒子径と粒子径分布の粉
末にかなり容易に粉砕される。このように好ましいアル
ミナ粉末は種晶ゾルゲルのα−アルミナである。
【0008】本発明の好ましい研磨組成物はスラリーの
形態であり、メジアン粒子径が約0.5〜約2.5ミク
ロン、より好ましくは約0.8〜約1.5ミクロンのダ
イヤモンド粒子を1リットル中に約0.8〜1.5グラ
ム含む。また、これらの好ましいスラリーは、メジアン
粒子径が約20〜約200nm、より好ましくは約40
〜100nmのα−アルミナを1リットルあたり約40
〜約80グラム含む。これらのα−アルミナは好ましく
は種晶ゾルゲル法によって製造し、例えば約25重量%
までであって好ましくは約10重量%未満の少量の中間
(transitional)アルミナ、例えばγ−アルミナを含むこ
とがある。
【0009】また、研磨スラリーは好ましくはサスペン
ション中にダイヤモンド粒子径を保持するに有効な量で
沈降防止剤を含む。この機能を付与することができる沈
降防止剤には多数の市販品が知られており、例えばキサ
ンタンガム、マグネシウムアルミノケイ酸塩クレー、特
定のアクリル系ポリマー、カルボキシメチルセルロース
がある。有効な量は当然ながら使用する沈降防止剤によ
って変わるであろう。概してキサンタンガムについての
有効な量は、ダイヤモンドが適切に含まれる1リットル
につき約1〜5グラムである。
【0010】また、スラリーは研磨性能に関係のない、
特有の作用を有する特定の他の添加剤、例えば殺菌剤や
場合により緩衝剤を含むことがある。従来技術のいくつ
かのスラリーとは異なり、本発明の組成物のpHは好ま
しくは7以上に維持し、しばしば約10に維持する。こ
れにより、いくつかの従来技術のスラリーで特徴的な酸
性pHでの作業における腐食問題がない。
【0011】本発明のスラリーの重要な長所の1つは、
切り屑の蓄積がスラリーを非効率的にするまでリサイク
ルできることである。通常の使用においては、2〜3週
間もの長い間使用することができる。本発明のスラリー
は、通常のタイプの任意のラッピングパッド、ピッチラ
ップによって使用することができる。ここで、比較的硬
いパッド、例えばガラスビーズ充填剤入りのポリウレタ
ンパッド(商品名IC-60 としてRodel 社より販売)を用
いると良好な結果が得られることが多い。本発明のスラ
リーは1つの側面又は両側面のモードの研磨のいずれで
も使用することができる。
【0012】研磨の際にパッドに適用する重さは、この
ような適用に用いる通常の範囲でよい。しかし、圧力は
問題を生じることなく通常の範囲の上方限界を用いるこ
とができ、これは表面の性質を有意に低下させることな
く短いサイクル時間に帰着する。
【0013】
【実施例】次に本発明を例によって説明するが、本発明
の本質的な範囲が制限されることを意図するものではな
い。例1 この例の目的は、米国特許第5147338 号(上記した)に
含まれる1つの例で表されるような従来技術に対する本
発明のスラリーによる改良を例証することである。
【0014】実験#1は上記の特許の例を再現したもの
であり、実験設備が異なる以外は特許の条件と同じであ
る。実験#2はアルミナ(ベーマイト)の粒子径を20
0Åから50nmに変えた以外は実験#1と同じであ
る。実験#3はサスペンション中にダイヤモンドを保持
するためにキサンタンガムを添加した以外は実験#2と
同じである。結果より、実験#1で存在した200Åの
懸濁用ベーマイトが実験#2で存在しないことが非常に
悪い結果を導いたことが分かるであろう。
【0015】実験#4、#5、#6、#7は本発明によ
るものであり、ダイヤモンドの量とアルミナの粒子径の
変化の影響を示す。実験#5と#7の比較はダイヤモン
ドの量を4倍にしても向上は殆ど又は全くないことを示
し、実験#6はアルミナの粒子径を1ミクロンの平均粒
子径まで大きくすると性能に非常によくない影響を与え
ることを示す。実験#8はダイヤモンド成分がない他は
#7と同じである。本発明の組成物の優れた特性はアル
ミナ成分のみでは得られないことが理解できる。
【0016】下記の表1において、次の略号を使用し
た。A:アルミナ、B:ベーマイト、D:ダイヤモン
ド。ピッチは Gugolz GmbH(商品名CH84-04, Winterthu
r Switzerland)より入手した市販のピッチである。これ
は米国特許第5149338 号の研磨工具に使用のピッチに類
似である。重量は研磨工具に適用した負荷である。時間
は表示の仕上を達成するために要した時間である。RM
Sは表面を80ミクロン横切るダイヤモンド針の山と谷
の振幅の平均値であり、単位はオングストローム(Å)
である。
【0017】TIRはRMSを測定する横の動きの中で
測定されたÅ単位の最大の山谷長さである。TIRとR
MSはいずれもTencor社から入手したTencor Alpha-Ste
p 200 を用いて測定した。本発明を例示する実験で用い
たガムはキサンタンガムであり、ダイヤモンドをサスペ
ンション中に保つために使用した。pHは実験1のみ4
であり、他はいずれも10.05に保持した。
【0018】
【表1】
【0019】上記の表のデータより、従来技術の特許の
方法では、単にベーマイトの粒子径を大きくすることに
よっては改良された結果が得られないことが明らかであ
り、事実として実験#2の結果は非常に悪く、仕上に対
する価値を全く得ることができなかった。また、実験#
3でキサンタンガムの添加することによって比較的良い
仕上が得られたが、これを得るのに4時間を要した。
【0020】また、表1のデータはα−アルミナを用い
ると非常に短い時間で優れた結果が得られることを示す
が、α−アルミナの粒子径がダイヤモンド成分の粒子径
と同等になると劇的に悪化することが分かる(実験#
6)。例2 この例は、本発明の組成物で多数の超硬材料を研磨した
ときの使用効果を、ダイヤモンド単独の場合と比較して
示す。
【0021】各々の場合において、ダイヤモンド成分は
同じ粒子径(約1ミクロン)を有し、同じ量(5カラッ
ト/リットル)で使用した。α−アルミナは50nmの
メジアン径を有し、66グラム/リットルの濃度で使用
した。各々の場合において、成分の分散を保持するため
に同じ量のキサンタンガムを使用した。結果を次の表2
に示す。 表2 ──────────────────────────────── 材料 研磨材 研磨時間 RMS TIR ──────────────────────────────── SiC(Hot Press) D/A 1.0 5 35 ──────────────────────────────── SiC(Hot Press) D 1.0 15 70 ──────────────────────────────── Al TiC D/A 1.0 7 60 ──────────────────────────────── Al TiC D 1.5 10 70 ──────────────────────────────── WC D/A 0.5 〜0.75 5 50 ──────────────────────────────── AlN D/A 1.5 140 700 ──────────────────────────────── IBMアルミナ D/A 2 165 1000 ──────────────────────────────── CPSアルミナ D/A 1 225 1600 ──────────────────────────────── 略号D、A、RMS、TIRの意味は表1と同じであ
り、RMSとTIRの単位はオイグストロームである。
【0022】窒化アルミニウム(AlN)はバインダー
を高い含有量で含み、研磨中での粒子の有意な引き抜き
に結びつく。これはIBMアルミナとCPSアルミナの
研磨についても同様である。両アルミナは約10〜15
%のバインダーを含んで完全に焼結させたものである。
これらの結果は、本発明のダイヤモンド/アルミナ組成
物が各々の成分の単独の作用以上の顕著な相乗作用を有
することを明らかに示す。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年2月2日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】下記の表1において、次の略号を使用し
た。A:アルミナ、B:ベーマイト、D:ダイヤモン
ド。ピッチは Gugolz GmbH(商品名CH84-04, Winterthu
r Switzerland)より入手した市販のピッチである。これ
は米国特許第5149338 号の研磨工具に使用のピッチに類
似である。重量は研磨工具に適用した負荷である。時間
は表示の仕上を達成するために要した時間である。RM
S(Root Mean Square:自乗平均平方根)は表面を80
ミクロン横切るダイヤモンド針の山と谷の振幅の平均値
であり、単位はオングストローム(Å)である。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0017
【補正方法】変更
【補正内容】
【0017】TIR(Total Indicator Readout :指示
計全読み出し)はRMSを測定する横の動きの中で測定
されたÅ単位の最大の山谷である。TIRとRMSは
いずれもTencor社から入手したTencor Alpha-Step 200
を用いて測定した。本発明を例示する実験で用いたガム
はキサンタンガムであり、ダイヤモンドをサスペンショ
ン中に保つために使用した。pHは実験1のみ4であ
り、他はいずれも10.05に保持した。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 5ミクロン未満の粒子径を有するダイヤ
    モンド粒子、20〜200nmの平均粒子径を有するα
    −アルミナ粒子、及びダイヤモンド粒子をサスペンショ
    ン中に保持するに有効な量の沈降防止剤を含むスラリー
    であって、ダイヤモンド対アルミナの重量比が約1:3
    0〜約1:90である研磨用スラリー。
  2. 【請求項2】 ダイヤモンド粒子が約0.5〜約1.5
    ミクロンのメジアン径を有する請求項1に記載の研磨用
    スラリー。
  3. 【請求項3】 α−アルミナ粒子が約40〜約100n
    mのメジアン径を有する請求項1に記載の研磨用スラリ
    ー。
  4. 【請求項4】 ダイヤモンド対アルミナの重量比が約
    1:50〜約1:80である請求項1に記載の研磨用ス
    ラリー。
  5. 【請求項5】 固形分が約40〜約80グラム/リット
    ルである請求項1に記載の研磨用スラリー。
  6. 【請求項6】 沈降防止剤がキサンタンガムである請求
    項1に記載の研磨用スラリー。
  7. 【請求項7】 キサンタンガムが約1〜約5グラム/リ
    ットルの量である請求項6に記載の研磨用スラリー。
  8. 【請求項8】 約0.2〜約1.0ミクロンのメジアン
    径を有するダイヤモンド粒子を約1〜約10カラット/
    リットル、約40〜約100nmのメジアン径のα−ア
    ルミナを約30〜約90グラム/リットル、及びダイヤ
    モンド粒子をサスペンション中に保持するに有効な量の
    沈降防止剤を含み、ダイヤモンド対アルミナの重量比が
    約1:40〜約1:80である研磨用スラリー。
  9. 【請求項9】 沈降防止剤がキサンタンガムである請求
    項8に記載の研磨用スラリー。
  10. 【請求項10】 沈降防止剤として約1〜約5グラム/
    リットルのキサンタンガムを含む請求項9に記載の研磨
    用スラリー。
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US096804 1993-07-26
US96804 1993-07-26
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