JPH07176443A - 異方性希土類磁石の製造方法 - Google Patents
異方性希土類磁石の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、型との焼付きを防止でき、また大気
中でも加熱して塑性加工できる、したがってその加工費
を著しく低くできる、異方性希土類磁石の製造方法を提
供するものである。 【構成】本発明は、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土類磁石を
製造するに際し、等方性磁石素材の表面に軟質金属の被
膜をコーティングした後、これを加熱して塑性加工する
ことを特徴としている。
中でも加熱して塑性加工できる、したがってその加工費
を著しく低くできる、異方性希土類磁石の製造方法を提
供するものである。 【構成】本発明は、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土類磁石を
製造するに際し、等方性磁石素材の表面に軟質金属の被
膜をコーティングした後、これを加熱して塑性加工する
ことを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は異方性希土類磁石の製造
方法に関する。Ｒ（Ｎｄ，Ｐｒ，Ｄｙ等の希土類元素）
を１０〜４０重量％、Ｍ（Ｆｅを主成分とする遷移金
属）を５０〜９０重量％及びＢを０．５〜３重量％の割
合で含有し、添加物（Ｇａ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃｅ，Ｖ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｃ，Ｓｎ等）を３
重量％以下の割合で含有するＲ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土
類磁石が広く利用されている。本発明はかかる異方性希
土類磁石の製造方法の改良に関するものである。
方法に関する。Ｒ（Ｎｄ，Ｐｒ，Ｄｙ等の希土類元素）
を１０〜４０重量％、Ｍ（Ｆｅを主成分とする遷移金
属）を５０〜９０重量％及びＢを０．５〜３重量％の割
合で含有し、添加物（Ｇａ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｃｅ，Ｖ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｃ，Ｓｎ等）を３
重量％以下の割合で含有するＲ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土
類磁石が広く利用されている。本発明はかかる異方性希
土類磁石の製造方法の改良に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、異方性希土類磁石の製造方法とし
て、熱間で圧粉成形又は溶融凝固してＲ−Ｍ−Ｂ系の等
方性磁石素材を得、その表面を洗浄活性化し、該表面に
黒鉛や二硫化モリブデン等の潤滑剤をコーティングした
後、ＡｒやＮ2等の非酸化性ガス雰囲気中で加熱して塑
性加工することが行なわれている。そしてかかる塑性加
工により異方化し、その異方化方向へ着磁している。
て、熱間で圧粉成形又は溶融凝固してＲ−Ｍ−Ｂ系の等
方性磁石素材を得、その表面を洗浄活性化し、該表面に
黒鉛や二硫化モリブデン等の潤滑剤をコーティングした
後、ＡｒやＮ2等の非酸化性ガス雰囲気中で加熱して塑
性加工することが行なわれている。そしてかかる塑性加
工により異方化し、その異方化方向へ着磁している。
【０００３】ところが、上記のような従来法には、その
加工費が著しく高いという課題がある。等方性磁石素材
を塑性加工により充分に異方化するためには、該塑性加
工は減面率５０％以上の強加工が必要であるが、等方性
磁石素材の表面にコーティングした潤滑剤が熱間でのか
かる強加工に耐えられないため、塑性加工時に焼付きが
生じ易く、したがってそれだけ型の寿命が短く、また結
果的に塑性加工品を研削等で仕上げ加工する必要も生
じ、加工費が高くなってしまうのである。しかもＲ−Ｍ
−Ｂ系の材料は、もともと極めて酸化及び窒化し易く、
酸化や窒化によって磁性が著しく低下することに加え、
もともと極めて難加工性であり、異方化するための塑性
加工を８７３〜１１７３Ｋの温度、望ましくは９７３〜
１０７３Ｋの温度で行なわないと、割れを発生する。従
来法では、上記のような酸化や窒化及び割れの発生を防
止するため、Ａｒ等の非酸化性ガス雰囲気中で加熱して
塑性加工しているのであるが、そのためには相応の高価
な装置が必要であり、また非酸化性ガス雰囲気を形成す
るためのガス費用も嵩み、取り替え操作等の作業にも時
間がかかって、加工費が一層高くなってしまうのであ
る。
加工費が著しく高いという課題がある。等方性磁石素材
を塑性加工により充分に異方化するためには、該塑性加
工は減面率５０％以上の強加工が必要であるが、等方性
磁石素材の表面にコーティングした潤滑剤が熱間でのか
かる強加工に耐えられないため、塑性加工時に焼付きが
生じ易く、したがってそれだけ型の寿命が短く、また結
果的に塑性加工品を研削等で仕上げ加工する必要も生
じ、加工費が高くなってしまうのである。しかもＲ−Ｍ
−Ｂ系の材料は、もともと極めて酸化及び窒化し易く、
酸化や窒化によって磁性が著しく低下することに加え、
もともと極めて難加工性であり、異方化するための塑性
加工を８７３〜１１７３Ｋの温度、望ましくは９７３〜
１０７３Ｋの温度で行なわないと、割れを発生する。従
来法では、上記のような酸化や窒化及び割れの発生を防
止するため、Ａｒ等の非酸化性ガス雰囲気中で加熱して
塑性加工しているのであるが、そのためには相応の高価
な装置が必要であり、また非酸化性ガス雰囲気を形成す
るためのガス費用も嵩み、取り替え操作等の作業にも時
間がかかって、加工費が一層高くなってしまうのであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来法では、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土類
磁石を製造するに際して、その加工費が著しく高い点で
ある。
する課題は、従来法では、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土類
磁石を製造するに際して、その加工費が著しく高い点で
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】しかして本発明者らは、
上記課題を解決するべく研究した結果、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の
等方性磁石素材の表面に軟質金属の被膜をコーティング
することが正しく好適であることを見出した。
上記課題を解決するべく研究した結果、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の
等方性磁石素材の表面に軟質金属の被膜をコーティング
することが正しく好適であることを見出した。
【０００６】すなわち本発明は、Ｒ−Ｍ−Ｂ系の異方性
希土類磁石を製造するに際し、等方性磁石素材の表面に
軟質金属の被膜をコーティングした後、これを加熱して
塑性加工することを特徴とする異方性希土類磁石の製造
方法に係る。
希土類磁石を製造するに際し、等方性磁石素材の表面に
軟質金属の被膜をコーティングした後、これを加熱して
塑性加工することを特徴とする異方性希土類磁石の製造
方法に係る。
【０００７】本発明では先ず、Ｒ−Ｍ−Ｂ系材料を圧粉
成形又は溶融凝固して等方性磁石素材を得る。圧粉成形
又は溶融凝固それ自体は従来公知の方法を適用できる。
次に、等方性磁石素材の表面に軟質金属の被膜をコーテ
ィングする。コーティングに先立ち、等方性磁石素材の
表面をサンドブラスト、アルカリ脱脂、酸洗等で洗浄活
性化しておくのが好ましい。
成形又は溶融凝固して等方性磁石素材を得る。圧粉成形
又は溶融凝固それ自体は従来公知の方法を適用できる。
次に、等方性磁石素材の表面に軟質金属の被膜をコーテ
ィングする。コーティングに先立ち、等方性磁石素材の
表面をサンドブラスト、アルカリ脱脂、酸洗等で洗浄活
性化しておくのが好ましい。
【０００８】コーティングする軟質金属としては、Ｎ
ｉ、Ｃｕ又はこれらの合金、例えばＮｉ−Ｐ合金等を使
用でき、ビッカース硬度３００以下の金属が好ましく、
またコーティングそれ自体は従来公知の方法、例えばメ
ッキ、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法
を適用できる。等方性磁石素材の表面に一種の軟質金属
の被膜をコーティングすることもできるが、下地として
Ｃｕの被膜をコーティングし、更にその上にＮｉ又はそ
の合金の被膜をコーティングするのが好ましい。Ｒ−Ｍ
−Ｂ系の等方性磁石素材の表面に対する密着性のよいＣ
ｕの被膜を下地としてコーティングし、更にその上にＮ
ｉ又はその合金の被膜をコーティングすることにより、
該等方性磁石素材の表面を全体としてより確実に被覆で
きるからである。等方性磁石素材の表面にコーティング
する軟質金属の被膜の厚さは、特に制限されないが、１
０μm以上とするのが好ましく、２０μm以上とするのが
更に好ましい。コーティングした軟質金属の被膜にピン
ホールが存在すると、該ピンホールを介してＲ−Ｍ−Ｂ
系材料が酸化及び窒化し、その磁性が低下するが、この
程度に膜厚を形成させれば、かかるピンホールの発生を
より確実に防止できるからである。
ｉ、Ｃｕ又はこれらの合金、例えばＮｉ−Ｐ合金等を使
用でき、ビッカース硬度３００以下の金属が好ましく、
またコーティングそれ自体は従来公知の方法、例えばメ
ッキ、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法
を適用できる。等方性磁石素材の表面に一種の軟質金属
の被膜をコーティングすることもできるが、下地として
Ｃｕの被膜をコーティングし、更にその上にＮｉ又はそ
の合金の被膜をコーティングするのが好ましい。Ｒ−Ｍ
−Ｂ系の等方性磁石素材の表面に対する密着性のよいＣ
ｕの被膜を下地としてコーティングし、更にその上にＮ
ｉ又はその合金の被膜をコーティングすることにより、
該等方性磁石素材の表面を全体としてより確実に被覆で
きるからである。等方性磁石素材の表面にコーティング
する軟質金属の被膜の厚さは、特に制限されないが、１
０μm以上とするのが好ましく、２０μm以上とするのが
更に好ましい。コーティングした軟質金属の被膜にピン
ホールが存在すると、該ピンホールを介してＲ−Ｍ−Ｂ
系材料が酸化及び窒化し、その磁性が低下するが、この
程度に膜厚を形成させれば、かかるピンホールの発生を
より確実に防止できるからである。
【０００９】かくしてその表面に軟質金属の被膜をコー
ティングした等方性磁石素材を加熱して塑性加工する。
加熱に先立ち、コーティングした軟質金属の被膜の更に
その上に黒鉛や二硫化モリブデン等の潤滑剤を塗布して
おくこともできる。塑性加工は、通常８７３〜１１７３
Ｋの温度、好ましくは９７３〜１０７３Ｋの温度で、但
し上記のように潤滑剤を重層した場合には１０２３Ｋ以
下の温度で、減面率５０％以上となるように行なう。塑
性加工それ自体は、従来公知の押出し加工、据え込み加
工等の方法を適用できる。
ティングした等方性磁石素材を加熱して塑性加工する。
加熱に先立ち、コーティングした軟質金属の被膜の更に
その上に黒鉛や二硫化モリブデン等の潤滑剤を塗布して
おくこともできる。塑性加工は、通常８７３〜１１７３
Ｋの温度、好ましくは９７３〜１０７３Ｋの温度で、但
し上記のように潤滑剤を重層した場合には１０２３Ｋ以
下の温度で、減面率５０％以上となるように行なう。塑
性加工それ自体は、従来公知の押出し加工、据え込み加
工等の方法を適用できる。
【００１０】図１は本発明において等方性磁石素材を押
出し加工する直前の状態を例示する縦断面図、図２は同
じ等方性磁石素材を押出し加工している状態を例示する
縦断面図である。その表面に軟質金属の被膜をコーティ
ングした等方性磁石素材Ａを所定温度に加熱した後、筒
状のダイ１１とノックアウトパンチ２１とで囲まれる空
間にセットする。そしてダイ１１の軸線に沿いその上方
から押出しパンチ３１を押込み、等方性磁石素材Ａを底
付きリング状の異方性磁石素材に押出し加工する。この
場合、異方性磁石素材はその半径方向に異方化される。
出し加工する直前の状態を例示する縦断面図、図２は同
じ等方性磁石素材を押出し加工している状態を例示する
縦断面図である。その表面に軟質金属の被膜をコーティ
ングした等方性磁石素材Ａを所定温度に加熱した後、筒
状のダイ１１とノックアウトパンチ２１とで囲まれる空
間にセットする。そしてダイ１１の軸線に沿いその上方
から押出しパンチ３１を押込み、等方性磁石素材Ａを底
付きリング状の異方性磁石素材に押出し加工する。この
場合、異方性磁石素材はその半径方向に異方化される。
【００１１】最後に、所定温度での塑性加工により異方
化した異方性磁石素材をその異方化方向へ着磁して異方
性希土類磁石を得る。
化した異方性磁石素材をその異方化方向へ着磁して異方
性希土類磁石を得る。
【００１２】本発明によると、等方性磁石素材の表面に
コーティングした軟質金属の被膜が、その軟化延性によ
り、熱間又は温間での減面率５０％以上の強化工に耐え
得る固体潤滑剤として機能するため、かかる強化工を伴
う塑性加工時の焼付きを防止する。したがって、型の寿
命が長く、塑性加工品を仕上げ加工する必要もないの
で、加工費を低くできる。しかも本発明によると、その
表面にコーティングした軟質金属の被膜がＲ−Ｍ−Ｂ系
材料の酸化及び窒化を防止する。したがって、Ｒ−Ｍ−
Ｂ系の等方性磁石素材をＡｒ等の非酸化性ガス雰囲気中
で加熱して塑性加工できることはいうまでもなく、加熱
を非酸化性ガス雰囲気中で行ない、塑性加工を大気中で
行なうことができ、また加熱及び塑性加工を大気中で行
なうこともできるので、加工費を一層低くできる。
コーティングした軟質金属の被膜が、その軟化延性によ
り、熱間又は温間での減面率５０％以上の強化工に耐え
得る固体潤滑剤として機能するため、かかる強化工を伴
う塑性加工時の焼付きを防止する。したがって、型の寿
命が長く、塑性加工品を仕上げ加工する必要もないの
で、加工費を低くできる。しかも本発明によると、その
表面にコーティングした軟質金属の被膜がＲ−Ｍ−Ｂ系
材料の酸化及び窒化を防止する。したがって、Ｒ−Ｍ−
Ｂ系の等方性磁石素材をＡｒ等の非酸化性ガス雰囲気中
で加熱して塑性加工できることはいうまでもなく、加熱
を非酸化性ガス雰囲気中で行ない、塑性加工を大気中で
行なうことができ、また加熱及び塑性加工を大気中で行
なうこともできるので、加工費を一層低くできる。
【００１３】
試験区分１ 重量比でＮｄ２９．９％、Ｆｅ６６．２％、Ｂ０．９８
％及びＣｏ２．５％の組成のＲ−Ｍ−Ｂ系合金を溶融し
た後、超急冷法で薄片化し、粉砕して、粉末を得た。こ
の粉末をアルゴンガス雰囲気中、１０７３Ｋの温度でホ
ットプレスして、直径２０mm×高さ１０mmの円柱状の等
方性磁石素材を４０個製造した。そしてこれらの等方性
磁石素材を下記の各例に供した。
％及びＣｏ２．５％の組成のＲ−Ｍ−Ｂ系合金を溶融し
た後、超急冷法で薄片化し、粉砕して、粉末を得た。こ
の粉末をアルゴンガス雰囲気中、１０７３Ｋの温度でホ
ットプレスして、直径２０mm×高さ１０mmの円柱状の等
方性磁石素材を４０個製造した。そしてこれらの等方性
磁石素材を下記の各例に供した。
【００１４】実施例１ 等方性磁石素材１０個をアルカリ脱脂し、更に室温下で
１０容量％硝酸水溶液に浸漬して酸洗し、水洗した後、
硫酸銅メッキで厚さ５μmのＣｕメッキを施した。そし
て更に、ワット浴を用いた電気メッキで、Ｃｕメッキ被
膜の上に厚さ１５μmのＮｉメッキを施した。かくして
その表面にＣｕメッキ及びＮｉメッキを施した等方性磁
石素材１０個を大気中で１０７３Ｋの温度に加熱し、直
ちに図１及び図２について前述した型を用いて外直径２
０mm×内直径１６mm×長さ２４mmの底付きリングに押出
し加工し、型から取り出して冷却した。その表面肌を観
察した結果、焼付き傷は全く見られなかった。押出し加
工した底付きリングを外直径１９．７mm×内直径１６．
３mm×長さ２０mmのリングに研削加工した後、２４００
KA/mの磁界でリングの半径方向に着磁して異方性の永久
磁石を得た。これらの永久磁石の磁気特性として、最大
磁気エネルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を
表１に示した。
１０容量％硝酸水溶液に浸漬して酸洗し、水洗した後、
硫酸銅メッキで厚さ５μmのＣｕメッキを施した。そし
て更に、ワット浴を用いた電気メッキで、Ｃｕメッキ被
膜の上に厚さ１５μmのＮｉメッキを施した。かくして
その表面にＣｕメッキ及びＮｉメッキを施した等方性磁
石素材１０個を大気中で１０７３Ｋの温度に加熱し、直
ちに図１及び図２について前述した型を用いて外直径２
０mm×内直径１６mm×長さ２４mmの底付きリングに押出
し加工し、型から取り出して冷却した。その表面肌を観
察した結果、焼付き傷は全く見られなかった。押出し加
工した底付きリングを外直径１９．７mm×内直径１６．
３mm×長さ２０mmのリングに研削加工した後、２４００
KA/mの磁界でリングの半径方向に着磁して異方性の永久
磁石を得た。これらの永久磁石の磁気特性として、最大
磁気エネルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を
表１に示した。
【００１５】実施例２ 等方性磁石素材１０個について、実施例１の場合と同
様、その表面にＣｕメッキを施した。そしてその表面に
Ｃｕメッキを施した等方性磁石素材１０個を、実施例１
の場合と同様、押出し加工した。その表面肌を観察した
結果、焼付き傷が僅に見られた。押出し加工した底付き
リングを、実施例１の場合と同様、研削加工した後、２
４００KA/mの磁界でリングの半径方向に着磁して永久磁
石を得、これらの最大磁気エネルギー積BHmaxを測定し
た。１０個の平均値を表１に示した。
様、その表面にＣｕメッキを施した。そしてその表面に
Ｃｕメッキを施した等方性磁石素材１０個を、実施例１
の場合と同様、押出し加工した。その表面肌を観察した
結果、焼付き傷が僅に見られた。押出し加工した底付き
リングを、実施例１の場合と同様、研削加工した後、２
４００KA/mの磁界でリングの半径方向に着磁して永久磁
石を得、これらの最大磁気エネルギー積BHmaxを測定し
た。１０個の平均値を表１に示した。
【００１６】比較例１ 等方性磁石素材１０個について、サンドブラストをかけ
て表面の酸化物を除去した後、黒鉛粉、二硫化モリブデ
ン粉及びＢＮ粉を混濁した水溶液に浸漬し、乾燥して、
これらの慣用潤滑剤粉末を表面にコーティングした。か
くしてその表面に慣用潤滑剤粉末をコーティングした等
方性磁石素材１０個をアルゴンガス雰囲気中で１０７３
Ｋの温度に加熱し、直ちにアルゴンガス雰囲気槽内で、
図１及び図２について前述した型を用い、実施例１の場
合と同様に押出し加工し、室温に冷却した後、アルゴン
ガス槽内から取り出した。その表面肌を観察した結果、
焼付き傷が見られた。押出し加工した底付きリングを、
実施例１の場合と同様、研削加工した後、２４００KA/m
の磁界でリングの半径方向に着磁して永久磁石を得、こ
れらの最大磁気エネルギー積BHmaxを測定した。１０個
の平均値を表１に示した。
て表面の酸化物を除去した後、黒鉛粉、二硫化モリブデ
ン粉及びＢＮ粉を混濁した水溶液に浸漬し、乾燥して、
これらの慣用潤滑剤粉末を表面にコーティングした。か
くしてその表面に慣用潤滑剤粉末をコーティングした等
方性磁石素材１０個をアルゴンガス雰囲気中で１０７３
Ｋの温度に加熱し、直ちにアルゴンガス雰囲気槽内で、
図１及び図２について前述した型を用い、実施例１の場
合と同様に押出し加工し、室温に冷却した後、アルゴン
ガス槽内から取り出した。その表面肌を観察した結果、
焼付き傷が見られた。押出し加工した底付きリングを、
実施例１の場合と同様、研削加工した後、２４００KA/m
の磁界でリングの半径方向に着磁して永久磁石を得、こ
れらの最大磁気エネルギー積BHmaxを測定した。１０個
の平均値を表１に示した。
【００１７】比較例２ 等方性磁石素材１０個について、比較例１の場合と同
様、表面の酸化物を除去した後、その表面に慣用潤滑剤
粉末をコーティングした。そしてその表面に慣用潤滑剤
粉末をコーティングした等方性磁石素材１０個を大気中
で１０７３Ｋに加熱し、直ちに図１及び図２について前
述した型を用い、実施例１の場合と同様に押出し加工し
た。その表面肌を観察した結果、焼付き傷が見られた。
押出し加工した底付きリングを、実施例１の場合と同
様、研削加工した後、２４００KA/mの磁界でリングの半
径方向に着磁して永久磁石を得、これらの最大磁気エネ
ルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を表１に示
した。
様、表面の酸化物を除去した後、その表面に慣用潤滑剤
粉末をコーティングした。そしてその表面に慣用潤滑剤
粉末をコーティングした等方性磁石素材１０個を大気中
で１０７３Ｋに加熱し、直ちに図１及び図２について前
述した型を用い、実施例１の場合と同様に押出し加工し
た。その表面肌を観察した結果、焼付き傷が見られた。
押出し加工した底付きリングを、実施例１の場合と同
様、研削加工した後、２４００KA/mの磁界でリングの半
径方向に着磁して永久磁石を得、これらの最大磁気エネ
ルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を表１に示
した。
【００１８】
【表１】
【００１９】試験区分２ 重量比でＮｄ２８．１％、Ｆｅ６５．４％、Ｂ０．９３
％、Ｃｏ２．５０％及びＤｙ２．３０％の組成のＲ−Ｍ
−Ｂ系合金を溶融した後、超急冷法で薄片化し、粉砕し
て、粉末を得た。この粉末をアルゴンガス雰囲気中、１
０７３Ｋの温度でホットプレスして、直径１５mm×高さ
１０mmの円柱状の等方性磁石素材を４０個製造した。そ
してこれらの等方性磁石素材を下記の各例に供した。
％、Ｃｏ２．５０％及びＤｙ２．３０％の組成のＲ−Ｍ
−Ｂ系合金を溶融した後、超急冷法で薄片化し、粉砕し
て、粉末を得た。この粉末をアルゴンガス雰囲気中、１
０７３Ｋの温度でホットプレスして、直径１５mm×高さ
１０mmの円柱状の等方性磁石素材を４０個製造した。そ
してこれらの等方性磁石素材を下記の各例に供した。
【００２０】実施例３ 等方性磁石素材１０個について、サンドブラストをかけ
てその表面の酸化物を除去した。これらを慣用のイオン
プレーティング装置を用いて６７３Ｋの温度に加熱し、
圧力１０PaのＡｒガス中でＡｒイオンによりボンバード
して表面洗浄した後、先ず１PaのＡｒガス分圧でＣｕタ
ーゲットを用いてスパッタリングしてＣｕ被膜をコーテ
ィングし、次にＮｉターゲットを用いてスパッタリング
してＮｉ被膜をコーティングした。室温に冷却して処理
槽から取り出し、その膜厚を測定した結果、下地として
のＣｕ被膜の厚さは約２μmであり、またその上層とし
てのＮｉ被膜の厚さは約１９μmであった。かくしてそ
の表面にＣｕ被膜及びＮｉ被膜をコーティングした等方
性磁石素材１０個を大気中で１０２３Ｋの温度に加熱
し、直ちに上下対向した平板状型を用いて高さ４mmに圧
縮加工した。これらを室温に冷却した後、型との接触面
を観察した結果、焼付き跡は見られなかった。圧縮加工
した円板を高さ３．５mm×外直径２３mmに研削加工した
後、２４００KA/mの磁界でその高さ方向に着磁して異方
性の永久磁石を得た。これらの最大磁気エネルギー積BH
maxを測定した。１０個の平均値を表２に示した。
てその表面の酸化物を除去した。これらを慣用のイオン
プレーティング装置を用いて６７３Ｋの温度に加熱し、
圧力１０PaのＡｒガス中でＡｒイオンによりボンバード
して表面洗浄した後、先ず１PaのＡｒガス分圧でＣｕタ
ーゲットを用いてスパッタリングしてＣｕ被膜をコーテ
ィングし、次にＮｉターゲットを用いてスパッタリング
してＮｉ被膜をコーティングした。室温に冷却して処理
槽から取り出し、その膜厚を測定した結果、下地として
のＣｕ被膜の厚さは約２μmであり、またその上層とし
てのＮｉ被膜の厚さは約１９μmであった。かくしてそ
の表面にＣｕ被膜及びＮｉ被膜をコーティングした等方
性磁石素材１０個を大気中で１０２３Ｋの温度に加熱
し、直ちに上下対向した平板状型を用いて高さ４mmに圧
縮加工した。これらを室温に冷却した後、型との接触面
を観察した結果、焼付き跡は見られなかった。圧縮加工
した円板を高さ３．５mm×外直径２３mmに研削加工した
後、２４００KA/mの磁界でその高さ方向に着磁して異方
性の永久磁石を得た。これらの最大磁気エネルギー積BH
maxを測定した。１０個の平均値を表２に示した。
【００２１】実施例４ 等方性磁石素材１０個について、実施例３の場合と同
様、表面の酸化物を除去した。これらを慣用のイオンプ
レーティング装置を用いて６７３Ｋの温度に加熱し、圧
力１０PaのＡｒガス中でＡｒイオンによりボンバードし
て表面洗浄した後、１PaのＡｒガス分圧でＮｉ被膜を表
面にイオンコーティングした。室温に冷却して処理槽か
ら取り出し、その膜厚を測定した結果、Ｎｉ被膜の厚さ
は約２０μmであった。そしてその表面にＮｉ被膜をコ
ーティングした等方性磁石素材１０個を、実施例３の場
合と同様、圧縮加工した。これらを室温に冷却した後、
型との接触面を観察した結果、焼付き跡は見られなかっ
た。圧縮加工した円板を、実施例３の場合と同様、研削
加工した後、着磁して異方性の永久磁石を得、これらの
最大磁気エネルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均
値を表２に示した。
様、表面の酸化物を除去した。これらを慣用のイオンプ
レーティング装置を用いて６７３Ｋの温度に加熱し、圧
力１０PaのＡｒガス中でＡｒイオンによりボンバードし
て表面洗浄した後、１PaのＡｒガス分圧でＮｉ被膜を表
面にイオンコーティングした。室温に冷却して処理槽か
ら取り出し、その膜厚を測定した結果、Ｎｉ被膜の厚さ
は約２０μmであった。そしてその表面にＮｉ被膜をコ
ーティングした等方性磁石素材１０個を、実施例３の場
合と同様、圧縮加工した。これらを室温に冷却した後、
型との接触面を観察した結果、焼付き跡は見られなかっ
た。圧縮加工した円板を、実施例３の場合と同様、研削
加工した後、着磁して異方性の永久磁石を得、これらの
最大磁気エネルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均
値を表２に示した。
【００２２】比較例３ 等方性磁石素材１０個について、実施例３の場合と同
様、サンドブラストによりその表面の酸化物を除去し
た。これらを黒鉛粉、二硫化モリブデン粉及びＢＮ粉を
混濁した水溶液に浸漬し、乾燥して、これらの慣用潤滑
剤粉末を表面にコーティングした。かくしてその表面に
慣用潤滑剤粉末をコーティングした等方性磁石素材１０
個をＡｒガス雰囲気中で１０２３Ｋの温度に加熱し、直
ちにＡｒガス雰囲気槽内で、上下対向した平板状型を用
いてその高さを４mmに圧縮加工した。これらを室温に冷
却した後、アルゴンガス槽内から取り出して型との接触
面を観察した結果、焼付き跡が見られた。圧縮加工した
円板を、実施例３の場合と同様、研削加工した後、着磁
して異方性の永久磁石を得、これらの最大磁気エネルギ
ー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を表２に示し
た。
様、サンドブラストによりその表面の酸化物を除去し
た。これらを黒鉛粉、二硫化モリブデン粉及びＢＮ粉を
混濁した水溶液に浸漬し、乾燥して、これらの慣用潤滑
剤粉末を表面にコーティングした。かくしてその表面に
慣用潤滑剤粉末をコーティングした等方性磁石素材１０
個をＡｒガス雰囲気中で１０２３Ｋの温度に加熱し、直
ちにＡｒガス雰囲気槽内で、上下対向した平板状型を用
いてその高さを４mmに圧縮加工した。これらを室温に冷
却した後、アルゴンガス槽内から取り出して型との接触
面を観察した結果、焼付き跡が見られた。圧縮加工した
円板を、実施例３の場合と同様、研削加工した後、着磁
して異方性の永久磁石を得、これらの最大磁気エネルギ
ー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を表２に示し
た。
【００２３】比較例４ 等方性磁石素材１０個について、実施例３の場合と同
様、サンドブラストによりその表面の酸化物を除去した
後、比較例３の場合と同様、その表面に慣用潤滑剤粉末
をコーティングした。これらを大気中で１０２３Ｋの温
度に加熱し、直ちに上下対向した平板状型を用いてその
高さを４mmに圧縮加工した後、室温に冷却した。型との
接触面を観察した結果、焼付き跡が見られた。圧縮加工
した円板を、実施例３の場合と同様、研削加工した後、
着磁して異方性の永久磁石を得、これらの最大磁気エネ
ルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を表２に示
した。
様、サンドブラストによりその表面の酸化物を除去した
後、比較例３の場合と同様、その表面に慣用潤滑剤粉末
をコーティングした。これらを大気中で１０２３Ｋの温
度に加熱し、直ちに上下対向した平板状型を用いてその
高さを４mmに圧縮加工した後、室温に冷却した。型との
接触面を観察した結果、焼付き跡が見られた。圧縮加工
した円板を、実施例３の場合と同様、研削加工した後、
着磁して異方性の永久磁石を得、これらの最大磁気エネ
ルギー積BHmaxを測定した。１０個の平均値を表２に示
した。
【００２４】
【表２】
【００２５】試験区分３ 重量比でＮｄ３０．４％、Ｆｅ６６．９％及びＢ０．９
８％の組成のＲ−Ｍ−Ｂ系合金を溶融した後、超急冷法
で薄片化し、粉砕して、粉末を得た。この粉末をＡｒガ
ス雰囲気中、１０７３Ｋの温度でホットプレスして、直
径２０mm×高さ１０mmの円柱状の等方性磁石素材を４０
００個製造した。そしてこれらの等方性磁石素材を下記
の各例に供した。
８％の組成のＲ−Ｍ−Ｂ系合金を溶融した後、超急冷法
で薄片化し、粉砕して、粉末を得た。この粉末をＡｒガ
ス雰囲気中、１０７３Ｋの温度でホットプレスして、直
径２０mm×高さ１０mmの円柱状の等方性磁石素材を４０
００個製造した。そしてこれらの等方性磁石素材を下記
の各例に供した。
【００２６】実施例５ 等方性磁石素材２０００個について、サンドブラストに
よりその表面の酸化物を除去した。これらをアルカリ脱
脂し、更に室温下で１０容量％硝酸水溶液に浸漬して酸
洗し、水洗した後、硫酸銅メッキで厚さ５μmのＣｕメ
ッキを施した。そして更に、ワット浴を用いた電気メッ
キで、Ｃｕメッキ被膜の上に厚さ１５μmのＮｉメッキ
を施した。かくしてその表面にＣｕメッキ及びＮｉメッ
キを施した等方性磁石素材２０００個を大気中で連続加
熱炉を用いて順次１０７３Ｋの温度に加熱しつつ、これ
に直結したプレスによって順次、図１及び図２について
前述した型を用いて外直径２０mm×内直径１６mm×長さ
２４mmの底付きリングに押出し加工し、型から取り出し
て冷却した。これらの押出し材の表面肌を観察した結
果、２０００個押出しても焼付きは見られなかった。
よりその表面の酸化物を除去した。これらをアルカリ脱
脂し、更に室温下で１０容量％硝酸水溶液に浸漬して酸
洗し、水洗した後、硫酸銅メッキで厚さ５μmのＣｕメ
ッキを施した。そして更に、ワット浴を用いた電気メッ
キで、Ｃｕメッキ被膜の上に厚さ１５μmのＮｉメッキ
を施した。かくしてその表面にＣｕメッキ及びＮｉメッ
キを施した等方性磁石素材２０００個を大気中で連続加
熱炉を用いて順次１０７３Ｋの温度に加熱しつつ、これ
に直結したプレスによって順次、図１及び図２について
前述した型を用いて外直径２０mm×内直径１６mm×長さ
２４mmの底付きリングに押出し加工し、型から取り出し
て冷却した。これらの押出し材の表面肌を観察した結
果、２０００個押出しても焼付きは見られなかった。
【００２７】比較例５ 等方性磁石素材２０００個について、実施例５の場合と
同様、サンドブラストによりその表面の酸化物を除去し
た後、黒鉛粉、二硫化モリブデン粉及びＢＮ粉を混濁し
た水溶液に浸漬し、乾燥して、これらの慣用潤滑剤粉末
を表面にコーティングした。かくしてその表面に慣用潤
滑剤粉末をコーティングした等方性磁石素材２０００個
をＡｒガス雰囲気中で連続加熱炉を用いて１０７３Ｋの
温度に順次加熱しつつ、これに連結したＡｒガス雰囲気
槽を持つプレスで、実施例５の場合と同様に順次押出し
加工したところ、１０３０個の押出しで加工素材が型に
焼付き固着して、その後の押出し加工ができなくなっ
た。それまでの押出し材を室温まで冷却した後、アルゴ
ンガス槽内から取り出し、その表面を観察した結果、９
１０個の押出しで焼付き傷が発生していた。
同様、サンドブラストによりその表面の酸化物を除去し
た後、黒鉛粉、二硫化モリブデン粉及びＢＮ粉を混濁し
た水溶液に浸漬し、乾燥して、これらの慣用潤滑剤粉末
を表面にコーティングした。かくしてその表面に慣用潤
滑剤粉末をコーティングした等方性磁石素材２０００個
をＡｒガス雰囲気中で連続加熱炉を用いて１０７３Ｋの
温度に順次加熱しつつ、これに連結したＡｒガス雰囲気
槽を持つプレスで、実施例５の場合と同様に順次押出し
加工したところ、１０３０個の押出しで加工素材が型に
焼付き固着して、その後の押出し加工ができなくなっ
た。それまでの押出し材を室温まで冷却した後、アルゴ
ンガス槽内から取り出し、その表面を観察した結果、９
１０個の押出しで焼付き傷が発生していた。
【００２８】
【発明の効果】各比較例に対する各実施例の結果からも
明らかなように、以上説明した本発明には、Ｒ−Ｍ−Ｂ
系の異方性希土類磁石を製造するに際し、型との焼付き
を防止でき、また大気中でも加熱して塑性加工できるた
め、その加工費を著しく低くできるという効果がある。
明らかなように、以上説明した本発明には、Ｒ−Ｍ−Ｂ
系の異方性希土類磁石を製造するに際し、型との焼付き
を防止でき、また大気中でも加熱して塑性加工できるた
め、その加工費を著しく低くできるという効果がある。
【図１】本発明において等方性磁石素材を押出し加工す
る直前の状態を例示する縦断面図。
る直前の状態を例示する縦断面図。
【図２】図１と同じ等方性磁石素材を押出し加工してい
る状態を例示する縦断面図。
る状態を例示する縦断面図。
１１・・・ダイ、２１・・・ノックアウトパンチ、３１
・・・押出しパンチ、Ａ・・・等方性磁石素材
・・・押出しパンチ、Ａ・・・等方性磁石素材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２３Ｃ 14/14 Ｇ 9271−4Ｋ 14/16 Ｄ 9271−4Ｋ Ｈ０１Ｆ 1/053
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｒ−Ｍ−Ｂ系の異方性希土類磁石を製造
するに際し、等方性磁石素材の表面に軟質金属の被膜を
コーティングした後、これを加熱して塑性加工すること
を特徴とする異方性希土類磁石の製造方法。 - 【請求項２】 軟質金属がＮｉ、Ｃｕ又はこれらの合金
である請求項１記載の異方性希土類磁石の製造方法。 - 【請求項３】 下地としてＣｕの被膜をコーティング
し、更にその上にＮｉ又はその合金の被膜をコーティン
グする請求項１記載の異方性希土類磁石の製造方法。 - 【請求項４】 軟質金属の被膜をコーティングし、更に
その上に黒鉛又は二硫化モリブデンをコーティングした
後、これを加熱して塑性加工する請求項１、２又は３記
載の異方性希土類磁石の製造方法。 - 【請求項５】 大気中で加熱して塑性加工する請求項
１、２、３又は４記載の異方性希土類磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5345128A JPH07176443A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 異方性希土類磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5345128A JPH07176443A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 異方性希土類磁石の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07176443A true JPH07176443A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=18374479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5345128A Pending JPH07176443A (ja) | 1993-12-20 | 1993-12-20 | 異方性希土類磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07176443A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002004714A1 (en) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | Hitachi Metals, Ltd. | Electrolytic copper-plated r-t-b magnet and plating method thereof |
| WO2003038157A1 (fr) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Procede de formation d'un revetement depose par electrolyse sur la surface d'un article |
| JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
| JP2011205022A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Tdk Corp | 希土類焼結磁石及びその製造方法、並びに回転機 |
| WO2015121915A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 日東電工株式会社 | 希土類永久磁石及び希土類永久磁石の製造方法 |
| JP2018019085A (ja) * | 2013-09-27 | 2018-02-01 | 日立化成株式会社 | 圧粉磁心及び圧粉磁心製造用押型の潤滑組成物 |
-
1993
- 1993-12-20 JP JP5345128A patent/JPH07176443A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002004714A1 (en) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | Hitachi Metals, Ltd. | Electrolytic copper-plated r-t-b magnet and plating method thereof |
| US6866765B2 (en) | 2000-07-07 | 2005-03-15 | Hitachi Metals, Ltd. | Electrolytic copper-plated R-T-B magnet and plating method thereof |
| WO2003038157A1 (fr) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Sumitomo Special Metals Co., Ltd. | Procede de formation d'un revetement depose par electrolyse sur la surface d'un article |
| US7449100B2 (en) | 2001-10-29 | 2008-11-11 | Hitachi Metals, Ltd. | Method for forming electroplating film on surfaces of articles |
| JP2005294558A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Tdk Corp | 希土類磁石及び希土類磁石の製造方法 |
| JP2011205022A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Tdk Corp | 希土類焼結磁石及びその製造方法、並びに回転機 |
| JP2018019085A (ja) * | 2013-09-27 | 2018-02-01 | 日立化成株式会社 | 圧粉磁心及び圧粉磁心製造用押型の潤滑組成物 |
| WO2015121915A1 (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-20 | 日東電工株式会社 | 希土類永久磁石及び希土類永久磁石の製造方法 |
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