JPH07172826A - 新規な形態を有する炭酸セリウムと酸化セリウム及びそれらの製造方法 - Google Patents
新規な形態を有する炭酸セリウムと酸化セリウム及びそれらの製造方法Info
- Publication number
- JPH07172826A JPH07172826A JP5345144A JP34514493A JPH07172826A JP H07172826 A JPH07172826 A JP H07172826A JP 5345144 A JP5345144 A JP 5345144A JP 34514493 A JP34514493 A JP 34514493A JP H07172826 A JPH07172826 A JP H07172826A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cerium
- carbonate
- aqueous solution
- mol
- cerium carbonate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】本発明は、濾過性、水洗性が良く生産性の高い
板状炭酸セリウム及び流動性の高い酸化セリウムとその
製造方法を提供する。 【構成】アスペクト比（長軸と短軸の長さの比）が1.0
〜10.0の範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板
状の形態を有する炭酸セリウム、及びこれをセリウム鉱
酸塩水溶液と炭酸根を有する水溶液とを反応させ、セリ
ウムイオンが存在する状態で生成した沈澱を熟成し乾燥
する製造方法、並びにここで得られた炭酸セリウムを 3
00℃以上の温度で焼成して、アスペクト比が1.0 〜10.0
の範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形
態を有する酸化セリウムとこれを製造する方法。
板状炭酸セリウム及び流動性の高い酸化セリウムとその
製造方法を提供する。 【構成】アスペクト比（長軸と短軸の長さの比）が1.0
〜10.0の範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板
状の形態を有する炭酸セリウム、及びこれをセリウム鉱
酸塩水溶液と炭酸根を有する水溶液とを反応させ、セリ
ウムイオンが存在する状態で生成した沈澱を熟成し乾燥
する製造方法、並びにここで得られた炭酸セリウムを 3
00℃以上の温度で焼成して、アスペクト比が1.0 〜10.0
の範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形
態を有する酸化セリウムとこれを製造する方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、顔料、触媒等に有用な
板状の新規な形態を有する炭酸セリウムと酸化セリウム
及びそれらの製造方法に関するものである。
板状の新規な形態を有する炭酸セリウムと酸化セリウム
及びそれらの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】炭酸セリウムの製造法は種々知られてお
り、希土類イオンに対し当量以上の炭酸根を投入し微細
な炭酸塩粉末を得る方法（特開昭53-95900号参照）等が
一般的であるが、これは反応中に炭酸根がＣＯ2 ガスと
して反応系外に逸散し炭酸根の不足が生ずるのを防ぐた
めである。しかしこの方法では、得られた炭酸塩の沈殿
は鱗片状であり、濾過、水洗効率が悪く、結果として生
産性が低いという欠点がある。また、この炭酸セリウム
を焼成して酸化セリウムとしても鱗片状で流動性の悪い
ものしか得られず用途によっては取扱上不利である。
り、希土類イオンに対し当量以上の炭酸根を投入し微細
な炭酸塩粉末を得る方法（特開昭53-95900号参照）等が
一般的であるが、これは反応中に炭酸根がＣＯ2 ガスと
して反応系外に逸散し炭酸根の不足が生ずるのを防ぐた
めである。しかしこの方法では、得られた炭酸塩の沈殿
は鱗片状であり、濾過、水洗効率が悪く、結果として生
産性が低いという欠点がある。また、この炭酸セリウム
を焼成して酸化セリウムとしても鱗片状で流動性の悪い
ものしか得られず用途によっては取扱上不利である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、濾過、水洗
効率が良く、生産性の高い新規な形態を有する炭酸セリ
ウム及び流動性の良い酸化セリウム並びにそれらの製造
方法を提供しようとするものである。
効率が良く、生産性の高い新規な形態を有する炭酸セリ
ウム及び流動性の良い酸化セリウム並びにそれらの製造
方法を提供しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者はかかる課題を
解決するために、沈殿の生成機構、並びに生成方法の検
討を重ねた結果、炭酸セリウムをセリウムイオン存在下
で熟成すれば良いことを見出し、諸条件を確立して本発
明を完成させたもので、その要旨は、アスペクト比（長
軸と短軸の長さの比）が1.0 〜10.0の範囲に有り、平均
粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有する炭酸セリ
ウムを、セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を反応させ、反
応終了後少なくとも５分間セリウムイオン存在下で熟成
し、生成した沈殿を分離後、必要に応じて通常の乾燥操
作を行い、ここで得られた炭酸セリウムを 300℃以上の
温度で焼成して、アスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に有
り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有する
酸化セリウムを製造することにある。
解決するために、沈殿の生成機構、並びに生成方法の検
討を重ねた結果、炭酸セリウムをセリウムイオン存在下
で熟成すれば良いことを見出し、諸条件を確立して本発
明を完成させたもので、その要旨は、アスペクト比（長
軸と短軸の長さの比）が1.0 〜10.0の範囲に有り、平均
粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有する炭酸セリ
ウムを、セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を反応させ、反
応終了後少なくとも５分間セリウムイオン存在下で熟成
し、生成した沈殿を分離後、必要に応じて通常の乾燥操
作を行い、ここで得られた炭酸セリウムを 300℃以上の
温度で焼成して、アスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に有
り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有する
酸化セリウムを製造することにある。
【０００５】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
最大の特徴は炭酸セリウムをセリウムイオンの存在下に
熟成することによりアスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に
有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有
し、かつ濾過性、水洗性の良い炭酸塩の沈殿が得られる
ことである。この新規な板状形態を有する炭酸セリウム
を得るには沈殿熟成時にセリウムイオンが存在している
必要があり、この条件を満たす製造方法としては、 １）セリウム鉱酸塩水溶液に炭酸根を有する化合物を炭
酸塩生成に必要な当量以下の量を投入し炭酸塩の沈殿を
セリウムイオン存在下で熟成する方法。 ２）セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を有する化合物を当
量反応させ、生成した炭酸セリウムスラリーにセリウム
鉱酸塩水溶液を添加し熟成する方法。 ３）セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を有する化合物を当
量反応させ、生成した炭酸セリウムスラリーをセリウム
鉱酸塩水溶液に添加し熟成する方法、等が挙げられ、い
ずれの方法によっても目的は達成される。
最大の特徴は炭酸セリウムをセリウムイオンの存在下に
熟成することによりアスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に
有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有
し、かつ濾過性、水洗性の良い炭酸塩の沈殿が得られる
ことである。この新規な板状形態を有する炭酸セリウム
を得るには沈殿熟成時にセリウムイオンが存在している
必要があり、この条件を満たす製造方法としては、 １）セリウム鉱酸塩水溶液に炭酸根を有する化合物を炭
酸塩生成に必要な当量以下の量を投入し炭酸塩の沈殿を
セリウムイオン存在下で熟成する方法。 ２）セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を有する化合物を当
量反応させ、生成した炭酸セリウムスラリーにセリウム
鉱酸塩水溶液を添加し熟成する方法。 ３）セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を有する化合物を当
量反応させ、生成した炭酸セリウムスラリーをセリウム
鉱酸塩水溶液に添加し熟成する方法、等が挙げられ、い
ずれの方法によっても目的は達成される。
【０００６】１）の方法において、セリウム鉱酸塩水溶
液としては炭酸セリウムや水酸化セリウムを硝酸、塩酸
等で分解した硝酸セリウム、塩酸セリウム等を使用する
が、これらに限定されるものではない。セリウム濃度は
0.01 〜2.0 mol/L 、Ｈ+ は0.001〜1.0 mol/L に調整
しておく。また炭酸根としては炭酸アンモニウム、炭酸
水素アンモニウムが挙げられるが、他に炭酸ガスとアン
モニア水の混合物またはアルカリ金属が不純物として混
入しても問題とならない場合においては、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩も使用可能
である。その使用量は熟成時に溶液中のセリウムイオン
が沈殿状態のセリウムに対して５〜25mol ％、好ましく
は10〜 15mol％残存するように調整する。残存量が５mo
l ％未満ではゲル状の沈殿を維持し、25mol ％を越える
と炭酸セリウムの歩留まりが悪くなるので５〜25mol ％
が良い。炭酸塩は粉末ではなく濃度 0.1〜10mol/L の水
溶液を調整しておくのが良い。
液としては炭酸セリウムや水酸化セリウムを硝酸、塩酸
等で分解した硝酸セリウム、塩酸セリウム等を使用する
が、これらに限定されるものではない。セリウム濃度は
0.01 〜2.0 mol/L 、Ｈ+ は0.001〜1.0 mol/L に調整
しておく。また炭酸根としては炭酸アンモニウム、炭酸
水素アンモニウムが挙げられるが、他に炭酸ガスとアン
モニア水の混合物またはアルカリ金属が不純物として混
入しても問題とならない場合においては、炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩も使用可能
である。その使用量は熟成時に溶液中のセリウムイオン
が沈殿状態のセリウムに対して５〜25mol ％、好ましく
は10〜 15mol％残存するように調整する。残存量が５mo
l ％未満ではゲル状の沈殿を維持し、25mol ％を越える
と炭酸セリウムの歩留まりが悪くなるので５〜25mol ％
が良い。炭酸塩は粉末ではなく濃度 0.1〜10mol/L の水
溶液を調整しておくのが良い。
【０００７】反応は撹拌中のセリウム鉱酸塩水溶液に温
度０〜60℃下に炭酸塩水溶液を注入し、引き続き熟成に
入る。熟成時間は炭酸塩注入後５〜 180分、好ましくは
５〜100分で、５分未満ではゲル状から板状に変化せ
ず、180 分を越えると板状成長には無駄な時間となる。
温度は10〜30℃が良く、熟成中のセリウムイオン量は沈
殿状態のセリウム量の５〜25mol ％が好ましく、５mol
％未満ではゲル状の沈殿のままで濾過性が悪く、25mol
％を越える場合は歩留まりが悪くなり好ましくない。セ
リウムイオンの無い状態、即ち、炭酸根を当量以上添
加、もしくは炭酸塩生成に過剰の炭酸根を有する水溶液
にセリウム鉱酸塩水溶液を添加した場合はゲル状のスラ
リーが生成し熟成を行っても板状に変化せず、生成した
炭酸塩を分離するため濾過を行うが濾過性が非常に悪
く、たとえ濾過できたとしても含水量が非常に多いもの
となり、生産性が悪いものとなる。
度０〜60℃下に炭酸塩水溶液を注入し、引き続き熟成に
入る。熟成時間は炭酸塩注入後５〜 180分、好ましくは
５〜100分で、５分未満ではゲル状から板状に変化せ
ず、180 分を越えると板状成長には無駄な時間となる。
温度は10〜30℃が良く、熟成中のセリウムイオン量は沈
殿状態のセリウム量の５〜25mol ％が好ましく、５mol
％未満ではゲル状の沈殿のままで濾過性が悪く、25mol
％を越える場合は歩留まりが悪くなり好ましくない。セ
リウムイオンの無い状態、即ち、炭酸根を当量以上添
加、もしくは炭酸塩生成に過剰の炭酸根を有する水溶液
にセリウム鉱酸塩水溶液を添加した場合はゲル状のスラ
リーが生成し熟成を行っても板状に変化せず、生成した
炭酸塩を分離するため濾過を行うが濾過性が非常に悪
く、たとえ濾過できたとしても含水量が非常に多いもの
となり、生産性が悪いものとなる。
【０００８】２）の方法は、セリウム鉱酸塩水溶液と炭
酸根を有する化合物を当量反応させ、生成した炭酸セリ
ウムスラリーにセリウム鉱酸塩水溶液を添加し熟成する
方法であり、その条件は、セリウム鉱酸塩水溶液として
は炭酸セリウムや水酸化セリウムを硝酸、塩酸等で分解
した硝酸セリウム、塩酸セリウム等を使用するが、これ
らに限定されるものではない。セリウム濃度は 0.01 〜
2.0 mol/L 、Ｈ+ は 0.001〜1.0 mol/L に調整してお
く。また炭酸根としては炭酸アンモニウム、炭酸水素ア
ンモニウムが挙げられるが、他に炭酸ガスとアンモニア
水の混合物またはアルカリ金属が不純物として混入して
も問題とならない場合においては、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩も使用可能であ
る。反応は撹拌中のセリウム鉱酸塩水溶液に温度０〜60
℃下に炭酸塩水溶液を注入、もしくは炭酸塩水溶液にセ
リウム鉱酸塩水溶液を注入しセリウム炭酸塩の沈殿を生
成させる。 注入後スラリーにセリウム鉱酸塩水溶液を添
加し引き続き熟成に入る。 添加するセリウム量は沈殿状
態のセリウム量の５〜25mol ％が好ましく、５mol ％未
満ではゲル状の沈殿のままで濾過性が悪く、20mol ％を
越える場合は歩留まりが悪くなるなり好ましくない。熟
成時間は炭酸塩注入後５〜 180分、好ましくは５〜 100
分で、５分未満ではゲル状から板状に変化せず、180 分
を越えると板状成長には無駄な時間となる。このように
して得られた炭酸セリウムを濾過、水洗等の通常の固液
分離の操作を行い炭酸セリウムを得る。必要に応じて10
0 ℃以下で乾燥を行い炭酸塩粉末を得る。
酸根を有する化合物を当量反応させ、生成した炭酸セリ
ウムスラリーにセリウム鉱酸塩水溶液を添加し熟成する
方法であり、その条件は、セリウム鉱酸塩水溶液として
は炭酸セリウムや水酸化セリウムを硝酸、塩酸等で分解
した硝酸セリウム、塩酸セリウム等を使用するが、これ
らに限定されるものではない。セリウム濃度は 0.01 〜
2.0 mol/L 、Ｈ+ は 0.001〜1.0 mol/L に調整してお
く。また炭酸根としては炭酸アンモニウム、炭酸水素ア
ンモニウムが挙げられるが、他に炭酸ガスとアンモニア
水の混合物またはアルカリ金属が不純物として混入して
も問題とならない場合においては、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩も使用可能であ
る。反応は撹拌中のセリウム鉱酸塩水溶液に温度０〜60
℃下に炭酸塩水溶液を注入、もしくは炭酸塩水溶液にセ
リウム鉱酸塩水溶液を注入しセリウム炭酸塩の沈殿を生
成させる。 注入後スラリーにセリウム鉱酸塩水溶液を添
加し引き続き熟成に入る。 添加するセリウム量は沈殿状
態のセリウム量の５〜25mol ％が好ましく、５mol ％未
満ではゲル状の沈殿のままで濾過性が悪く、20mol ％を
越える場合は歩留まりが悪くなるなり好ましくない。熟
成時間は炭酸塩注入後５〜 180分、好ましくは５〜 100
分で、５分未満ではゲル状から板状に変化せず、180 分
を越えると板状成長には無駄な時間となる。このように
して得られた炭酸セリウムを濾過、水洗等の通常の固液
分離の操作を行い炭酸セリウムを得る。必要に応じて10
0 ℃以下で乾燥を行い炭酸塩粉末を得る。
【０００９】３）の方法は、セリウム鉱酸塩水溶液と炭
酸根を有する化合物を当量反応させ、生成した炭酸セリ
ウムスラリーをセリウム鉱酸塩水溶液に添加し熟成する
方法であり、その条件は、セリウム鉱酸塩水溶液として
は炭酸セリウムや水酸化セリウムを硝酸、塩酸等で分解
した硝酸セリウム、塩酸セリウム等を使用するが、これ
らに限定されるものではない。セリウム濃度は 0.01 〜
2.0 mol/L 、Ｈ+ は0.001 〜1.0 mol/L に調整してお
く。また炭酸根としては炭酸アンモニウム、炭酸水素ア
ンモニウムが挙げられるが、他に炭酸ガスとアンモニア
水の混合物またはアルカリ金属が不純物として混入して
も問題とならない場合においては、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩も使用可能であ
る。反応は撹拌中のセリウム鉱酸塩水溶液に温度０〜60
℃下に炭酸塩水溶液を注入、もしくは炭酸塩水溶液にセ
リウム鉱酸塩水溶液を注入しセリウム炭酸塩の沈殿を生
成させる。 注入後炭酸塩スラリーを別のセリウム鉱酸塩
水溶液に添加し引き続き熟成に入る。 別のセリウム鉱酸
塩水溶液のセリウム量は沈殿状態のセリウム５〜25mol
％が好ましく、５mol ％未満ではゲル状の沈殿のままで
濾過性が悪く、25mol ％を越える場合は歩留まりが悪く
なり好ましくない。熟成時間は炭酸塩注入後５〜 180
分、好ましくは５〜 100分で、５分未満ではゲル状から
板状に変化せず、180 分を越えると板状成長には無駄な
時間となる。このようにして得られた炭酸セリウムを濾
過、水洗等の通常の固液分離の操作を行い炭酸セリウム
を得る。必要に応じて100 ℃以下で乾燥を行い炭酸塩粉
末を得る。乾燥は通常の真空乾燥、温風乾燥、凍結乾
燥、流動乾燥等で行えば良い。
酸根を有する化合物を当量反応させ、生成した炭酸セリ
ウムスラリーをセリウム鉱酸塩水溶液に添加し熟成する
方法であり、その条件は、セリウム鉱酸塩水溶液として
は炭酸セリウムや水酸化セリウムを硝酸、塩酸等で分解
した硝酸セリウム、塩酸セリウム等を使用するが、これ
らに限定されるものではない。セリウム濃度は 0.01 〜
2.0 mol/L 、Ｈ+ は0.001 〜1.0 mol/L に調整してお
く。また炭酸根としては炭酸アンモニウム、炭酸水素ア
ンモニウムが挙げられるが、他に炭酸ガスとアンモニア
水の混合物またはアルカリ金属が不純物として混入して
も問題とならない場合においては、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム等のアルカリ金属塩も使用可能であ
る。反応は撹拌中のセリウム鉱酸塩水溶液に温度０〜60
℃下に炭酸塩水溶液を注入、もしくは炭酸塩水溶液にセ
リウム鉱酸塩水溶液を注入しセリウム炭酸塩の沈殿を生
成させる。 注入後炭酸塩スラリーを別のセリウム鉱酸塩
水溶液に添加し引き続き熟成に入る。 別のセリウム鉱酸
塩水溶液のセリウム量は沈殿状態のセリウム５〜25mol
％が好ましく、５mol ％未満ではゲル状の沈殿のままで
濾過性が悪く、25mol ％を越える場合は歩留まりが悪く
なり好ましくない。熟成時間は炭酸塩注入後５〜 180
分、好ましくは５〜 100分で、５分未満ではゲル状から
板状に変化せず、180 分を越えると板状成長には無駄な
時間となる。このようにして得られた炭酸セリウムを濾
過、水洗等の通常の固液分離の操作を行い炭酸セリウム
を得る。必要に応じて100 ℃以下で乾燥を行い炭酸塩粉
末を得る。乾燥は通常の真空乾燥、温風乾燥、凍結乾
燥、流動乾燥等で行えば良い。
【００１０】上記３種類の製造方法で得られた炭酸セリ
ウムはいずれもその形態が板状で、アスペクト比が1.0
〜10.0の範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍであり、
流動性がよく、取扱が容易な粉末である。これを 300℃
以上で焼成して得られる酸化セリウムもその形態は炭酸
セリウムと相似しており、アスペクト比が1.0 〜10.0の
範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の流動
性の良いものが得られる。
ウムはいずれもその形態が板状で、アスペクト比が1.0
〜10.0の範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍであり、
流動性がよく、取扱が容易な粉末である。これを 300℃
以上で焼成して得られる酸化セリウムもその形態は炭酸
セリウムと相似しており、アスペクト比が1.0 〜10.0の
範囲に有り、平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の流動
性の良いものが得られる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施態様を実施例を挙げて具
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 （実施例１）セリウム鉱酸塩水溶液として硝酸第一セリ
ウム水溶液（Ｃe 濃度0.6mol/L、［Ｈ+ ］＝0.1mol/L）
を１Ｌ、炭酸根として炭酸水素アンモニウム水溶液を用
いた。熟成時の未反応残留セリウムイオン濃度が仕込量
の10％になるように炭酸水素アンモニウムの量は、 遊離酸の中和： HNO3 + NH4HCO3 = NH4NO3 + H2O + CO2↑ 晶出反応： 2Ce(NO3)3+6NH4HCO3=Ce2(CO3)3+6NH4NO3+3H2O+3CO2 ↑ の二つの反応から計算して1.72mol を１Ｌの純水に溶解
し水溶液とした。３Ｌのガラスビーカーに上記硝酸セリ
ウムを入れ、撹拌しながら炭酸水素アンモニウム水溶液
を30分で添加し炭酸セリウムの沈殿を生成させた。添加
終了後30分間熟成を行い、ブフナー漏斗で濾過を行った
後１Ｌの純水で洗浄した。濾過性、水洗性とも良好であ
った。得られた沈殿を50℃で乾燥し、炭酸セリウムを得
た。粒子の形状を電子顕微鏡で観察したところアスペク
ト比１〜５の板状粒子であった（図１参照）。平均粒径
はレーザ回折法で測定した結果14μｍであった。ここで
得られた炭酸セリウムをアルミナ坩堝に充填し大気雰囲
気下 500℃で焼成し酸化セリウムを得た。得られた酸化
セリウムは炭酸セリウムの形状を維持しており（図２参
照）、アスペクト比１〜５の板状であり、平均粒径はレ
ーザ回折法で10μｍであった。
体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。 （実施例１）セリウム鉱酸塩水溶液として硝酸第一セリ
ウム水溶液（Ｃe 濃度0.6mol/L、［Ｈ+ ］＝0.1mol/L）
を１Ｌ、炭酸根として炭酸水素アンモニウム水溶液を用
いた。熟成時の未反応残留セリウムイオン濃度が仕込量
の10％になるように炭酸水素アンモニウムの量は、 遊離酸の中和： HNO3 + NH4HCO3 = NH4NO3 + H2O + CO2↑ 晶出反応： 2Ce(NO3)3+6NH4HCO3=Ce2(CO3)3+6NH4NO3+3H2O+3CO2 ↑ の二つの反応から計算して1.72mol を１Ｌの純水に溶解
し水溶液とした。３Ｌのガラスビーカーに上記硝酸セリ
ウムを入れ、撹拌しながら炭酸水素アンモニウム水溶液
を30分で添加し炭酸セリウムの沈殿を生成させた。添加
終了後30分間熟成を行い、ブフナー漏斗で濾過を行った
後１Ｌの純水で洗浄した。濾過性、水洗性とも良好であ
った。得られた沈殿を50℃で乾燥し、炭酸セリウムを得
た。粒子の形状を電子顕微鏡で観察したところアスペク
ト比１〜５の板状粒子であった（図１参照）。平均粒径
はレーザ回折法で測定した結果14μｍであった。ここで
得られた炭酸セリウムをアルミナ坩堝に充填し大気雰囲
気下 500℃で焼成し酸化セリウムを得た。得られた酸化
セリウムは炭酸セリウムの形状を維持しており（図２参
照）、アスペクト比１〜５の板状であり、平均粒径はレ
ーザ回折法で10μｍであった。
【００１２】（実施例２）実施例１と同じ硝酸セリウム
水溶液および炭酸水素アンモニウム水溶液を用い投入法
を変えて行った。まず３Ｌのガラスビーカーに上記炭酸
水素アンモニウム水溶液を1.0 Ｌ入れ撹拌機で撹拌しな
がら硝酸セリウム溶液を30分で添加し炭酸セリウムの沈
殿を生成させた。得られた炭酸セリウムスラリーを30分
間熟成後、ブフナー漏斗で濾過を行った後１Ｌの純水で
洗浄した。濾過性、水洗性ともに良好であった。得られ
た沈殿を50℃で乾燥し、炭酸セリウムを得た。粒子の形
状を電子顕微鏡で観察したところアスペクト比１〜５の
板状粒子であった。ここで得られた炭酸セリウムをアル
ミナ坩堝に充填し大気雰囲気下 500℃で焼成し酸化セリ
ウムを得た。得られた酸化セリウムは炭酸セリウムの形
状を維持していた。
水溶液および炭酸水素アンモニウム水溶液を用い投入法
を変えて行った。まず３Ｌのガラスビーカーに上記炭酸
水素アンモニウム水溶液を1.0 Ｌ入れ撹拌機で撹拌しな
がら硝酸セリウム溶液を30分で添加し炭酸セリウムの沈
殿を生成させた。得られた炭酸セリウムスラリーを30分
間熟成後、ブフナー漏斗で濾過を行った後１Ｌの純水で
洗浄した。濾過性、水洗性ともに良好であった。得られ
た沈殿を50℃で乾燥し、炭酸セリウムを得た。粒子の形
状を電子顕微鏡で観察したところアスペクト比１〜５の
板状粒子であった。ここで得られた炭酸セリウムをアル
ミナ坩堝に充填し大気雰囲気下 500℃で焼成し酸化セリ
ウムを得た。得られた酸化セリウムは炭酸セリウムの形
状を維持していた。
【００１３】（比較例１）実施例１と同じ硝酸セリウム
水溶液（Ｃe 濃度0.6mol/L、［Ｈ+ ］＝0.1mol/L）１Ｌ
を３Ｌ のガラスビーカに仕込んだ。炭酸根として炭酸
水素アンモニウムを未反応残留セリウムイオンが０％、
即ち仕込んだセリウムが全て炭酸セリウムとして沈殿す
るように炭酸水素アンモニウム1.90mol 相当量を１Ｌの
純水に溶解し水溶液とした。これを先の硝酸セリウム溶
液に撹拌しながら30分で添加し炭酸セリウムの沈殿を生
成させた。添加終了後30分間熟成を行い、ブフナー漏斗
で濾過を行ったが濾過性が悪かった。その後１Ｌの純水
で洗浄したが同様に濾過性は悪いものであった。得られ
た炭酸セリウムを電子顕微鏡で観察すると、鱗片状の粒
であった（図３参照）。ここで得られた炭酸セリウムを
500 ℃で焼成し酸化セリウムとした。得られたものは矢
張り鱗片状で流動性の悪いものであった。
水溶液（Ｃe 濃度0.6mol/L、［Ｈ+ ］＝0.1mol/L）１Ｌ
を３Ｌ のガラスビーカに仕込んだ。炭酸根として炭酸
水素アンモニウムを未反応残留セリウムイオンが０％、
即ち仕込んだセリウムが全て炭酸セリウムとして沈殿す
るように炭酸水素アンモニウム1.90mol 相当量を１Ｌの
純水に溶解し水溶液とした。これを先の硝酸セリウム溶
液に撹拌しながら30分で添加し炭酸セリウムの沈殿を生
成させた。添加終了後30分間熟成を行い、ブフナー漏斗
で濾過を行ったが濾過性が悪かった。その後１Ｌの純水
で洗浄したが同様に濾過性は悪いものであった。得られ
た炭酸セリウムを電子顕微鏡で観察すると、鱗片状の粒
であった（図３参照）。ここで得られた炭酸セリウムを
500 ℃で焼成し酸化セリウムとした。得られたものは矢
張り鱗片状で流動性の悪いものであった。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、濾過性、水洗性の良い
アスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に有り、平均粒径が0.
5 〜50μｍである板状炭酸セリウムが得られ、これを焼
成して得た酸化セリウムもまた同様の物性を有し、流動
性の高いものであり、産業上その利用価値は極めて高
い。
アスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に有り、平均粒径が0.
5 〜50μｍである板状炭酸セリウムが得られ、これを焼
成して得た酸化セリウムもまた同様の物性を有し、流動
性の高いものであり、産業上その利用価値は極めて高
い。
【図１】実施例１で得られた炭酸セリウムの粒子構造を
示す写真である。
示す写真である。
【図２】実施例１で得られた酸化セリウムの粒子構造を
示す写真である。
示す写真である。
【図３】比較例１で得られた炭酸セリウムの粒子構造を
示す写真である。
示す写真である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年７月１４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図３】
Claims (7)
- 【請求項１】アスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に有り、
平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有する炭酸
セリウム。 - 【請求項２】アスペクト比が1.0 〜10.0の範囲に有り、
平均粒径が0.5 〜50μｍである板状の形態を有する酸化
セリウム。 - 【請求項３】セリウム鉱酸塩水溶液と炭酸根を有する水
溶液とを反応させ、セリウムイオンが存在する状態で生
成した沈殿を熟成する請求項１に記載の炭酸セリウムの
製造方法。 - 【請求項４】熟成時に溶液中に存在するセリウムイオン
量が沈殿状態のセリウム量の５〜25mol ％である請求項
３に記載の炭酸セリウムの製造方法。 - 【請求項５】熟成時間が少なくとも５分間以上である請
求項３に記載の炭酸セリウムの製造方法。 - 【請求項６】請求項１に記載の炭酸セリウムを少なくと
も 300℃以上の温度で焼成する請求項２に記載の酸化セ
リウムの製造方法。 - 【請求項７】請求項３、４又は５に記載の製造方法で得
られた炭酸セリウムを少なくとも 300℃以上の温度で焼
成する請求項２に記載の酸化セリウムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5345144A JP2980504B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 新規な形態を有する炭酸セリウムおよび炭酸セリウム並びに酸化セリウムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5345144A JP2980504B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 新規な形態を有する炭酸セリウムおよび炭酸セリウム並びに酸化セリウムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07172826A true JPH07172826A (ja) | 1995-07-11 |
| JP2980504B2 JP2980504B2 (ja) | 1999-11-22 |
Family
ID=18374584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5345144A Expired - Lifetime JP2980504B2 (ja) | 1993-12-21 | 1993-12-21 | 新規な形態を有する炭酸セリウムおよび炭酸セリウム並びに酸化セリウムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2980504B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100463799B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2004-12-29 | 한국지질자원연구원 | 수산화세륨으로부터의 탄산세륨 제조방법 |
| JP2005028571A (ja) * | 2004-08-30 | 2005-02-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 酸化セリウム研磨剤および基板の研磨法 |
| WO2006080796A1 (en) * | 2005-01-26 | 2006-08-03 | Lg Chem, Ltd. | Cerium oxide abrasive and slurry containing the same |
| JP2007123921A (ja) * | 1997-12-18 | 2007-05-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及びスラリー |
| JP2007129248A (ja) * | 1997-12-18 | 2007-05-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及びスラリー |
| KR100786961B1 (ko) * | 2005-09-20 | 2007-12-17 | 주식회사 엘지화학 | 탄산세륨 분말 및 제조방법, 이로부터 제조된 산화세륨분말 및 제조방법, 이를 포함하는 ｃｍｐ 슬러리 |
| KR100812052B1 (ko) * | 2005-11-14 | 2008-03-10 | 주식회사 엘지화학 | 탄산세륨 분말, 산화세륨 분말, 그 제조방법, 및 이를포함하는 ｃｍｐ 슬러리 |
| WO2008114972A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing cerium carbonate powder |
| WO2008114965A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing cerium carbonate powder using urea |
| JP2010030041A (ja) * | 2009-11-04 | 2010-02-12 | Hitachi Chem Co Ltd | 酸化セリウム研磨剤および基板の研磨法 |
| JP2010195599A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Tohoku Univ | 板状セリア粒子の製造方法 |
| US7871308B2 (en) | 1997-12-18 | 2011-01-18 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrasive, method of polishing target member and process for producing semiconductor device |
| WO2012020729A1 (ja) * | 2010-08-12 | 2012-02-16 | 大東化成工業株式会社 | 板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体、及び、その製造方法、被覆処理した板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体、並びに、化粧料 |
| US8361419B2 (en) | 2005-09-20 | 2013-01-29 | Lg Chem, Ltd. | Cerium carbonate powder, method for preparing the same, cerium oxide powder made therefrom, method for preparing the same, and CMP slurry comprising the same |
| JP5679298B2 (ja) * | 2008-10-17 | 2015-03-04 | ユミコア日本触媒株式会社 | 排ガス浄化用触媒および当該触媒を用いた排ガス浄化方法 |
-
1993
- 1993-12-21 JP JP5345144A patent/JP2980504B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (33)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8137159B2 (en) | 1997-12-18 | 2012-03-20 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrasive, method of polishing target member and process for producing semiconductor device |
| US7963825B2 (en) | 1997-12-18 | 2011-06-21 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrasive, method of polishing target member and process for producing semiconductor device |
| US7871308B2 (en) | 1997-12-18 | 2011-01-18 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrasive, method of polishing target member and process for producing semiconductor device |
| JP2007123921A (ja) * | 1997-12-18 | 2007-05-17 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及びスラリー |
| JP2007129248A (ja) * | 1997-12-18 | 2007-05-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 研磨剤及びスラリー |
| US8162725B2 (en) | 1997-12-18 | 2012-04-24 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrasive, method of polishing target member and process for producing semiconductor device |
| US8616936B2 (en) | 1997-12-18 | 2013-12-31 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Abrasive, method of polishing target member and process for producing semiconductor device |
| KR100463799B1 (ko) * | 2001-12-26 | 2004-12-29 | 한국지질자원연구원 | 수산화세륨으로부터의 탄산세륨 제조방법 |
| JP2005028571A (ja) * | 2004-08-30 | 2005-02-03 | Hitachi Chem Co Ltd | 酸化セリウム研磨剤および基板の研磨法 |
| WO2006080796A1 (en) * | 2005-01-26 | 2006-08-03 | Lg Chem, Ltd. | Cerium oxide abrasive and slurry containing the same |
| JP2009508795A (ja) * | 2005-09-20 | 2009-03-05 | エルジー・ケム・リミテッド | 炭酸セリウム粉末及び製法、これから製造された酸化セリウム粉末及び製法、これを含むｃｍｐスラリー |
| US8361419B2 (en) | 2005-09-20 | 2013-01-29 | Lg Chem, Ltd. | Cerium carbonate powder, method for preparing the same, cerium oxide powder made therefrom, method for preparing the same, and CMP slurry comprising the same |
| KR100786961B1 (ko) * | 2005-09-20 | 2007-12-17 | 주식회사 엘지화학 | 탄산세륨 분말 및 제조방법, 이로부터 제조된 산화세륨분말 및 제조방법, 이를 포함하는 ｃｍｐ 슬러리 |
| JP4917098B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2012-04-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 炭酸セリウム粉末及び製法、これから製造された酸化セリウム粉末及び製法、これを含むｃｍｐスラリー |
| EP1948568A1 (en) * | 2005-11-14 | 2008-07-30 | LG Chem, Ltd. | Cerium carbonate powder, cerium oxide powder, method for preparing the same, and cmp slurry comprising the same |
| KR100812052B1 (ko) * | 2005-11-14 | 2008-03-10 | 주식회사 엘지화학 | 탄산세륨 분말, 산화세륨 분말, 그 제조방법, 및 이를포함하는 ｃｍｐ 슬러리 |
| JP2009515807A (ja) * | 2005-11-14 | 2009-04-16 | エルジー・ケム・リミテッド | 炭酸セリウム粉末、酸化セリウム粉末、その製造方法及びこれを含むｃｍｐスラリー |
| US7682584B2 (en) | 2005-11-14 | 2010-03-23 | Lg Chem, Ltd. | Cerium carbonate powder, cerium oxide powder, method for preparing the same, and CMP slurry comprising the same |
| EP1948568A4 (en) * | 2005-11-14 | 2011-08-03 | Lg Chemical Ltd | CERCARBONATE POWDER, CEROXIDE POWDER, METHOD OF MANUFACTURING THEREOF, AND CMP SPRAYING THEREWITH |
| WO2008114972A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing cerium carbonate powder |
| WO2008114965A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing cerium carbonate powder using urea |
| US7976810B2 (en) | 2007-03-16 | 2011-07-12 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing cerium carbonate powder |
| US8303918B2 (en) | 2007-03-16 | 2012-11-06 | Lg Chem, Ltd. | Method for preparing cerium carbonate powder using urea |
| JP2015044194A (ja) * | 2008-10-17 | 2015-03-12 | ユミコア日本触媒株式会社 | 排ガス浄化用触媒および当該触媒を用いた排ガス浄化方法 |
| JP5679298B2 (ja) * | 2008-10-17 | 2015-03-04 | ユミコア日本触媒株式会社 | 排ガス浄化用触媒および当該触媒を用いた排ガス浄化方法 |
| JP2010195599A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Tohoku Univ | 板状セリア粒子の製造方法 |
| JP2010030041A (ja) * | 2009-11-04 | 2010-02-12 | Hitachi Chem Co Ltd | 酸化セリウム研磨剤および基板の研磨法 |
| CN103180248A (zh) * | 2010-08-12 | 2013-06-26 | 大东化成工业株式会社 | 板状氧化铈和作为其集合体的花瓣状氧化铈粉体、及其制造方法，被覆处理后的板状氧化铈和作为其集合体的花瓣状氧化铈粉体，以及化妆品 |
| KR20130139830A (ko) * | 2010-08-12 | 2013-12-23 | 다이또 가세이 고교 가부시끼가이샤 | 판상 산화세륨과 그 집합체인 꽃잎 형상 산화세륨 분말체, 그 제조 방법, 피복 처리한 판상 산화세륨과 그 집합체인 꽃잎 형상 산화 산화세륨 분말체, 및 화장료 |
| JP2012041202A (ja) * | 2010-08-12 | 2012-03-01 | Tohoku Univ | 板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体、及び、その製造方法、被覆処理した板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体、並びに、化粧料 |
| WO2012020729A1 (ja) * | 2010-08-12 | 2012-02-16 | 大東化成工業株式会社 | 板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体、及び、その製造方法、被覆処理した板状酸化セリウム及びその集合体である花弁状酸化セリウム粉体、並びに、化粧料 |
| TWI504568B (zh) * | 2010-08-12 | 2015-10-21 | Daito Kasei Kogyo Co Ltd | A petaloid cerium oxide powder, a method for producing the same, and a cosmetic |
| CN103180248B (zh) * | 2010-08-12 | 2015-12-09 | 大东化成工业株式会社 | 板状氧化铈和作为其集合体的花瓣状氧化铈粉体、及其制造方法，被覆处理后的板状氧化铈和作为其集合体的花瓣状氧化铈粉体，以及化妆品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2980504B2 (ja) | 1999-11-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07172826A (ja) | 新規な形態を有する炭酸セリウムと酸化セリウム及びそれらの製造方法 | |
| JP3946982B2 (ja) | ジルコニア・セリア基複合酸化物の製造方法 | |
| JP4018138B2 (ja) | 長球的に集塊した塩基性炭酸コバルト（ｉｉ）及び長球的に集塊した水酸化コバルト（ｉｉ）、それらの製法及び使用法 | |
| KR950003421B1 (ko) | 암모늄 희토류 이중 옥살레이트의 제조방법 및 그것의 희토류 산화물의 제조에 관한 용도 | |
| JPH10316431A (ja) | リチウムニッケル複合酸化物及びその製造方法並びにリチウム二次電池用正極活物質 | |
| CN112969666A (zh) | 制备镍复合氢氧化物的方法 | |
| US3883640A (en) | Sodium percarbonate crystals | |
| CN116239161A (zh) | 一种镍铁锰三元前驱体、制备方法及钠离子电池正极材料 | |
| JPH07144915A (ja) | 炭酸セリウムおよび酸化セリウムの製造方法 | |
| KR19990013782A (ko) | 리튬코발트복합산화물의 제조방법 | |
| US4164557A (en) | Process for the production of β-lithium aluminate and needle-shaped product | |
| JPH11292548A (ja) | 四酸化三コバルトおよびその製造方法 | |
| JP3906352B2 (ja) | Ｙａｇ透明焼結体の製造方法 | |
| JPH11292549A (ja) | 水酸化コバルトおよびその製造方法 | |
| JP3384412B2 (ja) | 結晶質リン酸ジルコニウムの製造方法 | |
| JPH09221322A (ja) | 酸化インジウム−酸化錫粉末及びその製造方法 | |
| JPH1053405A (ja) | 微結晶からなる六方晶窒化ホウ素多結晶体及びその製造法 | |
| EP1113993A1 (en) | Method for producing lithium manganese oxide intercalation compounds and compounds produced thereby | |
| JPH1017324A (ja) | 酸化インジウム粉末の製造方法 | |
| JPH09315865A (ja) | 酸化イットリウム透明焼結体の製造方法 | |
| JP3798482B2 (ja) | イットリウムアルミニウムガーネット微粉体の製造方法 | |
| FI114790B (fi) | Hienojakoista metallista kobolttia sisältävä koboltti (II)oksidi, menetelmä sen valmistamiseksi ja sen käyttö | |
| JPH0130766B2 (ja) | ||
| EP3659974A1 (en) | Process for making a nickel composite hydroxide | |
| JPH07118017A (ja) | ランタンマンガナイト粉末の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080917 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090917 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120917 Year of fee payment: 13 |