JP2000345143A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】 研磨材として酸化チタニウム微粒子を含むことを特徴とするガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項２】 さらにマグネシウム化合物の少なくとも１種以上を含有することを特徴とする請求項１記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項３】 マグネシウム化合物が、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウムから選ばれる少なくとも１種以上であることを特徴とする請求項２記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項４】 酸化チタニウム微粒子の二次粒子の平均粒子径が０．１〜１．０μｍであることを特徴とする請求項１または２記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項５】 酸化チタニウム微粒子に対するマグネシウム化合物中のマグネシウムが０．１〜６０wt.％である請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項６】 請求項１〜５のいずれか１項に記載の粒子を分散媒に分散させてスラリーとしたガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項７】 ガラスが磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項８】 酸化セリウム、ダイヤモンド、立方晶窒化ホウ素、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、二酸化ケイ素の少なくとも１種を主成分とする研磨材あるいはこれらを少なくとも１種を含有する固定砥粒により研磨されたガラスを、請求項１〜７のいずれか１項に記載のガラス研磨用研磨材組成物を用いて研磨を行うことを特徴とするガラスの研磨方法。
【請求項１】 研磨材として酸化チタニウム微粒子を含むことを特徴とするガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項２】 さらにマグネシウム化合物の少なくとも１種以上を含有することを特徴とする請求項１記載のガラス研磨用研磨材組成物。
【請求項３】 マグネシウム化合物が、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウムから選ばれる少なくとも１種以上であることを特徴とする請求項２記載のガラス研磨用研磨材組成物。
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