JPH07165787A - ヌクレオチド合成における保護基としてのＴＴＴｒ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 基本構造中にヌクレオベースＢの非置換又は
置換残基及び保護された第一級ヒドロキシル基の一つ
（ここで、該保護基はＴＴＴｒ基である）を有する、ヌ
クレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌク
レオチド類似体、又は少なくとも二つの同一若しくは異
なるヌクレオチド及び／若しくはヌクレオチド類似体か
らのオリゴヌクレオチド、その製造方法並びにその用
途。 【効果】 本発明のＴＴＴｒ基で保護されたオリゴヌク
レオチドは逆相ＨＰＬＣカラム上での保持率が高いの
で、それを持たない配列を分離するのに要するカラム効
率は低くてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルメチルにより保護され
た第一級ヒドロキシル基を基本構造中に持つ、ヌクレオ
シド、ヌクレオチド及びオリゴヌクレオチド、該ヌクレ
オシド及びヌクレオチドの製造方法、オリゴヌクレオチ
ドの製造方法、及び該保護された、ヌクレオシド、ヌク
レオチド及びオリゴヌクレオチドの用途に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】核酸と
の相互作用能（すなわち、アンチセンスオリゴヌクレオ
チド）とそれに伴う生物学的活性のために、大いに注目
されているオリゴヌクレオチドを合成する前に、用いる
ヌクレオシドやヌクレオシド類似体は、５’位に保護基
を導入する。これらの基は、代表的にはフェニルキサン
テン−９−イル( ピキシル) 及びトリチル保護基である
〔Beaucage,S.L.,Iyer,R.,Tetrahedron 48:2223-2311(1
992)〕。ピキシル並びにジ−ｐ−アニシルフェニルメチ
ル（ＤＭＴｒ）及びｐ−アニシルジフェニルメチル（Ｍ
ＭＴｒ）基の場合には、これらの基を導入しても低い位
置選択性が収量低下を招く。Ｏ−アルキル長鎖を持つこ
れらのトリチル基のさらなる欠点は、それらから形成さ
れたオリゴヌクレオチドのクロマトグラフィーによる精
製はより容易になるが、該基により保護されたヌクレオ
シドモノマーは固形物や結晶性固形物を形成する傾向が
ごくわずかであることから、それらの工業的用途が極め
て限定されることである〔Takenaka,S.,Dohtsu,K.,Taka
gi,M.,Anal.Sci.8:3-7(1992)〕。

【０００３】トリス−４, ４’, ４”−メトキシトリチ
ル基は、オリゴヌクレオチド合成には極めて不安定であ
り、ホスファイトトリエステル法のカップリング条件下
で除去される〔Beaucage,S.L.,Iyer,R.,Tetrahedron 4
8:2233(1992) 〕。４, ４’,４”−トリス（ベンゾイル
オキシ）トリチル（ＴＢＴｒ）基と４, ４’, ４”−ト
リス（４, ５−ジクロロフタルイミド）トリチル（ＣＰ
Ｔｒ）基は一般的用途にはあまりにも厄介である。何故
なら、製造及び除去、特に自動化された合成において、
のための条件が複雑だからである〔Beaucage,S.L.,Iye
r,R.,Tetrahedron 48:2235(1992) 〕。その他のトリチ
ル基〔Beaucage,S.L.,Iyer,R.,Tetrahedron 48:2236(19
92) 〕では、ヌクレオシドモノマーの誘導体化は、ごく
わずかな収量でのみ可能である。誘導体の結晶化は通常
不可能である。

【０００４】驚いたことには、ヌクレオシド及びヌクレ
オシド類似体は、５’位のヒドロキシル基をトリス−
４, ４’, ４”−ｔ−ブチルフェニルメチル（＝トリス
−４,4', ４”−ｔ−ブチルトリチル又はＴＴＴｒ）で
保護することにより、容易に精製可能な非晶質又は結晶
質固体として得られることが発見されている。また驚く
べきことだが、５’末端にＴＴＴｒ基をもつオリゴヌク
レオチドは実質的に容易に、特に逆相ＨＰＬＣのような
クロマトグラフィーの方法により精製されることも認め
られている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】一つの特徴として、本発
明は、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチ
ド、ヌクレオチド類似体、又は少なくとも二つの同一若
しくは異なるヌクレオチド及び／若しくはヌクレオチド
類似体からのオリゴヌクレオチドにおいて、ヌクレオベ
ースＢの、非置換又は置換残基及びＴＴＴｒを保護基と
する保護された第一級ヒドロキシル基の一つを持つ、ヌ
クレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌク
レオチド類似体又はオリゴヌクレオチドに関する。

【０００６】ＴＴＴｒ基そのものは知られている。Marv
elら〔Marvel,C.S., Kaplan,J.F.,Himel,C.M., J.Am.Ch
em.Soc.63:1892-1896(1941)〕は、アルキル置換ヘキサ
アリールエタンの解離挙動に関連して、ＴＴＴｒＣｌ、
ＴＴＴｒＯＨ及びＴＴＴｒ基の過酸化物を開示してい
る。Ashtonら〔Ashton,P.R., Philp,D., Spencer,N., S
toddart,J.F., J.Chem.Soc.,Chem.Commun.1124-1128(19
92) 〕は、ＴＴＴｒ基をナノメータ範囲の機構の構築、
特にいわゆるロタキサン(rotaxane)及びシュードロタキ
サン(psudorotaxane) の構築における遮蔽基と記載して
いる。

【０００７】核酸化学における新規の保護基として、Ｔ
ＴＴｒ保護基は、導入が驚くほど容易にできること、慣
用されているＤＭＴｒ及びピキシル基に比べより高い位
置選択性で導入されることを特徴とする。ヌクレオシド
とヌクレオシド類似体はクロマトグラフィー無しでも反
応液から単離できることが多いので、ＤＮＡ合成（自動
合成）のためのヌクレオシド単位の大規模製造に極めて
有利に用いることができる。さらに、この新規オリゴヌ
クレオチドは、慣用の保護基を持つオリゴヌクレオチド
よりも既知の方法、好都合には逆相ＨＰＬＣにより容易
に精製することができる。

【０００８】ＴＴＴｒ基は、オリゴヌクレオチド化学で
既知の標準的保護基〔Beaucage,S.L.,Iyer,R.,Tetrahed
ron 48: 表１〜３(1992)〕、好都合には、ヌクレオベー
スにおける遊離アミノ基の保護基、例えば環員炭素原子
数３〜１２、好ましくは４〜８、最も好ましくは５〜６
の、非置換若しくは置換シクロアルキルカルボニル基、
好ましくはシクロヘキサンカルボキシル基（ＣＣ）、又
はアミジン保護基、代表的にはジメチルアミノメチリデ
ン基と同時に用いることができる。本発明のヌクレオシ
ド及びヌクレオシド類似体は、固相法及び溶液法におい
てもオリゴヌクレオチド合成のための適切な構成物であ
る。

【０００９】好適にはヌクレオチド結合を結合させるた
めの第二級ＯＨ基を持つ本発明の範囲内の適当なヌクレ
オシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオ
チド類似体又はオリゴヌクレオチドの全ての群は、知ら
れており、技術文献、例えばTownsend,L.B.(Hrsg.),Che
mistry of Nucleosides and Nucleotides 1, PlenumPre
ss, New York (1988)に記載されているか、又は既知の
方法により調製できる。それらは、一般的に、−Ｏ−若
しくは−Ｓ−で中断された開鎖状炭素主鎖、又はヌクレ
オベースＢを持つ炭素環式若しくはＯ−若しくはＳ−複
素環式構造からなることができる。このヌクレオシド
は、天然又は合成ヌクレオシドであってよい。

【００１０】開鎖状炭素主鎖は、好都合には３〜１２
個、好ましくは３〜６個の炭素原子を持つことができ
る。炭素環式及び複素環式構造は、典型的には、３〜１
２個、好ましくは３〜８個、最も好ましくは４〜５個の
環員炭素原子を持つ単環式環状系であってもよい。それ
らは、又、５〜１６個、好ましくは８〜１６個の炭素原
子を持つ二ないし三環式系であってもよい。これらの構
造は、さらに置換基、典型的には保護されたＯＨ基を持
っていてもよい。

【００１１】本発明の好適な実施態様では、ヌクレオシ
ドは５員炭素環又はフランである。

【００１２】ヌクレオベースＢが、プリン基又はその類
似体である場合、該基は、式Ｉ、Ｉａ、Ｉｂ、Ｉｃ、Ｉ
ｄ又はＩｅ：

【００１３】

【化１０】

【００１４】（上記式中、Ｒ₁ は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｎ
Ｈ₂ 又はＯＨであり；Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ は、各々互いに
独立して、Ｈ、ＯＨ、ＳＨ、ＮＨ₂ 、ＮＨＮＨ₂ 、ＮＨ
ＯＨ、炭素数１〜１２のＮＨＯアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、又は炭素数１〜１２の、アルキル、ヒドロキシアル
キル、アミノアルキル、アルコキシ若しくはアルキルチ
オ（ここで、ヒドロキシル基及びアミノ基は、非置換で
あるか、又は保護基により置換されている）、或はフェ
ニル、ベンジル、炭素数１〜２０の第一級アミノ基、又
は炭素数２〜３０の第二級アミノ基であり、そしてＲ₅
は、Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルである）で示される基で
あってよい。

【００１５】第一級アミノ基は、好ましくは１〜１２
個、最も好ましくは１〜６個の炭素原子を持ち、そして
第二級アミノ基は、好ましくは２〜１２個、より好まし
くは２〜６個の炭素原子を持つ。

【００１６】好ましくは１〜６個の炭素原子を持つ、ア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシアルキ
ル及びアミノアルキルの具体例は、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デシル、ウンデシル及びドデシルの異性
体、並びに相当する、アルコキシ、アルキルチオ、ヒド
ロキシアルキル及びアミノアルキル基である。アルキ
ル、アルコキシ、アルキルチオ、ヒドロキシアルキル及
びアミノアルキルは、好ましくは各々１〜４個の炭素原
子を持つ。好ましい、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオ、ヒドロキシアルキル及びアミノアルキル基は、メ
チル、エチル、ｎ−及びイソプロピル、ｎ−、ｉｓｏ−
及びｔｅｒｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、アミノメチル、アミノエチル、ヒドロ
キシメチル並びにヒドロキシエチルである。

【００１７】第一級アミノ及び第二級アミノは、典型的
には式：Ｒ₆ Ｒ₇ Ｎ（式中、Ｒ₆ は、Ｈ又は独立してＲ
₇ と同様の意味を持ち、Ｒ₇ は、炭素数１〜２０、好ま
しくは１〜１２、最も好ましくは１〜６の、アルキル、
アミノアルキル若しくはヒドロキシアルキル；カルボキ
シアルキル若しくはカルボアルコキシアルキル（ここ
で、カルボアルコキシ部分は、２〜８個の炭素原子を持
ち、そしてアルキル部分は、１〜６個、好ましくは１〜
４個の炭素原子を持つ）；炭素数２〜２０、好ましくは
２〜１２、最も好ましくは２〜６のアルケニル；フェニ
ル、モノ−若しくはジ−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）フェニ
ル又はジ−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ）フェニル、ベンジ
ル、モノ−若しくはジ−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）ベンジ
ル又はジ−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ）ベンジル；又は
１, ２−、１, ３−若しくは１, ４−イミダゾリル−Ｃ
₁ −Ｃ₆ アルキルであるか、或はＲ₆ とＲ₇ は、一緒に
なって、テトラ−若しくはペンタメチレン、３−オキサ
−１, ５−ペンチレン、又は−ＣＨ₂ −ＮＲ₈ −ＣＨ₂
ＣＨ₂ −若しくは−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＮＲ₈ −ＣＨ₂ ＣＨ
₂ −（ここで、Ｒ₈ は、Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルであ
る）で示される基であってよい。アミノアルキル中のア
ミノ基は、一つ若しくは二つの、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル又
はＣ₁ −Ｃ₄ ヒドロキシアルキル基で置換されていても
よい。ヒドロキシアルキル中のヒドロキシル基は、遊離
又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルでエーテル化されている。

【００１８】アルキル基の例は、上に述べた。アミノア
ルキルの具体例は、アミノメチル、アミノエチル、１−
アミノプロプ−２−又は−３−イル、１−アミノブト−
２−, −３−、又は−４−イル、Ｎ−メチル−又はＮ，
Ｎ−ジメチル−又はＮ−エチル−又はＮ, Ｎ−ジエチル
−又はＮ−２−ヒドロキシエチル−又はＮ, Ｎ−ジ−２
−ヒドロキシエチルアミノメチル、−アミノエチル、−
アミノプロピル又は−アミノブチルである。ヒドロキシ
アルキルは、典型的にはヒドロキシメチル、１−ヒドロ
キシ−エタ−２−イル、１−ヒドロキシプロパ−２−又
は−３−イル、１−ヒドロキシ−ブタ−２−, −３−又
は−４−イルである。具体的なカルボキシアルキル基
は、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルボキシ
プロピル及びカルボキシブチルであり、カルボアルコキ
シアルキルは、典型的にはメチル又はエチルでエーテル
化されたカルボアルコキシアルキルである。アルケニル
は、典型的にはアリル、ブタ−１−エン−３−又は−４
−イル、ペンタ−３−又は４−エン−１−又は−２−イ
ル、ヘキサ−３−又は−４−又は−５−エン−１−又は
−２−イルである。アルキル−及びアルコキシフェニル
並びにアルキル−及びアルコキシベンジルの具体例は、
メチルフェニル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、
ジエチルフェニル、メチルベンジル、ジメチルベンジ
ル、エチルベンジル、ジエチルベンジル、ジエチルベン
ジル、メトキシフェニル、ジメトキシフェニル、エトキ
シフェニル、ジエトキシフェニル、メトキシベンジル、
ジメトキシベンジル、エトキシベンジル及びジエトキシ
ベンジルである。アルキル部分が好ましくは２〜４個の
炭素原子を持つイミダゾリルアルキルは、典型的には
１, ２−、１, ３−若しくは１, ４−イミダゾリルエチ
ル、又は−ｎ−プロピル若しくは−ｎ−ブチルでよい。
Ｒ₈ は、好ましくはＨ、メチル又はエチルである。

【００１９】第一級アミノ及び第二級アミノの好適な例
は、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジ
エチルアミノ、アリルアミノ、モノ−又はジ−( １−ヒ
ドロキシ−エト−２−イル）アミノ、フェニル−及びベ
ンジルアミノ、アセチルアミノおよびベンゾイルアミノ
である。

【００２０】好ましい実施態様では、Ｒ₁ は水素であ
る。もう一つの好ましい実施態様では、Ｒ₄ は水素であ
る。さらに別の好ましい実施態様では、Ｒ₂ とＲ₃ は、
各々互いに独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＯＨ、Ｓ
Ｈ、ＮＨ₂ 、ＮＨＯＨ、ＮＨＮＨ₂ 、メチルアミノ、ジ
メチルアミノ、ベンゾイルアミノ、メトキシ、エトキシ
及びメチルチオである。

【００２１】プリン以外に、プリン系列の類似体の代表
例は、アデニン、Ｎ−メチルアデニン、Ｎ−ベンジルア
デニン、２−メチルアデニン、２−メチルチオアデニ
ン、２−アミノアデニン、３−カルバアデニン、７−カ
ルバアデニン、１−カルバアデニン、６−ヒドロキシプ
リン、２−アミノ−６−クロロプリン、２−アミノ−６
−メチルチオプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシプリ
ン、３−カルバ−６−クロロプリン、グアニン及び２−
メチルグアニンである。アデニン、２−アミノアデニ
ン、グアニンは特に好ましい。

【００２２】ヌクレオベースＢがピリミジン類似体の基
である場合には、この基は、式II、IIａ及びIIｂ：

【００２３】

【化１１】

【００２４】（式中、Ｒ₅ は、Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキ
ルであり、Ｒ₆ 、Ｒ₇ 、Ｒ₉ は、各々互いに独立して、
Ｒ₂ について既に与えた意味（好適な意味を含む）を持
ち、式IIｂ中のＮＨ₂ 基の水素原子は、Ｃ₁ −Ｃ₆ アル
キル又はベンゾイルにより置換されていてもよい）で示
される基、及び式II、IIａ及びIIｂの基のジヒドロ誘導
体である。好ましくはＲ₆ は、Ｈ、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル
若しくはヒドロキシアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＮＨ
₂ 、ベンゾイルアミノ又はモノ−若しくはジ−Ｃ₁−Ｃ₆
アルキルアミノであり、Ｒ₇ は、好ましくはＨ、Ｃ₁
−Ｃ₆ アルキル若しくはＣ₁ −Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁ −
Ｃ₆ ヒドロキシアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＮＨ₂ 、ベ
ンゾイルアミノ、モノ−又はジ−Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルア
ミノである。

【００２５】Ｒ₅ は、好ましくはＨ又はメチルである。
Ｒ₆ は、好ましくはＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＮＨ₂ 、ＮＨ
ＣＨ₃ 、Ｎ（ＣＨ₃ ）₂ 又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルであ
る。Ｒ₇ は、好ましくはＨ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、特に
メチル、ＮＨ₂ 、ＮＨＣＨ₃ 又は（ＣＨ₃ ）₂ Ｎであ
る。

【００２６】ピリミジン類似体の具体例は、ウラシル、
チミン、シトシン、５−フルオロウラシル、５−クロロ
ウラシル、５−ブロモウラシル、ジヒドロウラシル、シ
ュードウラシル、１−メチルシュードウラシル、５−メ
チルウラシル、３−メチルシトシン及び５−メチルシト
シンである。

【００２７】本発明の範囲においては、ヌクレオベース
の保護基は、当業界において良く知られている保護基を
表わすものと理解されよう。そのような保護基の代表例
は、Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキル；単環式又は二環式Ｃ₇ −Ｃ₁₂
アラルキル；単環式又は二環式Ｃ₇ −Ｃ₁₂アラルコキ
シ；単環式又は二環式Ｃ₇ −Ｃ₁₂ハロアラルキル；ジフ
ェニルメチル；１〜４個のメチル又はメトキシ基により
置換されたジフェニルメチル；トリフェニルメチル；１
〜６個のメチル又はメトキシ基により、又は１〜３個の
ｔブチル基により置換されたトリフェニルメチル；フェ
ニル又はナフチルにより置換されたキサンテニル；Ｓｉ
（Ｒ₁₀）（Ｒ₁₁）（Ｒ₁₂）（式中、（Ｒ₁₀）、
（Ｒ₁₁）、（Ｒ₁₂）は、各々互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ
₂₀アルキル、ベンジル、又はフェニルである）；ＲＣ
（Ｏ）（式中、Ｒは、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル、ベンジル又
はメチル、メトキシ若しくはハロゲンで置換されたベン
ジルである）；Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルコキシ、フルオレンによ
り置換されたＣ₁ −Ｃ₁₂アルコキシ、フェノキシ、又は
メチル、メトキシ若しくはハロゲンで置換されたフェノ
キシ、ベンジルオキシ、又はメチル、メトキシ若しくは
ハロゲンで置換されたベンジルオキシ；Ｒ₁₃−ＳＯ₂ −
（式中、Ｒ₁₃は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₅ −Ｃ₆ シク
ロアルキル、フェニル又はＣ₁ −Ｃ₁₂アルキル若しくは
ハロゲンにより置換されたフェニル、又はベンジル、又
はＣ₁ −Ｃ₁₂アルキル若しくはハロゲンにより置換され
たベンジルである）；非置換であるか、又は線状若しく
は分枝状の、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₆ ハロアル
キル、ハロゲン、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁ −Ｃ₆ ア
ルキルチオ、ニトロ及びシアノよりなる群から選択され
た一つ若しくはそれ以上の、同一若しくは異なる構成員
により置換された、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルコキシアセチル又は
フェノキシアセチル；３〜１２個の環員炭素原子を持つ
シクロアルキルカルボニル；３〜１２個の環員炭素原子
を持つ、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル−又はＣ₁ −Ｃ₆ アルコキ
シ置換シクロアルキルカルボニル；或はアミジン保護
基、例えばジメチルアミノメチリデン基である。

【００２８】既に述べたように、好ましい保護基は、３
〜１２個、好ましくは４〜８個、最も好ましくは５〜６
個の環員炭素原子を持つシクロアルキルカルボニル基、
特にシクロヘキサンカルボニル基、及びジメチルアミノ
メチリデン基である。

【００２９】Ｃ₁ −Ｃ₈ アルキルは、典型的にはメチ
ル、エチル、ｎ−及びイソプロピル、ｎ−、イソ及びｔ
ｅｒｔ−ブチルであり；単環式Ｃ₇ −Ｃ₁₂アラルキル
は、典型的にはベンジル、メチルベンジル、ジメチルベ
ンジルであり；単環式又は二環式Ｃ₇ −Ｃ₁₂アラルコキ
シは、メトキシベンジル、ジメトキシベンジルであって
よい；単環式又は二環式Ｃ₇ −Ｃ₁₂ハロアルキルは、ブ
ロモベンジルであり；置換されたジフェニルメチルは、
典型的にはジ（メチルフェニル）メチル、ジ（ジメチル
フェニル）メチル、ジ（メトキシフェニル）メチル、ジ
（ジメトキシフェニル）メチルであり；置換されたトリ
フェニルメチルは、典型的にはトリ（メチルフェニル）
メチル、トリ（ジメチルフェニル）メチル、トリ（メト
キシフェニル）メチル、トリ（ジメトキシフェニル）メ
チル、モノメトキシトリチル、ジメトキシトリチル及び
トリス−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルメチルであり；
シリル基は、典型的にはトリフェニルシリル、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、トリ−ｎ−プロピルシリ
ル、イソプロピルジメチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル、ｎ
−オクチルジメチルシリル及び（１, １, ２, ２−テト
ラメチルエチル）ジメチルシリルを含む；基ＲＣ（Ｏ）
は、典型的にはアセチル、トリフルオロアセチル、プロ
パノイル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、
ベンゾイル、メチルベンゾイル、メトキシベンゾイル、
クロロベンゾイル、ブロモベンゾイル、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、ｎ−若しくはイソ−プロポ
キシカルボニル、ｎ−、イソ−若しくはｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニル、メチルフェノキシカルボニル若しくはメ
トキシフェノキシカルボニル又はクロロフェノキシ−若
しくはベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメ
トキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、シンナモ
イルオキシカルボニル、２, ２, ２−トリクロロエトキ
シカルボニル、トリメチルシリルエトキシカルボニル、
クロロエトキシカルボニル、ブロモエトキシカルボニ
ル、モルホリノエトキシカルボニル；基Ｒ₁₃−ＳＯ₂ −
は、典型的にはメチルスルホニル、エチルスルホニル、
プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、フェニルスル
ホニル、ベンジルスルホニル、ｐ−ブロモスルホニル、
ｐ−メトキシスルホニル及びｐ−メチルフェニルスルホ
ニル；そしてアルコキシアセチル及びフェノキシアセチ
ルは、典型的にはメトキシアセチル、エトキシアセチ
ル、フェノキシアセチル、（ｐ−メチルフェノキシ）ア
セチル、及び（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）アセ
チルである。

【００３０】本発明の範囲内において、特に適したヌク
レオシド又はヌクレオチドは、式III ａ、III ｂ、III
ｃ又はIII ｄ：

【００３１】

【化１２】

【００３２】（式中、Ｒ₁₄は、水素又はヌクレオチド結
合基を形成する基であり、そしてＲ_１５は、水素又はシ
クロヘキシルカルボニルである）で示される一つであ
る。

【００３３】本発明の範囲内において、特に適したヌク
レオチドは、式ＩＩＩ ａ、III ｂ、III ｃ及びIII ｄ
のＲ₁₄が、式IVａ、IVｂ、又はIVｃ：

【００３４】

【化１３】

【００３５】（式中、Ｚは、酸素又は硫黄であり；Ｘ、
Ｘ’及びＸ”は、各々互いに独立して対イオンＬｉ、Ｎ
ａ、Ｋ若しくはＣｓ、又は第三級若しくは第四級アンモ
ニウムで陰電荷を形成する酸素又は硫黄であるか；又は
Ｘ’及びＸ”は、各々互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アル
キル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ
₇ −Ｃ₂₀アルカリール、−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であり；
Ｘ''' は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、
Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であり；
Ｒ_b は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ
₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリールであり；
Ｒ₁₈及びＲ₁₉は、各々互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アル
キル、Ｃ₂ −Ｃ₁₂アルケニル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ
₇ −Ｃ₂₀アラルキル、又はＣ₇ −Ｃ₂₀アルカリールであ
り；そしてＲ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ_b の定義におけるアルキ
ル、アリール、アラルキル及びアルカリールは、非置換
であるか、又はアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲン、
−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、フェニル、ニトロフェニル若しくは
ハロフェニルにより置換されている）で示される、ヌク
レオチド結合基を形成するリン含有基である。

【００３６】第三級及び第四級アンモニウムは、式Ｒ_f
Ｒ_g Ｒ_h Ｒ_i Ｎ⁺ （式中、陽イオンの窒素は、飽和又は
不飽和の、単環ないし三環系環状化合物の構成員であっ
てよく、Ｒ_f は、アルキル又はアミノアルキルであっ
て、それぞれ１〜２０個、好ましくは１〜１２個、最も
好ましくは１〜６個の炭素原子を持ち；カルボキシアル
キル又はカルボアルコキシアルキルであって、カルボア
ルコキシ基は２〜８個の炭素原子を持ち、アルキル基は
１〜６個、好ましくは１〜４個の炭素原子を持ち；炭素
原子数が２〜２０、好ましくは２〜１２、最も好ましく
は２〜６であるアルケニル；フェニル、モノ若しくはジ
（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）フェニル又はジ（Ｃ₁ −Ｃ₄ ア
ルコキシ）フェニル、ベンジル、モノ若しくはジ（Ｃ₁
−Ｃ₄ アルキル）ベンジル又はジ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキ
シ）ベンジル；又は1,２−、１, ３−若しくは１, ４−
イミダゾリルＣ₁ −Ｃ₆ アルキル；そしてＲ_g 、Ｒ_h 、
及びＲ_i は、各々互いに独立して、水素を表わすか、又
はＲ_f の意味を持つか、或はＲ_f とＲ_g は、一緒になっ
て、アルキリデン、テトラ−若しくはペンタメチレン、
３−オキサ−１, ５−ペンチレン、−ＣＨ₂ −ＮＲ_e −
ＣＨ₂ ＣＨ₂ −又は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＮＲ_e −ＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₂ −（式中、Ｒ_e は、Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルであ
る）であり、そしてＲ_h 及びＲ_i は、各々互いに独立し
て、Ｒ_f の意味を持つ）で示されるイオンを意味するも
のとして理解される。アミノアルキル中のアルキル基
は、一つ又は二つのＣ₁ −Ｃ₄ アルキル基により置換す
ることができる。

【００３７】カルボキシアルキルの具体例は、カルボキ
シメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル及び
カルボキシブチルであり、そしてカルボアルコキシアル
キルは、典型的にはメチル又はエチルでエステル化され
たカルボアルコキシアルキルである。アルケニルは、典
型的にはアリル、ブタ−１−エン−３−又は４−イル、
ペンタ−３−又は４−エン−１−又は−２−イル、ヘキ
サ−３−又は−４−又は−５−エン−１−又は−２−イ
ルである。アルキル−及びアルコキシフェニル並びにア
ルキル−及びアルコキシベンジルの具体例は、メチルフ
ェニル、ジメチルフェニル、エチルフェニル、ジエチル
フェニル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、エチル
ベンジル、ジエチルベンジル、メトキシフェニル、ジメ
トキシフェニル、エトキシフェニル、ジエトキシフェニ
ル、メトキシベンジル、ジメトキシベンジル、エトキシ
ベンジル及びジエトキシベンジルである。アルキル部分
が好ましくは２〜４個の炭素原子を持つイミダゾリルア
ルキルは、典型的には1,２−、１, ３−若しくは１, ４
−イミダゾリルエチル又は−ｎ−プロピル若しくは−ｎ
−ブチルでよい。

【００３８】アルキルとしてのＲ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ_b の具
体例は、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、ヘプチル及びオクチルの異性体であ
る。アリールとしてのＲ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ_b は、典型的に
はフェニル及びナフチルである。アルケニルとしてのＲ
₁₈及びＲ₁₉は、典型的にはアリル及び（Ｃ₁ −Ｃ₄ アル
キル) ＣＨ＝ＣＨ₂ −である。アラルキルとしての
Ｒ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ_b の具体例は、フェニル−Ｃ_n Ｈ_2n−
（式中、ｎは、１〜６の整数である）、好ましくはベン
ジルである。アルカリールとしてのＲ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ_b
の具体例は、モノ、ジ及びトリ（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）
フェニルである。好ましい置換基は、クロロ、ブロモ、
メトキシ、−ＮＯ₂ 、−ＣＮ、２，４−ジクロロフェニ
ル及び４−ニトロフェニルである。Ｒ_b の代表例は、
２，２，２−トリクロロエチル、４−クロロフェニル、
２−クロロフェニル及び２，４−ジクロロフェニルであ
る。

【００３９】特に好ましい実施態様では、Ｒ_b は、β−
シアノエチルであり、Ｒ₁₈及びＲ₁₉は、ジ（イソプロピ
ル）であり、そしてＸ''' は、Ｏである。

【００４０】該ヌクレオチド及びオリゴヌクレオチド
は、結合基を介し固体担体物質に共有結合していてもよ
い。適当な担体物質は、典型的にはシリカゲル、調整細
孔ガラス（controlled pore glass ）、ポリスチレン、
ポリアクリルアミド、ポリウレタン、ポリオレフィン、
ポリアミド、ポリエーテル及びエーテル化又はアクリル
化されたセルロース誘導体である。どの担体物質を選択
するかにより、結合基は、ジカルボン酸、ジウレタン又
はアルコキシシリルウレタンから誘導することができ
る。調製され、充填済みの担体物質が、市販されてい
る。

【００４１】ＴＴＴｒ保護基の導入は、一般的に、Gait
らにより記載された方法〔Gait,M.J.,Matthes,H.W.D.,S
ingh,M.,Sproat,B.S.,Titmas,R.C.,in:Gassen,H.G.,Lan
g,A.(Hrsg.) Chemical and Enzymatic Synthesis of Ge
ne Fragments, Verlag Chemie,Weinheim 1-42(1982) 〕
に従い行われる。アミノ保護基、好ましくはアシル基
は、ＴＴＴｒ保護基の導入前に導入するのが好都合であ
る。これを達成するために、保護されていないヌクレオ
シドをピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジメチルホル
ムアミド、アセトニトリル又はテトラヒドロフランのよ
うな適当な非プロトン性の極性塩基溶媒中で、室温でト
リアルキルクロロシラン、例えばトリメチルクロロシラ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン若しくはト
リイソプロピルクロロシラン、又はテトラアルキルジシ
ロキサン、典型的には１, １, ３,３−テトライソプロ
ピル- １, ３−ジクロロジシロキサンで処理することに
より、徹底的にシリル化することができる。シリル化に
引き続き、ヌクレオベースのアミノ部分だけがアシル化
されるように、好ましくは非置換又は置換されているシ
クロアルキルカルボニルクロリド又はジメチルアミノメ
チリデンとの反応を行う。次いで、適当な求核剤、典型
的には水性アンモニウム、ＯＨ^- 又はＦ^- 、好ましくは
水性フッ化アンモニウム、を用いた処理によりシリル基
の加溶媒分解が行われる。溶媒の除去後、アシル化され
たヌクレオシドは、その溶解特性に基づいて容易に単離
することができる。

【００４２】ＴＴＴｒ基の導入は、ピリジン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリル
又はテトラヒドロフラン、好ましくはピリジンのような
適当な非プロトン性の極性塩基溶媒中で、好都合には立
体障害第三級アミンの存在下に、好適にアシル化された
ヌクレオシドを塩化トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ
−ブチルトリチルと反応させることにより行われる。抽
出物の溶解特性が生成物を容易に分離させる。過剰のト
リチル化剤は、石油エーテル、好ましくは４０〜６０℃
沸点範囲を持つ留分、に温浸（digestion ）することに
より除去できる。

【００４３】この新規のヌクレオシドは、固相法及び溶
液法にもよるオリゴヌクレオチド合成に適している、ホ
スホロアミダイト、Ｈ−ホスホネート又はトリエステル
誘導体へ公知の方法によりさらに変換することができ
る。

【００４４】別の特徴において、本発明は、式Ｖ：

【００４５】

【化１４】

【００４６】（式中、Ｕ及びＶは、同一若しくは相異な
る、天然又は合成ヌクレオシド残基であり、ｍ及びｎ
は、各々互いに独立して、０又は１〜２００の整数であ
り、そしてｍとｎの合計は、２〜２００である）で示さ
れるオリゴヌクレオチドを製造する方法であって、
（ａ）式VI：

【００４７】

【化１５】

【００４８】（式中、Ｒ₂₀は、保護基であり、Ｕ’及び
Ｖ’は、Ｕ及びＶと同様の意味を持ち、ｍ’及びｎ’
は、各々互いに独立して、０又は１〜１９９の整数であ
り、ｍ’及びｎ’の合計は、２〜１９９であり、そして
Ｒ₂₁は、式IVａ、IVｂ又はIVｃ：

【００４９】

【化１６】

【００５０】（式中、Ｚは、酸素又は硫黄であり；Ｘ、
Ｘ’及びＸ”は、各々互いに独立して、対イオンＬｉ、
Ｎａ、Ｋ若しくはＣｓ、又は第三級若しくは第四級アン
モニウムで陰電荷を形成する酸素又は硫黄であるか；又
はＸ’及びＸ”は、各々互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂ア
ルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、
Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリール、−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であ
り；Ｘ''' は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリー
ル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリール、
−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であり；Ｒ_b は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アル
キル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ
₇ −Ｃ₂₀アルカリールであり；Ｒ₁₈及びＲ₁₉は、各々互
いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₂ −Ｃ₁₂アルケ
ニル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、又
はＣ₇ −Ｃ₂₀アルカリールであり；そしてＲ₁₈、Ｒ₁₉及
びＲ_b の定義におけるアルキル、アリール、アラルキル
及びアルカリールは、非置換であるか、又はアルコキ
シ、アルキルチオ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、フェ
ニル、ニトロフェニル若しくはハロフェニルにより置換
されている）で示される、ヌクレオチド結合基を形成す
るリン含有基である化合物を、式VII ：

【００５１】

【化１７】

【００５２】（式中、Ｕ”及びＶ”は、Ｕ及びＶと同様
の意味を持ち、ｍ”及びｎ”は、各々互いに独立して、
０又は１〜１９８の整数であり、ｍ”及びｎ”の合計
は、２〜１９８であり、そしてＲ₂₂は、ｉ）式IVｂ（式
中、Ｚは、酸素又は硫黄であり；Ｘ’及びＸ”は、各々
互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリ
ール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリー
ル、−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であり；Ｒ_b は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂
アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキ
ル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリールであり；Ｒ_b について定義
された、アルキル、アリール、アラルキル及びアルカリ
ールは、非置換であるか、又はアルコキシ、アルキルチ
オ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、フェニル、ニトロフ
ェニル若しくはハロフェニルにより置換されている）で
示される基であるか；（ｉｉ）ヒドロキシ保護基である
か；又は（ｉｉｉ）結合基による固体担体物質への結合
である）で示される化合物と反応させ、（ｂ）必要なら
ば、望ましい長さのオリゴヌクレオチドが形成されるま
で工程（ａ）を繰り返し、それぞれのカップリング前に
保護基Ｒ₂₀を除去し、存在する全ての遊離ヒドロキシル
基をキャッピングし、次いで生成されたホスファイトを
ホスフェートに酸化し、（ｃ）必要ならば、オリゴヌク
レオチドを分離又は単離し、（ｄ）残存した保護基Ｒ₂₀
（ここで、該保護基Ｒ₂₀はＴＴＴｒである）を除去する
ことを特徴とする方法に関する。

【００５３】この方法の非常に特に好ましい実施態様
は、ｍとｎの合計が２〜５０、好ましくは２〜３０であ
る式Ｖのオリゴヌクレオチドを製造することからなる。
オリゴヌクレオチド中のヌクレオシドは、通常エステル
基を介して結合されている。具体的な例は、ホスホロチ
オエート、ホスホロジチオエート、ホスホロアミデー
ト、アルキルホスホネート、Ｈ−ホスホネート、ホスフ
ェート、カーボネート及びカルバメートである。

【００５４】この方法は、固相法又は液体法として実施
することができる。両法ともそれ自体知られており、通
常−２０℃〜１００℃、好ましくは１０℃〜６０℃の温
度範囲で実施される。反応は不活性溶媒の存在下で行う
のが好都合である。不活性溶媒の具体例は、アセトニト
リル、ピリジン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、クロロホルム、トリクロロエ
タン、ジクロロメタン、Ｎ−メチルピロリドン、テトラ
ヒドロフラン、ジブチルエーテル及びジエチルエーテル
である。方法を固相法で行う場合には、合成は、各々の
メーカーが述べており、同様にそこから入手できる試
薬、すなわち溶媒、キャッピング溶媒、酸化溶液、カッ
プリング試薬及び脱トリチル化溶液並びに調製された式
VII の化合物で市販のＤＮＡ合成装置で行うのが好都合
である。

【００５５】Ｒ₂₁についてのヒドロキシル保護基は、ア
ミジンを除くヌクレオベースについて挙げられた保護基
を表わすものと理解される。

【００５６】固体担体材料については既に述べた。最終
生成物であるオリゴヌクレオチドは、それらのヌクレオ
ベースにおいてオリゴヌクレオチドを脱保護しながら水
性飽和アンモニア溶液で担体材料から除去することがで
きる。この方法は、シクロアルキルカルボン酸保護基を
同時に除去するためにも適している。

【００５７】ＴＴＴｒ保護基は、好都合にはジクロロ酢
酸、トリクロロ酢酸、トリフロロ酢酸、酢酸、ＺｎＢｒ
₂ 又は三フッ化ホウ素ジエーテラートを用い酸性条件下
で除去するのがよい。

【００５８】存在する全ての遊離ヒドロキシル基のキャ
ッピングは、既知の方法により、好都合には無水酢酸、
Ｎ−メチルイミダゾール又は２, ６−ルチジンを用いて
行われる。

【００５９】ホスファイトのホスフェートへの酸化は、
好適には水性ヨウ化物溶液又はアセトニトリル中のｔ−
ブチルヒドロペルオキシドで行われる。

【００６０】最終のオリゴヌクレオチドは、クロマトグ
ラフィー又は電気泳動により単離することができる。逆
相ＨＰＬＣによる単離が有利である。

【００６１】別の特徴においては、本発明は、式Ｖのオ
リゴヌクレオチドを製造する方法での、新規なヌクレオ
シド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチ
ド類似体、及びオリゴヌクレオチドの用途に関する。

【００６２】ＴＴＴｒ基の用途は、オリゴヌクレオチド
を精製する上で特別な利点がある。さらに、新規な保護
されたオリゴヌクレオチドは、従来の４, ４’−ジメト
キシトリチル基により保護されたオリゴヌクレオチドに
比べて水性中性緩衝系における安定性がより大きく、そ
のために精製中、特にＨＰＬＣによる精製中の脱トリチ
ル化の損失はより低いことが分かっている。

【００６３】

【実施例】以下の実施例は本発明をより具体的に説明す
る。

【００６４】Ａ：出発化合物の調製 実施例Ａ１：Ｎ² シクロヘキシルカルボニル−２’デオ
キシグアノシン デオキシグアノシン２８g を３×２００mlの無水ピリジ
ンにとり、次に溶液を５０℃で真空下に乾燥濃縮した。
このヌクレオシドを３４０mlのジイソプロピルエチルア
ミンにとり、この溶液に１２７mlのトリメチルクロロシ
ランを加えた。混合物を室温で２時間攪拌し、次に無水
テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００mlと塩化シクロヘ
キサンカルボニル２０. ４mlとの溶液を１時間で加え
た。１６時間後、反応混合物を０℃に冷却し、メタノー
ル１００mlを１時間で加え、その後フッ化アンモニウム
の３５％水溶液１８０mlを加えた。フッ化物の添加から
１時間後、揮発分を真空下５０℃で蒸発により除去し
た。残存したピリジンは２×２００mlのトルエンで共蒸
発させ除去した。粗生成物を氷水７００mlで３０分間攪
拌し、その後ろ過した。このフィルターケーキをエタノ
ール／水（７：３v/v ）の沸騰溶液７００ml中で処理し
た。不溶物を熱いままろ別した。表題化合物を冷えたろ
液から沈殿させ、真空乾燥した。¹ H-NMR:(DMSO)8.14:s,H⁸;6.21:t,1';5.34,4.97:2Hs (幅
広)OH;4.88:m,3';3.8:m,4';2.5:2H:2'-,H1 of CC基;2.2
6:m,2';1.1-1.9:10H,m,CC 基.

【００６５】実施例Ａ２：Ｎ⁴ −シクロヘキシルカルボ
ニル−２’−デオキシシチジンの調製 デオキシシチジン５. ３g を３×１００mlの無水ピリジ
ンにとり、次に溶液を５５℃で高真空下に乾燥濃縮し
た。得られた乾燥抽出物を１００mlの無水ピリジンにと
り、この溶液に２５. ４mlのトリメチルクロロシランを
加えた。混合物を２時間攪拌し、次に無水ＴＨＦ４０ml
に溶解した塩化シクロヘキサンカルボニル６. ３g の溶
液を滴下した。この反応混合物液を室温で１８時間攪拌
し、その後氷で冷却しながら、メタノール２０mlを緩徐
に加えた。脱シリル化をフッ化アンモニウムの３５％水
溶液から水３６mlを加えることにより行った。６０分
後、この反応混合物液を真空下５５℃で乾燥濃縮した。
残存したピリジンを２×１００mlの水で共蒸発させ除去
した。粗生成物を水１００mlにとり、ｎ−ブタノール１
００mlで３回抽出した。ブタノール相を合わせ、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、真空下５５℃で濃縮し油状物とし
た。この油状物をエーテル５００ml中で５時間攪拌し、
表題化合物の結晶を析出させた。結晶を吸引ろ過で集
め、高真空下で乾燥した。¹ H-NMR(CD₃OD):8,47d,H⁶;7.44:d,H⁵;6.22:q,1';4.4,4.0
3:3',4';3,7-3.9:2H,m,5';2.35- 2.55:2H,m,2',C-1,CC
基;2.07-2.25:m,2';1.4-1.9,1.1-1.65:10H,m,CC基.

【００６６】実施例Ａ３：Ｎ⁶ −シクロヘキシルカルボ
ニル−２’−デオキシアデノシンの調製 デオキシシチジン５. ４g を３×１００mlの無水ピリジ
ンにとり、次に溶液を５５℃で高真空下に乾燥濃縮し
た。得られた乾燥抽出物を１００mlの無水ピリジンにと
り、この溶液に６８mlのジイソプロピルエチルアミンを
加えた。次にトリメチルクロロシラン２５. ４mlを加え
た。混合物を２時間攪拌し、次に無水ＴＨＦ４０mlに溶
解した塩化シクロヘキサンカルボニル６. ３g の溶液を
滴下した。反応液を室温で１８時間攪拌し、その後氷で
冷却しながら、メタノール２０mlを緩徐に加えた。脱シ
リル化をフッ化アンモニウムの３５％水溶液から水３６
mlを加えることにより行った。６０分後、反応液を真空
下５５℃で乾燥濃縮した。粗生成物を酢酸エチル１００
mlにとり、溶液を水性炭酸水素ナトリウム１００ml、続
いて食塩水１００mlで抽出した。有機相を硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、真空下５５℃で濃縮し油状物とした。表題
化合物がジエチルエーテルから析出した。¹ H-NMR(CDCl₃):8.35,8.33,2s, アデニン;6.25:t,1';4.3
4:m,3';3.78:m,4';3.5:2H,m,5';2.55, 2.4,2.2:3H,3m,
2',C-1 CC基 ;1.85-1.1:10H,m,CC 基.

【００６７】ホスファイト トリエステル法によるＤＮ
Ａ合成のためのヨウ化物酸化に対するＮ⁶ −シクロヘキ
シルカルボニル−２’−デオキシアデノシンの安定性：
Ｎ⁶−シクロヘキサンカルボニル−２’−デオキシアデ
ノシン１g をヨウ化物３％、水２％、ピリジン２０％、
ＴＨＦ７５％からなる溶液に２２時間接触させた。その
後では、反応液の薄相クロマトグラムは反応を示さなか
った。

【００６８】Ｂ：本発明化合物の調製 実施例Ｂ１：５’−（トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シクロヘキシルカルボニ
ル−２’−デオキシグアノシンの調製 Ｎ² −シクロヘキシルカルボニル−２’−デオキシグア
ノシン２７g を３×２００mlの無水ピリジンにとり、次
に溶液を５０℃で高真空下に乾燥濃縮した。このヌクレ
オシドを無水ピリジン６００mlにとり、この溶液にトリ
エチルアミン１００ml、次にトリス−４, ４’, ４”−
ｔｅｒｔ−ブチルトリチルクロリド３４. ４g を加え
た。混合物を１８時間攪拌し、沈殿をろ過して除去し
た。ろ液を真空下５０℃で濃縮乾燥した。残渣をジクロ
ロメタン６００mlにとり、冷却した飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液２×５００ml、次に食塩水５００mlで抽出し
た。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過して塩を除
去し、ろ液を１００〜２００torrで濃縮乾燥した。生成
物を熱メタノール１００mlにけん濁させた。けん濁液を
ろ過し、ろ液を０℃に冷却し、新鮮な生成物を沈殿させ
た。生成物を石油エーテル５００ml中で２時間激しく攪
拌し、表題化合物をろ過により単離し、６０℃／３０〜
５０torrで真空乾燥機で乾燥した。¹ H-NMR:(CD₃OD)7.95:H⁸,7.15:12H,TTTr;6.22:t,1';4.4
7:m,3';3.95:m,4';2.65:m,2';2.2-2.45:m,2',H1(CC
基);1.8-1.1:10H,m,CC基;1.13:27H,2s,TTTr 基.

【００６９】実施例Ｂ２：５’−（トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シクロヘキ
シルカルボニル−２’−デオキシグアノシン−３’−
（シアノエチル）ホスホロジイソプロピルアミダイトの
調製 無水アセトニトリル８００ml中の５’−（トリス−４,
４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シク
ロヘキシルカルボニル−２’−デオキシグアノシン２
７. ７g に乾燥アルゴン下でビス−（ジイソプロピルア
ミノシアノエチル）ホスファン２０. ６mlとテトラゾー
ル２. ６７g を加え、混合物を１８時間攪拌した。次
に、トリエチルアミン８mlを加え、溶媒を真空下５０℃
で除去した。粗生成物を酢酸エチル５００mlにとり、冷
却した飽和炭酸水素ナトリウム２×５００mlで、次に食
塩水５００mlで一度抽出した。有機相を真空下５０℃で
濃縮乾燥し油状物を得た。この油状物は、Ｎ−メチルモ
ルホリニウム ５’（トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シクロヘキシルカルボニ
ル−２’−デオキシグアノシン−３’−（シアノエチ
ル）ホスホロチオエートの調製に直接用いることができ
た。精製のために、生成物をシリカゲルを用いたフラッ
シュクロマトグラフィーに付した。生成物をｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル：Ｎ−メチルモルホリン（３０：６９：
１、V/V/V ）で溶離した。あわせた分画から得た表題化
合物を真空下５０℃で濃縮乾燥した。高真空下で溶媒残
渣をさらに蒸発させて白色泡状物を得た。³¹ P-NMR(CDCl₃):148.3,147.6;¹H-NMR(CDCl₃):7.76,7.7
2:2sH⁸(グアニン);7.38,7.2 12H,2 m,TTTr 基;6.12,1';
4.65:m,3';2.55,2.6:2t:CNE 1.22:27H,s,TTTr基;1.1,0.
98:12H, イソプロピル（アミダイト）．

【００７０】実施例Ｂ３：Ｎ−メチルモルホリニウム−
５’−（トリス−４， ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチル
トリチル）−Ｎ² −シクロヘキシルカルボニル−２’−
デオキシグアノシン−３’−（Ｏ）−シアノエチルホス
ホロチオエートの調製 無水アセトニトリル１２００ml中の５’−（トリス−ｔ
ｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シクロヘキシルカル
ボニル−２’−デオキシグアノシン９２. ２gに乾燥ア
ルゴン下でビス（ジイソプロピルアミノシアノエチル）
ホスフェート８４mlと０. ５M テトラゾール溶液４２２
mlを加え、混合物を１８時間攪拌した。次に、トリエチ
ルアミン１６mlを加え、溶媒を真空下５０℃で除去し
た。粗生成物を酢酸エチル１２００mlにとり、冷却した
飽和炭酸水素ナトリウム２×１２００mlで、次に食塩水
１２００mlで一度抽出した。有機相を真空下５０℃で濃
縮乾燥し油状物質を得た。生成物中の幾分の不純物はト
ルエン１０×２００mlで濃縮することにより除去できた
ので、粗ホスホロアミダイトは白色泡状物として得た。
粗ホスホロアミダイトは二つのバッチを用いさらに反応
させ、粗アミダイト２００g と混合してさらに処理し
た。粗アミダイトをアセトニトリル１. ２リットルにと
り、水３. ７mlとテトラゾール７７g を加えた。反応液
を３０分間攪拌し、次に硫黄７７g とピリジン１. ２リ
ットルを加えた。反応溶液を室温で１７時間攪拌し、真
空下５０℃で濃縮乾燥した。粗生成物を炭酸水素Ｎ―メ
チルモルホリニウムの１M 水溶液６００mlと酢酸エチル
６００mlで抽出し、沈殿した硫黄はろ別した。有機相を
炭酸水素Ｎ―メチルモルホリニウムの１Ｍ水溶液２×６
００mlでもう１度抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥し、真空下５０℃で濃縮乾燥した。次に粗生成物を
シリカゲル（２３０〜４００メッシュ）４kgのカラムを
用いたフラッシュクロマトグラフィーに付した。生成物
を酢酸エチル：メタノール：Ｎ―メチルモルホリン（９
０：９：１、V/V/V ）で溶離した。あわせた生成物分画
を真空下５０℃で濃縮乾燥した。得られた油状物をｎ―
ペンタン５００ml中で５時間攪拌し、表題化合物を粉末
状で得た。³¹ P-NMR(DCCl₃):57.21,56.80ppm.

【００７１】実施例Ｂ４：５’−（トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チミジンの調製 チミジン３. ６g を無水ピリジン３×２５mlにとり、５
５℃で真空下濃縮した。このようにして得られた乾燥生
成物にジクロロメタン２５mlに溶解したトリス−４,
４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチルクロリド１４.
８g を０℃で１時間で加えた。反応混合物を室温で１８
時間攪拌し、高真空下で濃縮した。得られた白色泡状物
をジクロロメタン１００mlにとり、炭酸水素ナトリウム
の冷たい飽和水溶液２×１００mlで、次に食塩水１００
mlで抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、次に
濃縮して白色泡状物を得た。この泡状物をメタノールと
水の混合物（７０：３０V/V ）から再結晶した。得られ
た白色結晶を吸引ろ過し、高真空下で乾燥した。¹ H-NMR:8.12:N³-H:7.65:H-6;7.25:12H,m,TTTr 基 ;6.4
5:t,1';4.66:m,3';4.03:4';3.52-3.38:2H,m,5';2.4:m,
2';1.56:3H,CH₃ ⁵;1.3:27H,s,TTTr基.

【００７２】実施例Ｂ５：５’−（トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チミジン−３’−
（シアノエチル）ホスホロジイソプロピルアミダイトの
調製 ５’−（トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルト
リチル）チミジン５７g を３×２５mlの無水ピリジンに
とり、この溶液を５０℃で高真空下に濃縮した。得られ
た乾燥抽出物を１リットルの無水アセトニトリルに溶解
した。この溶液にビス（ジイソプロピルアミノ）シアノ
エチルホスファン５０mlとテトラゾール７. ９g （１１
３モル）を加えた。反応混合物１７時間攪拌した。その
後、トリエチルアミン３８mlを加えた。反応液５０℃で
真空下に濃縮した。得られた油状物を酢酸エチル５００
mlに溶解し、炭酸水素ナトリウムの冷たい飽和水溶液２
×５００mlで、次に食塩水５００mlで抽出した。有機相
を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮して油状物とした。こ
の油状物をメタノール９９％とＮ−メチルモルホリン１
％からなる溶液１リットルに溶解した。絶えず攪拌し氷
で冷やしながら、生成物が白色結晶状で沈殿するまで水
を緩徐に滴下した。表題化合物をろ過により単離し、高
真空下にＰ₄ Ｏ₁₀／ＫＯＨで乾燥した。¹ H-NMR(CDCl₃):7.75:2s,H⁶;7.33:12H,s,TTTr基;6,48:m,
1';4.78:m,3';4.16,4.23: 2m,4';3.95-3.3:2H,m:CNE
基,2H,m:i-Pr (アミダイト),2H,m:5';2.9-2.4:4H:2H,m:
2',2H,2t,CNE基;1.45-1.15:42H:t-Bu,TTTr基,CH₃, アミ
ダイト,CH₃ ⁵;³¹P-NMR:148.4,148.2.

【００７３】実施例Ｂ６：５’−（トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シクロヘキ
シルカルボニル−２’−デオキシグアノシン−３’−
（Ｏ）−シアノエチル−（Ｓ）２, ４−ジクロロベンジ
ルホスホルチオエートの調製 Ｎ−メチルモルホリニウム−５’−（トリス−４,
４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −シク
ロヘキサンカルボニル−２’−デオキシグアノシン−
３’−（Ｏ）−シアノエチルホスホロチオエート１. ４
g を遮光下で４日間室温でクロロホルム５０ml中２, ６
−ルチジン０. ８ml及び２, ４−ジクロロベンジルクロ
リド１. ９５mlと共に攪拌した。この生成物の混合液を
真空下５０℃で濃縮して油状物を得た。この油状物をジ
クロロメタン１００mlにとり、炭酸水素ナトリウムの飽
和水溶液で２回、食塩水１００mlで１回順次洗浄した。
有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下で濃縮して油
状物を得た。この濃縮物を石油エーテル／ピリジン中で
５時間攪拌した。得られた固形の表題化合物を吸引ろ過
し、Ｐ₄ Ｏ₁₀／ＫＯＨで乾燥した。³¹ P-NMR(CDCl₃):27.0,27.6ppm;PD-MS:〔M-DCBn⁺ 〕- =
936;〔M+Na⁺ 〕⁺=1120;〔TTTr〕⁺= 412; 〔G^CC 〕⁺=263

【００７４】実施例Ｂ７：５’−（トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チミジン−３’−
（Ｏ）−シアノエチル−（Ｓ）−２, ４−ジクロロベン
ジルホスホロチオエートの調製 Ｎ−メチルモルホリニウム−５’−（トリス−４,
４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チミジン−
３’−（Ｏ）−シアノエチルホスホロチオエート２.g
を遮光下で４日間室温でクロロホルム３５ml中２, ６−
ルチジン１. ８ml及び２, ４−ジクロロベンジルクロリ
ド４. ４mlと共に攪拌した。混合液を真空下５０℃で濃
縮し油状物を得た。この油状物をジクロロメタン１００
mlにとり、炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液で２回、食
塩水１００mlで１回順次洗浄した。有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、真空下で油状物にまで濃縮し、この濃縮
物を石油エーテル／ピリジン中で５時間攪拌した。得ら
れた固形の表題化合物を吸引ろ過し、Ｐ₄ Ｏ₁₀／ＫＯＨ
で乾燥した。³¹ P-NMR(DCCl₃):27.42;27.24;¹H-NMR(CDCl₃):8.6;NH;7.
52:H⁶;7.16:15H,m,TTTr;6.45:m,1';5.23:m,3';3.95-4.1
5:4H,m,CNE基,DCBn 基;3.32:2H:m,5';2.3-2.65:4H,m,CN
E基;2';1.2:30H,2s,TTTr 基,CH₃ ⁵.

【００７５】５’−（トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒ
ｔ−ブチルトリチル）チミジン−３’−（Ｏ）−シアノ
エチル−（Ｓ）−２, ４−ジクロロベンジルホスホロチ
オエート８g をジクロロメタン中にジクロロ酢酸３％を
溶解した溶液２５mlにとり、シリカゲルを充填したフラ
ッシュクロマトグラフィーカラムに加えた。トリス−
４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチルメチルエー
テルとトリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリ
チルアルコールを、ジクロロメタン：メタノール：ＤＣ
Ａ（９８：１：１（V/V/V ））で溶離した。その後、生
成物をジクロロメタン：メタノール（９：１（V/V ））
で溶離した。この分画を真空下５５℃で油状物にまで濃
縮した。この油状物を次に酢酸エチル２５０mlにとり、
１M 水性酢酸ナトリウム５×２５０mlでジクロロ酢酸塩
が無くなるまで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。次
に、溶媒を真空下で除去し、チミジン−３’−（Ｏ）−
シアノエチル−（Ｓ）−２, ４−ジクロロベンジルホス
ホロチオエートを得た。³¹ P-NMR(CDCl₃)28.15,27.79;¹H-NMR(CDCl₃):8.48:NH;7.
45;7,17:4H,DCBn 基,H⁶;6.05:m,1';5.13:3',m;4.0-4.3:
5H,DCBn 基,4',CNE 基;3.78:m, 5';2.7:m,m,CNE基;2.3
5:2';1.87:s,CH₃ ⁵.

【００７６】実施例Ｂ８：トリエチルアンモニウム−
５’−（トリス−４, ４’, ４”− ｔｅｒｔ−ブチル
トリチル）チミジン−３’−（Ｓ）−ジクロロベンジル
ホスホロチオエートの調製 ５’−（トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルト
リチル）チミジン−３’−（Ｏ）−シアノエチル−
（Ｓ）−２, ４−ジクロロベンジルホスホロチオエート
１６g をアセトニトリル／トリエチルアミン（９：
１、V/V ）の溶液５００mlにとった。２時間後、この溶
液を真空下に濃縮し、残渣をエーテル５００ｍｌ中で２
時間攪拌した。生成物を吸引ろ過し、高真空下に乾燥し
表題化合物を得た。^３１ Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：１６，６９；^１Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ_３）：７．５８：ｓ，Ｈ^６；７．１５：
１５Ｈ，ｍ，ＴＴＴｒ；６．３４：ｍ，１’；５．０
５：ｍ，３’；３．８５−４．１：３Ｈ，ｍ，４’，Ｄ
ＣＢｎ；３．１５：５’；２．９２：６Ｈ，ｑ，トリエ
チルアミン;2.22,2.3:2'; 0.9-1.35:m,39H,TTTr,トリエ
チルアミン,CH₃ ⁵.

【００７７】実施例Ｂ９：５’−（トリス−４, ４’,
４”− ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ⁶ −ピロリジ
ニルメチリデン−２’−デオキシアデノシンの調製 Ｎ⁶ −ピロリジニルメチリデンデオキシアデノシン２３
３mgを無水ピリジン３×１０mlにとり、温度が５０℃を
超えないように溶液を真空下濃縮乾燥した。次に乾燥物
を無水ピリジン１０mlにとった。攪拌しながら、この溶
液にＴＴＴｒＣｌ３４３. ８m g とジクロロメタン１０
mlとの溶液を０℃で１時間で加えた。６０時間後、反応
液を２mlに濃縮し、残渣を水１００mlに注いだ。沈殿物
をジクロロメタン１００mlに溶解した。有機相を炭酸水
素ナトリウムの飽和水溶液２×１００mlで、次に食塩水
１００mlで抽出した。洗浄した有機相を硫酸ナトリウム
で乾燥した。塩を除去し、生成物を濃縮乾燥した。得ら
れた固体を石油エーテル（高沸点）１００ml中で１時間
粉砕した。生成物をろ過により単離し、母液を０℃に冷
却し、さらに得られた生成物をろ過により単離した。フ
ィルターケーキを０℃の（高沸点）冷石油エーテルで洗
浄し、高真空下に乾燥し表題化合物を得た。¹ H-NMR(CDCl₃):9.28:s, アミジン;8.62:s,8.15:s, アデ
ニン;7.4:12H,m,TTTr,6.62:m,1';4.77:m,3';4.22:m4';
3.3,3.82:2m,4H ピロリジニル;3.54:d,2H,5';2.88,2.5
5:2m,2';2H,2.06:m,4H, ピロリジニル;1.4:s,27H,TTTr.

【００７８】実施例Ｂ１０：５’−（トリス−４,
４’, ４”− ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−Ｎ² −ジ
メチルアミノメチリデン−２’−デオキシグアノシンの
調製 Ｎ² −ジメチルアミノメチリデンデオキシグアノシン９
６７m g を無水ピリジン３×１０mlにとり、温度が５０
℃を超えないように溶液を真空下濃縮乾燥した。次に乾
燥物を無水ピリジン１０mlにとった。攪拌しながら、こ
の溶液にＴＴＴｒＣｌ２９５０m g とジクロロメタン１
０mlとの溶液を０℃で１時間で加えた。６０時間後、反
応液を２〜３mlに濃縮し、残渣を水１００mlに注いだ。
沈殿物をジクロロメタン１００mlにとった。有機相を炭
酸水素ナトリウムの飽和水溶液２×１００mlで、次に食
塩水１００mlで抽出した。洗浄した有機相を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した。塩を除去し、生成物を濃縮乾燥した。
得られた固体を石油エーテル（高沸点）１００ml中で１
時間粉砕した。生成物をろ過により単離し、母液を０℃
に冷却し、さらに得られた生成物をろ過により単離し
た。フィルターケーキを０℃の（高沸点）冷石油エーテ
ルで洗浄し、高真空下に乾燥し表題化合物を得た。¹ H-NMR(DMSOD₆):11.2,8.46,7.75:2s, アミジン, グアニ
ン;7.08:12H,m,TTTr;6.12:m,1';5.22:s,OH;4.37:m,3';
3.75:m 4';2.96:m,5H,5',アミジン;2.89:s,3H, アミジ
ン;2.5, 2.15:2m,2';1.08:s,27H,TTTr.

【００７９】実施例Ｂ１１：Ｎ−（１−メチル−２−ピ
ロリジニリデン）−５’−（トリス−４, ４’, ４”−
ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）アデノシンの調製 乾燥アデノシン５０g 、分子篩（３オングストローム）
２０g 、無水メタノール８００ml及び無水ピリジン８０
mlを室温で攪拌し、蒸留したＮ−メチルピロリドンジメ
チルアセタール２９. ０４g を加えた。分子篩をろ過に
より除去した。ろ液を真空下に濃縮した。残渣をアセト
ニトリル３×１００mlにとり、濃縮し、乾燥した。この
乾燥物を無水ピリジン４５０mlに溶解し、分子篩（５オ
ングストローム）５０g を溶液に加えた。反応混合物を
６０℃で攪拌し、固形の（トリス−４, ４’, ４”−
ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）クロロメタン１００. ３g
を加えた。１５分間攪拌後、反応温度を５時間で７０℃
まで上げた。分子篩をろ過により除去し、ろ液を濃縮乾
燥した。残渣をシリカゲルのカラム（酢酸エチル／メタ
ノール／Ｎ−メチルモルホリン２０：２：０. １；直径
８ｃm ）に加えた。表題化合物を含有する分画を集め、
濃縮乾燥した。¹ H-NMR(250MHz,CDCl₃):1.27(s,c.27H,3(CH₃)₃C-ar);2.0
4(m,3H);2.37(m,2H); 2.90-3.15(m,2H);3.18(s,NCH₃);
3.2-3.3(m,2H);3.39(t,c.1H);3.51(t- 様 m,J=8,3H);
3.69(s,2H);4.37(d-様 m,J=5,1H);4.45(br s,1H);4.82
(t,J=5,1H);5.99(d,J=7,H-C(1'));6.72(br s,1H);7.20
(s,12H);8.23(s) 及び ８．５４（ｓ）（Ｈ−Ｃ（２．
８））．

【００８０】実施例Ｂ１２：５’−（トリス−４，
４’, ４”− ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）−６−メチ
ルウラシルの調製 ６−メチルウラシル４０mmolを無水ピリジン７５mlに溶
解した。溶液を６０℃に加熱し、固形の（トリス−４,
４’, ４”− ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）クロロメタ
ン４４mmolを加えた。６時間攪拌後、溶媒を真空下に除
去し、残渣をトルエンから１回、アセトニトリルから２
回濃縮した。粗生成物を塩化メチル６００mlに溶解し、
飽和ＮａＨＣＯ₃ 溶液２００mlで洗浄した。有機相をＮ
ａ₂ ＳＯ₄ で乾燥し、溶媒を真空下に除去した。残渣を
熱エタノール／水混合物（３：２）２２０mlに溶解し、
０℃で結晶化した。融点：１６９〜１７０℃。¹ H-NMR(250MHz,CDCl₃):1.29(s,c.27H,3(CH₃)₃C-ar);1.3
8(s,3H,CH₃C(5));3.14 (br.d,1H);3.47(ABM 系,2H,H₂C
(5'));4.22(d-様 m,1H)及び 4.47(m,2H) (HC(2',3',
4');5.13(br.s,1H);5.96(d,J=4,1H,HC(1'));7.15-7.35
(m,c.12H,H-(ar));7.81(s,HC(6));9.75(br.s,HN(3)).

【００８１】実施例Ｂ１３：５’−（トリス−４,
４’, ４”− ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）ウリジンの
調製 リボウリジン２００mmolを無水ピリジン３７５mlに溶解
した。溶液を６０℃に加熱し、固形の（トリス−４,
４’, ４”− ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）クロロメタ
ン２２０mmolを加えた。６０℃で６時間攪拌後、溶媒を
真空下に除去し、残渣をトルエンから１回、アセトニト
リルから２回濃縮した。粗生成物を塩化メチル６００ml
に溶解し、重炭酸塩の飽和溶液２００mlで洗浄した。有
機相をＮａ₂ ＳＯ₄ で乾燥し、溶媒を真空下に除去し
た。残渣を熱エタノール／水混合物（３：２）２２０ml
に溶解し、０℃で結晶化させた。¹ H-NMR(250MHz,CDCl₃):1.29(s,c.27H,3(CH₃)₃C-ar);3.1
4(br.d,1H);3.54(ABM 系,2H,H₂C(5'));4.18(d-様 m,1H)
,4.33(m,1H)及び 4.45(q-様 ｍ，１Ｈ） （ＨＣ
（２’，３’，４’）；５．２３（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ，
ＨＣ（５））；５．３５（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；５．９１
（ｄ，Ｊ＝２，１Ｈ，ＨＣ（１’））；７．１５−７．
３５ （ｍ，ｃ．１２Ｈ，Ｈ−（ａｒ））；８．１０
（ｄ，Ｊ＝８，１Ｈ，ＨＣ（６））；１０．０６（ｂ
ｒ．ｓ，ＨＮ（３））．

【００８２】実施例Ｃ１：５’−（５’−（トリス−
４， ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チミジ
ン−３’−（Ｓ）−２, ４−ジクロロベンジルチオイ
ル）チミジン−３’−（Ｏ）−シアノエチル−（Ｓ）−
２, ４−ジクロロベンジルホスホロチオエートの調製 チミジン−３’−（Ｓ）−ジクロロベンジル−（Ｏ）−
シアノエチルホスホロチオエート３. ２g と５’−（ト
リス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チ
ミジン−３’−（Ｏ）−シアノエチル−（Ｓ）−２, ４
−ジクロロベンジルホスホロチオエート５. ８５g を無
水ピリジン１２５ml中の無水Ｎ−メチルイミダゾール
４. ２５mlと塩化トリイソプロピルベンゼンスルホニル
８. １g との溶液に溶解した。この混合物を室温で２.
５時間攪拌し、次に水１０mlを加えた。反応液を５５℃
で油状物にまで濃縮した。粗生成物を酢酸エチル５００
mlにとり、水性炭酸水素Ｎ−メチルモルホリニウム５０
０mlで２回、次に食塩水５００mlで１回抽出した。有機
相を硫酸ナトリウムで乾燥し、塩を除去した後、５５℃
で真空下に蒸発乾燥した。生成物をエーテルに溶解し、
石油エーテルから沈殿させた。沈殿物をろ過により単離
し、ｎ−ペンタンから再結晶し、表題化合物を固体とし
て得た。³¹ P-NMR(CDCl₃):28.1,27.8,27.7,27.3(4- ジアステレオ
アイソマー類);¹H-NMR(CDCl₃):8.5-9NH;7.58:1H,H⁶;7.2
6-7.4:16H,m,DCBn基,TTTr 基,H⁶;6.44,6.15:2H,2m,1';
5.05-5.2,5.26-5.42:2H,2m,3';4.05-4.45:8H,m,DCBn
基,CNE基,5',4',3.3-3.5:2H,m,5';2.65-2.75,2.38-2.6:
6H,CNE基,2';1.84:3H,s,CH₃ ⁵;1,3,s,30H,TTTr 基,CH₃ ⁵.

【００８３】実施例Ｃ２：亜リン酸−トリエステル法に
よるＤＮＡ自動合成での５’−（トリス−４, ４’,
４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル）チミジン−３’−
（シアノエチル）−ホスホロジイソプロピルアミダイト
の使用 市販のＤＮＡ合成装置（Applied Biosystems Inc. （Ａ
ＢＩ））を用い、このメーカーが述べている試薬、すな
わちアセトニトリル、キャッピング溶液、酸化溶液、カ
ップリング試薬（テトラゾール）、脱トリチル化溶液及
びＣＰＧ−ＤＭＴｒＴ担体を用いて合成を行った。脱ト
リチル化時間（倍にする）を除き、メーカーが述べてい
る合成指示書のように実施した。

【００８４】以下の合成を実施した：Ｔ₁₀、Ｔ₂₀、Ｔ₃₀
はＴＴＴｒアミダイトで行った。比較として、配列Ｔ₁₀
は同様の合成試薬を用いて既知のＤＭＴｒアミダイトで
行った。全てのオリゴヌクレオチド合成において、５’
末端保護基、すなわちＴＴＴｒ基、又は対照配列ではＤ
ＭＴｒ基を、最終カップリング工程後にポリマー上に残
した。合成が完了したとき、オリゴヌクレオチドをアン
モニアの飽和水溶液を用いて５５℃で１５時間かけて担
体から取り除いた。ＣＰＧ担体をろ別した後、生成物の
溶液を凍結乾燥した。生成物の混合物をＨＰＬＣ緩衝液
にとり、ろ過し、市販のＣ−１８逆相カラムで分離し
た。

【００８５】ＨＰＬＣクロマトグラムの分析から、ＴＴ
Ｔｒアミダイトは、既知のＤＭＴｒアミダイトのよう
に、亜リン酸−トリエステル法によるオリゴヌクレオチ
ド合成に適していることが明らかになった。ＴＴＴｒに
より末端が保護されたオリゴヌクレオチドは、同一の条
件ではＣ−１８逆相ＨＰＬＣカラムでより高い保持率を
持つので、ＴＴＴｒ基の場合にはそれを持たない配列を
分離するのに必要なカラム効率は低くてもよい。

Claims (27)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌ
   クレオチド、ヌクレオチド類似体、又は少なくとも二つ
   の同一若しくは異なるヌクレオチド及び／若しくはヌク
   レオチド類似体からのオリゴヌクレオチドにおいて、基
   本構造中にヌクレオベースＢの非置換若しくは置換残基
   及び保護された第一級ヒドロキシル基の一つを有し、該
   保護基がトリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルフ
   ェニルメチルであることを特徴とする、ヌクレオシド、
   ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似
   体又はオリゴヌクレオチド。
2. 【請求項２】 ３〜１２個の環員炭素原子を持ち、かつ
   非置換又はＣ₁ −Ｃ₆ アルキル若しくはＣ₁ −Ｃ₆ アル
   コキシにより置換されたシクロアルキルカルボニル基、
   或はアミジン保護基により追加的に保護されている請求
   項１記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌク
   レオチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチ
   ド。
3. 【請求項３】 シクロアルキルカルボニル基が、３〜１
   ２個の環員炭素原子を持つ請求項２記載の、ヌクレオシ
   ド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド
   類似体又はオリゴヌクレオチド。
4. 【請求項４】 シクロアルキルカルボニル基が、５又は
   ６個の環員炭素原子を持つ請求項３記載の、ヌクレオシ
   ド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド
   類似体又はオリゴヌクレオチド。
5. 【請求項５】 シクロアルキルカルボニル基が、シクロ
   ヘキサンカルボキシルである請求項４記載の、ヌクレオ
   シド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチ
   ド類似体又はオリゴヌクレオチド。
6. 【請求項６】 ヌクレオベースＢが、式Ｉ、Ｉａ、Ｉ
   ｂ、Ｉｃ、Ｉｄ又はＩｅ： 【化１】 （式中、Ｒ₁ は、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＮＨ₂ 又はＯＨであ
   り、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ は、各々互いに独立して、Ｈ、Ｏ
   Ｈ、ＳＨ、ＮＨ₂ 、ＮＨＮＨ₂ 、ＮＨＯＨ、炭素数１〜
   １２個のＮＨＯアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、又は炭素数
   １〜１２の、アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノア
   ルキル、アルコキシ若しくはアルキルチオ（ここで、
   基：ヒドロキシル及びアミノは、非置換であるか、又は
   保護基により置換されている）であるか、或はフェニ
   ル、ベンジル、炭素数１〜２０の第一級アミノ、又は炭
   素数２〜３０の第二級アミノ基であり、そしてＲ₅ は、
   Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルである）で示される基である
   請求項１記載のヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌ
   クレオチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチ
   ド。
7. 【請求項７】 第一級アミノ基が、１〜１２個の炭素原
   子を持ち、そして第二級アミノ基が、２〜１２個の炭素
   原子を持つ請求項６記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシ
   ド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似体又はオリ
   ゴヌクレオチド。
8. 【請求項８】 第一級アミノ及び第二級アミノが、式：
   Ｒ₆ Ｒ₇ Ｎ（式中、Ｒ₆ は、Ｈ又は独立してＲ₇ と同様
   の意味を持ち、Ｒ₇ は、それぞれ、炭素数１〜２０のア
   ルキル、アミノアルキル若しくはヒドロキシアルキル；
   カルボキシアルキル若しくはカルボアルコキシアルキル
   （ここで、カルボアルコキシ部分は、２〜８個の炭素原
   子を持ち、そしてアルキル部分は、１〜６個の炭素原子
   を持つ）；炭素数２〜２０のアルケニル；フェニル、モ
   ノ−若しくはジ−（Ｃ₁ −Ｃ₄アルキル）フェニル、ジ
   −（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ）フェニル、ベンジル、モノ
   −若しくはジ−（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル）ベンジル又はジ
   −（Ｃ₁ −Ｃ₄ アルコキシ）ベンジル；又は１, ２−、
   １, ３−若しくは１, ４−イミダゾリル−Ｃ₁ −Ｃ₆ ア
   ルキルであるか、或はＲ₆ とＲ₇ は、一緒になって、テ
   トラ−若しくはペンタメチレン、３−オキサ−１, ５−
   ペンチレン、−ＣＨ₂ −ＮＲ₈ −ＣＨ₂ ＣＨ₂ −若しく
   は−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＮＲ₈ −ＣＨ₂ ＣＨ₂ −（式中、Ｒ
   ₈ は、Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルである）であり、アミ
   ノアルキル中のアミノ基は、一つ若しくは二つの、Ｃ₁
   −Ｃ₄ アルキル又はＣ₁ −Ｃ₄ ヒドロキシアルキル基で
   置換されていてもよく、そしてヒドロキシアルキル中の
   ヒドロキシル基は、遊離又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルでエー
   テル化されている）で示される基である請求項６記載
   の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチ
   ド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチド。
9. 【請求項９】 第一級アミノ及び第二級アミノが、メチ
   ルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
   ミノ、アリルアミノ、モノ−若しくはジ−(１−ヒドロ
   キシ−エタ−２−イル）−アミノ、フェニル−若しくは
   ベンジルアミノ、アセチルアミノ、イソブチリル又はベ
   ンゾイルアミノである請求項７記載の、ヌクレオシド、
   ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似
   体又はオリゴヌクレオチド。
10. 【請求項１０】 式Ｉ、Ｉｂ、Ｉｃ、Ｉｄ及びＩｅ中の
    Ｒ₁ が、水素である請求項６記載の、ヌクレオシド、ヌ
    クレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似体
    又はオリゴヌクレオチド。
11. 【請求項１１】 式Ｉｄ中のＲ₄ が、水素である請求項
    ６記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレ
    オチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチド。
12. 【請求項１２】 式Ｉ、Ｉｂ、Ｉｃ、Ｉｄ及びＩｅ中
    の、Ｒ₂ 及びＲ₃ が、各々互いに独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃ
    ｌ、Ｂｒ、ＯＨ、ＳＨ、ＮＨ₂ 、ＮＨＯＨ、ＮＨＮＨ
    ₂ 、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ベンゾイルアミ
    ノ、メトキシ、エトキシ又はメチルチオである請求項６
    記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオ
    チド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチド。
13. 【請求項１３】 Ｂが、プリン基、又はアデニン、Ｎ−
    メチルアデニン、Ｎ−ベンゾイルアデニン、２−メチル
    チオアデニン、２−アミノアデニン、２−ヒドロキシプ
    リン、２−アミノ−６−クロロプリン、２−アミノ−６
    −メチルチオプリン、グアニン及びＮ−イソブチリルグ
    アニンよりなる系列からのプリン類似体の基である請求
    項６記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌク
    レオチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチ
    ド。
14. 【請求項１４】 ヌクレオベースＢが、式II、IIａ又は
    IIｂ： 【化２】 （式中、Ｒ₅ は、Ｈ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキルであり、Ｒ
    ₆ 、Ｒ₇ 及びＲ₉ は、各々互いに独立して、Ｈ、ＯＨ、
    ＳＨ、ＮＨ₂ 、ＮＨＮＨ₂ 、ＮＨＯＨ、炭素数１〜１２
    のＮＨＯアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又は炭素数１〜１２
    のアルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、ア
    ルコキシ若しくはアルキルチオであり、ヒドロキシル基
    及びアミノ基は、非置換であるか、又は保護基、フェニ
    ル、ベンジル、炭素数１〜２０の第一アミノ基、若しく
    は炭素数２〜３０の第二級アミノ基により置換されてお
    り、式IIｂ中のＮＨ₂ 基の水素原子は、Ｃ₁ −Ｃ₆ アル
    キル若しくはベンゾイルで置換されていてもよい）で示
    される基、又はそのジヒドロ誘導体である請求項１記載
    の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチ
    ド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチド。
15. 【請求項１５】 Ｒ₆ が、Ｈ、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル若し
    くはＣ₁ −Ｃ₆ ヒドロキシアルキル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
    ＮＨ₂ 、ベンゾイルアミノ又はモノ−若しくはジ−Ｃ₁
    −Ｃ₆ アルキルアミノである請求項１４記載の、ヌクレ
    オシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオ
    チド類似体又はオリゴヌクレオチド。
16. 【請求項１６】 Ｒ₇ が、Ｈ、Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキル、Ｃ
    ₁ −Ｃ₆ アルコキシ若しくはＣ₁ −Ｃ₆ ヒドロキシアル
    キル、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＮＨ₂ 、ベンゾイルアミノ又は
    モノ−若しくはジ−Ｃ₁ −Ｃ₆ アルキルアミノである請
    求項１４記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、
    ヌクレオチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオ
    チド。
17. 【請求項１７】 Ｒ₇ が、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＮＨ
    ₂ 、ＮＨＣＨ₃ 、（ＣＨ₃ ）₂ Ｎ又はＣ₁ −Ｃ₄ アルキ
    ルである請求項１６記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシ
    ド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似体又はオリ
    ゴヌクレオチド。
18. 【請求項１８】 Ｒ₇ が、Ｈ、Ｃ₁ −Ｃ₄ アルキル、Ｎ
    Ｈ₂ 、ＮＨＣＨ₃ 、又は（ＣＨ₃ ）₂ Ｎである請求項１
    ６記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレ
    オチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチド。
19. 【請求項１９】 Ｂが、ピリミジン基、又はウラシル、
    チミン、シトシン、５−フルオロウラシル、５−クロロ
    ウラシル、５−ブロモウラシル、ジヒドロウラシル及び
    ５−メチルシトシンよりなる系列からのピリミジン類似
    体の基である請求項１４記載の、ヌクレオシド、ヌクレ
    オシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似体又は
    オリゴヌクレオチド。
20. 【請求項２０】 式 IIIａ、III ｂ、III ｃ及びIII
    ｄ： 【化３】 （式中、Ｒ₁₄は、水素、又はヌクレオチド結合基を形成
    する基であり、そしてＲ₁₅は、水素又はシクロヘキシル
    カルボニルである）で示される基の一つを有する請求項
    １記載の、ヌクレオシド、ヌクレオシド類似体、ヌクレ
    オチド、ヌクレオチド類似体又はオリゴヌクレオチド。
21. 【請求項２１】 Ｒ₁₄が、式IVａ、IVｂ、又はIVｃ： 【化４】 （式中、Ｚは、酸素又は硫黄であり、Ｘ、Ｘ’及びＸ”
    は、各々互いに独立して、対イオンＬｉ、Ｎａ、Ｋ若し
    くはＣｓ、又は第三級若しくは第四級アンモニウムで陰
    電荷を形成する酸素又は硫黄であるか；或はＸ’及び
    Ｘ”は、各々互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ
    ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀
    アルカリール、−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であり；Ｘ'''
    は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −
    Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリール、−ＯＲ_b 又
    は−ＳＲ_b であり；Ｒ_b は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆
    −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀ア
    ルカリールであり；Ｒ₁₈及びＲ₁₉は、各々互いに独立し
    て、水素、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₂ −Ｃ₁₂アルケニ
    ル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル又はＣ
    ₇ −Ｃ₂₀アルカリールであり；そしてＲ₁₈、Ｒ₁₉及びＲ
    _b の定義における、アルキル、アリール、アラルキル及
    びアルカリールは、非置換であるか、又はアルコキシ、
    アルキルチオ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、フェニ
    ル、ニトロフェニル若しくはハロフェニルにより置換さ
    れている）で示される、ヌクレオチド結合基を形成する
    リン含有基である請求項２０記載の、ヌクレオシド、ヌ
    クレオシド類似体、ヌクレオチド、ヌクレオチド類似体
    又はオリゴヌクレオチド。
22. 【請求項２２】 請求項１記載のヌクレオシド又はヌク
    レオシド類似体を製造するための方法であって、適当な
    非プロトン性極性塩基溶媒中で、立体障害第三級アミン
    の存在下に、ヌクレオシド又はヌクレオシド類似体を塩
    化トリス−４, ４’, ４”−ｔｅｒｔ−ブチルトリチル
    と反応させることを特徴とする方法。
23. 【請求項２３】 式Ｖ： 【化５】 （式中、Ｕ及びＶは、同一若しくは相異なる天然又は合
    成ヌクレオシド残基であり、ｍ及びｎは、各々互いに独
    立して、０又は１〜２００の整数であり、そしてｍとｎ
    の合計は、２〜２００である）で示されるオリゴヌクレ
    オチドの製造方法であって、（ａ）式VI： 【化６】 （式中、Ｒ₂₀は、保護基であり、Ｕ’及びＶ’は、Ｕ及
    びＶの意味を持ち、ｍ’及びｎ’は、各々互いに独立し
    て、０又は１〜１９９の整数であり、ｍ’とｎ’の合計
    は、２〜１９９であり、そしてＲ₂₁は、ヌクレオチド結
    合基を形成する式IVａ、IVｂ又はIVｃ： 【化７】 （式中、Ｚは、酸素又は硫黄であり；Ｘ、Ｘ’及びＸ”
    は、各々互いに独立して、対イオンＬｉ、Ｎａ、Ｋ若し
    くはＣｓ、又は第三級若しくは第四級アンモニウムで陰
    電荷を形成する酸素又は硫黄であるか；又はＸ’及び
    Ｘ”は、各々互いに独立して、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ
    ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀
    アルカリール、−ＯＲ_b 又は−ＳＲ_b であり；Ｘ'''
    は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −
    Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリール、−ＯＲ_b 又
    は−ＳＲ_b であり；Ｒ_b は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆
    −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀ア
    ルカリールであり；Ｒ₁₈及びＲ₁₉は、各々互いに独立し
    て、水素、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₂ −Ｃ₁₂アルケニ
    ル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、又は
    Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリールであり；そしてＲ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ
    _b の定義における、アルキル、アリール、アラルキル及
    びアルカリールは、非置換であるか、又はアルコキシ、
    アルキルチオ、ハロゲン、−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、フェニ
    ル、ニトロフェニル若しくはハロフェニルにより置換さ
    れている）で示される、ヌクレオチド結合基を形成する
    リン含有基である化合物を、式VII ： 【化８】 （式中、Ｕ”及びＶ”は、Ｕ及びＶと同様の意味を持
    ち、ｍ”及びｎ”は、各々互いに独立して、０又は１〜
    １９８の整数であり、ｍ”とｎ”の合計は、２〜１９８
    であり、そしてＲ₂₂は、（ｉ）式IVｂ（式中、Ｚは、酸
    素又は硫黄であり；Ｘ’及びＸ”は、各々互いに独立し
    て、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆ −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −
    Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アルカリール、−ＯＲ_b 又
    は−ＳＲ_b であり；Ｒ_b は、Ｃ₁ −Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₆
    −Ｃ₁₂アリール、Ｃ₇ −Ｃ₂₀アラルキル、Ｃ₇ −Ｃ₂₀ア
    ルカリールであり；そしてＲ_b について定義されたアル
    キル、アリール、アラルキル及びアルカリールは、非置
    換であるか、又はアルコキシ、アルキルチオ、ハロゲ
    ン、−ＣＮ、−ＮＯ₂ 、フェニル、ニトロフェニル若し
    くはハロフェニルにより置換されている）で示される基
    であるか；（ｉｉ）ヒドロキシ保護基であるか；又は
    （ｉｉｉ）結合基による固体担体物質への結合である）
    で示される化合物と反応させ、（ｂ）必要ならば、望ま
    しい長さのオリゴヌクレオチドが形成されるまで工程
    （ａ）を繰り返し、それぞれのカップリングの前に、保
    護基Ｒ₂₀を除去し、存在する全ての遊離ヒドロキシル基
    をキャッピングし、次いで生成されたホスファイトをホ
    スフェートに酸化し、（ｃ）必要ならば、オリゴヌクレ
    オチドを分離又は単離し、そして（ｄ）残存した保護基
    Ｒ₂₀（ここで、該保護基Ｒ₂₀はＴＴＴｒである）を除去
    することを特徴とする方法。
24. 【請求項２４】 ｍとｎの合計が、２〜５０である請求
    項２３記載の方法。
25. 【請求項２５】 ｍとｎの合計が、２〜３０である請求
    項２３記載の方法。
26. 【請求項２６】 式Ｖ： 【化９】 （式中、Ｕ及びＶは、同一若しくは相異なる天然又は合
    成ヌクレオシド残基であり、ｍ及びｎは、各々互いに独
    立して、０又は１〜２００の整数であり、そしてｍとｎ
    の合計は、２〜２００である）で示されるオリゴヌクレ
    オチドの製造のための請求項１記載のヌクレオチド、ヌ
    クレオチド類似体又はオリゴヌクレオチドの用途。
27. 【請求項２７】 アミジン保護基が、ジメチルアミノメ
    チリデンである請求項２記載の化合物。