JPH07176044A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体およびその製造方法

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JPH07176044A
JPH07176044A JP31976293A JP31976293A JPH07176044A JP H07176044 A JPH07176044 A JP H07176044A JP 31976293 A JP31976293 A JP 31976293A JP 31976293 A JP31976293 A JP 31976293A JP H07176044 A JPH07176044 A JP H07176044A
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Hideki Murayama
英樹 村山
Keiichiro Sano
桂一郎 佐野
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Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 潤滑性、耐久性に優れ、良好なトライボロジ
−性能を有する磁気記録媒体を得る。 【構成】 酸性官能基が増加する処理を施された炭素質
保護膜表面上に、潤滑剤分子をゲスト化合物とし、多座
配位子をホスト化合物とするホストゲスト錯体型潤滑剤
を含有する潤滑層を備えた磁気記録媒体およびその製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高速で摺動する接触界
面において薄膜で潤滑機能を発現する潤滑層を備えた磁
気記録媒体およびその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】情報産業等で利用される高記録密度の磁
気記録媒体の代表的な例である薄膜型磁気記録媒体は、
通常、磁性金属もしくはそれらの合金をメッキ、蒸着ま
たはスパッタリング法等によって非磁性基板上に被着し
て製造される。実際の使用時においては磁気ヘッドと磁
気記録媒体とが高速で接触摺動する。この結果、磁気記
録媒体は摩耗損傷を受けたり、磁気特性の劣化を起こし
たりする。
【0003】このような欠点を解決する方法として、磁
性層上に保護膜や潤滑層を設けることによって接触摺動
の際の静/動摩擦を極力低減し、耐摩耗性を上げること
が提案される。保護膜としては、炭素質膜、酸化物膜、
窒化物膜及びホウ化物膜等が利用される。潤滑剤として
は液体潤滑剤と固体潤滑剤が使用され、一般的には液体
潤滑剤であるパーフルオロポリエーテル化合物がディス
ク表面に塗布されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】磁気記録媒体は、その
使用時においてディスク媒体が停止状態から急速に回転
加速され、これに伴い浮上ヘッドスライダに浮力が与え
られてヘッドは浮上する。使用後に電源が切断されると
ディスク媒体を回転させているモータが停止し、ヘッド
と媒体とが高速で接触を起こして摺動する。
【0005】ところが、近年、面記録密度を高めるため
に、ヘッドの低浮上化とディスク回転の高速化が求めら
れており、媒体基板はより平滑になる方向にある。動摩
擦係数を低減するために液体潤滑膜を設けることは非常
に有効であるが、液体潤滑膜を厚くしていくと、ヘッド
とディスクとの間に液体潤滑剤の表面張力によるメニス
カスが形成されて、吸着現象(sticking)が生じることが
知られている。このため静摩擦係数が増加し、往々にし
てヘッドがディスクに張り付いたまま動作不能となるこ
とが指摘されている。
【0006】すなわち、ヘッドの飛行高さを低下させる
ために基板を平滑にするに従い、液体潤滑剤ではこの吸
着現象が非常に発生し易くなるという深刻な欠点があ
り、また吸着を防ぐために膜厚を減ずると充分な耐久性
が得られなくなるという問題がある。これらの現象を回
避するために、メニスカスを作らない固体潤滑剤が望ま
れ、以前から高級脂肪酸やその金属塩等が提案されてい
る。
【0007】しかしながら、高級脂肪酸やその金属塩等
の固体潤滑剤は常温で固体状態が安定相であるため、デ
ィスク上に塗布した場合に塗膜の一部が結晶化して凝集
し易いという問題があった。特に、基板が平滑化すると
凝集の傾向は著しい。凝集の発生により被膜厚みは不均
一になり、ヘッドとディスクとが直接接触する可能性を
高めると共に、ヘッド汚れの原因や、ヘッドの飛行不安
定化の原因となる恐れがある。固体潤滑剤の凝集を防
ぎ、またスピンオフを抑えるためには,潤滑剤分子を基
板と有効に結合させ固着する必要がある。
【0008】潤滑剤分子を基板に固着する方策として
は、例えば長鎖アルキル基をシロキサン結合等によって
固定する方法が提案されている(特開平2ー10372
1号、特開平2ー103722号)。しかしながら、共
有結合により潤滑層を固定する方法では分子の動きが抑
制され、潤滑性が不十分である。これは、潤滑剤を固着
することが潤滑性能とトレードオフの関係となってしま
っているためである。
【0009】固着システムとしては、潤滑剤分子が凝集
を起こさない充分な強さで基板と相互作用し、しかも固
着することが潤滑性能とトレードオフの関係にならない
ような可逆的な固着方法が理想的である。本発明の目的
は、薄膜であっても潤滑性を発現し、潤滑剤分子が凝集
することがなく、耐久性にも優れた潤滑層を備えた磁気
記録媒体を得ることにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、非磁性
基板上に磁性層、炭素質保護膜を順次形成してなる磁気
記録媒体において、炭素質保護膜を表面処理して酸性官
能基を増加させたのち、ゲスト化合物として潤滑剤分
子、ホスト化合物として多座配位子からなるホストゲス
ト錯体型潤滑剤を含有する潤滑層を備えた磁気記録媒体
により達成される。
【0011】本発明の磁気記録媒体によって、ヘッドの
浮上高さを低くすることができるので、ディスクのデー
タ記録密度を増大させることが可能となるとともに、長
期にわたり信頼性の高いディスクシステムを構築するこ
とが可能となる。以下、本発明を更に詳細に説明する。
図1は、本発明による磁気記録媒体の構成を示すもので
ある。非磁性基板1上に磁性層2、炭素質保護膜3、潤
滑層4が順次形成された磁気記録媒体において、潤滑層
4がホストゲスト錯体型潤滑剤からなり、ディスク上に
固着したホスト化合物によって潤滑剤分子がゲスト化合
物として固定されている。
【0012】非磁性基板としては、通常、無電解メッキ
法によりニッケル・リン層が形成されたアルミニウム合
金板またはガラス基板が用いられるが、そのほかセラミ
ックス基板、樹脂基板等を用いることもできる。磁性層
は、例えばコバルトまたはコバルト合金等であり、非磁
性基板上に必要に応じて下引層を設けたのち、無電解メ
ッキ法、スパッタリング法等により形成される。磁性層
の膜厚は磁気記録媒体として要求される特性により決定
され、通常、200〜1500Åである。保護膜として
は、水素化カーボン膜、無定形炭素等の炭素質膜が用い
られ、なかでも水素化カーボン膜が好ましい。炭素質保
護膜はスパッタリング法、イオンプレーティング法、プ
ラズマ重合法等により形成され、通常、50〜500
Å、好適には100〜300Åの膜厚で用いられる。
【0013】炭素質保護膜表面の酸性官能基を増加させ
るための処理法としては、例えば酸化剤を含んだ溶液に
浸漬する方法等の湿式処理法、酸素含有ガス雰囲気下で
紫外線照射する方法等の乾式処理法があり、工業的には
乾式処理法が好ましい。具体的な乾式処理法としては、
炭素質保護膜に対して波長185nm〜254nm、出
力50W以上の紫外線を10mm〜〜50mmの距離か
ら30秒〜15分、好ましくは1分〜5分照射する方法
が挙げられる。炭素質保護膜表面の酸性官能基の増加
は、X線光電子分光法(以下XPSとする)により、表
面の酸素原子の定量およびC−C結合とC−H結合に対
するC=O結合の比から確認することができる。XPS
による分析は、X線源としてAlKα線を用い、取出角
65度(分析深さ〜50Å)で行われ、本発明において
は、C−C結合とC−H結合に対するC=O結合の比が
0.05以上であることが必要であり、0.05〜0.
3であることが好ましく、0.07〜0.2の範囲内で
あることが更に好ましい。
【0014】潤滑層はゲスト化合物としての潤滑剤分子
とこれをトラップするホスト化合物とを含有してなる。
ゲスト化合物とてしは、潤滑作用を担う分子骨格とホス
ト化合物と結合するための結合サイトとを有するものが
用いられ、例えば長鎖脂肪酸の金属塩、長鎖脂肪族アミ
ン類,長鎖脂肪族アミンの塩等が挙げられる。結合サイ
トに続く長鎖分子骨格は、例えば分岐鎖状または直鎖状
の飽和または不飽和の高級脂肪属炭化水素鎖、芳香族残
基やヘテロ原子を含む前期高級脂肪属炭化水素鎖、また
は前記高級脂肪属炭化水素鎖の一部または全部がポリエ
ーテル鎖を形成している長鎖分子骨格など、潤滑作用を
有するものであれば結合の種類によらず選択することが
できる。好ましくは炭素原子数が8以上の長鎖分子骨格
である。
【0015】ホスト化合物としては、金属イオンまたは
有機イオンを取り込む機能を有する多座配位子が好まし
く用いられ、特に、ドナー原子が3個以上あるような化
合物が好適である。例えばO原子あるいはN原子をドナ
ー原子として持つものとして、環状エステル、ポリエー
テル類、ポリオール類、ポリアミン類、クラウンエーテ
ルと総称される環状エーテル類、クリプタンドあるいは
クリプテートと総称される環状エーテルアミン類、環状
アミン類、ポリペプチドおよびこれらの化学修飾体など
が挙げられ、なかでもクラウンエーテルやクリプタンド
等の環状配位子は特に有効である。また、上記構造にお
いてO原子、N原子の代りに、同様に孤立電子対を持つ
S原子をドナー原子とした多座配位子も用いられる。
【0016】これらの多座配位子は、金属イオンまたは
有機イオンと強い錯体を形成し、例えばクラウンエーテ
ルやクリプタンド等の環状配位子はその内孔にOやNの
孤立電子対を向け、金属イオン等に対して強い親和性を
有するために、その錯体の平衡が錯体形成側に傾き、極
めて強く金属イオン等を取り込むことができる。
【0017】ホストゲスト錯体型潤滑剤は、アミノ基、
イミノ基等の塩基性官能基を導入した多座配位子をホス
ト化合物として用いることにより、酸性官能基を有する
炭素質保護膜表面と効果的に固着させることができる。
図2は、18−クラウン−6誘導体とステアリン酸カリ
ウムがホストゲスト錯体を形成して、ディスクの炭素質
保護膜表面に固着する様子を示した概念図である。ゲス
ト化合物中のカチオンであるK+ がクラウンエーテルの
内孔にトラップされ、K+ のカウンターアニオンである
ステアレートが、イオン対としての末端カルボキシル基
をトラップされたK+ に向けてクラウンエーテル上に配
位することになる。したがって、ホスト化合物であるク
ラウンエーテルが,その結合サイト6が炭素質保護膜表
面上の酸性官能基5と結合して固着することにより、ゲ
スト化合物であるステアリン酸カリウムのアルキル鎖部
分、すなわちステアリル基が基板に対して上を向いて配
向するため、潤滑層全体の配向性が向上することとな
り、理想的な潤滑層の構造をとることから、ほぼ単分子
層の膜厚でも優れた潤滑能および耐久性を得ることがで
きる。また、固着されることによって潤滑剤の凝集は抑
制される。
【0018】このホストゲスト錯体型潤滑層は、ホスト
化合物としての多座配位子とゲスト化合物としての潤滑
剤分子とを混合して、ホストゲスト錯体を形成した混合
溶液をディスク上に塗布することにより形成することが
できる。混合溶液を用いることにより炭素質保護膜と相
互作用を持つ多座配位子が炭素質保護膜表面に吸着また
は固着し、その上に潤滑剤分子が配位した層構成とな
る。
【0019】また、ホスト化合物としての多座配位子層
を基板表面に形成したのち、形成された多座配位子層の
上に、これとホストゲスト錯体を作るゲスト化合物とし
て潤滑剤分子層を形成する方法によってもホストゲスト
錯体型潤滑層を得ることができる。ホストゲスト錯体の
混合溶液を用いる方法ではホスト化合物がディスク上に
緻密に固着することが困難な場合、例えば潤滑剤部分の
アルキル鎖が非常に長く、立体障害が無視できない場合
等は、後者の方法が好ましい。潤滑剤分子として分子量
の大きなものを使用する際はもちろん、分子量の比較的
小さな潤滑剤分子の場合でも、後者の方法のほうがより
確実に緻密な潤滑層を形成することができる。
【0020】ホストゲスト錯体混合物あるいはホスト化
合物およびゲスト化合物を順次塗布する際の塗布方法と
しては、通常、浸漬法が採用されるが、これらの化合物
の溶液をテープ等にしみこませ、固体表面に荷重をかけ
て接触させて被膜を形成する方法、パッドを固体表面上
で回転させながら添着させる方法、あるいはスプレー法
やLB法等が用いられる。塗布液の濃度は、溶質の種類
によって、また用いる溶媒の種類によっても異なるが、
通常、0.1〜5g/lで用いられる。
【0021】ホスト化合物およびゲスト化合物を順次塗
布する場合、先に塗布したホスト化合物である多座配位
子層の膜厚が必要以上に厚い場合には、炭素質保護膜に
直接固着していない過剰の多座配位子部分を、潤滑剤分
子とのホストゲスト錯体を形成する前に、適当な溶媒を
用いてリンスしたり、物理的な処理を施すなどして除去
することが好ましい。工業的には、潤滑剤分子溶液と同
一の溶媒を用いて該ディスクをリンスすることが好まし
い。多座配位子層を、炭素質保護膜との固着部のみを残
して余剰部分を除去することにより、潤滑層全体として
の膜厚がより薄くなり、多座配位子層を通じた潤滑剤分
子と炭素質保護膜との固着力をさらに高めることができ
る。
【0022】
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を越えない限り実施例に
限定されるものではない。 実施例1 平滑なアルミニウム合金の基板上にスパッタリング法に
よりクロム下地層1200Å、コバルト合金の磁性層5
00Åを形成した直径3.5インチの磁気ディスクに、
水素化カーボン保護膜200Åを形成した。この磁気デ
ィスクの表面に波長185nm、254nm、出力90
Wの紫外線を15mmの距離から5分間空気中で照射し
た。
【0023】水素化カーボン保護膜の表面分析を、XP
SによりX線源としてAlKα線、14kv−300
W.モノクロメーターを使用し、分析面積0.8×3.
5mm、取出角65度(分析深さ〜50Å)として行っ
たところ、酸素原子が20atm%含まれていた。ま
た、C=O結合のC−H結合とC−C結合に対する比
が、表面処理前0.04から表面処理後0.10へと変
化し、水素化カーボン保護膜表面の酸性官能基が著しく
増加していることがわかった。
【0024】該ディスクを4,4’−ジアミノジベンゾ
−18−クラウン−6を2mmol/l(0.781g
/l)の濃度で含むクロロホルム溶液を用い、浸漬法に
よりディスク表面に厚さ20Åの均一な膜を形成した。
次に該ディスクをクロロホルム液に5分間浸した後、2
mm/secの速度でディスクを引き上げ、ディスク表
面に厚さ12Åの均一な膜を残した。
【0025】次に該ディスクを、ステアリン酸カリウム
を1mmol/l(0.314g/l)の濃度で含むメ
タノール溶液に浸した後引上げ、ディスク表面に厚さ1
9Åの均一な潤滑層を形成した。ディスク上の異なる8
点(片面)において膜厚を測定したところ、ほぼ同一の
値であることを確認した。潤滑層を形成したディスクに
ついて、コンタクト・スタート・ストップ試験(CSS
試験)と凝集性の試験をおこなった。CSS試験は周速
8.7m/secで75nm浮上する70%の薄膜ヘッ
ドスライダ( 材質:Al23TiC、押付力:6gf)
を用いて行った。スピンドルへ3秒間通電したのち、9
秒間電源を切断する計12秒をCSS1サイクルとし、
各サイクルごとにスピンドル回転の開始時と摺動時のト
ルクを測定した。摺動時のトルクは スピンドルへの通
電後0.3秒から1秒の間にヘッドにはたらく力の最大
値から求めた。CSSサイクルを20000回行い、回
転開始時のトルクと摺動時のトルクそれぞれの値を高い
ほうから10点選び、その平均を求めた。
【0026】凝集性の試験としては温度25℃、湿度4
0%の環境下にディスクを放置し、光学顕微鏡で凝集や
結晶の発生を観察した。CSS試験、凝集性試験の結果
を表1に示した。なお、4,4’−ジアミノジベンゾ−
18−クラウン−6は、E.Shchori 等の方法 (J.Am.Che
m.Soc., 95, 3842 (1973))を参考に4,4’−ジニトロ
ジベンゾ−18−クラウン−6をヒドラジンを用いて還
元することにより、90%の単離収率で得た。4,4’
−ジニトロジベンゾ−18−クラウン−6は、 W.M.Fre
igenbaum等の方法 (J.Polym.S ci., Part A-1, 9, 817
(1971).)を参考にして、市販のジベンゾ−18−クラウ
ン−6をニトロ化することにより81%の単離収率で得
た。
【0027】実施例2 実施例1と同様のディスクに紫外線照射処理した後、
4,4’−ジアミノジベンゾ−18−クラウン−6を2
mmol/l(0.781g/l)の濃度で含むクロロ
ホルム溶液を用い、浸漬法により該ディスクの表面に厚
さ17Åの均一な膜を形成した。
【0028】次に該ディスクをクロロホルム液に5分間
浸した後、2mm/secの速度でディスクを引き上げ
ることにより、ディスクの表面に厚さ12Åの均一な膜
を残した。該ディスクを、β−(N,N−ジヘプタデシ
ルアミノカルボニル) プロピオン酸カリウムを2mmo
l/l(1.26g/l)の濃度で含むクロロホルム溶
液に浸漬した後引上げることにより厚さ38Åの均一な
潤滑層を形成した。
【0029】潤滑層を形成したディスクについて、実施
例1と同様にCSS試験と凝集性の試験をおこなった結
果を表1に示す。 実施例3 実施例1と同様のディスクに紫外線照射処理した後、該
ディスクの表面にステアリン酸カリウムとジベンゾ−1
8−クラウン−6とをそれぞれ1mmol/l(合計で
0.674g/l)の濃度で含むクロロホルム溶液を用
い、浸漬法により厚さ26Åの均一な潤滑層を形成し
た。
【0030】潤滑層を形成したディスクについて、実施
例1と同様にCSS試験と凝集性の試験をおこなった結
果を表1に示す。 実施例4 実施例1と同様のディスクに紫外線照射処理した後、該
ディスクの表面にβ−(N,N−ジヘプタデシルアミノ
カルボニル) プロピオン酸カリウムと4,4’−ジアミ
ノジベンゾ−18−クラウン−6をとをそれぞれ1mm
ol/l(合計で1.02g/l)の濃度で含むクロロ
ホルム溶液を用い、浸漬法により該ディスク表面に厚さ
36Åの均一な潤滑層を形成した。潤滑層を形成したデ
ィスクについて、実施例1と同様にCSS試験と凝集性
の試験をおこなった結果を表1に示す。
【0031】比較例1 実施例1と同様のディスクに紫外線照射処理せずに、パ
ーフルオロポリエーテル(モンテフルオス社製、Fom
blin Z DOL)を1g/lの濃度で含むフロン
溶液を用い、浸漬法によりディスク表面に厚さ20Åの
均一な潤滑層を形成した。潤滑層を形成したディスクに
ついて、実施例1と同様にCSS試験をおこなった結果
を表1に示す。
【0032】比較例2〜4 実施例1と同様のディスクに紫外線照射処理せずに、
4,4’−ジアミノジベンゾ−18−クラウン−6を2
mmol/l(0.781g/l)の濃度で含むクロロ
ホルム溶液を用い、浸漬法によりディスク表面にそれぞ
れ厚さ12Å、15Å、18Åの膜を形成した。
【0033】次に該ディスクをクロロホルム液に5分間
浸した後、2mm/secの速度でディスクを引き上げ
たところ、塗布膜は失われディスクの表面に固着膜は形
成されていないことがわかった。
【0034】
【表1】
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、ほぼ単分子膜の薄膜で
優れた潤滑性、耐摩耗性を有し、潤滑剤分子が凝集する
ことなくそれを長期間維持することができる潤滑層を備
えた磁気記録媒体が得られる。この磁気記録媒体は,デ
ータ記録密度を増大させることが可能であり、長期にわ
たり信頼性の高いものである。特にヘッドの低浮上化に
対応した平滑な基板を用いた場合、ヘッドとの吸着が発
生しにくく、非常に薄い膜厚で良好な潤滑性と充分な耐
久性を持つことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気記録媒体の概念断面図である。
【図2】本発明の磁気記録媒体の潤滑システム構成原理
を、例として紫外線照射処理を行った炭素質保護膜上
に、ステアリン酸カリウムと18−クラウン−6誘導体
からなるホストゲスト錯体型潤滑剤を用いて示した概念
図である。
【符号の説明】
1 非磁性基板 2 磁性層 3 炭素質保護膜 4 潤滑層 5 酸性官能基 6 結合サイト

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非磁性基板上に磁性層、炭素質保護膜、潤
    滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体において、酸性
    官能基が増加する処理を施された炭素質保護膜表面上
    に、潤滑剤分子をゲスト化合物とし、多座配位子をホス
    ト化合物とするホストゲスト錯体型潤滑剤を含有する潤
    滑層を備えた磁気記録媒体
  2. 【請求項2】非磁性基板上に磁性層、炭素質保護膜、潤
    滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体において、炭素
    質保護膜表面が、C−C結合とC−H結合に対するC=
    O結合の比が0.05から0.3であり、潤滑層が、潤
    滑剤分子をゲスト化合物とし、多座配位子をホスト化合
    物とするホストゲスト錯体型潤滑剤を含有する磁気記録
    媒体
  3. 【請求項3】炭素質保護膜表面のC−C結合とC−H結
    合に対するC=O結合の比が0.07から0.2である
    請求項2記載の磁気記録媒体
  4. 【請求項4】多座配位子が、O原子、N原子、S原子の
    1種以上を少なくとも3原子含有し、金属イオンまたは
    有機イオンを取り込む機能を有する多座配位子である請
    求項1または2記載の磁気記録媒体
  5. 【請求項5】多座配位子が塩基性官能基を有する請求項
    1または2記載の磁気記録媒体
  6. 【請求項6】非磁性基板上に磁性層、炭素質保護膜、潤
    滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体において、酸性
    官能基が増加する処理を施された炭素質保護膜表面上
    に、潤滑剤分子をゲスト化合物とし、多座配位子をホス
    ト化合物とするホストゲスト錯体型潤滑剤を含有する潤
    滑層を形成するにあたり、少なくともホスト化合物とゲ
    スト化合物とを含んだ混合溶液を用いる磁気記録媒体の
    製造方法
  7. 【請求項7】非磁性基板上に磁性層、炭素質保護膜、潤
    滑層が順次形成されてなる磁気記録媒体において、酸性
    官能基が増加する処理を施された炭素質保護膜表面上
    に、潤滑剤分子をゲスト化合物とし、多座配位子をホス
    ト化合物とするホストゲスト錯体型潤滑剤を含有する潤
    滑層を形成するにあたり、炭素質保護膜表面にホスト化
    合物としての多座配位子層を形成する工程、多座配位子
    層の上にこれとホストゲスト錯体を作るゲスト化合物と
    しての潤滑剤分子層を形成する工程を含む磁気記録媒体
    の製造方法
  8. 【請求項8】炭素質保護膜の表面が酸素含有ガス雰囲気
    下で紫外線照射処理されることを特徴とする請求項6ま
    たは7記載の磁気記録媒体の製造方法
JP31976293A 1993-09-28 1993-12-20 磁気記録媒体およびその製造方法 Pending JPH07176044A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016065175A1 (en) * 2014-10-23 2016-04-28 Northwestern University Lubricant additives, lubricant compositions, and applications of same
US10414997B2 (en) 2014-10-23 2019-09-17 Northwestern University Lubricant additives, lubricant compositions, and applications of same

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