JPH07165708A - 二環式ヘテロ環含有スルホンアミドおよびスルホン酸エステル誘導体 - Google Patents
二環式ヘテロ環含有スルホンアミドおよびスルホン酸エステル誘導体Info
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- C07D471/04—Ortho-condensed systems
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- C07D487/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
- C07D487/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D487/04—Ortho-condensed systems
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた抗腫瘍作用を有し低毒性の二環式ヘテ
ロ環含有新規スルホンアミドおよびスルホン酸エステル
誘導体とその製造法を提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ａ環は置換基を有していてもよい単環式または
二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有していてもよい６員
環式不飽和炭化水素または窒素原子を１個含む不飽和６
員ヘテロ環を、Ｃ環は置換基を有していてもよい窒素原
子を１または２個含む５員ヘテロ環を、Ｗは単結合また
は−ＣＨ＝ＣＨ−を、Ｘは−Ｎ（Ｒ1 ）−または酸素原
子を、Ｙは炭素原子または窒素原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ
2 ）−または窒素原子を、Ｒ1 およびＲ2 は同一または
異なって水素原子または低級アルキル基を意味する］で
表わされるスルホンアミド誘導体およびスルホン酸エス
テル誘導体またはその薬理学的に許容される塩。 【効果】 低毒性で、優れた抗腫瘍活性を有する。
ロ環含有新規スルホンアミドおよびスルホン酸エステル
誘導体とその製造法を提供する。 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ａ環は置換基を有していてもよい単環式または
二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有していてもよい６員
環式不飽和炭化水素または窒素原子を１個含む不飽和６
員ヘテロ環を、Ｃ環は置換基を有していてもよい窒素原
子を１または２個含む５員ヘテロ環を、Ｗは単結合また
は−ＣＨ＝ＣＨ−を、Ｘは−Ｎ（Ｒ1 ）−または酸素原
子を、Ｙは炭素原子または窒素原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ
2 ）−または窒素原子を、Ｒ1 およびＲ2 は同一または
異なって水素原子または低級アルキル基を意味する］で
表わされるスルホンアミド誘導体およびスルホン酸エス
テル誘導体またはその薬理学的に許容される塩。 【効果】 低毒性で、優れた抗腫瘍活性を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なスルホンアミドま
たはスルホン酸エステル誘導体、その製造法及び該化合
物を有効成分とする医薬組成物に関する。
たはスルホン酸エステル誘導体、その製造法及び該化合
物を有効成分とする医薬組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】癌の化学療法剤として従来用いられてい
るものには、アルキル化剤のサイクロホスファミド、代
謝拮抗剤のメトトレキセート、フルオロウラシル、抗生
物質のアドリアマイシン、マイトマイシン、ブレオマイ
シン、植物由来のビンクリスチン、エトポシド、金属錯
体のシスプラチンなど多くの薬剤があるが、いずれもそ
の抗腫瘍効果は不十分であり、新しい抗腫瘍剤の開発が
切望されている。
るものには、アルキル化剤のサイクロホスファミド、代
謝拮抗剤のメトトレキセート、フルオロウラシル、抗生
物質のアドリアマイシン、マイトマイシン、ブレオマイ
シン、植物由来のビンクリスチン、エトポシド、金属錯
体のシスプラチンなど多くの薬剤があるが、いずれもそ
の抗腫瘍効果は不十分であり、新しい抗腫瘍剤の開発が
切望されている。
【０００３】また、芳香族スルホンアミド系抗腫瘍性化
合物としては、４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導
体（特公昭43−3093）、２−スルファニルアミド−キノ
キサリン誘導体（特開昭62−426 ）およびＮ−（２−ア
ニリノ−３−ピリジニル）ベンゼンスルホンアミド誘導
体（特開平５−39256 ）が報告されている。芳香族スル
ホン酸エステル系抗腫瘍性化合物についてはまだ報告が
ない。
合物としては、４−アミノベンゼンスルホンアミド誘導
体（特公昭43−3093）、２−スルファニルアミド−キノ
キサリン誘導体（特開昭62−426 ）およびＮ−（２−ア
ニリノ−３−ピリジニル）ベンゼンスルホンアミド誘導
体（特開平５−39256 ）が報告されている。芳香族スル
ホン酸エステル系抗腫瘍性化合物についてはまだ報告が
ない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた抗腫
瘍活性を有し、従来の抗腫瘍性化合物とは基本骨格が異
なる新規スルホンアミド誘導体および新規スルホン酸エ
ステル誘導体の提供を目的とする。さらに該化合物の製
造法および該化合物を有効成分とする医薬組成物をも提
供することを目的とする。
瘍活性を有し、従来の抗腫瘍性化合物とは基本骨格が異
なる新規スルホンアミド誘導体および新規スルホン酸エ
ステル誘導体の提供を目的とする。さらに該化合物の製
造法および該化合物を有効成分とする医薬組成物をも提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記趣旨
に鑑み、優れた抗腫瘍性化合物を求めて鋭意研究を行っ
てきた結果、二環式ヘテロ環を有する新規スルホンアミ
ド誘導体および新規スルホン酸エステル誘導体が優れた
抗腫瘍活性を有し、かつ低毒性であることを見出し、本
発明を完成した。
に鑑み、優れた抗腫瘍性化合物を求めて鋭意研究を行っ
てきた結果、二環式ヘテロ環を有する新規スルホンアミ
ド誘導体および新規スルホン酸エステル誘導体が優れた
抗腫瘍活性を有し、かつ低毒性であることを見出し、本
発明を完成した。
【０００６】すなわち、本発明は一般式（Ｉ）
【０００７】
【化８】
【０００８】（式中、Ａ環は置換基を有していてもよ
い、単環式または二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有し
ていてもよい、６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原
子として窒素原子を１個含む不飽和６員ヘテロ環を、Ｃ
環は置換基を有していてもよい、窒素原子を１または２
個含む５員ヘテロ環を、Ｗは単結合または−ＣＨ＝ＣＨ
−を、Ｘは−Ｎ（Ｒ1 ）−または酸素原子を、Ｙは炭素
原子または窒素原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ2 ）−または窒素
原子を、Ｒ1 およびＲ2 は同一または異なって水素原子
または低級アルキル基を、意味する。但し、（１）Ａ環
が４−メチルベンゼンであり、Ｗが単結合であり、Ｘが
−ＮＨ−であり、Ｂ環がメトキシベンゼンであり、かつ
Ｃ環が無置換のイミダゾールである組み合わせ、（２）
Ａ環が４−（アセトアミド）ベンゼンまたは４−アミノ
ベンゼンであり、Ｗが単結合であり、Ｘが−ＮＨ−であ
り、Ｂ環が無置換のベンゼンであり、かつＣ環が無置換
のピラゾールである組み合わせ、を除く）で表わされる
スルホンアミド誘導体およびスルホン酸エステル誘導体
またはそれらの薬理学的に許容される塩に関する。
い、単環式または二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有し
ていてもよい、６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原
子として窒素原子を１個含む不飽和６員ヘテロ環を、Ｃ
環は置換基を有していてもよい、窒素原子を１または２
個含む５員ヘテロ環を、Ｗは単結合または−ＣＨ＝ＣＨ
−を、Ｘは−Ｎ（Ｒ1 ）−または酸素原子を、Ｙは炭素
原子または窒素原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ2 ）−または窒素
原子を、Ｒ1 およびＲ2 は同一または異なって水素原子
または低級アルキル基を、意味する。但し、（１）Ａ環
が４−メチルベンゼンであり、Ｗが単結合であり、Ｘが
−ＮＨ−であり、Ｂ環がメトキシベンゼンであり、かつ
Ｃ環が無置換のイミダゾールである組み合わせ、（２）
Ａ環が４−（アセトアミド）ベンゼンまたは４−アミノ
ベンゼンであり、Ｗが単結合であり、Ｘが−ＮＨ−であ
り、Ｂ環が無置換のベンゼンであり、かつＣ環が無置換
のピラゾールである組み合わせ、を除く）で表わされる
スルホンアミド誘導体およびスルホン酸エステル誘導体
またはそれらの薬理学的に許容される塩に関する。
【０００９】上記一般式（Ｉ）において、Ａ環の意味す
る「置換基を有していてもよい、単環式または二環式芳
香環」とは、芳香族炭化水素、または窒素原子、酸素原
子および硫黄原子のうち少なくとも１個を含む芳香族ヘ
テロ環であり、当該環上には置換基１〜３個があっても
よい。Ａ環に含まれる主な芳香環を例示すると、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラン、
チアゾール、オキサゾール、ベンゼン、ピリジン、ピリ
ミジン、ピラジン、ピリダジン、ナフタレン、キノリ
ン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキ
サリン、キナゾリン、シンノリン、インドール、イソイ
ンドール、インドリジン、インダゾール、ベンゾフラ
ン、ベンゾチオフェン、ベンズオキサゾール、ベンズイ
ミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾールなど
がある。上記芳香環は置換基１〜３個を有していてもよ
く、置換基が複数個ある場合には、同一または異なって
いてもよい。置換基としては、例えば、低級アルキル基
または低級シクロアルキル基で置換されていてもよいア
ミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、
ニトロ基、メルカプト基、シアノ基、低級アルキルチオ
基、ハロゲン基、式−ａ−ｂ［式中、ａは単結合、−
（ＣＨ2 ）k −、−Ｏ−（ＣＨ2 ）k −、−Ｓ−（ＣＨ
2 ）k −または−Ｎ（Ｒ3 ）−（ＣＨ2 ）k −を、ｋは
１〜５の整数を、Ｒ 3 は水素原子または低級アルキル基
を、ｂは−ＣＨ2 −ｄ（式中、ｄは低級アルキル基で置
換されていてもよいアミノ基、ハロゲン基、水酸基、低
級アルキルチオ基、シアノ基または低級アルコキシ基を
意味する）を意味する］で示される基、式−ａ−ｅ−ｆ
［式中、ａは前記と同じ意味を、ｅは−Ｓ（Ｏ）−また
は−Ｓ（Ｏ）2 −を、ｆは低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基で置換されていてもよいアミノ基、低級アル
キル基、トリフルオロメチル基、−（ＣＨ2 ）m −ｂま
たは−Ｎ（Ｒ4 ）−（ＣＨ2 ）m −ｂ（式中、ｂは前記
と同じ意味を示し、Ｒ4は水素原子または低級アルキル
基を、ｍは１〜５の整数を意味する）を意味する］で示
される基、式−ａ−ｇ−ｈ［式中、ａは前記と同じ意味
を示し、ｇは−Ｃ（Ｏ）−または−Ｃ（Ｓ）−を、ｈは
低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、水酸
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、−（ＣＨ2 ）
n −ｂまたは−Ｎ（Ｒ5 ）−（ＣＨ2 ）n −ｂ（式中、
ｂは前記と同じ意味を示し、Ｒ5 は水素原子または低級
アルキル基を、ｎは１〜５の整数を意味する）を意味す
る］で示される基、式−ａ−Ｎ（Ｒ6 ）−ｇ−ｉ［式
中、ａおよびｇは前記と同じ意味を示し、Ｒ6 は水素原
子または低級アルキル基を、ｉは水素原子、低級アルコ
キシ基またはｆ（ｆは前記と同じ意味を示す）を意味す
る］で示される基、式−ａ−Ｎ（Ｒ7 ）−ｅ−ｆ（式
中、ａ、ｅおよびｆは前記と同じ意味を示し、Ｒ7は水
素原子または低級アルキル基を意味する）で示される
基、または式−（ＣＨ 2 ）p −ｊ−（ＣＨ2 ）q −ｂ
（式中、ｊは酸素原子または硫黄原子を意味し、ｂは前
記と同じ意味を示し、ｐおよびｑは同一または異なって
１〜５の整数を意味する）で示される基などを挙げるこ
とができる。
る「置換基を有していてもよい、単環式または二環式芳
香環」とは、芳香族炭化水素、または窒素原子、酸素原
子および硫黄原子のうち少なくとも１個を含む芳香族ヘ
テロ環であり、当該環上には置換基１〜３個があっても
よい。Ａ環に含まれる主な芳香環を例示すると、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラン、
チアゾール、オキサゾール、ベンゼン、ピリジン、ピリ
ミジン、ピラジン、ピリダジン、ナフタレン、キノリ
ン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキ
サリン、キナゾリン、シンノリン、インドール、イソイ
ンドール、インドリジン、インダゾール、ベンゾフラ
ン、ベンゾチオフェン、ベンズオキサゾール、ベンズイ
ミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾールなど
がある。上記芳香環は置換基１〜３個を有していてもよ
く、置換基が複数個ある場合には、同一または異なって
いてもよい。置換基としては、例えば、低級アルキル基
または低級シクロアルキル基で置換されていてもよいア
ミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、
ニトロ基、メルカプト基、シアノ基、低級アルキルチオ
基、ハロゲン基、式−ａ−ｂ［式中、ａは単結合、−
（ＣＨ2 ）k −、−Ｏ−（ＣＨ2 ）k −、−Ｓ−（ＣＨ
2 ）k −または−Ｎ（Ｒ3 ）−（ＣＨ2 ）k −を、ｋは
１〜５の整数を、Ｒ 3 は水素原子または低級アルキル基
を、ｂは−ＣＨ2 −ｄ（式中、ｄは低級アルキル基で置
換されていてもよいアミノ基、ハロゲン基、水酸基、低
級アルキルチオ基、シアノ基または低級アルコキシ基を
意味する）を意味する］で示される基、式−ａ−ｅ−ｆ
［式中、ａは前記と同じ意味を、ｅは−Ｓ（Ｏ）−また
は−Ｓ（Ｏ）2 −を、ｆは低級アルキル基または低級ア
ルコキシ基で置換されていてもよいアミノ基、低級アル
キル基、トリフルオロメチル基、−（ＣＨ2 ）m −ｂま
たは−Ｎ（Ｒ4 ）−（ＣＨ2 ）m −ｂ（式中、ｂは前記
と同じ意味を示し、Ｒ4は水素原子または低級アルキル
基を、ｍは１〜５の整数を意味する）を意味する］で示
される基、式−ａ−ｇ−ｈ［式中、ａは前記と同じ意味
を示し、ｇは−Ｃ（Ｏ）−または−Ｃ（Ｓ）−を、ｈは
低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、水酸
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、−（ＣＨ2 ）
n −ｂまたは−Ｎ（Ｒ5 ）−（ＣＨ2 ）n −ｂ（式中、
ｂは前記と同じ意味を示し、Ｒ5 は水素原子または低級
アルキル基を、ｎは１〜５の整数を意味する）を意味す
る］で示される基、式−ａ−Ｎ（Ｒ6 ）−ｇ−ｉ［式
中、ａおよびｇは前記と同じ意味を示し、Ｒ6 は水素原
子または低級アルキル基を、ｉは水素原子、低級アルコ
キシ基またはｆ（ｆは前記と同じ意味を示す）を意味す
る］で示される基、式−ａ−Ｎ（Ｒ7 ）−ｅ−ｆ（式
中、ａ、ｅおよびｆは前記と同じ意味を示し、Ｒ7は水
素原子または低級アルキル基を意味する）で示される
基、または式−（ＣＨ 2 ）p −ｊ−（ＣＨ2 ）q −ｂ
（式中、ｊは酸素原子または硫黄原子を意味し、ｂは前
記と同じ意味を示し、ｐおよびｑは同一または異なって
１〜５の整数を意味する）で示される基などを挙げるこ
とができる。
【００１０】上記置換基例において、アミノ基が２個の
アルキル基で置換されている場合には、これらのアルキ
ル基が結合して５または６員環を形成していてもよい。
また、Ａ環が水酸基またはメルカプト基を有する含窒素
ヘテロ環である場合には、これらの基が共鳴構造をとる
ことにより、オキソ基またはチオキソ基の形になってい
てもよい。Ｂ環の意味する「置換基を有していてもよ
い、６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原子として窒
素原子を１個含む不飽和６員ヘテロ環」とは、一部が水
素化されていてもよい、ベンゼンまたはピリジンであ
り、当該環上に置換基１または２個を有していてもよ
く、置換基が２個ある場合には同一または異なっていて
もよい。Ｃ環の意味する「置換基を有していてもよい、
窒素原子を１または２個含む５員ヘテロ環」とは、一部
が水素化されていてもよい、ピロール、ピラゾール、イ
ミダゾールであり、当該環上に置換基１または２個を有
していてもよく、置換基が２個ある場合には同一または
異なっていてもよい。Ｂ環およびＣ環が有していてもよ
い置換基としては、例えば、ハロゲン基、シアノ基、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、オキソ基、
式−Ｃ（Ｏ）−ｒ（式中、ｒは水素原子、低級アルキル
基で置換されていてもよいアミノ基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基または水酸基を意味する）、低級アル
キル基で置換されていてもよいアミノ基、トリフルオロ
メチル基などを挙げることができる。
アルキル基で置換されている場合には、これらのアルキ
ル基が結合して５または６員環を形成していてもよい。
また、Ａ環が水酸基またはメルカプト基を有する含窒素
ヘテロ環である場合には、これらの基が共鳴構造をとる
ことにより、オキソ基またはチオキソ基の形になってい
てもよい。Ｂ環の意味する「置換基を有していてもよ
い、６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原子として窒
素原子を１個含む不飽和６員ヘテロ環」とは、一部が水
素化されていてもよい、ベンゼンまたはピリジンであ
り、当該環上に置換基１または２個を有していてもよ
く、置換基が２個ある場合には同一または異なっていて
もよい。Ｃ環の意味する「置換基を有していてもよい、
窒素原子を１または２個含む５員ヘテロ環」とは、一部
が水素化されていてもよい、ピロール、ピラゾール、イ
ミダゾールであり、当該環上に置換基１または２個を有
していてもよく、置換基が２個ある場合には同一または
異なっていてもよい。Ｂ環およびＣ環が有していてもよ
い置換基としては、例えば、ハロゲン基、シアノ基、低
級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、オキソ基、
式−Ｃ（Ｏ）−ｒ（式中、ｒは水素原子、低級アルキル
基で置換されていてもよいアミノ基、低級アルキル基、
低級アルコキシ基または水酸基を意味する）、低級アル
キル基で置換されていてもよいアミノ基、トリフルオロ
メチル基などを挙げることができる。
【００１１】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1 、Ｒ2 お
よびＡ環、Ｂ環、Ｃ環が有していてもよい置換基の定義
中の低級アルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖もし
くは分枝状のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、sec −ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペン
チル基（アミル基）、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチ
ルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メ
チルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメ
チルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジ
メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−
ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エ
チルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリ
メチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル
基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルプロピル基などを意味する。これらのうち好
ましい基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基など
を挙げることができ、これらのうち、最も好ましい基と
してはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基を挙げることができる。
よびＡ環、Ｂ環、Ｃ環が有していてもよい置換基の定義
中の低級アルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖もし
くは分枝状のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソ
ブチル基、sec −ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−ペン
チル基（アミル基）、イソペンチル基、ネオペンチル
基、tert−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチ
ルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシ
ル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メ
チルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメ
チルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジ
メチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−
ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−エ
チルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−トリ
メチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル
基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルプロピル基などを意味する。これらのうち好
ましい基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基など
を挙げることができ、これらのうち、最も好ましい基と
してはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基を挙げることができる。
【００１２】Ａ環が有していてもよい置換基の定義中の
低級シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることが
できる。 Ａ環、Ｂ環およびＣ環が有していてもよい置
換基の定義中の低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−
ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など上
記の低級アルキル基から誘導される低級アルコキシ基を
意味するが、これらのうち最も好ましい基としてはメト
キシ基、エトキシ基を挙げることができる。またハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが
挙げられる。
低級シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることが
できる。 Ａ環、Ｂ環およびＣ環が有していてもよい置
換基の定義中の低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−
ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など上
記の低級アルキル基から誘導される低級アルコキシ基を
意味するが、これらのうち最も好ましい基としてはメト
キシ基、エトキシ基を挙げることができる。またハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが
挙げられる。
【００１３】上記一般式（Ｉ）で示されるスルホンアミ
ド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体は酸または塩
基と塩を形成する場合もある。本発明は化合物（Ｉ）の
塩をも包含する。酸との塩としては、たとえば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩や酢酸、乳酸、コハ
ク酸、フマル酸、マレイン酸、クエン酸、安息香酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸
との塩を挙げることができる。また、塩基との塩として
は、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無
機塩、トリエチルアミン、アルギニン、リジン等の有機
塩基との塩を挙げることができる。
ド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体は酸または塩
基と塩を形成する場合もある。本発明は化合物（Ｉ）の
塩をも包含する。酸との塩としては、たとえば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩や酢酸、乳酸、コハ
ク酸、フマル酸、マレイン酸、クエン酸、安息香酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸
との塩を挙げることができる。また、塩基との塩として
は、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無
機塩、トリエチルアミン、アルギニン、リジン等の有機
塩基との塩を挙げることができる。
【００１４】また、これら化合物の水和物はもちろんの
こと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれ
ることはいうまでもない。また、本発明化合物は強い抗
腫瘍活性を示すが、生体内で酸化、還元、加水分解、抱
合などの代謝を受けて抗腫瘍活性を示す化合物をも包含
する。またさらに、本発明は生体内で酸化、還元、加水
分解などの代謝を受けて本発明化合物を生成する化合物
をも包含する。
こと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれ
ることはいうまでもない。また、本発明化合物は強い抗
腫瘍活性を示すが、生体内で酸化、還元、加水分解、抱
合などの代謝を受けて抗腫瘍活性を示す化合物をも包含
する。またさらに、本発明は生体内で酸化、還元、加水
分解などの代謝を受けて本発明化合物を生成する化合物
をも包含する。
【００１５】次に本発明化合物（Ｉ）は種々の方法によ
って製造することができるが、それらのうち代表的な方
法を示せば、以下の通りである。 １）一般式（II）
って製造することができるが、それらのうち代表的な方
法を示せば、以下の通りである。 １）一般式（II）
【００１６】
【化９】
【００１７】（式中、Ａａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、単環式または二
環式芳香環を意味し、Ｗは前記と同じ意味を示す）で表
わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と一般式
（III ）
れていない置換基を有していてもよい、単環式または二
環式芳香環を意味し、Ｗは前記と同じ意味を示す）で表
わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と一般式
（III ）
【００１８】
【化１０】
【００１９】（式中、Ｂａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、６員環式不飽和
炭化水素またはヘテロ原子として窒素原子を１個含む不
飽和６員ヘテロ環を、Ｃａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、窒素原子を１ま
たは２個含む５員ヘテロ環を意味し、Ｘ、ＹおよびＺは
前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物を反応させ
ることにより製造することができる。
れていない置換基を有していてもよい、６員環式不飽和
炭化水素またはヘテロ原子として窒素原子を１個含む不
飽和６員ヘテロ環を、Ｃａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、窒素原子を１ま
たは２個含む５員ヘテロ環を意味し、Ｘ、ＹおよびＺは
前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物を反応させ
ることにより製造することができる。
【００２０】スルホン酸（II）の反応性誘導体として
は、例えばハロゲン化スルホニル、スルホン酸無水物、
Ｎ−スルホニルイミダゾリドなどのような一般的によく
利用される反応性誘導体を挙げることができるが、特に
好適な例はハロゲン化スルホニルである。反応に使用す
る溶媒は特に限定されないが、原料物質を溶解し、かつ
これらと容易に反応しないものが望ましく、例えばピリ
ジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、エ
チルエーテル、ジクロロメタン、ジメチルホルムアミ
ド、あるいはこれらから選ばれた２種以上の混合溶媒な
どが利用され得る。また、本反応においてハロゲン化ス
ルホニルを用いた場合の如く、反応の進行に伴い酸が遊
離してくる場合には、適当な脱酸剤の存在下に行われる
のが好ましいので、ピリジンのような塩基性溶媒の使用
は特に好適である。中性溶媒を使用するときは、炭酸ア
ルカリ、有機第３級アミンなどの塩基性物質を添加して
もよい。勿論、使用し得る溶媒はここに挙げたものに限
定されるものではない。一般に本反応は室温で進行する
が、必要に応じて冷却または加熱してもよい。反応時間
は通常10分〜20時間であるが、原料化合物の種類、反応
温度によって任意に選ばれる。得られた生成物におい
て、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、
所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の
脱保護法を行うことにより、遊離の水酸基またはアミノ
基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エス
テル誘導体（Ｉ）を得ることが可能である。
は、例えばハロゲン化スルホニル、スルホン酸無水物、
Ｎ−スルホニルイミダゾリドなどのような一般的によく
利用される反応性誘導体を挙げることができるが、特に
好適な例はハロゲン化スルホニルである。反応に使用す
る溶媒は特に限定されないが、原料物質を溶解し、かつ
これらと容易に反応しないものが望ましく、例えばピリ
ジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、エ
チルエーテル、ジクロロメタン、ジメチルホルムアミ
ド、あるいはこれらから選ばれた２種以上の混合溶媒な
どが利用され得る。また、本反応においてハロゲン化ス
ルホニルを用いた場合の如く、反応の進行に伴い酸が遊
離してくる場合には、適当な脱酸剤の存在下に行われる
のが好ましいので、ピリジンのような塩基性溶媒の使用
は特に好適である。中性溶媒を使用するときは、炭酸ア
ルカリ、有機第３級アミンなどの塩基性物質を添加して
もよい。勿論、使用し得る溶媒はここに挙げたものに限
定されるものではない。一般に本反応は室温で進行する
が、必要に応じて冷却または加熱してもよい。反応時間
は通常10分〜20時間であるが、原料化合物の種類、反応
温度によって任意に選ばれる。得られた生成物におい
て、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、
所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の
脱保護法を行うことにより、遊離の水酸基またはアミノ
基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エス
テル誘導体（Ｉ）を得ることが可能である。
【００２１】２）一般式（IV）
【００２２】
【化１１】
【００２３】（式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｗ、ＸおよびＺ
は前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物をハロゲ
ン化剤と反応させることにより製造することができる。
ハロゲン化剤としては、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ
−ブロモコハク酸イミド、１，３−ジブロモ−５，５−
ジメチルヒダントイン、Ｎ−ブロモアセトアミド、塩
素、臭素などを例示することができる。反応に使用する
溶媒は特に限定されないが、通常ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等の塩化アルキル化合物やクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族塩化物等が使用
されるが、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、ピリジ
ン、アセトニトリル等の水溶性溶媒も使用することがで
きる。反応温度はハロゲン化剤および基質の種類によっ
て異なるが、通常−50℃から 100℃の間で行われる。得
られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護さ
れている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、
接触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊離の
水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体ま
たはスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能
である。
は前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物をハロゲ
ン化剤と反応させることにより製造することができる。
ハロゲン化剤としては、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ
−ブロモコハク酸イミド、１，３−ジブロモ−５，５−
ジメチルヒダントイン、Ｎ−ブロモアセトアミド、塩
素、臭素などを例示することができる。反応に使用する
溶媒は特に限定されないが、通常ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等の塩化アルキル化合物やクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族塩化物等が使用
されるが、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、ピリジ
ン、アセトニトリル等の水溶性溶媒も使用することがで
きる。反応温度はハロゲン化剤および基質の種類によっ
て異なるが、通常−50℃から 100℃の間で行われる。得
られた生成物において、アミノ基または水酸基が保護さ
れている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、
接触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊離の
水酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体ま
たはスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能
である。
【００２４】３）一般式（Ｖ）
【００２５】
【化１２】
【００２６】（式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｗ、ＸおよびＺ
は前記と同じ意味を示し、Ｅは脱水によりシアノ基へ変
換可能な置換基を意味する）で表わされる化合物を脱水
剤と反応させることにより製造することができる。脱水
によりシアノ基へ変換可能な置換基としては、例えば
（ヒドロキシイミノ）メチル基、カルバモイル基などを
挙げることができる。また、原料のアルデヒドまたはカ
ルボン酸からまずオキシムまたは酸アミドを合成し、こ
れを単離することなく脱水剤と反応させることも可能で
ある。脱水剤としてはニトリルの合成に一般に用いられ
る方法、例えば無水酢酸、塩化チオニル、オキシ塩化リ
ン、二酸化セレン、１，３−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドなどを挙げることができる。反応に使用する溶媒
は特に限定されないが、原料物質を溶解し、かつこれら
と容易に反応しないものが望ましく、例えばピリジン、
エチルエーテル、ベンゼン、ジメチルホルムアミド、四
塩化炭素、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ある
いはこれらから選ばれた２種以上の混合溶媒などが利用
され得る。反応温度は脱水剤および基質の種類によって
異なるが、通常−50℃から 150℃の間で行われる。得ら
れた生成物において、アミノ基または水酸基が保護され
ている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接
触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊離の水
酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体また
はスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能で
ある。
は前記と同じ意味を示し、Ｅは脱水によりシアノ基へ変
換可能な置換基を意味する）で表わされる化合物を脱水
剤と反応させることにより製造することができる。脱水
によりシアノ基へ変換可能な置換基としては、例えば
（ヒドロキシイミノ）メチル基、カルバモイル基などを
挙げることができる。また、原料のアルデヒドまたはカ
ルボン酸からまずオキシムまたは酸アミドを合成し、こ
れを単離することなく脱水剤と反応させることも可能で
ある。脱水剤としてはニトリルの合成に一般に用いられ
る方法、例えば無水酢酸、塩化チオニル、オキシ塩化リ
ン、二酸化セレン、１，３−ジシクロヘキシルカルボジ
イミドなどを挙げることができる。反応に使用する溶媒
は特に限定されないが、原料物質を溶解し、かつこれら
と容易に反応しないものが望ましく、例えばピリジン、
エチルエーテル、ベンゼン、ジメチルホルムアミド、四
塩化炭素、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ある
いはこれらから選ばれた２種以上の混合溶媒などが利用
され得る。反応温度は脱水剤および基質の種類によって
異なるが、通常−50℃から 150℃の間で行われる。得ら
れた生成物において、アミノ基または水酸基が保護され
ている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、接
触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊離の水
酸基またはアミノ基を有するスルホンアミド誘導体また
はスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能で
ある。
【００２７】４）一般式（VI）
【００２８】
【化１３】
【００２９】（式中、Ａｂ環は、還元によりアミノ基へ
変換可能な置換基を有し、他に保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、単環式または二
環式芳香環を意味し、Ｂａ環、Ｃａ環、Ｗ、Ｘ、Ｙおよ
びＺは前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物を還
元剤と反応させることにより製造することができる。還
元によりアミノ基へ変換可能な置換基としてはニトロ
基、ニトロソ基、ヒドロキシアミノ基、アゾ基などがあ
る。還元には、一般に用いられるニトロ基の還元法を使
用することができるが、好ましい例としてはパラジウム
−炭素、酸化白金等を触媒とした接触還元や亜鉛、鉄ま
たはスズと酸による還元等を挙げることができる。接触
還元は通常メタノール、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドなどの有機溶媒中、常圧または加圧下で行
うことができる。得られた生成物において、水酸基が保
護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処
理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊
離の水酸基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホ
ン酸エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能である。
変換可能な置換基を有し、他に保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、単環式または二
環式芳香環を意味し、Ｂａ環、Ｃａ環、Ｗ、Ｘ、Ｙおよ
びＺは前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物を還
元剤と反応させることにより製造することができる。還
元によりアミノ基へ変換可能な置換基としてはニトロ
基、ニトロソ基、ヒドロキシアミノ基、アゾ基などがあ
る。還元には、一般に用いられるニトロ基の還元法を使
用することができるが、好ましい例としてはパラジウム
−炭素、酸化白金等を触媒とした接触還元や亜鉛、鉄ま
たはスズと酸による還元等を挙げることができる。接触
還元は通常メタノール、テトラヒドロフラン、ジメチル
ホルムアミドなどの有機溶媒中、常圧または加圧下で行
うことができる。得られた生成物において、水酸基が保
護されている場合には、所望により酸処理、アルカリ処
理、接触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊
離の水酸基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホ
ン酸エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能である。
【００３０】５）一般式（VII ）
【００３１】
【化１４】
【００３２】（式中、Ａｃ環は、脱離基を環上または置
換基中に有し、他に保護されたまたは保護されていない
置換基を有していてもよい、単環式または二環式芳香環
を意味し、Ｂａ環、Ｃａ環、Ｗ、Ｘ、ＹおよびＺは前記
と同じ意味を示す）で表わされる化合物を求核剤と反応
させることにより製造することができる。脱離基として
は、例えばハロゲン基、メタンスルホニルオキシ基、ｐ
−トルエンスルホニルオキシ基などを挙げることができ
る。求核剤としては、例えばアミン類、アルコール類、
チオール類などを挙げることができる。アルコール類、
チオール類などの場合にはアルカリ金属などとの塩の形
で反応させてもよい。反応に使用する溶媒は特に限定さ
れないが、原料物質を溶解し、かつこれらと容易に反応
しないものが望ましく、例えば、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメチルホルムアミド、水などが利用され
得る。反応温度は基質の種類によって異なるが、通常−
50℃から 150℃の間で行われる。得られた生成物におい
て、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、
所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の
脱保護法を行うことにより、遊離の水酸基またはアミノ
基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エス
テル誘導体 (I)を得ることが可能である。
換基中に有し、他に保護されたまたは保護されていない
置換基を有していてもよい、単環式または二環式芳香環
を意味し、Ｂａ環、Ｃａ環、Ｗ、Ｘ、ＹおよびＺは前記
と同じ意味を示す）で表わされる化合物を求核剤と反応
させることにより製造することができる。脱離基として
は、例えばハロゲン基、メタンスルホニルオキシ基、ｐ
−トルエンスルホニルオキシ基などを挙げることができ
る。求核剤としては、例えばアミン類、アルコール類、
チオール類などを挙げることができる。アルコール類、
チオール類などの場合にはアルカリ金属などとの塩の形
で反応させてもよい。反応に使用する溶媒は特に限定さ
れないが、原料物質を溶解し、かつこれらと容易に反応
しないものが望ましく、例えば、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメチルホルムアミド、水などが利用され
得る。反応温度は基質の種類によって異なるが、通常−
50℃から 150℃の間で行われる。得られた生成物におい
て、アミノ基または水酸基が保護されている場合には、
所望により酸処理、アルカリ処理、接触還元など通常の
脱保護法を行うことにより、遊離の水酸基またはアミノ
基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エス
テル誘導体 (I)を得ることが可能である。
【００３３】次に本発明に用いられる原料化合物（II）
およびその反応性誘導体ならびに（III ）を製造する方
法について説明する。原料化合物（II）およびその反応
性誘導体には公知化合物および新規化合物が含まれる。
新規化合物の場合、既に報告されている公知化合物の合
成法を応用することにより、または、それらを組み合わ
せることにより製造することが可能である。例えば、新
規スルホニルクロリドは Chem. Ber., 90, 841 (1957),
J. Med. Chem., 6, 307 (1963), J. Chem. Soc.(c), 1
968, 1265, Chem. Lett., 1992, 1483, J. Am. Chem. S
oc., 59, 1837 (1937), J. Med. Chem., 23, 1376 (198
0), J. Am. Chem. Soc., 70, 375 (1948), J. Am. Che
m. Soc., 78, 2171 (1956) などに記載されている合成
法を応用した方法により製造することができる。原料化
合物（III ）には公知化合物および新規化合物が含まれ
る。原料化合物（III ）においてＨ−Ｘ−がアミノ基Ｈ
2 Ｎ−を意味する場合には、当該ニトロ化合物を一般的
に利用されるニトロ基の還元法で還元することによりＨ
2 Ｎ体（III ）を得ることができる。還元法の好ましい
例としてはパラジウム−炭素を触媒とした接触還元や亜
鉛末−塩酸による還元などがある。接触還元は通常メタ
ノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドな
どの有機溶媒中常圧または加圧下で行うことができる。
原料化合物（III ）において、Ｈ−Ｘ−が水酸基ＨＯ−
を意味する場合には、上記アミノ体をジアゾ化した後、
加水分解することによりＨＯ体（III ）を得ることがで
きる。
およびその反応性誘導体ならびに（III ）を製造する方
法について説明する。原料化合物（II）およびその反応
性誘導体には公知化合物および新規化合物が含まれる。
新規化合物の場合、既に報告されている公知化合物の合
成法を応用することにより、または、それらを組み合わ
せることにより製造することが可能である。例えば、新
規スルホニルクロリドは Chem. Ber., 90, 841 (1957),
J. Med. Chem., 6, 307 (1963), J. Chem. Soc.(c), 1
968, 1265, Chem. Lett., 1992, 1483, J. Am. Chem. S
oc., 59, 1837 (1937), J. Med. Chem., 23, 1376 (198
0), J. Am. Chem. Soc., 70, 375 (1948), J. Am. Che
m. Soc., 78, 2171 (1956) などに記載されている合成
法を応用した方法により製造することができる。原料化
合物（III ）には公知化合物および新規化合物が含まれ
る。原料化合物（III ）においてＨ−Ｘ−がアミノ基Ｈ
2 Ｎ−を意味する場合には、当該ニトロ化合物を一般的
に利用されるニトロ基の還元法で還元することによりＨ
2 Ｎ体（III ）を得ることができる。還元法の好ましい
例としてはパラジウム−炭素を触媒とした接触還元や亜
鉛末−塩酸による還元などがある。接触還元は通常メタ
ノール、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドな
どの有機溶媒中常圧または加圧下で行うことができる。
原料化合物（III ）において、Ｈ−Ｘ−が水酸基ＨＯ−
を意味する場合には、上記アミノ体をジアゾ化した後、
加水分解することによりＨＯ体（III ）を得ることがで
きる。
【００３４】原料化合物が新規化合物の場合、既に報告
されている公知化合物の合成法を応用することにより、
またはそれらを組み合わせることにより製造することが
可能である。新規化合物は Can. J. Chem., 42, 1235
(1964), Chem. Abst., 59, 8855f (1963), Tetrahedron
Lett., 30, 2129 (1989)などに記載された方法を応用
して、例えば、次に示す経路で製造することが可能であ
る。
されている公知化合物の合成法を応用することにより、
またはそれらを組み合わせることにより製造することが
可能である。新規化合物は Can. J. Chem., 42, 1235
(1964), Chem. Abst., 59, 8855f (1963), Tetrahedron
Lett., 30, 2129 (1989)などに記載された方法を応用
して、例えば、次に示す経路で製造することが可能であ
る。
【００３５】反応式１
【００３６】
【化１５】
【００３７】式中、Ｑは同一または異なった置換基を意
味し、Ｇはハロゲン基を意味し、ｔは０〜２の整数であ
る。反応式２
味し、Ｇはハロゲン基を意味し、ｔは０〜２の整数であ
る。反応式２
【００３８】
【化１６】
【００３９】式中、Ｑおよびｔは前記と同じ意味を示
す。反応式３
す。反応式３
【００４０】
【化１７】
【００４１】式中、Ｑ、Ｇおよびｔは前記と同じ意味を
示し、ＤＰＰＡはジフェニルホスホリルアジドを意味す
る。反応式４
示し、ＤＰＰＡはジフェニルホスホリルアジドを意味す
る。反応式４
【００４２】
【化１８】
【００４３】式中、Ｑ、Ｇおよびｔは前記と同じ意味を
示し、ＤＤＱは２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−
１，４−ベンゾキノンを意味する。
示し、ＤＤＱは２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−
１，４−ベンゾキノンを意味する。
【００４４】本発明化合物を医薬として使用する場合
は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症
状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方
法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種
類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されない
が、通常成人１日あたり10〜6000mg、好ましくは約50〜
4000mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通
常１日１〜３回に分けて投与する。
は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症
状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方
法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種
類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されない
が、通常成人１日あたり10〜6000mg、好ましくは約50〜
4000mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通
常１日１〜３回に分けて投与する。
【００４５】経口用固形製剤を調製する場合は、主薬に
賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着
色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被
覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴ
ム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、例えばステ
アリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等が、着色剤と
しては医薬品に添加することが許可されているものが、
矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハ
ッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。これらの錠剤、
顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コ
ーティングすることは勿論差し支えない。注射剤を調製
する場合には、必要により主薬にpH調整剤、緩衝剤、懸
濁化剤、溶解補助剤、安定化剤、等張化剤、保存剤など
を添加し、常法により静脈、皮下、筋肉内注射剤とす
る。その際必要により、常法により凍結乾燥物とするこ
ともある。懸濁化剤としては、例えばメチルセルロー
ス、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、
アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ポリオキシエチレンソルビタンモノラ
ウレートなどを挙げることができる。
賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着
色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被
覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴ
ム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、例えばステ
アリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等が、着色剤と
しては医薬品に添加することが許可されているものが、
矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハ
ッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。これらの錠剤、
顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コ
ーティングすることは勿論差し支えない。注射剤を調製
する場合には、必要により主薬にpH調整剤、緩衝剤、懸
濁化剤、溶解補助剤、安定化剤、等張化剤、保存剤など
を添加し、常法により静脈、皮下、筋肉内注射剤とす
る。その際必要により、常法により凍結乾燥物とするこ
ともある。懸濁化剤としては、例えばメチルセルロー
ス、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、
アラビアゴム、トラガント末、カルボキシメチルセルロ
ースナトリウム、ポリオキシエチレンソルビタンモノラ
ウレートなどを挙げることができる。
【００４６】溶解補助剤としては、例えばポリオキシエ
チレン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、
マクロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙
げることができる。また安定化剤としては、例えば亜硫
酸ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム等を、保存剤とし
ては、例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安
息香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、
クロロクレゾールなどを挙げることができる。
チレン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、
マクロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙
げることができる。また安定化剤としては、例えば亜硫
酸ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム等を、保存剤とし
ては、例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安
息香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、
クロロクレゾールなどを挙げることができる。
【００４７】
【発明の効果】次に本発明化合物の効果を記述するため
薬理実験例を示す。薬効評価の対照化合物として、公知
の二環式ヘテロ環含有スルホンアミドである２−スルフ
ァニルアミド−５−クロロキノキサリン（ＣＱＳ；特開
昭６２−４２６）を使用した。
薬理実験例を示す。薬効評価の対照化合物として、公知
の二環式ヘテロ環含有スルホンアミドである２−スルフ
ァニルアミド−５−クロロキノキサリン（ＣＱＳ；特開
昭６２−４２６）を使用した。
【００４８】実験例１ colon38 細胞（マウス結腸癌細
胞）に対するin vitro抗腫瘍試験 10％牛胎児血清、ペニシリン（ 100単位／ml) 、ストレ
プトマイシン（ 100μg ／ml）、メルカプトエタノール
（５×10-5Ｍ）およびピルビン酸ナトリウム（１mM）を
含むRPMI1640培地（三光純薬）に浮遊させたcolon38 細
胞を96穴平底マイクロプレートの各穴に 2.5×103 個
（0.1ml ）ずつ播種し、５％炭酸ガス含有の培養器中37
℃で１日培養した。
胞）に対するin vitro抗腫瘍試験 10％牛胎児血清、ペニシリン（ 100単位／ml) 、ストレ
プトマイシン（ 100μg ／ml）、メルカプトエタノール
（５×10-5Ｍ）およびピルビン酸ナトリウム（１mM）を
含むRPMI1640培地（三光純薬）に浮遊させたcolon38 細
胞を96穴平底マイクロプレートの各穴に 2.5×103 個
（0.1ml ）ずつ播種し、５％炭酸ガス含有の培養器中37
℃で１日培養した。
【００４９】本発明化合物をジメチルスルホキシドにて
20mg／mlの濃度に溶解し、10％牛胎児血清−RPMI1640培
養液で 200μg ／mlの濃度まで希釈した。これを最高濃
度として10％牛胎児血清−RPMI1640培養液にて３倍系列
希釈を行った。これを先に述べたcolon38 細胞の培養プ
レートの各穴に 0.1mlずつ加え、５％炭酸ガス含有培養
器中37℃で３日間培養した。
20mg／mlの濃度に溶解し、10％牛胎児血清−RPMI1640培
養液で 200μg ／mlの濃度まで希釈した。これを最高濃
度として10％牛胎児血清−RPMI1640培養液にて３倍系列
希釈を行った。これを先に述べたcolon38 細胞の培養プ
レートの各穴に 0.1mlずつ加え、５％炭酸ガス含有培養
器中37℃で３日間培養した。
【００５０】培養後、ＭＴＴ［３−（４，５−ジメチル
チアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾ
リウムブロミド］溶液（ 3.3mg／ml）を0.05mlずつ各穴
に加え、さらに２時間培養した。各穴から上清を吸引除
去後、生成したホルマザンをジメチルスルホキシド 0.1
mlで溶解し、マイクロプレートリーダーで 540nmにおけ
る吸光度を測定し、生細胞数の指標とした。以下の式よ
り抑制率を算出し、50％抑制する被検化合物の濃度（Ｉ
Ｃ50）を求めた。
チアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾ
リウムブロミド］溶液（ 3.3mg／ml）を0.05mlずつ各穴
に加え、さらに２時間培養した。各穴から上清を吸引除
去後、生成したホルマザンをジメチルスルホキシド 0.1
mlで溶解し、マイクロプレートリーダーで 540nmにおけ
る吸光度を測定し、生細胞数の指標とした。以下の式よ
り抑制率を算出し、50％抑制する被検化合物の濃度（Ｉ
Ｃ50）を求めた。
【００５１】
【数１】
【００５２】Ｔ：被検化合物を添加した穴の吸光度 Ｃ：被検化合物を添加しなかった穴の吸光度 得られたＩＣ50値を表１−１および表１−２に示す。
【００５３】
【表１】
【表２】
【００５４】実験例２ colon38 （マウス結腸癌）に対
するin vivo 抗腫瘍試験 ＢＤＦ1 マウス（７週齢、雌）の体側皮下に約75mgのco
lon38 を移植した。本発明の化合物を 3.5％ジメチルス
ルホキシドと 6.5％ツイーン80を含む生理食塩水に懸濁
し、移植した翌日より１日１回所定量を８日間腹腔内投
与した。対照群には 3.5％ジメチルスルホキシドと 6.5
％ツイーン80を含む生理食塩水を腹腔内投与した。対照
群は一群10匹、薬剤投与群は一群６匹で実験を行った。
移植後21日目に腫瘍を摘出し、腫瘍重量を測定した。対
照群に対する薬剤投与群の腫瘍増殖抑制率を下記式より
求めた。
するin vivo 抗腫瘍試験 ＢＤＦ1 マウス（７週齢、雌）の体側皮下に約75mgのco
lon38 を移植した。本発明の化合物を 3.5％ジメチルス
ルホキシドと 6.5％ツイーン80を含む生理食塩水に懸濁
し、移植した翌日より１日１回所定量を８日間腹腔内投
与した。対照群には 3.5％ジメチルスルホキシドと 6.5
％ツイーン80を含む生理食塩水を腹腔内投与した。対照
群は一群10匹、薬剤投与群は一群６匹で実験を行った。
移植後21日目に腫瘍を摘出し、腫瘍重量を測定した。対
照群に対する薬剤投与群の腫瘍増殖抑制率を下記式より
求めた。
【００５５】
【数２】
【００５６】Ｔ：被検化合物投与群の平均腫瘍重量 Ｃ：対照群の平均腫瘍重量 実験結果を表２に示す。
【００５７】
【表３】
【００５８】実験例３ ＨＣＴ116 （ヒト結腸癌）に対
するin vivo 抗腫瘍試験 ヌ−ドマウス（ＢＡＬＢ／ｃ・ｎｕ／ｎｕ、７〜８週
齢、雌）の体側皮下に５〜８ｘ１０6 個のＨＣＴ１１６
を移植した。移植後約100mm3の腫瘍体積になる約７日後
より本発明化合物を 3.5％ジメチルスルホキシドと 6.5
% ツイーン80を含む生理食塩水に懸濁し、１日１回所定
量を４日間腹腔内投与した。対照群には3.5%ジメチルス
ルホキシドと 6.5% ツイーン80を含む生理食塩水を腹腔
内投与した。対照群は一群１０匹、薬剤投与群は一群５
匹で実験を行った。投与開始後２１日目に腫瘍を摘出
し、腫瘍重量を測定した。対照群に対する薬剤投与群の
腫瘍増殖抑制率を下記式より求めた。
するin vivo 抗腫瘍試験 ヌ−ドマウス（ＢＡＬＢ／ｃ・ｎｕ／ｎｕ、７〜８週
齢、雌）の体側皮下に５〜８ｘ１０6 個のＨＣＴ１１６
を移植した。移植後約100mm3の腫瘍体積になる約７日後
より本発明化合物を 3.5％ジメチルスルホキシドと 6.5
% ツイーン80を含む生理食塩水に懸濁し、１日１回所定
量を４日間腹腔内投与した。対照群には3.5%ジメチルス
ルホキシドと 6.5% ツイーン80を含む生理食塩水を腹腔
内投与した。対照群は一群１０匹、薬剤投与群は一群５
匹で実験を行った。投与開始後２１日目に腫瘍を摘出
し、腫瘍重量を測定した。対照群に対する薬剤投与群の
腫瘍増殖抑制率を下記式より求めた。
【００５９】
【数３】
【００６０】Ｔ：被検化合物投与群の平均腫瘍重量 Ｃ：対照群の平均腫瘍重量 実験結果を表３に示す。
【００６１】
【表４】
【００６２】上記実験例から明らかなように本発明化合
物は優れた抗腫瘍作用を有し、抗腫瘍剤として有用であ
る。
物は優れた抗腫瘍作用を有し、抗腫瘍剤として有用であ
る。
【００６３】
【実施例】次に、本発明化合物の原料化合物の製造を示
す製造例および発明化合物の代表的化合物について実施
例を挙げるが、本発明がこれらのみに限定されるもので
はない。 製造例１７−ブロモ−１Ｈ−インドール
す製造例および発明化合物の代表的化合物について実施
例を挙げるが、本発明がこれらのみに限定されるもので
はない。 製造例１７−ブロモ−１Ｈ−インドール
【００６４】
【化１９】
【００６５】２−ブロモニトロベンゼン5.05ｇ（25ミリ
モル）のテトラヒドロフラン溶液（250ml）に窒素雰囲
気下−40℃でビニルマグネシウムブロミド 1.0Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液 100ml（ 100ミリモル）を加え、その
まま40分間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウ
ム水溶液 500ml中に注ぎ、エチルエーテルで抽出した。
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物2.89ｇを
得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.56(1H, dd, J=2.9, 1.8H
z), 6.94(1H, t, J=7.8Hz), 7.30(1H, d, J=7.8Hz), 7.
40(1H, t, J=2.9Hz), 7.56(1H, d, J=7.8Hz), 11.16-1
1.46(1H, br m)
モル）のテトラヒドロフラン溶液（250ml）に窒素雰囲
気下−40℃でビニルマグネシウムブロミド 1.0Ｍテトラ
ヒドロフラン溶液 100ml（ 100ミリモル）を加え、その
まま40分間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウ
ム水溶液 500ml中に注ぎ、エチルエーテルで抽出した。
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物2.89ｇを
得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.56(1H, dd, J=2.9, 1.8H
z), 6.94(1H, t, J=7.8Hz), 7.30(1H, d, J=7.8Hz), 7.
40(1H, t, J=2.9Hz), 7.56(1H, d, J=7.8Hz), 11.16-1
1.46(1H, br m)
【００６６】製造例２７−アミノ−１Ｈ−インドール
【００６７】
【化２０】 製造例１の化合物2.70ｇ（13.8ミリモル）のテトラヒド
ロフラン溶液（50ml）に窒素雰囲気下−70℃でｎ−ブチ
ルリチウム 2.5Ｍヘキサン溶液16.5ml（41.3ミリモル）
を滴下し、−70℃で15分間、ついで−20〜−10℃で30分
間攪拌した。−70℃に再び冷却後、ジフェニルホスホリ
ルアジド 3.9ml（18ミリモル）を滴下し、−70℃で１時
間、ついで−40℃で１時間攪拌した。ナトリウム ビス
（２−メトキシエトキシ）アルミニウム ハイドライド
3.4Ｍトルエン溶液22.3ml（75.8ミリモル）を−40℃で
加えた後、−30〜−20℃で30分間、ついで室温で30分間
攪拌した。pH 7.0リン酸緩衝液を加え、不溶物を濾取
し、濾液をエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、表題化合物1.29ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.01(2H, br s), 6.25-6.3
3(2H, m), 6.70(1H, dd,J=7.9, 7.3Hz), 6.78(1H, dd,
J=7.9, 0.7Hz), 7.23(1H, t, J=2.7Hz), 10.48-10.72(1
H, br m)
ロフラン溶液（50ml）に窒素雰囲気下−70℃でｎ−ブチ
ルリチウム 2.5Ｍヘキサン溶液16.5ml（41.3ミリモル）
を滴下し、−70℃で15分間、ついで−20〜−10℃で30分
間攪拌した。−70℃に再び冷却後、ジフェニルホスホリ
ルアジド 3.9ml（18ミリモル）を滴下し、−70℃で１時
間、ついで−40℃で１時間攪拌した。ナトリウム ビス
（２−メトキシエトキシ）アルミニウム ハイドライド
3.4Ｍトルエン溶液22.3ml（75.8ミリモル）を−40℃で
加えた後、−30〜−20℃で30分間、ついで室温で30分間
攪拌した。pH 7.0リン酸緩衝液を加え、不溶物を濾取
し、濾液をエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、表題化合物1.29ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.01(2H, br s), 6.25-6.3
3(2H, m), 6.70(1H, dd,J=7.9, 7.3Hz), 6.78(1H, dd,
J=7.9, 0.7Hz), 7.23(1H, t, J=2.7Hz), 10.48-10.72(1
H, br m)
【００６８】製造例１および２と同様にして、２−ブロ
モニトロベンゼン誘導体から以下の原料化合物を合成し
た。 ７−アミノ−４−メトキシ−１Ｈ−インドール ７−アミノ−４−ブロモ−１Ｈ−インドール
モニトロベンゼン誘導体から以下の原料化合物を合成し
た。 ７−アミノ−４−メトキシ−１Ｈ−インドール ７−アミノ−４−ブロモ−１Ｈ−インドール
【００６９】製造例３７−ブロモ−３−クロロ−４−メチル−１Ｈ−インドー
ル
ル
【００７０】
【化２１】
【００７１】２−ブロモ−５−メチルニトロベンゼンか
ら製造例１と同様にして合成した７−ブロモ−４−メチ
ル−１Ｈ−インドール 5.8ｇ（27.6ミリモル）のアセト
ニトリル溶液（ 250ml）にＮ−クロロコハク酸イミド
4.0ｇ（30.0ミリモル）を加え室温で一晩攪拌した。１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液50mlを加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、表題化合物 6.7ｇを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 2.74(3H, s), 6.75-7.26(3H,
m), 8.23(1H, br s)
ら製造例１と同様にして合成した７−ブロモ−４−メチ
ル−１Ｈ−インドール 5.8ｇ（27.6ミリモル）のアセト
ニトリル溶液（ 250ml）にＮ−クロロコハク酸イミド
4.0ｇ（30.0ミリモル）を加え室温で一晩攪拌した。１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液50mlを加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮
後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、表題化合物 6.7ｇを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 2.74(3H, s), 6.75-7.26(3H,
m), 8.23(1H, br s)
【００７２】製造例４７−アミノ−３−クロロ−４−メチル−１Ｈ−インドー
ル
ル
【００７３】
【化２２】
【００７４】製造例３の化合物6.37ｇ（26.1ミリモル）
から製造例２と同様にして表題化合物 2.6ｇを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 2.70(3H, s), 6.39-7.14(3H,
m), 8.15(1H, br s)
から製造例２と同様にして表題化合物 2.6ｇを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ(ppm) : 2.70(3H, s), 6.39-7.14(3H,
m), 8.15(1H, br s)
【００７５】製造例５４−スルファモイルベンゼンスルホニルクロリド
【００７６】
【化２３】
【００７７】４−アミノベンゼンスルホンアミド 6.4ｇ
（37.2ミリモル）を水12.5mlと濃塩酸 6.3mlの混液に加
え攪拌した。これに亜硝酸ナトリウム2.56ｇ（37.1ミリ
モル）の飽和水溶液を０℃以下で滴下した。反応液を二
酸化イオウ飽和酢酸液（二酸化イオウを酢酸35mlに飽和
させ、塩化第二銅・２水和物 1.5ｇを加えた液）に氷
冷、攪拌下加えた。10分後反応液を氷水に注ぎ、沈澱を
濾取、水洗した。沈澱をテトラヒドロフランに溶解し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮乾固し、表題化合物
3.5ｇを得た。
（37.2ミリモル）を水12.5mlと濃塩酸 6.3mlの混液に加
え攪拌した。これに亜硝酸ナトリウム2.56ｇ（37.1ミリ
モル）の飽和水溶液を０℃以下で滴下した。反応液を二
酸化イオウ飽和酢酸液（二酸化イオウを酢酸35mlに飽和
させ、塩化第二銅・２水和物 1.5ｇを加えた液）に氷
冷、攪拌下加えた。10分後反応液を氷水に注ぎ、沈澱を
濾取、水洗した。沈澱をテトラヒドロフランに溶解し、
硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮乾固し、表題化合物
3.5ｇを得た。
【００７８】製造例６４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホニルクロ
リド
リド
【００７９】
【化２４】
【００８０】４−ニトロフェニルメタンスルホンアミド
5.0ｇ（23.1ミリモル）を90％酢酸に懸濁し、パラジウ
ム−炭素存在下常温常圧で水素添加した。触媒を濾去後
濃縮乾固し、４−アミノフェニルメタンスルホンアミド
4.3ｇを得た。これを水40mlと濃塩酸 4.1mlの混液に加
え、攪拌した。０℃以下で亜硝酸ナトリウム1.63ｇ（2
3.6ミリモル）の飽和水溶液を滴下した。反応液を二酸
化イオウ飽和酢酸液（二酸化イオウを酢酸30mlに飽和さ
せ、塩化第二銅・２水和物0.97ｇを加えた液）に氷冷、
攪拌下加えた。室温で40分攪拌後反応液を氷水中に注
ぎ、食塩を飽和させた。酢酸エチルで抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濃縮乾固し、表題化合物1.7ｇを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.26(2H, s), 7.32(2H, d,
J=8.4Hz), 7.59(2H, d,J=8.4Hz)
5.0ｇ（23.1ミリモル）を90％酢酸に懸濁し、パラジウ
ム−炭素存在下常温常圧で水素添加した。触媒を濾去後
濃縮乾固し、４−アミノフェニルメタンスルホンアミド
4.3ｇを得た。これを水40mlと濃塩酸 4.1mlの混液に加
え、攪拌した。０℃以下で亜硝酸ナトリウム1.63ｇ（2
3.6ミリモル）の飽和水溶液を滴下した。反応液を二酸
化イオウ飽和酢酸液（二酸化イオウを酢酸30mlに飽和さ
せ、塩化第二銅・２水和物0.97ｇを加えた液）に氷冷、
攪拌下加えた。室温で40分攪拌後反応液を氷水中に注
ぎ、食塩を飽和させた。酢酸エチルで抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濃縮乾固し、表題化合物1.7ｇを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.26(2H, s), 7.32(2H, d,
J=8.4Hz), 7.59(2H, d,J=8.4Hz)
【００８１】製造例５または６と同様にして以下の化合
物を合成した。 ４−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼンスルホニル
クロリド ４−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスルホニル
クロリド ４−（Ｎ−メトキシスルファモイル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド ４−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼンスル
ホニルクロリド ４−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼンスル
ホニルクロリド ４−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド ４−（１−ピロリジニルカルボニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド ３−シアノベンゼンスルホニルクロリド ４−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホニルクロリド ４−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチル］ベ
ンゼンスルホニルクロリド
物を合成した。 ４−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼンスルホニル
クロリド ４−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスルホニル
クロリド ４−（Ｎ−メトキシスルファモイル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド ４−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼンスル
ホニルクロリド ４−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼンスル
ホニルクロリド ４−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド ４−（１−ピロリジニルカルボニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド ３−シアノベンゼンスルホニルクロリド ４−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホニルクロリド ４−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチル］ベ
ンゼンスルホニルクロリド
【００８２】製造例７３−シアノ−７−ニトロ−１Ｈ−インドール
【００８３】
【化２５】
【００８４】３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インド
ール 10.15ｇ（53.4ミリモル）をジメチルホルムアミド
150mlに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩3.93ｇ（5
6.0ミリモル）とピリジン 4.5ml（55.6ミリモル）を加
えた。70−80℃で２時間加熱攪拌後、二酸化セレン 6.3
ｇ（56.8ミリモル）と硫酸マグネシウム約５ｇを加え
た。70−80℃でさらに 2.5時間加熱後、不溶物を濾去
し、濃縮した。水を加えて析出した結晶を濾取し、水、
エチルエーテルで順次洗浄した。結晶をテトラヒドロフ
ランとアセトンの混液に溶解し、不溶物を濾去した。濃
縮後、酢酸エチルを加え結晶を濾取し、表題化合物8.61
ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.48(1H, t, J=8.1Hz), 8.
17(1H, d, J=8.1Hz), 8.27(1H, d, J=8.1Hz), 8.47(1H,
s), 12.70-13.00(1H, br)
ール 10.15ｇ（53.4ミリモル）をジメチルホルムアミド
150mlに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩3.93ｇ（5
6.0ミリモル）とピリジン 4.5ml（55.6ミリモル）を加
えた。70−80℃で２時間加熱攪拌後、二酸化セレン 6.3
ｇ（56.8ミリモル）と硫酸マグネシウム約５ｇを加え
た。70−80℃でさらに 2.5時間加熱後、不溶物を濾去
し、濃縮した。水を加えて析出した結晶を濾取し、水、
エチルエーテルで順次洗浄した。結晶をテトラヒドロフ
ランとアセトンの混液に溶解し、不溶物を濾去した。濃
縮後、酢酸エチルを加え結晶を濾取し、表題化合物8.61
ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.48(1H, t, J=8.1Hz), 8.
17(1H, d, J=8.1Hz), 8.27(1H, d, J=8.1Hz), 8.47(1H,
s), 12.70-13.00(1H, br)
【００８５】製造例８７−アミノ−３−シアノ−１Ｈ−インドール
【００８６】
【化２６】
【００８７】製造例７の化合物2.80ｇ（15.0ミリモル）
をメタノール 100mlに懸濁し、パラジウム−炭素存在下
常温常圧で水素添加した。触媒を濾別後、濃縮乾固し、
表題化合物2.31ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.32, 5.34(2H, s+s), 6.4
7(1H, d, J=7.5Hz), 6.81(1H, d, J=7.9Hz), 6.94(1H,
dd, J=7.9, 7.5Hz), 8.13(1H, s), 11.55-11.90(1H, b
r),
をメタノール 100mlに懸濁し、パラジウム−炭素存在下
常温常圧で水素添加した。触媒を濾別後、濃縮乾固し、
表題化合物2.31ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.32, 5.34(2H, s+s), 6.4
7(1H, d, J=7.5Hz), 6.81(1H, d, J=7.9Hz), 6.94(1H,
dd, J=7.9, 7.5Hz), 8.13(1H, s), 11.55-11.90(1H, b
r),
【００８８】製造例９７−アミノ−３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドール
【００８９】
【化２７】
【００９０】２−ブロモ−５−クロロニトロベンゼンか
ら製造例１と同様にして得られた７−ブロモ−４−クロ
ロ−１Ｈ−インドールを製造例３と同様にしてまず塩素
化し、ついで製造例２と同様にしてブロモ基をアミノ基
へ変換することにより表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.26(2H, s), 6.29(1H, d,
J=8.1Hz), 6.74(1H, d,J=8.1Hz), 7.45-7.51(1H, m),
11.08-11.27(1H, m)
ら製造例１と同様にして得られた７−ブロモ−４−クロ
ロ−１Ｈ−インドールを製造例３と同様にしてまず塩素
化し、ついで製造例２と同様にしてブロモ基をアミノ基
へ変換することにより表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.26(2H, s), 6.29(1H, d,
J=8.1Hz), 6.74(1H, d,J=8.1Hz), 7.45-7.51(1H, m),
11.08-11.27(1H, m)
【００９１】同様にして、７−アミノ−４−ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリルオキシ−３−クロロ−１Ｈ−イン
ドールを合成した。
ブチルジメチルシリルオキシ−３−クロロ−１Ｈ−イン
ドールを合成した。
【００９２】製造例１０７−アミノ−３−クロロ−１Ｈ−インドール
【００９３】
【化２８】
【００９４】７−ニトロ−１Ｈ−インドール 1.076g
（6.64ミリモル）をアセトニトリル 30ml に溶解し、Ｎ
−クロロコハク酸イミド920mg （6.89ミリモル）を加え
た。室温で36時間攪拌後、飽和重曹水を加え、沈殿を濾
取、水洗し、３−クロロ−７−ニトロ−１Ｈ−インドー
ル1.2gを得た。この粉末863mg （4.39ミリモル）をエタ
ノール10mlに懸濁し、塩化第一スズ・２水和物4.95g
（21.9ミリモル）と濃塩酸100 μl を加えた。30分間加
熱還流後、飽和重曹水を加え、不溶物を濾去した。酢酸
エチルを加えて抽出後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表
題化合物490mg を得た。表題化合物は３−クロロ−７−
ニトロ−１Ｈ−インド−ルを白金−炭素触媒存在下常温
常圧で水素添加しても得られた。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.14(2H, s), 6.36(1H, d
d, J=7.5, 1.0Hz), 6.68(1H, dd, J=7.9, 0.73Hz), 6.8
1(1H, dd, J=7.9, 7.5Hz), 7.39(1H, d, J=2.7Hz), 10.
85(1H, br s)
（6.64ミリモル）をアセトニトリル 30ml に溶解し、Ｎ
−クロロコハク酸イミド920mg （6.89ミリモル）を加え
た。室温で36時間攪拌後、飽和重曹水を加え、沈殿を濾
取、水洗し、３−クロロ−７−ニトロ−１Ｈ−インドー
ル1.2gを得た。この粉末863mg （4.39ミリモル）をエタ
ノール10mlに懸濁し、塩化第一スズ・２水和物4.95g
（21.9ミリモル）と濃塩酸100 μl を加えた。30分間加
熱還流後、飽和重曹水を加え、不溶物を濾去した。酢酸
エチルを加えて抽出後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表
題化合物490mg を得た。表題化合物は３−クロロ−７−
ニトロ−１Ｈ−インド−ルを白金−炭素触媒存在下常温
常圧で水素添加しても得られた。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.14(2H, s), 6.36(1H, d
d, J=7.5, 1.0Hz), 6.68(1H, dd, J=7.9, 0.73Hz), 6.8
1(1H, dd, J=7.9, 7.5Hz), 7.39(1H, d, J=2.7Hz), 10.
85(1H, br s)
【００９５】製造例１１４−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスルホニル
クロリド
クロリド
【００９６】
【化２９】
【００９７】クロロスルホン酸 2.4ｇ（36.5ミリモル）
に、氷冷下２−フェニルエタンスルホンアミド 1.3ｇ
（7.3 ミリモル）を20分かけて加え、室温でさらに90分
攪拌した。反応混合液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出
し、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、表題化合物 1.6
ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.97-3.02(2H, m), 3.21-
3.26(2H, m), 7.21(2H, d, J=8.4Hz), 7.53(2H, d, J=
8.4Hz)
に、氷冷下２−フェニルエタンスルホンアミド 1.3ｇ
（7.3 ミリモル）を20分かけて加え、室温でさらに90分
攪拌した。反応混合液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出
し、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、表題化合物 1.6
ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.97-3.02(2H, m), 3.21-
3.26(2H, m), 7.21(2H, d, J=8.4Hz), 7.53(2H, d, J=
8.4Hz)
【００９８】同様にして以下の原料化合物を合成した。 ４−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスル
ホニルクロリド ４−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）エチ
ル］ベンゼンスルホニルクロリド ４−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベンゼン
スルホニルクロリド ４−（Ｎ−メチルアセトアミド）ベンゼンスルホニルク
ロリド
ホニルクロリド ４−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）エチ
ル］ベンゼンスルホニルクロリド ４−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベンゼン
スルホニルクロリド ４−（Ｎ−メチルアセトアミド）ベンゼンスルホニルク
ロリド
【００９９】製造例１２５−ブロモ−７−ニトロ−１Ｈ−インドール
【０１００】
【化３０】
【０１０１】１−アセチル−５−ブロモ−７−ニトロイ
ンドリン5.05ｇ（17.7ミリモル）をエタノール６mlと６
Ｎ塩酸40mlの混液に加え、３時間加熱還流した。炭酸ナ
トリウムを加えて中和後、酢酸エチルで抽出し、水洗、
硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、５−ブロモ−７−ニト
ロインドリン4.13ｇを得た。この化合物 301mg（1.24ミ
リモル）をトルエン10mlに加え、次に２，３−ジクロロ
−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン 580mg（2.
55ミリモル）を加えた。攪拌しながら 3.5時間加熱還流
後、不溶物を濾去し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 252mgを得
た。
ンドリン5.05ｇ（17.7ミリモル）をエタノール６mlと６
Ｎ塩酸40mlの混液に加え、３時間加熱還流した。炭酸ナ
トリウムを加えて中和後、酢酸エチルで抽出し、水洗、
硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、５−ブロモ−７−ニト
ロインドリン4.13ｇを得た。この化合物 301mg（1.24ミ
リモル）をトルエン10mlに加え、次に２，３−ジクロロ
−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン 580mg（2.
55ミリモル）を加えた。攪拌しながら 3.5時間加熱還流
後、不溶物を濾去し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 252mgを得
た。
【０１０２】製造例１３５−ブロモ−３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インド
ール
ール
【０１０３】
【化３１】
【０１０４】ジメチルホルムアミド 1.0ｇ（14ミリモ
ル）に窒素雰囲気下０℃でオキシ塩化リン 210mg（ 1.4
ミリモル）を加え、30分間攪拌した。製造例１２の化合
物 240mg（ 1.0ミリモル）を０℃で加え、０℃で20分
間、ついで 100℃で30分間攪拌した。反応混合液を氷冷
後氷水に注ぎ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えpH７
−８に保ちながら30分間攪拌した。生じた沈澱を濾取、
水洗後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、表題化合物 239mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 8.31(1H, d, J=1.8Hz), 8.
55(1H, s), 8.65(1H, d,J=1.8Hz), 10.05(1H, s), 12.8
9(1H, br s)
ル）に窒素雰囲気下０℃でオキシ塩化リン 210mg（ 1.4
ミリモル）を加え、30分間攪拌した。製造例１２の化合
物 240mg（ 1.0ミリモル）を０℃で加え、０℃で20分
間、ついで 100℃で30分間攪拌した。反応混合液を氷冷
後氷水に注ぎ、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えpH７
−８に保ちながら30分間攪拌した。生じた沈澱を濾取、
水洗後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
し、表題化合物 239mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 8.31(1H, d, J=1.8Hz), 8.
55(1H, s), 8.65(1H, d,J=1.8Hz), 10.05(1H, s), 12.8
9(1H, br s)
【０１０５】製造例１４７−アミノ−５−ブロモ−３−シアノ−１Ｈ−インドー
ル
ル
【０１０６】
【化３２】
【０１０７】製造例１３の化合物から製造例７と同様に
して得られた５−ブロモ−３−シアノ−７−ニトロ−１
Ｈ−インドール 214mg（ 0.8ミリモル）をメタノール10
mlとテトラヒドロフラン10mlの混液に溶解した。酸化白
金の存在下、3.0kg ／cm2 で水素添加後、触媒を濾去、
濃縮乾固し、表題化合物 189mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.68-5.71(2H, m), 6.60(1
H, d, J=2.0Hz), 6.91(1H, d, J=2.0Hz), 8.16(1H, s)
して得られた５−ブロモ−３−シアノ−７−ニトロ−１
Ｈ−インドール 214mg（ 0.8ミリモル）をメタノール10
mlとテトラヒドロフラン10mlの混液に溶解した。酸化白
金の存在下、3.0kg ／cm2 で水素添加後、触媒を濾去、
濃縮乾固し、表題化合物 189mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.68-5.71(2H, m), 6.60(1
H, d, J=2.0Hz), 6.91(1H, d, J=2.0Hz), 8.16(1H, s)
【０１０８】製造例１５３−アセチル−７−アミノ−１Ｈ−インドール
【０１０９】
【化３３】
【０１１０】窒素雰囲気下、７−ニトロ−１Ｈ−インド
ール 1.2ｇ（ 7.5ミリモル）のジクロロメタン溶液(50m
l)に０℃でジメチルアルミニウムクロリド 1.0Ｍヘキサ
ン溶液11ml（11ミリモル）を加えた。ついで、０℃で塩
化アセチル 2.1ml（29.5ミリモル）を加え、室温で４時
間攪拌した。反応系に飽和塩化アンモニウム水を加え、
生じた沈澱を濾取した。この沈澱を熱エタノールで十分
に洗浄し、洗液を濾液と合わせ、濃縮した。残渣に水を
加え、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３−アセチル
−７−ニトロ−１Ｈ−インドールを得た。これをメタノ
ール 100mlに溶解し、パラジウム−炭素存在下、常温常
圧で水素添加した。触媒を濾去後濃縮乾固し、表題化合
物 790mgを得た。
ール 1.2ｇ（ 7.5ミリモル）のジクロロメタン溶液(50m
l)に０℃でジメチルアルミニウムクロリド 1.0Ｍヘキサ
ン溶液11ml（11ミリモル）を加えた。ついで、０℃で塩
化アセチル 2.1ml（29.5ミリモル）を加え、室温で４時
間攪拌した。反応系に飽和塩化アンモニウム水を加え、
生じた沈澱を濾取した。この沈澱を熱エタノールで十分
に洗浄し、洗液を濾液と合わせ、濃縮した。残渣に水を
加え、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３−アセチル
−７−ニトロ−１Ｈ−インドールを得た。これをメタノ
ール 100mlに溶解し、パラジウム−炭素存在下、常温常
圧で水素添加した。触媒を濾去後濃縮乾固し、表題化合
物 790mgを得た。
【０１１１】実施例１Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）−４−ニトロベン
ゼンスルホンアミド
ゼンスルホンアミド
【０１１２】
【化３４】
【０１１３】製造例２の化合物1.50ｇ（11.3ミリモル）
をピリジン40mlに溶解し、室温攪拌下４−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロリド2.57ｇ（11.6ミリモル）を加え
た。室温で一晩攪拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸
エチルと 0.2Ｎ塩酸を加えた。有機層を分取、水洗、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクトマトグラフィーで精製し、表題化合
物3.50ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.42(1H, dd, J=2.8, 2.0H
z), 6.66(1H, d, J=7.6Hz), 6.83(1H, dd, J=8.0, 7.6H
z), 7.31(1H, dd, J=3.2, 2.8Hz), 7.36(1H, d,J=8.0H
z), 7.94-8.02(2H, m), 8.30-8.38(2H, m), 10.23(1H,
s), 10.74-10.87(1H, m)
をピリジン40mlに溶解し、室温攪拌下４−ニトロベンゼ
ンスルホニルクロリド2.57ｇ（11.6ミリモル）を加え
た。室温で一晩攪拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸
エチルと 0.2Ｎ塩酸を加えた。有機層を分取、水洗、硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクトマトグラフィーで精製し、表題化合
物3.50ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.42(1H, dd, J=2.8, 2.0H
z), 6.66(1H, d, J=7.6Hz), 6.83(1H, dd, J=8.0, 7.6H
z), 7.31(1H, dd, J=3.2, 2.8Hz), 7.36(1H, d,J=8.0H
z), 7.94-8.02(2H, m), 8.30-8.38(2H, m), 10.23(1H,
s), 10.74-10.87(1H, m)
【０１１４】実施例２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−ニトロベンゼンスルホンアミド
−ニトロベンゼンスルホンアミド
【０１１５】
【化３５】
【０１１６】実施例１の化合物8.98ｇ（28.3ミリモル）
をジクロロメタン 280mlとジメチルホルムアミド７mlの
混合溶媒に溶解し、窒素雰囲気下攪拌しながらＮ−クロ
ロコハク酸イミド4.16ｇ（31.2ミリモル) を加えた。室
温で 1.5時間攪拌後、水50mlを加え液量が約80mlになる
まで濃縮した。酢酸エチルと 0.2Ｎ塩酸を加えて有機層
を分取し、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した。硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合
物7.98ｇを得た。 融点：199.5-200.5 ℃ (クロロホルムから再結晶)1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.72(1H, d, J=7.6Hz), 6.
96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.31(1H, d, J=8.0Hz), 7.
47-7.53(1H, m), 7.92-8.02(2H, m), 8.30-8.41(2H,
m), 10.33(1H, s), 11.07-11.22(1H, m)
をジクロロメタン 280mlとジメチルホルムアミド７mlの
混合溶媒に溶解し、窒素雰囲気下攪拌しながらＮ−クロ
ロコハク酸イミド4.16ｇ（31.2ミリモル) を加えた。室
温で 1.5時間攪拌後、水50mlを加え液量が約80mlになる
まで濃縮した。酢酸エチルと 0.2Ｎ塩酸を加えて有機層
を分取し、飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した。硫
酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合
物7.98ｇを得た。 融点：199.5-200.5 ℃ (クロロホルムから再結晶)1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.72(1H, d, J=7.6Hz), 6.
96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.31(1H, d, J=8.0Hz), 7.
47-7.53(1H, m), 7.92-8.02(2H, m), 8.30-8.41(2H,
m), 10.33(1H, s), 11.07-11.22(1H, m)
【０１１７】実施例３４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド
−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１１８】
【化３６】
【０１１９】実施例２の化合物7.98ｇ（22.7ミリモル）
をメタノール 220mlに溶解し、攪拌しながら加熱還流し
た。これに10分間隔で濃塩酸10mlと亜鉛末7.40ｇを３回
加え、さらに10分間還流した。冷却後、大過剰の重曹を
加えて中和し、不溶物を濾取した。濾液を濃縮後、残渣
を酢酸エチルに溶解し、飽和重曹水、２Ｎ炭酸ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物7.21ｇを得
た。 融点：174.5-176 ℃（エタノール−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.97(2H, br s), 6.48(2H,
d, J=8.8Hz), 6.88(1H,d, J=7.6Hz), 6.95(1H, dd, J=
8.0, 7.6Hz), 7.19(1H, d, J=8.0Hz), 7.36(2H,d, J=8.
8Hz), 7.46(1H, d, J=2.4Hz), 9.56(1H, s), 10.86-10.
98(1H, m)
をメタノール 220mlに溶解し、攪拌しながら加熱還流し
た。これに10分間隔で濃塩酸10mlと亜鉛末7.40ｇを３回
加え、さらに10分間還流した。冷却後、大過剰の重曹を
加えて中和し、不溶物を濾取した。濾液を濃縮後、残渣
を酢酸エチルに溶解し、飽和重曹水、２Ｎ炭酸ナトリウ
ム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物7.21ｇを得
た。 融点：174.5-176 ℃（エタノール−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 5.97(2H, br s), 6.48(2H,
d, J=8.8Hz), 6.88(1H,d, J=7.6Hz), 6.95(1H, dd, J=
8.0, 7.6Hz), 7.19(1H, d, J=8.0Hz), 7.36(2H,d, J=8.
8Hz), 7.46(1H, d, J=2.4Hz), 9.56(1H, s), 10.86-10.
98(1H, m)
【０１２０】実施例４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミド
−（メタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミド
【０１２１】
【化３７】
【０１２２】実施例３の化合物68mg（ 0.211ミリモル）
をピリジン１mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド15
μl （ 0.194ミリモル）を加えた。室温で一晩攪拌後、
重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩
酸、水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃
縮後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製
し、表題化合物76mgを得た。 融点：213.5-214 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.08(3H, s), 6.83(1H, d,
J=7.5Hz), 6.96(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.23(2H, d,
J=8.8Hz), 7.24(1H, d, J=7.5Hz), 7.47(1H, d,J=2.7H
z), 7.68(2H, d, J=8.8Hz), 9.92(1H, br s), 10.38(1
H, br s), 10.99(1H, br s)
をピリジン１mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド15
μl （ 0.194ミリモル）を加えた。室温で一晩攪拌後、
重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩
酸、水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃
縮後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製
し、表題化合物76mgを得た。 融点：213.5-214 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.08(3H, s), 6.83(1H, d,
J=7.5Hz), 6.96(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.23(2H, d,
J=8.8Hz), 7.24(1H, d, J=7.5Hz), 7.47(1H, d,J=2.7H
z), 7.68(2H, d, J=8.8Hz), 9.92(1H, br s), 10.38(1
H, br s), 10.99(1H, br s)
【０１２３】実施例５４−ブロモメチル−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド
ル）ベンゼンスルホンアミド
【０１２４】
【化３８】
【０１２５】４−ブロモメチルベンゼンスルホニルクロ
リドと製造例２の化合物を等モルのピリジン存在下テト
ラヒドロフラン中室温で反応させ、実施例１と同様に処
理して表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.70(2H, s), 6.40(1H, d
d, J=3.1, 1.1Hz), 6.71(1H, ddd, J=7.4, 3.2, 0.92H
z), 6.81(1H, ddd, J=8.1, 7.4, 0.92Hz), 7.29-7.32(2
H, m), 7.57(2H, d, J=8.2Hz), 7.73(2H, d, J=8.4Hz),
9.96(1H, br s), 10.75(1H, br s)
リドと製造例２の化合物を等モルのピリジン存在下テト
ラヒドロフラン中室温で反応させ、実施例１と同様に処
理して表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.70(2H, s), 6.40(1H, d
d, J=3.1, 1.1Hz), 6.71(1H, ddd, J=7.4, 3.2, 0.92H
z), 6.81(1H, ddd, J=8.1, 7.4, 0.92Hz), 7.29-7.32(2
H, m), 7.57(2H, d, J=8.2Hz), 7.73(2H, d, J=8.4Hz),
9.96(1H, br s), 10.75(1H, br s)
【０１２６】実施例６Ｎ−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−インドール−２−オン
−７−イル）−４−メチルベンゼンスルホンアミド
−７−イル）−４−メチルベンゼンスルホンアミド
【０１２７】
【化３９】
【０１２８】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：246 ℃付近から徐々に分解し始め、267-269 ℃で
急速に分解（ジオキサンから再結晶）
急速に分解（ジオキサンから再結晶）
【０１２９】実施例７３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド
−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１３０】
【化４０】
【０１３１】実施例１と同様にして合成した３−クロロ
−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホ
ンアミド2.18ｇ（7.11ミリモル）を実施例２と同様にし
て塩素化し、表題化合物1.86ｇを得た。 融点：180-181 ℃（ジクロロメタン−ジイソプロピルエ
ーテルから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.73(1H, d, J=7.6Hz), 6.
97(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.
45-7.51(1H, m), 7.51-7.76(4H, m), 10.09(1H,s), 11.
02-11.18(1H, m)
−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホ
ンアミド2.18ｇ（7.11ミリモル）を実施例２と同様にし
て塩素化し、表題化合物1.86ｇを得た。 融点：180-181 ℃（ジクロロメタン−ジイソプロピルエ
ーテルから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.73(1H, d, J=7.6Hz), 6.
97(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.
45-7.51(1H, m), 7.51-7.76(4H, m), 10.09(1H,s), 11.
02-11.18(1H, m)
【０１３２】実施例８４−アミノ−Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドー
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１３３】
【化４１】
【０１３４】実施例１と同様にして合成したＮ−（３，
４−ジクロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４−ニ
トロベンゼンスルホンアミド2.43ｇ（6.29ミリモル）か
ら実施例３と同様にして表題化合物2.03ｇを得た。 融点：205-206.5 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.00(2H, s), 6.50(2H, d,
J=8.4Hz), 6.77(1H, d,J=8.0Hz), 6.94(1H, d, J=8.0H
z), 7.35(2H, d, J=8.4Hz), 7.51-7.58(1H, m),9.57(1
H, s), 11.20-11.38(1H, m)
４−ジクロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４−ニ
トロベンゼンスルホンアミド2.43ｇ（6.29ミリモル）か
ら実施例３と同様にして表題化合物2.03ｇを得た。 融点：205-206.5 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.00(2H, s), 6.50(2H, d,
J=8.4Hz), 6.77(1H, d,J=8.0Hz), 6.94(1H, d, J=8.0H
z), 7.35(2H, d, J=8.4Hz), 7.51-7.58(1H, m),9.57(1
H, s), 11.20-11.38(1H, m)
【０１３５】実施例９４−［Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）スルファモ
イル］安息香酸
イル］安息香酸
【０１３６】
【化４２】
【０１３７】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.40(1H, dd, J=2.9, 1.9H
z), 6.67(1H, d, J=7.5Hz), 6.82(1H, dd, J=7.9, 7.5H
z), 7.31(1H, dd, J=2.9, 2.7Hz), 7.33(1H, d,J=7.9H
z), 7.81-7.88(2H, m), 7.99-8.07(2H, m), 10.07(1H,
s), 10.73-10.83(1H, m), 13.30-13.58(1H, br)
z), 6.67(1H, d, J=7.5Hz), 6.82(1H, dd, J=7.9, 7.5H
z), 7.31(1H, dd, J=2.9, 2.7Hz), 7.33(1H, d,J=7.9H
z), 7.81-7.88(2H, m), 7.99-8.07(2H, m), 10.07(1H,
s), 10.73-10.83(1H, m), 13.30-13.58(1H, br)
【０１３８】実施例１０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−シアノベンゼンスルホンアミド
−シアノベンゼンスルホンアミド
【０１３９】
【化４３】
【０１４０】実施例１と同様にして合成した４−シアノ
−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホ
ンアミド 100mgから実施例２と同様にして表題化合物76
mgを得た。 融点：210-211 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H, dd, J=7.6, 0.8H
z), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0H
z), 7.48(1H, dd, J=2.4, 0.8Hz), 7.82-7.90(2H, m),
7.97-8.05(2H, m), 10.25(1H, s), 11.04-11.15(1H, m)
−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホ
ンアミド 100mgから実施例２と同様にして表題化合物76
mgを得た。 融点：210-211 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H, dd, J=7.6, 0.8H
z), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0H
z), 7.48(1H, dd, J=2.4, 0.8Hz), 7.82-7.90(2H, m),
7.97-8.05(2H, m), 10.25(1H, s), 11.04-11.15(1H, m)
【０１４１】実施例１１３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−４−メトキシ−１Ｈ−
インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１４２】
【化４４】
【０１４３】実施例１と同様にして合成した３−クロロ
−Ｎ−（４−メトキシ−１Ｈ−インドール−７−イル）
ベンゼンスルホンアミド 100mgから実施例２と同様にし
て表題化合物52mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.79(3H, s), 6.37(1H, d,
J=8.4Hz), 6.45(1H, d,J=8.4Hz), 7.24-7.31(1H, m),
7.48-7.77(4H, m), 9.76(1H, s), 11.06-11.17(1H, m)
−Ｎ−（４−メトキシ−１Ｈ−インドール−７−イル）
ベンゼンスルホンアミド 100mgから実施例２と同様にし
て表題化合物52mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.79(3H, s), 6.37(1H, d,
J=8.4Hz), 6.45(1H, d,J=8.4Hz), 7.24-7.31(1H, m),
7.48-7.77(4H, m), 9.76(1H, s), 11.06-11.17(1H, m)
【０１４４】実施例１２３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−４−ヒドロキシ−１Ｈ
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１４５】
【化４５】
【０１４６】実施例１と同様にして合成したＮ−（４−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−クロロ−
１Ｈ−インドール−７−イル）−３−クロロベンゼンス
ルホンアミド 220mg（0.47ミリモル）を40％フッ化水素
水溶液−アセトニトリル（１：10）混液（２ml）に加え
た。室温で一晩攪拌後、水を加えて酢酸エチルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物
141mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.15(1H, dd, J=8.2, 1.5H
z), 6.26(1H, d, J=8.2Hz), 7.12(1H, s), 7.47-7.64(4
H, m), 9.54(1H, s), 10.85(1H, s)
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−クロロ−
１Ｈ−インドール−７−イル）−３−クロロベンゼンス
ルホンアミド 220mg（0.47ミリモル）を40％フッ化水素
水溶液−アセトニトリル（１：10）混液（２ml）に加え
た。室温で一晩攪拌後、水を加えて酢酸エチルで抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物
141mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.15(1H, dd, J=8.2, 1.5H
z), 6.26(1H, d, J=8.2Hz), 7.12(1H, s), 7.47-7.64(4
H, m), 9.54(1H, s), 10.85(1H, s)
【０１４７】実施例１３Ｎ−（１Ｈ−インダゾール−７−イル）−４−メトキシ
ベンゼンスルホンアミド
ベンゼンスルホンアミド
【０１４８】
【化４６】
【０１４９】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：155-156 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.77(3H, s), 6.91-6.99(2
H, m), 6.98-7.07(2H, m), 7.45-7.53(1H, m), 7.64-7.
74(2H, m), 8.01-8.07(1H, m), 9.97(1H, s), 12.61-1
2.72(1H, m)
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.77(3H, s), 6.91-6.99(2
H, m), 6.98-7.07(2H, m), 7.45-7.53(1H, m), 7.64-7.
74(2H, m), 8.01-8.07(1H, m), 9.97(1H, s), 12.61-1
2.72(1H, m)
【０１５０】実施例１４６−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
【０１５１】
【化４７】
【０１５２】６−クロロ−３−ピリジンスルホニルクロ
リドと製造例２の化合物を実施例１と同様に反応させて
得られた６−クロロ−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−３−ピリジンスルホンアミドを実施例２と同様に
して塩素化し、表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.73(1H, d, J=7.7Hz), 6.
97(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.30(1H, d, J=7.9Hz), 7.
46(1H, d, J=2.6Hz), 7.67(1H, d, J=8.4Hz), 8.03(1H,
dd, J=8.4, 2.6Hz), 8.62(1H, d, J=2.6Hz), 10.18-1
0.34(1H, br), 11.06-11.17(1H, m)
リドと製造例２の化合物を実施例１と同様に反応させて
得られた６−クロロ−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−３−ピリジンスルホンアミドを実施例２と同様に
して塩素化し、表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.73(1H, d, J=7.7Hz), 6.
97(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.30(1H, d, J=7.9Hz), 7.
46(1H, d, J=2.6Hz), 7.67(1H, d, J=8.4Hz), 8.03(1H,
dd, J=8.4, 2.6Hz), 8.62(1H, d, J=2.6Hz), 10.18-1
0.34(1H, br), 11.06-11.17(1H, m)
【０１５３】実施例１５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルチオメチル）ベンゼンスルホンアミド
−（メチルチオメチル）ベンゼンスルホンアミド
【０１５４】
【化４８】
【０１５５】実施例５の化合物1.97ｇ（5.37ミリモル）
をテトラヒドロフラン10mlに溶解し、室温で15％ナトリ
ウムメチルチオラート水溶液10ml（39.4ミリモル）と触
媒量のメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを加え
一晩攪拌した。水20mlを加え、酢酸エチルで抽出し、有
機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｎ−（１
Ｈ−インドール−７−イル）−４−（メチルチオメチ
ル）ベンゼンスルホンアミド1.51ｇを得た。これを実施
例２と同様にして塩素化し、表題化合物 839mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.87(3H, s), 3.70(2H,
s), 6.77(1H, dd, J=7.6,2.1Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9,
7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.42(2H, d, J=8.2H
z), 7.47(1H, d, J=2.6Hz), 7.67(2H, d, J=8.4Hz), 9.
96(1H, br s), 11.01(1H, br s)
をテトラヒドロフラン10mlに溶解し、室温で15％ナトリ
ウムメチルチオラート水溶液10ml（39.4ミリモル）と触
媒量のメチルトリオクチルアンモニウムクロリドを加え
一晩攪拌した。水20mlを加え、酢酸エチルで抽出し、有
機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｎ−（１
Ｈ−インドール−７−イル）−４−（メチルチオメチ
ル）ベンゼンスルホンアミド1.51ｇを得た。これを実施
例２と同様にして塩素化し、表題化合物 839mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.87(3H, s), 3.70(2H,
s), 6.77(1H, dd, J=7.6,2.1Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9,
7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.42(2H, d, J=8.2H
z), 7.47(1H, d, J=2.6Hz), 7.67(2H, d, J=8.4Hz), 9.
96(1H, br s), 11.01(1H, br s)
【０１５６】実施例１６３−クロロ−Ｎ−（３−ホルミル−１Ｈ−インドール−
７−イル）ベンゼンスルホンアミド
７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１５７】
【化４９】
【０１５８】ジメチルホルムアミド14.5ml中に窒素雰囲
気下攪拌しながらオキシ塩化リン 1.3ml(13.9 ミリモ
ル）を10℃以下で滴下した。約５℃で30分間攪拌後、実
施例１と同様にして合成した３−クロロ−Ｎ−（１Ｈ−
インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド2.50ｇ
（8.15ミリモル）を３回に分けて加えた。約５℃でさら
に30分間攪拌後、冷水 200mlを加えた。１Ｎ水酸化ナト
リウム水溶液を加えて、反応混合物のpHを約14にし、つ
いで１Ｎ塩酸でpHを約２にした。酢酸エチルを加えて抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物1.45ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.70(1H, dd, J=7.6, 0.8H
z), 7.06(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.51-7.75(4H, m),
7.93(1H, d, J=8.0Hz), 8.22-8.28(1H, m), 9.93(1H,
s), 10.17(1H, s), 11.86-11.98(1H, m)
気下攪拌しながらオキシ塩化リン 1.3ml(13.9 ミリモ
ル）を10℃以下で滴下した。約５℃で30分間攪拌後、実
施例１と同様にして合成した３−クロロ−Ｎ−（１Ｈ−
インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド2.50ｇ
（8.15ミリモル）を３回に分けて加えた。約５℃でさら
に30分間攪拌後、冷水 200mlを加えた。１Ｎ水酸化ナト
リウム水溶液を加えて、反応混合物のpHを約14にし、つ
いで１Ｎ塩酸でpHを約２にした。酢酸エチルを加えて抽
出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウ
ムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物1.45ｇを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.70(1H, dd, J=7.6, 0.8H
z), 7.06(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.51-7.75(4H, m),
7.93(1H, d, J=8.0Hz), 8.22-8.28(1H, m), 9.93(1H,
s), 10.17(1H, s), 11.86-11.98(1H, m)
【０１５９】実施例１７３−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド
−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１６０】
【化５０】
【０１６１】実施例１６の化合物1.20ｇ（3.58ミリモ
ル）のジメチルホルムアミド溶液（18ml) に攪拌下70〜
80℃でヒドロキシルアミン塩酸塩 274mg（3.94ミリモ
ル）とピリジン0.32ml（3.96ミリモル）を加えた。その
まま 2.5時間攪拌した後、二酸化セレン 437mg（3.94ミ
リモル）と硫酸マグネシウム粉末約 100mgを加えた。さ
らに２時間同温で攪拌した後、溶媒を減圧留去し、残渣
に酢酸エチルを加えて不溶物を濾取した。濾液を 0.1Ｎ
塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 678mgを得た。 融点：204.5-205 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H, d, J=7.6Hz), 7.
08(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.47(1H, d, J=8.0Hz), 7.
50-7.76(4H, m), 8.17-8.25(1H, m), 10.21(1H,s), 11.
92-12.09(1H, m)
ル）のジメチルホルムアミド溶液（18ml) に攪拌下70〜
80℃でヒドロキシルアミン塩酸塩 274mg（3.94ミリモ
ル）とピリジン0.32ml（3.96ミリモル）を加えた。その
まま 2.5時間攪拌した後、二酸化セレン 437mg（3.94ミ
リモル）と硫酸マグネシウム粉末約 100mgを加えた。さ
らに２時間同温で攪拌した後、溶媒を減圧留去し、残渣
に酢酸エチルを加えて不溶物を濾取した。濾液を 0.1Ｎ
塩酸、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 678mgを得た。 融点：204.5-205 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H, d, J=7.6Hz), 7.
08(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.47(1H, d, J=8.0Hz), 7.
50-7.76(4H, m), 8.17-8.25(1H, m), 10.21(1H,s), 11.
92-12.09(1H, m)
【０１６２】実施例１８６−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
【０１６３】
【化５１】
【０１６４】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.77(1H, d, J=7.9Hz), 7.
12(1H, t, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=7.9Hz), 7.72(1H,
d, J=8.4Hz), 8.06(1H, dd, J=8.4, 2.6Hz), 8.23(1H,
d, J=2.6Hz), 8.65(1H, d, J=2.6Hz), 10.34-10.48(1
H, br), 11.98-12.12(1H, m)
12(1H, t, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=7.9Hz), 7.72(1H,
d, J=8.4Hz), 8.06(1H, dd, J=8.4, 2.6Hz), 8.23(1H,
d, J=2.6Hz), 8.65(1H, d, J=2.6Hz), 10.34-10.48(1
H, br), 11.98-12.12(1H, m)
【０１６５】実施例１９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−スルファモイルベンゼンスルホンアミド
−スルファモイルベンゼンスルホンアミド
【０１６６】
【化５２】
【０１６７】製造例５の化合物 767mg（3.0 ミリモル）
と製造例２の化合物 264mg（2.0 ミリモル）を実施例１
と同様に反応させ、処理し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−
７−イル）−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミ
ド 445mgを得た。これを実施例２と同様にして塩素化
し、表題化合物 349mgを得た。 融点：220 ℃付近から部分的に黒く着色し始め、240 ℃
付近より徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.75(1H, d, J=7.6Hz), 6.
96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.29(1H, d, J=7.6Hz), 7.
50(1H, d, J=2.8Hz), 7.58(2H, s), 7.90-7.98(4H, m),
10.23(1H, s), 11.07-11.17(1H, m)
と製造例２の化合物 264mg（2.0 ミリモル）を実施例１
と同様に反応させ、処理し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−
７−イル）−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミ
ド 445mgを得た。これを実施例２と同様にして塩素化
し、表題化合物 349mgを得た。 融点：220 ℃付近から部分的に黒く着色し始め、240 ℃
付近より徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.75(1H, d, J=7.6Hz), 6.
96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.29(1H, d, J=7.6Hz), 7.
50(1H, d, J=2.8Hz), 7.58(2H, s), 7.90-7.98(4H, m),
10.23(1H, s), 11.07-11.17(1H, m)
【０１６８】実施例２０３−クロロ−Ｎ−（８−イミダゾ［１，２−ａ］ピリジ
ニル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩
ニル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩
【０１６９】
【化５３】
【０１７０】２，３−ジアミノピリジン1.97ｇ（18ミリ
モル）をテトラヒドロフランと水の混液に溶解し、３−
クロロベンゼンスルホニルクロリド1.90ｇ（9.0 ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン溶液を加えた。室温で一晩攪
拌後、濃縮し、水とジクロロメタンを加えた。有機層を
分取し、器壁をこすり、析出した結晶を濾取し、Ｎ−
（２−アミノ−３−ピリジニル）−３−クロロベンゼン
スルホンアミド1.41ｇを得た。この結晶 530mg（1.87ミ
リモル）をメタノールに溶解し、40％クロロアセトアル
デヒド水溶液 367mg（1.87ミリモル）を加えた。４時間
加熱還流後、濃縮乾固し、残渣にメタノール少量を加
え、結晶を濾取し、表題化合物 373mgを得た。 融点：210 ℃付近より徐々に分解（エタノールから再結
晶）
モル）をテトラヒドロフランと水の混液に溶解し、３−
クロロベンゼンスルホニルクロリド1.90ｇ（9.0 ミリモ
ル）のテトラヒドロフラン溶液を加えた。室温で一晩攪
拌後、濃縮し、水とジクロロメタンを加えた。有機層を
分取し、器壁をこすり、析出した結晶を濾取し、Ｎ−
（２−アミノ−３−ピリジニル）−３−クロロベンゼン
スルホンアミド1.41ｇを得た。この結晶 530mg（1.87ミ
リモル）をメタノールに溶解し、40％クロロアセトアル
デヒド水溶液 367mg（1.87ミリモル）を加えた。４時間
加熱還流後、濃縮乾固し、残渣にメタノール少量を加
え、結晶を濾取し、表題化合物 373mgを得た。 融点：210 ℃付近より徐々に分解（エタノールから再結
晶）
【０１７１】実施例２１Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミド
ル）−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミド
【０１７２】
【化５４】
【０１７３】製造例５の化合物 429mg（1.68ミリモル）
と製造例９の化合物 250mg（1.24ミリモル）を実施例１
と同様に反応させ、処理し、表題化合物 200mgを得た。 融点： 282℃付近より着色し始め、徐々に分解（エタノ
ール−エチルエーテルから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.62(1H, d, J=8.1Hz), 6.
95(1H, d, J=8.1Hz), 7.53-7.62(3H, m), 7.87-7.99(4
H, m), 10.17-10.33(1H, br), 11.44-11.56(1H, m)
と製造例９の化合物 250mg（1.24ミリモル）を実施例１
と同様に反応させ、処理し、表題化合物 200mgを得た。 融点： 282℃付近より着色し始め、徐々に分解（エタノ
ール−エチルエーテルから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.62(1H, d, J=8.1Hz), 6.
95(1H, d, J=8.1Hz), 7.53-7.62(3H, m), 7.87-7.99(4
H, m), 10.17-10.33(1H, br), 11.44-11.56(1H, m)
【０１７４】実施例２２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルチオ）ベンゼンスルホンアミド
−（メチルチオ）ベンゼンスルホンアミド
【０１７５】
【化５５】
【０１７６】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.48(3H, s), 6.82(1H, d
d, J=7.9, 1.5Hz), 6.96(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.25
(1H, dd, J=7.9, 0.92Hz), 7.33(2H, d, J=8.8Hz), 7.4
9(1H, d, J=2.7Hz), 7.62(2H, d, J=8.6Hz), 9.96(1H,
br s), 11.02(1H,br s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.48(3H, s), 6.82(1H, d
d, J=7.9, 1.5Hz), 6.96(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.25
(1H, dd, J=7.9, 0.92Hz), 7.33(2H, d, J=8.8Hz), 7.4
9(1H, d, J=2.7Hz), 7.62(2H, d, J=8.6Hz), 9.96(1H,
br s), 11.02(1H,br s)
【０１７７】実施例２３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド
−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド
【０１７８】
【化５６】
【０１７９】実施例２２の化合物54.2mg（0.154 ミリモ
ル）をメタノール２mlと水 1.2mlの混液に溶解し、室温
でモリブデン酸アンモニウム・４水和物30mgと30％過酸
化水素水 0.6mlを加えた。一晩攪拌後、水を加え、酢酸
エチルで抽出、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃
縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物29.4mgを得た。 融点： 250℃付近より着色し始め、 264-266℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.28(3H, s), 6.75(1H, d,
J=7.7Hz), 6.97(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.30(1H, d,
J=8.1Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.97(2H, d,J=8.2H
z), 8.09(2H, d, J=8.4Hz), 10.29(1H, br s), 11.12(1
H, br s)
ル）をメタノール２mlと水 1.2mlの混液に溶解し、室温
でモリブデン酸アンモニウム・４水和物30mgと30％過酸
化水素水 0.6mlを加えた。一晩攪拌後、水を加え、酢酸
エチルで抽出、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃
縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物29.4mgを得た。 融点： 250℃付近より着色し始め、 264-266℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.28(3H, s), 6.75(1H, d,
J=7.7Hz), 6.97(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.30(1H, d,
J=8.1Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.97(2H, d,J=8.2H
z), 8.09(2H, d, J=8.4Hz), 10.29(1H, br s), 11.12(1
H, br s)
【０１８０】実施例２４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルフィニル）ベンゼンスルホンアミド
−（メチルスルフィニル）ベンゼンスルホンアミド
【０１８１】
【化５７】
【０１８２】実施例２２の化合物19.9mg（0.056 ミリモ
ル）をジクロロメタン２mlに溶解し、氷冷下攪拌しなが
らｍ−クロロ過安息香酸10mg（0.058 ミリモル）を加え
た。１時間後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出、
水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィーで精製し、表題化合物14.4mg
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.76(3H, s), 6.78(1H, d
d, J=7.5, 1.1Hz), 6.96(1H, dt, Jd=0.55Hz, Jt=7.8H
z), 7.28(1H, dd, J=7.6, 0.82Hz), 7.48(1H, d, J=2.7
Hz), 7.82(2H, d, J=8.6Hz), 7.89(2H, d, J=8.8Hz), 1
0.15(1H, br s), 11.06(1H, br s)
ル）をジクロロメタン２mlに溶解し、氷冷下攪拌しなが
らｍ−クロロ過安息香酸10mg（0.058 ミリモル）を加え
た。１時間後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出、
水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲ
ル薄層クロマトグラフィーで精製し、表題化合物14.4mg
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.76(3H, s), 6.78(1H, d
d, J=7.5, 1.1Hz), 6.96(1H, dt, Jd=0.55Hz, Jt=7.8H
z), 7.28(1H, dd, J=7.6, 0.82Hz), 7.48(1H, d, J=2.7
Hz), 7.82(2H, d, J=8.6Hz), 7.89(2H, d, J=8.8Hz), 1
0.15(1H, br s), 11.06(1H, br s)
【０１８３】実施例２５３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−ピロロ［３，２
−ｃ］ピリジン−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
−ｃ］ピリジン−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１８４】
【化５８】
【０１８５】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.41-7.65(2H, m), 7.65-
7.77(2H, m), 7.74-7.86(2H, m), 8.40-8.62(1H, br
m), 12.38-12.58(1H, br), 13.56-13.74(1H, br)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.41-7.65(2H, m), 7.65-
7.77(2H, m), 7.74-7.86(2H, m), 8.40-8.62(1H, br
m), 12.38-12.58(1H, br), 13.56-13.74(1H, br)
【０１８６】実施例２６４−アセトアミド−Ｎ−（３−クロロ−４−メチル−１
Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１８７】
【化５９】
【０１８８】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：225 ℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.03(3H, s), 2.56(3H,
s), 6.54-6.60(2H, m), 7.33(1H, d, J=2.6Hz), 7.60(2
H, d, J=9.0Hz), 7.64(2H, d, J=9.0Hz), 9.63(1H,br
s), 10.24(1H, br s), 10.92(1H, br s)
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.03(3H, s), 2.56(3H,
s), 6.54-6.60(2H, m), 7.33(1H, d, J=2.6Hz), 7.60(2
H, d, J=9.0Hz), 7.64(2H, d, J=9.0Hz), 9.63(1H,br
s), 10.24(1H, br s), 10.92(1H, br s)
【０１８９】実施例２７４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−４−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１９０】
【化６０】
【０１９１】実施例２６の化合物3.75ｇ（9.9 ミリモ
ル）を２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液25mlに溶解し、100
℃で２時間攪拌した。室温にもどした後、酢酸を加えて
pH６にし、生じた沈澱を濾取、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、表題化合物 1.1ｇを得た。 融点：230 ℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.56(3H, s), 5.93(2H, br
s), 6.46(2H, d, J=8.8Hz), 6.59(1H, d, J=7.8Hz),
6.64(1H, d, J=7.8Hz), 7.31(2H, d, J=8.8Hz), 7.36(1
H, d, J=2.9Hz), 9.34(1H, br s), 10.88(1H, br s)
ル）を２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液25mlに溶解し、100
℃で２時間攪拌した。室温にもどした後、酢酸を加えて
pH６にし、生じた沈澱を濾取、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、表題化合物 1.1ｇを得た。 融点：230 ℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.56(3H, s), 5.93(2H, br
s), 6.46(2H, d, J=8.8Hz), 6.59(1H, d, J=7.8Hz),
6.64(1H, d, J=7.8Hz), 7.31(2H, d, J=8.8Hz), 7.36(1
H, d, J=2.9Hz), 9.34(1H, br s), 10.88(1H, br s)
【０１９２】実施例２８４−シアノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド
−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１９３】
【化６１】
【０１９４】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点：250.5-252 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.67(1H, d, J=7.7Hz), 7.
05(1H, t, J=7.9Hz), 7.44(1H, d, J=7.7Hz), 7.78-7.8
7(2H, m), 7.97-8.05(2H, m), 8.16-8.23(1H, m), 10.2
8-10.43(1H, br), 11.92-12.09(1H, m)
結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.67(1H, d, J=7.7Hz), 7.
05(1H, t, J=7.9Hz), 7.44(1H, d, J=7.7Hz), 7.78-7.8
7(2H, m), 7.97-8.05(2H, m), 8.16-8.23(1H, m), 10.2
8-10.43(1H, br), 11.92-12.09(1H, m)
【０１９５】実施例２９４−カルバモイル−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドー
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０１９６】
【化６２】
【０１９７】実施例１０の化合物 1.0ｇ（3.01ミリモ
ル）をエタノール4.8ml に加えた液に攪拌しながら30％
過酸化水素水 2.4mlと６Ｎ水酸化ナトリウム水溶液 360
μl を各々３回に分けて加えた（反応温度約50℃）。50
℃でさらに30分間攪拌後、希塩酸を加えて酸性にし、酢
酸エチルで抽出した。有機層を分取、水洗、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、表題化合物 600mgを得た。 融点：248 ℃付近から着色、分解し始め、252.5-253.5
℃で急速に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.76(1H, d, J=7.5Hz), 6.
95(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.27(1H, d, J=8.1Hz), 7.
49(1H, d, J=2.6Hz), 7.59(1H, br s), 7.76-7.83(2H,
m), 7.91-7.98(2H, m), 8.12(1H, br s), 10.10(1H,
s), 11.01-11.12(1H, m)
ル）をエタノール4.8ml に加えた液に攪拌しながら30％
過酸化水素水 2.4mlと６Ｎ水酸化ナトリウム水溶液 360
μl を各々３回に分けて加えた（反応温度約50℃）。50
℃でさらに30分間攪拌後、希塩酸を加えて酸性にし、酢
酸エチルで抽出した。有機層を分取、水洗、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製し、表題化合物 600mgを得た。 融点：248 ℃付近から着色、分解し始め、252.5-253.5
℃で急速に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.76(1H, d, J=7.5Hz), 6.
95(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.27(1H, d, J=8.1Hz), 7.
49(1H, d, J=2.6Hz), 7.59(1H, br s), 7.76-7.83(2H,
m), 7.91-7.98(2H, m), 8.12(1H, br s), 10.10(1H,
s), 11.01-11.12(1H, m)
【０１９８】実施例３０Ｎ−（４−ブロモ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−ニトロベンゼンスルホンアミド
−ニトロベンゼンスルホンアミド
【０１９９】
【化６３】
【０２００】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.35-6.41(1H, m), 6.56(1
H, d, J=8.4Hz), 7.06(1H, dd, J=8.4, 0.8Hz), 7.41-
7.48(1H, m), 7.92-8.02(2H, m), 8.30-8.41(2H,m), 1
0.34(1H, s), 11.18-11.32(1H, m)
H, d, J=8.4Hz), 7.06(1H, dd, J=8.4, 0.8Hz), 7.41-
7.48(1H, m), 7.92-8.02(2H, m), 8.30-8.41(2H,m), 1
0.34(1H, s), 11.18-11.32(1H, m)
【０２０１】実施例３１Ｎ−（３−クロロ−４−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミド
−イル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミド
【０２０２】
【化６４】
【０２０３】実施例３０の化合物 200mg（0.505 ミリモ
ル）をＮ−メチルピロリドン0.8mlに溶解し、シアン化
第一銅83mg（0.91ミリモル）を加えた。180-190 ℃で３
時間攪拌後、氷水40mlを加え不溶物を濾取、水洗した。
不溶物を熱エタノールと熱クロロホルムで抽出し、濃縮
後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製
し、Ｎ−（４−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）
−４−ニトロベンゼンスルホンアミド65mgを得た。これ
を実施例２と同様にして塩素化し、表題化合物42mgを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.98(1H, d, J=8.0Hz), 7.
51(1H, d, J=8.0Hz), 7.79(1H, d, J=2.8Hz), 7.99-8.0
8(2H, m), 8.31-8.40(2H, m), 10.75-10.95(1H,br), 1
1.62-11.73(1H, m)
ル）をＮ−メチルピロリドン0.8mlに溶解し、シアン化
第一銅83mg（0.91ミリモル）を加えた。180-190 ℃で３
時間攪拌後、氷水40mlを加え不溶物を濾取、水洗した。
不溶物を熱エタノールと熱クロロホルムで抽出し、濃縮
後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製
し、Ｎ−（４−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）
−４−ニトロベンゼンスルホンアミド65mgを得た。これ
を実施例２と同様にして塩素化し、表題化合物42mgを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.98(1H, d, J=8.0Hz), 7.
51(1H, d, J=8.0Hz), 7.79(1H, d, J=2.8Hz), 7.99-8.0
8(2H, m), 8.31-8.40(2H, m), 10.75-10.95(1H,br), 1
1.62-11.73(1H, m)
【０２０４】実施例３２４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−４−シアノ−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０２０５】
【化６５】
【０２０６】実施例３１の化合物から実施例３と同様に
して表題化合物を得た。 融点：232 ℃付近から徐々に分解し始め、249.5-255 ℃
で急速に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.09(2H, s), 6.52(2H, d,
J=8.8Hz), 7.10(1H, d,J=8.4Hz), 7.46(2H, d, J=8.8H
z), 7.50(1H, d, J=8.4Hz), 7.72-7.79(1H, m),10.20(1
H, s), 11.40-11.59(1H, m)
して表題化合物を得た。 融点：232 ℃付近から徐々に分解し始め、249.5-255 ℃
で急速に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.09(2H, s), 6.52(2H, d,
J=8.8Hz), 7.10(1H, d,J=8.4Hz), 7.46(2H, d, J=8.8H
z), 7.50(1H, d, J=8.4Hz), 7.72-7.79(1H, m),10.20(1
H, s), 11.40-11.59(1H, m)
【０２０７】実施例３３６−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
【０２０８】
【化６６】
【０２０９】実施例１４の化合物2.48ｇ（7.25ミリモ
ル）とヨウ化リチウム679mg （5.07ミリモル）をエタノ
ール25mlに加えた。液体アンモニア10mlを加えて封管中
120 ℃で26時間加熱後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに
溶解し、飽和重曹水、水で順次洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、表題化合物982mg を得た。 融点：206-207 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.37(1H, d, J=8.8Hz), 6.
83-6.94(1H, m), 6.88(2H, br s), 6.99(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.25(1H, dd, J=7.9, 0.7Hz), 7.48(1H, d,
J=2.7Hz), 7.56(1H, dd, J=8.8, 2.4Hz), 8.14(1H, d,
J=2.4Hz), 9.70(1H, s), 10.92-11.03(1H, m)
ル）とヨウ化リチウム679mg （5.07ミリモル）をエタノ
ール25mlに加えた。液体アンモニア10mlを加えて封管中
120 ℃で26時間加熱後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに
溶解し、飽和重曹水、水で順次洗浄、硫酸マグネシウム
で乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、表題化合物982mg を得た。 融点：206-207 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.37(1H, d, J=8.8Hz), 6.
83-6.94(1H, m), 6.88(2H, br s), 6.99(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.25(1H, dd, J=7.9, 0.7Hz), 7.48(1H, d,
J=2.7Hz), 7.56(1H, dd, J=8.8, 2.4Hz), 8.14(1H, d,
J=2.4Hz), 9.70(1H, s), 10.92-11.03(1H, m)
【０２１０】実施例３４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルフィニルメチル）ベンゼンスルホンアミ
ド
−（メチルスルフィニルメチル）ベンゼンスルホンアミ
ド
【０２１１】
【化６７】
【０２１２】実施例１５の化合物を実施例２４と同様に
酸化して表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.41(3H, s), 3.98(1H, d,
J=12.6Hz), 4.18(1H, d, J=12.8Hz), 6.77(1H, d, J=
7.5Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H,d, J=
7.9Hz), 7.43(2H, d, J=8.1Hz), 7.47(1H, d, J=2.8H
z), 7.73(2H, d, J=8.1Hz), 10.01(1H, br s), 11.03(1
H, br s)
酸化して表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.41(3H, s), 3.98(1H, d,
J=12.6Hz), 4.18(1H, d, J=12.8Hz), 6.77(1H, d, J=
7.5Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H,d, J=
7.9Hz), 7.43(2H, d, J=8.1Hz), 7.47(1H, d, J=2.8H
z), 7.73(2H, d, J=8.1Hz), 10.01(1H, br s), 11.03(1
H, br s)
【０２１３】実施例３５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスルホンアミ
ド
−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスルホンアミ
ド
【０２１４】
【化６８】
【０２１５】製造例１１の化合物865mg(3.05ミリモル）
と製造例２の化合物376mg(2.84ミリモル) を実施例１と
同様に反応させ、処理して得られたＮ−（１Ｈ−インド
ール−７−イル）−４−（２−スルファモイルエチル）
ベンゼンスルホンアミド957mg 実施例２と同様に塩素化
して表題化合物 980mgを得た。 融点：217-219 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.01-3.06(2H, m), 3.23-
3.28(2H, m), 6.81(1H, dd, J=7.5, 0.37Hz), 6.88(2H,
br s), 6.95(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.24(1H,dd, J=
7.8, 0.37Hz), 7.42(2H, d, J=8.4Hz), 7.49(1H, d, J=
2.6Hz), 7.68(2H,d, J=8.2Hz), 9.99(1H, br s), 11.02
(1H, br s)
と製造例２の化合物376mg(2.84ミリモル) を実施例１と
同様に反応させ、処理して得られたＮ−（１Ｈ−インド
ール−７−イル）−４−（２−スルファモイルエチル）
ベンゼンスルホンアミド957mg 実施例２と同様に塩素化
して表題化合物 980mgを得た。 融点：217-219 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.01-3.06(2H, m), 3.23-
3.28(2H, m), 6.81(1H, dd, J=7.5, 0.37Hz), 6.88(2H,
br s), 6.95(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.24(1H,dd, J=
7.8, 0.37Hz), 7.42(2H, d, J=8.4Hz), 7.49(1H, d, J=
2.6Hz), 7.68(2H,d, J=8.2Hz), 9.99(1H, br s), 11.02
(1H, br s)
【０２１６】実施例３６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド
−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド
【０２１７】
【化６９】
【０２１８】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。 融点：180 ℃付近より着色し始め、201-203 ℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.92(3H, s), 3.01-3.07(2
H, m), 3.40-3.46(2H, m), 6.81(1H, d, J=7.9Hz), 6.9
4(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.7Hz), 7.4
5(2H, d, J=8.2Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.68(2H,
d, J=8.2Hz), 9.99(1H, br s), 11.03(1H, br s)
を得た。 融点：180 ℃付近より着色し始め、201-203 ℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.92(3H, s), 3.01-3.07(2
H, m), 3.40-3.46(2H, m), 6.81(1H, d, J=7.9Hz), 6.9
4(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.7Hz), 7.4
5(2H, d, J=8.2Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.68(2H,
d, J=8.2Hz), 9.99(1H, br s), 11.03(1H, br s)
【０２１９】実施例３７６−アミノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド
【０２２０】
【化７０】
【０２２１】実施例１８の化合物を実施例３３と同様に
してアミノ化し、表題化合物を得た。 融点：300 ℃以上（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.39(1H, d, J=9.0Hz), 6.
88(1H, d, J=7.7Hz), 6.89(2H, s), 7.11(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.41(1H, dd, J=7.9, 0.7Hz), 7.55(1H, d
d, J=9.0, 2.6Hz), 8.12(1H, d, J=2.6Hz), 8.19(1H,
s), 9.72-9.90(1H,br), 11.78-11.92(1H, m)
してアミノ化し、表題化合物を得た。 融点：300 ℃以上（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.39(1H, d, J=9.0Hz), 6.
88(1H, d, J=7.7Hz), 6.89(2H, s), 7.11(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.41(1H, dd, J=7.9, 0.7Hz), 7.55(1H, d
d, J=9.0, 2.6Hz), 8.12(1H, d, J=2.6Hz), 8.19(1H,
s), 9.72-9.90(1H,br), 11.78-11.92(1H, m)
【０２２２】実施例３８４−アセトアミド−３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１
Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０２２３】
【化７１】
【０２２４】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.14(3H, s), 6.77(1H, d,
J=7.7Hz), 6.98(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.29(1H, d,
J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.64(1H, dd, J=8.
6, 2.2Hz), 7.75(1H, d, J=2.2Hz), 8.04(1H, d, J=8.6
Hz), 9.69(1H, brs), 10.04(1H, br s), 11.11(1H, br
s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.14(3H, s), 6.77(1H, d,
J=7.7Hz), 6.98(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.29(1H, d,
J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.64(1H, dd, J=8.
6, 2.2Hz), 7.75(1H, d, J=2.2Hz), 8.04(1H, d, J=8.6
Hz), 9.69(1H, brs), 10.04(1H, br s), 11.11(1H, br
s)
【０２２５】実施例３９Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−８
−キノリンスルホンアミド
−キノリンスルホンアミド
【０２２６】
【化７２】
【０２２７】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.68(1H, d, J=7.3Hz), 6.
89(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H, d, J=8.1Hz), 7.
69-7.74(2H, m), 8.21(1H, d, J=2.9Hz), 8.30(1H, dd,
J=8.2, 1.3Hz), 8.35(1H, dd, J=7.4, 1.4Hz), 8.54(1
H, dd, J=8.3, 1.7Hz), 9.15(1H, dd, J=4.3, 1.7Hz),
10.04(1H, br s), 12.14(1H, br s)
89(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H, d, J=8.1Hz), 7.
69-7.74(2H, m), 8.21(1H, d, J=2.9Hz), 8.30(1H, dd,
J=8.2, 1.3Hz), 8.35(1H, dd, J=7.4, 1.4Hz), 8.54(1
H, dd, J=8.3, 1.7Hz), 9.15(1H, dd, J=4.3, 1.7Hz),
10.04(1H, br s), 12.14(1H, br s)
【０２２８】実施例４０５−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−２−チオフェンスルホンアミド
−イル）−２−チオフェンスルホンアミド
【０２２９】
【化７３】
【０２３０】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.88(1H, ddd, J=7.7, 2.
2, 0.73Hz), 7.16(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.20(1H,
d, J=4.0Hz), 7.36(1H, d, J=4.2Hz), 7.51(1H, d,J=8.
1Hz), 8.23(1H, d, J=3.1Hz), 10.42(1H, br s), 12.01
(1H, br s)
2, 0.73Hz), 7.16(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.20(1H,
d, J=4.0Hz), 7.36(1H, d, J=4.2Hz), 7.51(1H, d,J=8.
1Hz), 8.23(1H, d, J=3.1Hz), 10.42(1H, br s), 12.01
(1H, br s)
【０２３１】実施例４１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メトキシカルボニルアミノ）ベンゼンスルホンアミ
ド
−（メトキシカルボニルアミノ）ベンゼンスルホンアミ
ド
【０２３２】
【化７４】
【０２３３】実施例３の化合物38mg（0.18ミリモル）の
ピリジン溶液（１ml）にクロロギ酸メチル 170mg（1.8
ミリモル）を加え一晩室温で攪拌した。反応混合物を濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物20mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 6.80(1H, d,
J=7.7Hz), 6.93(1H, t,J=7.9Hz), 7.21(1H, dd, J=7.
7, 0.37Hz), 7.45(1H, d, J=2.7Hz), 7.51(2H, d, J=9.
0Hz), 7.63(2H, d, J=8.8Hz), 9.85(1H, br s), 10.07
(1H, s), 10.97(1H, br s)
ピリジン溶液（１ml）にクロロギ酸メチル 170mg（1.8
ミリモル）を加え一晩室温で攪拌した。反応混合物を濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物20mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 6.80(1H, d,
J=7.7Hz), 6.93(1H, t,J=7.9Hz), 7.21(1H, dd, J=7.
7, 0.37Hz), 7.45(1H, d, J=2.7Hz), 7.51(2H, d, J=9.
0Hz), 7.63(2H, d, J=8.8Hz), 9.85(1H, br s), 10.07
(1H, s), 10.97(1H, br s)
【０２３４】実施例４２４−アセチル−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−
７−イル）ベンゼンスルホンアミド
７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０２３５】
【化７５】
【０２３６】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.60(3H, s), 6.74(1H, d,
J=7.7Hz), 7.05(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.42(1H, d,
J=7.9Hz), 7.81-7.88(2H, m), 8.03-8.10(2H, m), 8.2
1(1H, s), 10.18-10.50(1H, br), 11.92-12.07(1H, m)
J=7.7Hz), 7.05(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.42(1H, d,
J=7.9Hz), 7.81-7.88(2H, m), 8.03-8.10(2H, m), 8.2
1(1H, s), 10.18-10.50(1H, br), 11.92-12.07(1H, m)
【０２３７】実施例４３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メトキシスルファモイル）ベンゼンスルホンア
ミド
−（Ｎ−メトキシスルファモイル）ベンゼンスルホンア
ミド
【０２３８】
【化７６】
【０２３９】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 6.73(1H, d,
J=7.6Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d,
J=8.0Hz), 7.50(1H, d, J=2.4Hz), 7.98(4H, s), 10.2
9(1H, br s), 10.76(1H, br s), 11.12(1H, br s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 6.73(1H, d,
J=7.6Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d,
J=8.0Hz), 7.50(1H, d, J=2.4Hz), 7.98(4H, s), 10.2
9(1H, br s), 10.76(1H, br s), 11.12(1H, br s)
【０２４０】実施例４４Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−β
−スチレンスルホンアミド
−スチレンスルホンアミド
【０２４１】
【化７７】
【０２４２】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 7.14-7.20(2H, m), 7.32(2
H, s), 7.35-7.47(4H, m), 7.60-7.68(2H, m), 8.23(1
H, s), 9.70-10.03(1H, br), 11.85-12.12(1H, br)
H, s), 7.35-7.47(4H, m), 7.60-7.68(2H, m), 8.23(1
H, s), 9.70-10.03(1H, br), 11.85-12.12(1H, br)
【０２４３】実施例４５３−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−２−メチルベンゼンスルホンアミド
−イル）−２−メチルベンゼンスルホンアミド
【０２４４】
【化７８】
【０２４５】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.61(3H, s), 6.69(1H, d,
J=7.7Hz), 7.04(1H, t,J=7.9Hz), 7.36(1H, dd, J=8.
1, 7.9Hz), 7.42(1H, d, J=7.9Hz), 7.73(1H, dd, J=8.
1, 1.1Hz), 7.77(1H, dd, J=8.0, 0.82Hz), 8.25(1H,
d, J=3.1Hz), 10.37(1H, s), 11.99(1H, br s)
J=7.7Hz), 7.04(1H, t,J=7.9Hz), 7.36(1H, dd, J=8.
1, 7.9Hz), 7.42(1H, d, J=7.9Hz), 7.73(1H, dd, J=8.
1, 1.1Hz), 7.77(1H, dd, J=8.0, 0.82Hz), 8.25(1H,
d, J=3.1Hz), 10.37(1H, s), 11.99(1H, br s)
【０２４６】実施例４６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−イソプロピルアミノ−３−ピリジンスルホンアミド
−イソプロピルアミノ−３−ピリジンスルホンアミド
【０２４７】
【化７９】
【０２４８】実施例１４の化合物 400mg（ 1.17 ミリモ
ル）とイソプロピルアミン0.80ml（9.39 ミリモル）を
ジオキサン５mlに加え封管中 100℃で 7.5時間加熱し
た。濃縮後、酢酸エチルに溶解し、希クエン酸水、飽和
重曹水、水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
後、濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー
で精製し、表題化合物 235mgを得た。 融点： 210℃付近から着色し始め、 213-215℃で分解
（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.09(6H, d, J=6.6Hz), 3.
90-4.08(1H, m), 6.39(1H, d, J=9.0Hz), 6.90-7.05(2
H, m), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.33(1H, d, J=7.7Hz),
7.48(1H, d, J=2.4Hz), 7.54(1H, dd, J=9.0, 2.6Hz),
8.22(1H, d, J=2.6Hz), 9.65-9.84(1H, br), 10.88-1
1.04(1H, m)
ル）とイソプロピルアミン0.80ml（9.39 ミリモル）を
ジオキサン５mlに加え封管中 100℃で 7.5時間加熱し
た。濃縮後、酢酸エチルに溶解し、希クエン酸水、飽和
重曹水、水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
後、濃縮し、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー
で精製し、表題化合物 235mgを得た。 融点： 210℃付近から着色し始め、 213-215℃で分解
（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.09(6H, d, J=6.6Hz), 3.
90-4.08(1H, m), 6.39(1H, d, J=9.0Hz), 6.90-7.05(2
H, m), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.33(1H, d, J=7.7Hz),
7.48(1H, d, J=2.4Hz), 7.54(1H, dd, J=9.0, 2.6Hz),
8.22(1H, d, J=2.6Hz), 9.65-9.84(1H, br), 10.88-1
1.04(1H, m)
【０２４９】実施例４７Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−［［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミノ］−３−
ピリジンスルホンアミド
−［［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミノ］−３−
ピリジンスルホンアミド
【０２５０】
【化８０】
【０２５１】実施例１４の化合物とＮ，Ｎ−ジメチルエ
チレンジアミンから実施例４６と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.14(6H, s), 2.35(2H, t,
J=6.6Hz), 3.24-3.44(2H, m), 6.48(1H, d, J=9.0Hz),
6.92(1H, d, J=7.7Hz), 6.99(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz),
7.22(1H, d, J=7.9Hz), 7.27-7.39(1H, m), 7.47(1H,
d, J=2.4Hz), 7.54(1H, dd, J=9.0, 2.6Hz), 8.21(1H,
d, J=2.6Hz), 10.91-11.03(1H, m)
チレンジアミンから実施例４６と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.14(6H, s), 2.35(2H, t,
J=6.6Hz), 3.24-3.44(2H, m), 6.48(1H, d, J=9.0Hz),
6.92(1H, d, J=7.7Hz), 6.99(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz),
7.22(1H, d, J=7.9Hz), 7.27-7.39(1H, m), 7.47(1H,
d, J=2.4Hz), 7.54(1H, dd, J=9.0, 2.6Hz), 8.21(1H,
d, J=2.6Hz), 10.91-11.03(1H, m)
【０２５２】実施例４８Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−２
−フランスルホンアミド
−フランスルホンアミド
【０２５３】
【化８１】
【０２５４】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.62(1H, ddd, J=3.7, 1.
8, 0.37Hz), 6.78(1H, d,J=7.5Hz), 7.04(1H, d, J=3.5
Hz), 7.12(1H, t, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=8.1Hz),
7.99-8.00(1H, m), 8.23(1H, d, J=3.1Hz), 10.49(1H,
br s), 12.04(1H,br s)
8, 0.37Hz), 6.78(1H, d,J=7.5Hz), 7.04(1H, d, J=3.5
Hz), 7.12(1H, t, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=8.1Hz),
7.99-8.00(1H, m), 8.23(1H, d, J=3.1Hz), 10.49(1H,
br s), 12.04(1H,br s)
【０２５５】実施例４９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［（ジメチルアミノスルホニル）アミノ］ベンゼンス
ルホンアミド
−［（ジメチルアミノスルホニル）アミノ］ベンゼンス
ルホンアミド
【０２５６】
【化８２】
【０２５７】実施例３の化合物とジメチルスルファモイ
ルクロリドから実施例１と同様にして表題化合物を得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.66(6H, s), 6.81(1H, d
d, J=7.7, 0.92Hz), 6.95(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.2
0(2H, d, J=8.8Hz), 7.23(1H, d, J=8.1Hz), 7.47(1H,
d, J=2.7Hz), 7.64(2H, d, J=8.8Hz), 10.98(1H, br s)
ルクロリドから実施例１と同様にして表題化合物を得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.66(6H, s), 6.81(1H, d
d, J=7.7, 0.92Hz), 6.95(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.2
0(2H, d, J=8.8Hz), 7.23(1H, d, J=8.1Hz), 7.47(1H,
d, J=2.7Hz), 7.64(2H, d, J=8.8Hz), 10.98(1H, br s)
【０２５８】実施例５０Ｎ−（３−メチル−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド
−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド
【０２５９】
【化８３】
【０２６０】３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インド
ール 300mg（1.58ミリモル）の２−プロパノール懸濁液
（25ml）に水素化ホウ素ナトリウム 580mg（15.3ミリモ
ル）と10％パラジウム−炭素 150mgを加え、６時間還流
した。反応系に水を加えた後、触媒を濾取した。濾液を
酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をピリジン
５mlに溶解した。これを４−（メチルスルホニル）ベン
ゼンスルホニルクロリド 170mg（0.67ミリモル）と実施
例１と同様に反応させ、処理し、表題化合物 149mgを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.18(3H, s), 3.24(3H,
s), 6.69(1H, d, J=7.7Hz), 6.81(1H, t, J=7.7Hz), 7.
06(1H, br s), 7.25(1H, d, J=7.8Hz), 7.95(2H, d, J=
8.8Hz), 8.04(2H, d, J=8.2Hz), 10.14(1H, br s), 10.
40(1H, br s)
ール 300mg（1.58ミリモル）の２−プロパノール懸濁液
（25ml）に水素化ホウ素ナトリウム 580mg（15.3ミリモ
ル）と10％パラジウム−炭素 150mgを加え、６時間還流
した。反応系に水を加えた後、触媒を濾取した。濾液を
酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をピリジン
５mlに溶解した。これを４−（メチルスルホニル）ベン
ゼンスルホニルクロリド 170mg（0.67ミリモル）と実施
例１と同様に反応させ、処理し、表題化合物 149mgを得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.18(3H, s), 3.24(3H,
s), 6.69(1H, d, J=7.7Hz), 6.81(1H, t, J=7.7Hz), 7.
06(1H, br s), 7.25(1H, d, J=7.8Hz), 7.95(2H, d, J=
8.8Hz), 8.04(2H, d, J=8.2Hz), 10.14(1H, br s), 10.
40(1H, br s)
【０２６１】実施例５１３−シアノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド
−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０２６２】
【化８４】
【０２６３】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.71(1H, d, J=7.2Hz), 7.
09(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.49(1H, d, J=8.0Hz), 7.
74(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.94(1H, d, J=8.0Hz), 8.
11-8.14(2H, m), 8.23(1H, d, J=2.8Hz), 10.30(1H, br
s), 12.05(1H, br s)
09(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.49(1H, d, J=8.0Hz), 7.
74(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.94(1H, d, J=8.0Hz), 8.
11-8.14(2H, m), 8.23(1H, d, J=2.8Hz), 10.30(1H, br
s), 12.05(1H, br s)
【０２６４】実施例５２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼンスルホ
ンアミド
−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼンスルホ
ンアミド
【０２６５】
【化８５】
【０２６６】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。 融点： 199-201℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.98(3H, s), 3.24(3H,
s), 6.83(1H, dd, J=7.7,0.37Hz), 6.96(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.26(1H, dd, J=7.9, 0.55Hz), 7.48(1H,
d, J=2.7Hz), 7.50-7.54(2H, m), 7.72-7.76(2H, m), 1
0.04(1H, br s), 11.02(1H, br s)
を得た。 融点： 199-201℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.98(3H, s), 3.24(3H,
s), 6.83(1H, dd, J=7.7,0.37Hz), 6.96(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.26(1H, dd, J=7.9, 0.55Hz), 7.48(1H,
d, J=2.7Hz), 7.50-7.54(2H, m), 7.72-7.76(2H, m), 1
0.04(1H, br s), 11.02(1H, br s)
【０２６７】実施例５３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼンスルホ
ンアミド
−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼンスルホ
ンアミド
【０２６８】
【化８６】
【０２６９】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。 融点： 180℃付近より着色し始め、 189-191℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.81(3H, s), 4.19(2H, d,
J=6.0Hz), 6.79(1H, d,J=7.7Hz), 6.94(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.47(2H, d,J=8.8H
z), 7.47-7.49(1H, m), 7.64(1H, t, J=6.4Hz), 7.72(2
H, d, J=8.4Hz),10.00(1H, s), 11.03(1H, br s)
を得た。 融点： 180℃付近より着色し始め、 189-191℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.81(3H, s), 4.19(2H, d,
J=6.0Hz), 6.79(1H, d,J=7.7Hz), 6.94(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.47(2H, d,J=8.8H
z), 7.47-7.49(1H, m), 7.64(1H, t, J=6.4Hz), 7.72(2
H, d, J=8.4Hz),10.00(1H, s), 11.03(1H, br s)
【０２７０】実施例５４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホンア
ミド
−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホンア
ミド
【０２７１】
【化８７】
【０２７２】４−（１−ピロリジニルスルホニル）ベン
ゼンスルホニルクロリドと製造例１０の化合物から実施
例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.55-1.59(4H, m), 3.07-
3.11(4H, m), 6.71(1H, d, J=7.6Hz), 6.95(1H, ddd, J
=8.2, 7.4, 1.2Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.46(1H,
d, J=2.4Hz), 7.89(2H, d, J=8.8Hz), 7.92(2H, d, J=
8.4Hz), 10.18(1H,br s), 11.03(1H, br s)
ゼンスルホニルクロリドと製造例１０の化合物から実施
例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.55-1.59(4H, m), 3.07-
3.11(4H, m), 6.71(1H, d, J=7.6Hz), 6.95(1H, ddd, J
=8.2, 7.4, 1.2Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.46(1H,
d, J=2.4Hz), 7.89(2H, d, J=8.8Hz), 7.92(2H, d, J=
8.4Hz), 10.18(1H,br s), 11.03(1H, br s)
【０２７３】実施例５５Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−１
−メチル−４−イミダゾールスルホンアミド
−メチル−４−イミダゾールスルホンアミド
【０２７４】
【化８８】
【０２７５】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.61(3H, s), 7.00(1H, d
d, J=7.7, 0.92Hz), 7.07(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.3
5(1H, d, J=7.9Hz), 7.75-7.76(2H, m), 8.19(1H,d, J=
3.1Hz), 10.03(1H, br s), 11.92(1H, br s)
d, J=7.7, 0.92Hz), 7.07(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.3
5(1H, d, J=7.9Hz), 7.75-7.76(2H, m), 8.19(1H,d, J=
3.1Hz), 10.03(1H, br s), 11.92(1H, br s)
【０２７６】実施例５６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−［（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−３−ピリジン
スルホンアミド
−［（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−３−ピリジン
スルホンアミド
【０２７７】
【化８９】
【０２７８】実施例１４の化合物と２−アミノエタノー
ルから実施例４６と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.24-3.40(2H, m), 3.42-
3.52(2H, m), 4.66-4.77(1H, m), 6.48(1H, d, J=9.3H
z), 6.92(1H, d, J=7.7Hz), 7.00(1H, t, J=7.7Hz), 7.
24(1H, d, J=7.7Hz), 7.40-7.62(2H, m), 7.48(1H, d,
J=2.2Hz), 8.22(1H,d, J=2.6Hz), 9.63-9.90(1H, br),
10.90-11.07(1H, m)
ルから実施例４６と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.24-3.40(2H, m), 3.42-
3.52(2H, m), 4.66-4.77(1H, m), 6.48(1H, d, J=9.3H
z), 6.92(1H, d, J=7.7Hz), 7.00(1H, t, J=7.7Hz), 7.
24(1H, d, J=7.7Hz), 7.40-7.62(2H, m), 7.48(1H, d,
J=2.2Hz), 8.22(1H,d, J=2.6Hz), 9.63-9.90(1H, br),
10.90-11.07(1H, m)
【０２７９】実施例５７Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−メルカプト−３−ピリジンスルホンアミド
−メルカプト−３−ピリジンスルホンアミド
【０２８０】
【化９０】
【０２８１】実施例１４の化合物 340mg（0.99ミリモ
ル）とチオウレア 151mg（1.98ミリモル）をエタノール
５mlに加え、２時間加熱還流した。濃縮後、残渣に水
1.6mlと炭酸ナトリウム57mgを加え、室温で10分間攪拌
した。水酸化ナトリウム85mgを加え、さらに10分間攪拌
後、不溶物を濾去した。塩酸酸性にして生じた沈澱を濾
取し、水洗後、テトラヒドロフランに溶解し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 121mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.84(1H, d, J=7.6Hz), 7.
03(1H, t, J=7.6Hz), 7.28(1H, d, J=9.2Hz), 7.31(1H,
d, J=7.6Hz), 7.44(1H, dd, J=9.2, 2.4Hz), 7.48(1H,
d, J=2.6Hz), 7.68(1H, d, J=2.4Hz), 9.58-9.80(1H,
br), 11.08-11.19(1H, m)
ル）とチオウレア 151mg（1.98ミリモル）をエタノール
５mlに加え、２時間加熱還流した。濃縮後、残渣に水
1.6mlと炭酸ナトリウム57mgを加え、室温で10分間攪拌
した。水酸化ナトリウム85mgを加え、さらに10分間攪拌
後、不溶物を濾去した。塩酸酸性にして生じた沈澱を濾
取し、水洗後、テトラヒドロフランに溶解し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 121mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.84(1H, d, J=7.6Hz), 7.
03(1H, t, J=7.6Hz), 7.28(1H, d, J=9.2Hz), 7.31(1H,
d, J=7.6Hz), 7.44(1H, dd, J=9.2, 2.4Hz), 7.48(1H,
d, J=2.6Hz), 7.68(1H, d, J=2.4Hz), 9.58-9.80(1H,
br), 11.08-11.19(1H, m)
【０２８２】実施例５８７−（４−クロロベンゼンスルホンアミド）−１Ｈ−イ
ンドール−２−カルボン酸
ンドール−２−カルボン酸
【０２８３】
【化９１】
【０２８４】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.65(1H, d, J=7.6Hz), 6.
87(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.00(1H, s), 7.26(1H, d,
J=8.0Hz), 7.56-7.65(2H, m), 7.68-7.77(2H, m), 9.6
2-10.00(1H, br), 11.40-11.74(1H, br)
87(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.00(1H, s), 7.26(1H, d,
J=8.0Hz), 7.56-7.65(2H, m), 7.68-7.77(2H, m), 9.6
2-10.00(1H, br), 11.40-11.74(1H, br)
【０２８５】実施例５９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−シクロプロピルアミノ−３−ピリジンスルホンアミド
−シクロプロピルアミノ−３−ピリジンスルホンアミド
【０２８６】
【化９２】
【０２８７】実施例４６と同様にして表題化合物を得
た。 融点：228 ℃付近から着色し始め、233.5-235 ℃で分解
（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 0.36-0.46(2H, m), 0.63-
0.75(2H, m), 2.44-2.64(1H, m), 6.45-6.64(1H, m),
6.93(1H, d, J=7.7Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz),
7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.57-
7.73(2H, m), 8.25(1H, d, J=2.6Hz), 9.68-9.90(1H, b
r), 10.92-11.04(1H, m)
た。 融点：228 ℃付近から着色し始め、233.5-235 ℃で分解
（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 0.36-0.46(2H, m), 0.63-
0.75(2H, m), 2.44-2.64(1H, m), 6.45-6.64(1H, m),
6.93(1H, d, J=7.7Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz),
7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.57-
7.73(2H, m), 8.25(1H, d, J=2.6Hz), 9.68-9.90(1H, b
r), 10.92-11.04(1H, m)
【０２８８】実施例６０Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−５
−メチル−３−ピリジンスルホンアミド
−メチル−３−ピリジンスルホンアミド
【０２８９】
【化９３】
【０２９０】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点： 288℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.33(3H, s), 6.75(1H, d,
J=7.7Hz), 7.09(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.48(1H, d,
J=7.9Hz), 7.87-7.91(1H, m), 8.22(1H, d, J=3.1Hz),
8.58-8.67(2H, m), 10.28(1H, br s), 11.95-12.08(1
H, m)
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.33(3H, s), 6.75(1H, d,
J=7.7Hz), 7.09(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.48(1H, d,
J=7.9Hz), 7.87-7.91(1H, m), 8.22(1H, d, J=3.1Hz),
8.58-8.67(2H, m), 10.28(1H, br s), 11.95-12.08(1
H, m)
【０２９１】実施例６１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼンスルホンアミ
ド
−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼンスルホンアミ
ド
【０２９２】
【化９４】
【０２９３】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.39(3H, d, J=5.2Hz), 6.
71(1H, dd, J=7.8, 2.0Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6H
z), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.48(1H, d, J=2.8Hz), 7.
68(1H, q, J=4.9Hz), 7.87-7.93(4H, m), 10.20(1H, br
s), 11.08(1H, br s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.39(3H, d, J=5.2Hz), 6.
71(1H, dd, J=7.8, 2.0Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6H
z), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.48(1H, d, J=2.8Hz), 7.
68(1H, q, J=4.9Hz), 7.87-7.93(4H, m), 10.20(1H, br
s), 11.08(1H, br s)
【０２９４】実施例６２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベンゼンス
ルホンアミド
−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベンゼンス
ルホンアミド
【０２９５】
【化９５】
【０２９６】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.73-2.81(5H, m),3.13-3.
19(2H, m), 6.82(1H, d,J=7.7Hz), 6.95(1H, dd, J=8.
1, 7.7Hz), 7.09(1H, t, J=5.9Hz), 7.24(1H, d,J=8.1H
z), 7.39(2H, d, J=8.2Hz), 7.48(1H, d, J=2.7Hz), 7.
68(2H, d, J=8.4Hz), 9.97(1H, br s), 11.02(1H, br
s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.73-2.81(5H, m),3.13-3.
19(2H, m), 6.82(1H, d,J=7.7Hz), 6.95(1H, dd, J=8.
1, 7.7Hz), 7.09(1H, t, J=5.9Hz), 7.24(1H, d,J=8.1H
z), 7.39(2H, d, J=8.2Hz), 7.48(1H, d, J=2.7Hz), 7.
68(2H, d, J=8.4Hz), 9.97(1H, br s), 11.02(1H, br
s)
【０２９７】実施例６３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホンアミド
−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホンアミド
【０２９８】
【化９６】
【０２９９】製造例６の化合物 389mg（1.44ミリモル）
と製造例２の化合物 159mg（ 1.2ミリモル）を実施例１
と同様に反応させ、処理し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−
７−イル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンス
ルホンアミド 233mgを得た。これを実施例２と同様にし
て塩素化し、表題化合物 160mgを得た。 融点： 237-238.5℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.33(2H, s), 6.84(1H, d
d, J=7.7, 0.73Hz), 6.93(2H, s), 6.92-6.97(1H, m),
7.24(1H, dd, J=7.9, 0.37Hz), 7.48(1H, d, J=2.7Hz),
7.48-7.52(2H, m), 7.75-7.79(2H, m), 10.08(1H, br
s), 11.04(1H, brs)
と製造例２の化合物 159mg（ 1.2ミリモル）を実施例１
と同様に反応させ、処理し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−
７−イル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンス
ルホンアミド 233mgを得た。これを実施例２と同様にし
て塩素化し、表題化合物 160mgを得た。 融点： 237-238.5℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.33(2H, s), 6.84(1H, d
d, J=7.7, 0.73Hz), 6.93(2H, s), 6.92-6.97(1H, m),
7.24(1H, dd, J=7.9, 0.37Hz), 7.48(1H, d, J=2.7Hz),
7.48-7.52(2H, m), 7.75-7.79(2H, m), 10.08(1H, br
s), 11.04(1H, brs)
【０３００】実施例６４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−チオカルバモイルベンゼンスルホンアミド
−チオカルバモイルベンゼンスルホンアミド
【０３０１】
【化９７】
【０３０２】実施例１０の化合物 400mg（1.21ミリモ
ル）をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、トリエチル
アミン 0.5mlを加えた。浴温60−70℃で硫化水素を45分
間通じた。濃縮後、残渣を酢酸エチルに溶解し、希塩
酸、飽和重曹水、水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 355mgを得た。 融点： 223-225℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.81(1H, d, J=7.7Hz), 6.
96(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.
50(1H, d, J=2.7Hz), 7.73-7.80(2H, m), 7.86-7.93(2
H, m), 9.58-9.73(1H, br m), 10.02-10.18(1H, br m),
10.15(1H, s), 11.03-11.12(1H, m)
ル）をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、トリエチル
アミン 0.5mlを加えた。浴温60−70℃で硫化水素を45分
間通じた。濃縮後、残渣を酢酸エチルに溶解し、希塩
酸、飽和重曹水、水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 355mgを得た。 融点： 223-225℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.81(1H, d, J=7.7Hz), 6.
96(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.
50(1H, d, J=2.7Hz), 7.73-7.80(2H, m), 7.86-7.93(2
H, m), 9.58-9.73(1H, br m), 10.02-10.18(1H, br m),
10.15(1H, s), 11.03-11.12(1H, m)
【０３０３】実施例６５５−ブロモ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−２−ピリジンスルホンアミド
−イル）−２−ピリジンスルホンアミド
【０３０４】
【化９８】
【０３０５】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点： 245.5-246.5℃（分解）（酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.82(1H, d, J=7.7Hz), 7.
07(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.44(1H, d, J=7.9Hz), 7.
80(1H, d, J=8.2Hz), 8.23(1H, d, J=2.2Hz), 8.29(1H,
dd, J=8.2, 2.2Hz), 8.92(1H, d, J=2.2Hz), 10.42-1
0.67(1H, br), 11.93-12.08(1H, m)
サンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.82(1H, d, J=7.7Hz), 7.
07(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.44(1H, d, J=7.9Hz), 7.
80(1H, d, J=8.2Hz), 8.23(1H, d, J=2.2Hz), 8.29(1H,
dd, J=8.2, 2.2Hz), 8.92(1H, d, J=2.2Hz), 10.42-1
0.67(1H, br), 11.93-12.08(1H, m)
【０３０６】実施例６６Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−２
−ナフタレンスルホンアミド
−ナフタレンスルホンアミド
【０３０７】
【化９９】
【０３０８】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.74(1H, dd, J=7.6, 2.8H
z), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.39(1H, dd, J=8.
0, 0.46Hz), 7.61-7.72(2H, m), 7.80(1H, dd, J=8.6,
1.8Hz), 8.01(1H, d, J=8.1Hz), 8.08(1H, s), 8.10(1
H, s), 8.21(1H, d,J=2.9Hz), 8.34(1H, d, J=1.6Hz),
10.23(1H, br s), 12.01(1H, br s)
z), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.39(1H, dd, J=8.
0, 0.46Hz), 7.61-7.72(2H, m), 7.80(1H, dd, J=8.6,
1.8Hz), 8.01(1H, d, J=8.1Hz), 8.08(1H, s), 8.10(1
H, s), 8.21(1H, d,J=2.9Hz), 8.34(1H, d, J=1.6Hz),
10.23(1H, br s), 12.01(1H, br s)
【０３０９】実施例６７Ｎ−（３−アセチル−１Ｈ−インドール−７−イル）−
３−クロロベンゼンスルホンアミド
３−クロロベンゼンスルホンアミド
【０３１０】
【化１００】
【０３１１】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.44(3H, s), 6.65(1H, d,
J=7.5Hz), 7.01(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.53-7.63(2
H, m), 7.69-7.73(2H, m), 8.01(1H, dd, J=8.1,0.73H
z), 8.26(1H, d, J=2.9Hz), 10.10(1H, s), 11.75(1H,
br s)
J=7.5Hz), 7.01(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.53-7.63(2
H, m), 7.69-7.73(2H, m), 8.01(1H, dd, J=8.1,0.73H
z), 8.26(1H, d, J=2.9Hz), 10.10(1H, s), 11.75(1H,
br s)
【０３１２】実施例６８４−アミノ−Ｎ−（５−ブロモ−３−シアノ−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０３１３】
【化１０１】
【０３１４】４−ニトロベンゼンスルホニルクロリドと
製造例１４の化合物から実施例１と同様にして得られた
Ｎ−（５−ブロモ−３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミドを酸化白
金存在下常温常圧で水素添加し、表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.07(2H, br s), 6.52(2H,
d, J=8.4Hz), 6.97-6.99(1H, m), 7.36(2H, dd, J=8.
7, 1.6Hz), 7.51(1H, br s), 8.25(1H, s), 9.93(1H,
d, J=5.5Hz), 11.97(1H, br s)
製造例１４の化合物から実施例１と同様にして得られた
Ｎ−（５−ブロモ−３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミドを酸化白
金存在下常温常圧で水素添加し、表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.07(2H, br s), 6.52(2H,
d, J=8.4Hz), 6.97-6.99(1H, m), 7.36(2H, dd, J=8.
7, 1.6Hz), 7.51(1H, br s), 8.25(1H, s), 9.93(1H,
d, J=5.5Hz), 11.97(1H, br s)
【０３１５】実施例６９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスルホンアミ
ド
−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスルホンアミ
ド
【０３１６】
【化１０２】
【０３１７】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。 融点： 213-215℃（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 0.90(3H, t, J=7.2Hz), 2.
76(2H, dq, Jd=5.8Hz, Jq=7.2Hz), 6.70(1H, d, J=7.4H
z), 6.95(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.29(1H, d,J=8.0H
z), 7.47(1H, d, J=2.8Hz), 7.78(1H, t, J=5.6Hz), 7.
90(4H, s), 10.18(1H, br s), 11.06(1H, br s)
を得た。 融点： 213-215℃（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 0.90(3H, t, J=7.2Hz), 2.
76(2H, dq, Jd=5.8Hz, Jq=7.2Hz), 6.70(1H, d, J=7.4H
z), 6.95(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.29(1H, d,J=8.0H
z), 7.47(1H, d, J=2.8Hz), 7.78(1H, t, J=5.6Hz), 7.
90(4H, s), 10.18(1H, br s), 11.06(1H, br s)
【０３１８】実施例７０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（エタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミド
−（エタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミド
【０３１９】
【化１０３】
【０３２０】実施例４と同様にして表題化合物を得た。 融点： 214-215℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.14(3H, t, J=7.3Hz), 3.
16(2H, q, J=7.3Hz), 6.82(1H, d, J=7.5Hz), 6.96(1H,
dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.23(2H, d, J=8.8Hz), 7.24(1H,
d, J=7.5Hz), 7.47(1H, d, J=2.6Hz), 7.66(2H, d, J=
8.8Hz), 9.90(1H,br s), 10.37(1H, br s), 10.96(1H,
br s)
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.14(3H, t, J=7.3Hz), 3.
16(2H, q, J=7.3Hz), 6.82(1H, d, J=7.5Hz), 6.96(1H,
dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.23(2H, d, J=8.8Hz), 7.24(1H,
d, J=7.5Hz), 7.47(1H, d, J=2.6Hz), 7.66(2H, d, J=
8.8Hz), 9.90(1H,br s), 10.37(1H, br s), 10.96(1H,
br s)
【０３２１】実施例７１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル) −６
−［（２−シアノエチル）アミノ］−３−ピリジンスル
ホンアミド
−［（２−シアノエチル）アミノ］−３−ピリジンスル
ホンアミド
【０３２２】
【化１０４】
【０３２３】実施例４６と同様にして表題化合物を得
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.72(2H, t, J=6.4Hz)，3.
46-3.55(2H, m), 6.53(1H, d, J=9.0Hz), 6.90(1H, d,
J=7.7Hz), 6.99(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H, d,
J=7.9Hz), 7.48(1H, d, J=2.6Hz), 7.61(1H, dd, J=9.
0, 2.4Hz), 7.78-7.87(1H, m), 8.25(1H, d, J=2.4Hz),
9.70-9.95(1H, br), 10.92-11.04(1H, m)
た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.72(2H, t, J=6.4Hz)，3.
46-3.55(2H, m), 6.53(1H, d, J=9.0Hz), 6.90(1H, d,
J=7.7Hz), 6.99(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H, d,
J=7.9Hz), 7.48(1H, d, J=2.6Hz), 7.61(1H, dd, J=9.
0, 2.4Hz), 7.78-7.87(1H, m), 8.25(1H, d, J=2.4Hz),
9.70-9.95(1H, br), 10.92-11.04(1H, m)
【０３２４】実施例７２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル) −４
− (Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゼンスルホンアミド
− (Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゼンスルホンアミド
【０３２５】
【化１０５】
【０３２６】実施例９の化合物 533mg（1.68ミリモル）
をジメチルホルムアミド５mlとジメチルスルホキシド
2.5mlの混液に溶解し、メチルアミン塩酸塩171mg （2.5
3ミリモル）、トリエチルアミン 705μl （5.06ミリモ
ル）を加えた。ジフェニルホスホリルアジド 436μl
（2.02ミリモル）を加えて室温で一晩攪拌後濃縮した。
酢酸エチルで抽出し、希塩酸、飽和重曹水、水で順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｎ−（１
Ｈ−インドール−７−イル）−４−（Ｎ−メチルカルバ
モイル）ベンゼンスルホンアミド 465mgを得た。これを
実施例２と同様に塩素化し、表題化合物413mg を得た。 融点：252-253 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.76(3H, d, J=4.6Hz), 6.
74(1H, d, J=7.7Hz), 6.94(1H, dd, J =7.9, 7.7Hz),
7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.76-
7.83(2H, m), 7.87-7.94(2H, m), 8.61(1H, q, J=4.6H
z), 10.10(1H, s), 11.03-11.13(1H, m)
をジメチルホルムアミド５mlとジメチルスルホキシド
2.5mlの混液に溶解し、メチルアミン塩酸塩171mg （2.5
3ミリモル）、トリエチルアミン 705μl （5.06ミリモ
ル）を加えた。ジフェニルホスホリルアジド 436μl
（2.02ミリモル）を加えて室温で一晩攪拌後濃縮した。
酢酸エチルで抽出し、希塩酸、飽和重曹水、水で順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、Ｎ−（１
Ｈ−インドール−７−イル）−４−（Ｎ−メチルカルバ
モイル）ベンゼンスルホンアミド 465mgを得た。これを
実施例２と同様に塩素化し、表題化合物413mg を得た。 融点：252-253 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.76(3H, d, J=4.6Hz), 6.
74(1H, d, J=7.7Hz), 6.94(1H, dd, J =7.9, 7.7Hz),
7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.76-
7.83(2H, m), 7.87-7.94(2H, m), 8.61(1H, q, J=4.6H
z), 10.10(1H, s), 11.03-11.13(1H, m)
【０３２７】実施例７３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルホニルメチル）ベンゼンスルホンアミド
−（メチルスルホニルメチル）ベンゼンスルホンアミド
【０３２８】
【化１０６】
【０３２９】実施例３４の化合物 510mgを30％過酸化水
素水により実施例２３と同様に酸化して表題化合物 307
mgを得た。 融点： 225℃付近より着色し始め、 235℃付近から徐々
に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶)1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.88(3H, s), 4.57(2H,
s), 6.77(1H, d, J=7.6Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7H
z), 7.25(1H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.7Hz), 7.
51-7.56(2H, m), 7.73-7.78(2H, m), 10.05(1H, br s),
11.04(1H, br s)
素水により実施例２３と同様に酸化して表題化合物 307
mgを得た。 融点： 225℃付近より着色し始め、 235℃付近から徐々
に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶)1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.88(3H, s), 4.57(2H,
s), 6.77(1H, d, J=7.6Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7H
z), 7.25(1H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.7Hz), 7.
51-7.56(2H, m), 7.73-7.78(2H, m), 10.05(1H, br s),
11.04(1H, br s)
【０３３０】実施例７４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル）ベンゼンスルホ
ンアミド
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル）ベンゼンスルホ
ンアミド
【０３３１】
【化１０７】
【０３３２】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.57(6H, s), 6.71(1H, d
d, J=7.4, 0.6Hz), 6.97(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.31
(1H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.8Hz), 7.86(2H,
d, J=8.4Hz), 7.91(2H, d, J=8.4Hz), 10.19(1H, br
s), 11.04(1H, br s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.57(6H, s), 6.71(1H, d
d, J=7.4, 0.6Hz), 6.97(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.31
(1H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.8Hz), 7.86(2H,
d, J=8.4Hz), 7.91(2H, d, J=8.4Hz), 10.19(1H, br
s), 11.04(1H, br s)
【０３３３】実施例７５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（１−ピロリジニルカルボニル）ベンゼンスルホンア
ミド
−（１−ピロリジニルカルボニル）ベンゼンスルホンア
ミド
【０３３４】
【化１０８】
【０３３５】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.79(2H, dt, Jd=12.8Hz,
Jt=6.4Hz), 1.85(2H, dt, Jd=13.6Hz, Jt=6.8Hz), 3.22
(2H, t, J=6.4Hz) , 3.44(2H, t, J=6.8Hz), 6.78(1H,
d, J=7.2Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.2Hz), 7.28(1H,
d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.4Hz), 7.60(2H, d, J=
8.0Hz), 7.74(2H, d, J=8.4Hz), 10.06(1H,br s), 11.0
1(1H, br s)
Jt=6.4Hz), 1.85(2H, dt, Jd=13.6Hz, Jt=6.8Hz), 3.22
(2H, t, J=6.4Hz) , 3.44(2H, t, J=6.8Hz), 6.78(1H,
d, J=7.2Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.2Hz), 7.28(1H,
d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.4Hz), 7.60(2H, d, J=
8.0Hz), 7.74(2H, d, J=8.4Hz), 10.06(1H,br s), 11.0
1(1H, br s)
【０３３６】実施例７６３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
−イル）−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
【０３３７】
【化１０９】
【０３３８】実施例７の化合物 120mg（0.352 ミリモ
ル）をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、水素化ナト
リウム（60％）19.2mg（0.479 ミリモル）を加えた。室
温で30分間攪拌後ヨウ化メチル30μl （0.482 ミリモ
ル）を加えた。２時間後水を加え、酢酸エチルで抽出
し、有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮
後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製
し、表題化合物87mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.26(3H, s), 6.51(1H, d
d, J=7.6, 0.64Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.4
7(1H, d, J=8.1Hz), 7.53(1H, d, J=2.7Hz), 7.54-7.59
(2H, m), 7.65(1H, t, J=7.9Hz), 7.84(1H, ddd, J=8.
1, 2.1, 1.1Hz), 11.62(1H, br s)
ル）をジメチルホルムアミド10mlに溶解し、水素化ナト
リウム（60％）19.2mg（0.479 ミリモル）を加えた。室
温で30分間攪拌後ヨウ化メチル30μl （0.482 ミリモ
ル）を加えた。２時間後水を加え、酢酸エチルで抽出
し、有機層を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮
後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製
し、表題化合物87mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 3.26(3H, s), 6.51(1H, d
d, J=7.6, 0.64Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.4
7(1H, d, J=8.1Hz), 7.53(1H, d, J=2.7Hz), 7.54-7.59
(2H, m), 7.65(1H, t, J=7.9Hz), 7.84(1H, ddd, J=8.
1, 2.1, 1.1Hz), 11.62(1H, br s)
【０３３９】実施例７７Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホン
アミド
ル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホン
アミド
【０３４０】
【化１１０】
【０３４１】実施例１と同様にして表題化合物を得た。 融点： 297℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.34(2H, s), 6.72(1H, d,
J=8.1Hz), 6.93(2H, s), 6.94(1H, d, J=8.1Hz), 7.51
(2H, d, J=8.1Hz), 7.57(1H, dd, J=2.7, 0.55Hz), 7.7
5(2H, d, J=8.2Hz), 10.10(1H, br s), 11.44(1H, br
s)
キサンから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 4.34(2H, s), 6.72(1H, d,
J=8.1Hz), 6.93(2H, s), 6.94(1H, d, J=8.1Hz), 7.51
(2H, d, J=8.1Hz), 7.57(1H, dd, J=2.7, 0.55Hz), 7.7
5(2H, d, J=8.2Hz), 10.10(1H, br s), 11.44(1H, br
s)
【０３４２】実施例７８Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド
−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド
【０３４３】
【化１１１】
【０３４４】実施例１と同様にして表題化合物を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.94(3H, s), 3.03-3.08(2
H, m), 3.42-3.47(2H, m), 6.77(1H, dd, J=7.7, 0.37H
z), 7.05(1H, t, J=7.9Hz), 7.41(1H, d, J=8.1Hz), 7.
46(2H, d, J=8.2Hz), 7.66(2H, d, J=8.2Hz), 8.20(1H,
s), 10.09(1H, br s), 11.92(1H, br s)
H, m), 3.42-3.47(2H, m), 6.77(1H, dd, J=7.7, 0.37H
z), 7.05(1H, t, J=7.9Hz), 7.41(1H, d, J=8.1Hz), 7.
46(2H, d, J=8.2Hz), 7.66(2H, d, J=8.2Hz), 8.20(1H,
s), 10.09(1H, br s), 11.92(1H, br s)
【０３４５】実施例７９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メチルアセトアミド) ベンゼンスルホンアミド
−（Ｎ−メチルアセトアミド) ベンゼンスルホンアミド
【０３４６】
【化１１２】
【０３４７】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.84(3H, br s), 3.16(3H,
s), 6.81(1H, d, J=7.7Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6
Hz), 7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.45-7.49(2H, m),7.47(1
H, d, J=2.7Hz), 7.70-7.75(2H, m), 10.02(1H, br s),
11.01(1H, br s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 1.84(3H, br s), 3.16(3H,
s), 6.81(1H, d, J=7.7Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6
Hz), 7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.45-7.49(2H, m),7.47(1
H, d, J=2.7Hz), 7.70-7.75(2H, m), 10.02(1H, br s),
11.01(1H, br s)
【０３４８】実施例８０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−ヒドロキシ−３−ピリジンスルホンアミド
−ヒドロキシ−３−ピリジンスルホンアミド
【０３４９】
【化１１３】
【０３５０】氷冷下氷酢酸２mlに実施例３３の化合物10
0mg （0.31ミリモル）を溶かした液に、亜硝酸ナトリウ
ム32mg（0.46ミリモル）の水溶液１mlを滴下して加え
た。１時間攪拌後、重曹水を加えてpH約８にし、さらに
10分間攪拌した。酢酸エチルで抽出し、水洗、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物54mgを得た。 融点： 244-245℃（分解）（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
から再結晶） 1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.39(1H, d, J=9.5Hz), 6.
88(1H, d, J=7.7Hz), 7.04(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.
32(1H, d, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.58(1H,
dd, J=9.5, 3.1Hz), 7.64(1H, d, J=3.1Hz), 9.76-9.9
4(1H, br), 11.01-11.13(1H, m), 11.98-12.15(1H, br)
0mg （0.31ミリモル）を溶かした液に、亜硝酸ナトリウ
ム32mg（0.46ミリモル）の水溶液１mlを滴下して加え
た。１時間攪拌後、重曹水を加えてpH約８にし、さらに
10分間攪拌した。酢酸エチルで抽出し、水洗、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル薄層ク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物54mgを得た。 融点： 244-245℃（分解）（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
から再結晶） 1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.39(1H, d, J=9.5Hz), 6.
88(1H, d, J=7.7Hz), 7.04(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.
32(1H, d, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.58(1H,
dd, J=9.5, 3.1Hz), 7.64(1H, d, J=3.1Hz), 9.76-9.9
4(1H, br), 11.01-11.13(1H, m), 11.98-12.15(1H, br)
【０３５１】実施例８１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）エチル］
ベンゼンスルホンアミド
−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）エチル］
ベンゼンスルホンアミド
【０３５２】
【化１１４】
【０３５３】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.69(3H, s), 2.76(3H,
s), 2.86(2H, t, J=7.5Hz), 3.26(2H, t, J=7.5Hz), 6.
78(1H, dd, J=7.4, 0.55Hz), 6.94(1H, t, J=7.7Hz),
7.24(1H, dd, J=7.7, 0.37Hz), 7.39(2H, d, J=8.2Hz),
7.48(1H, d, J=2.6Hz), 7.66(2H, d, J=8.2Hz), 9.94
(1H, br s), 11.02(1H, br s)
を得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.69(3H, s), 2.76(3H,
s), 2.86(2H, t, J=7.5Hz), 3.26(2H, t, J=7.5Hz), 6.
78(1H, dd, J=7.4, 0.55Hz), 6.94(1H, t, J=7.7Hz),
7.24(1H, dd, J=7.7, 0.37Hz), 7.39(2H, d, J=8.2Hz),
7.48(1H, d, J=2.6Hz), 7.66(2H, d, J=8.2Hz), 9.94
(1H, br s), 11.02(1H, br s)
【０３５４】実施例８２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（トリフルオロメタンスルホンアミド）ベンゼンスル
ホンアミド
−（トリフルオロメタンスルホンアミド）ベンゼンスル
ホンアミド
【０３５５】
【化１１５】
【０３５６】実施例３の化合物62mg(0.19 ミリモル) の
ピリジン溶液(5ml) に0 ℃でトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物 128μl(0.76ミリモル）を加え、そのまま終
夜攪拌した。減圧下に反応液を濃縮し、pH7 のリン酸緩
衝液を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表
題化合物20mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.79(1H, d, J=7.7Hz), 6.
94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.16(2H, d, J=8.6Hz), 7.
23(1H, d, J=7.9Hz), 7.46(1H, d, J=2.7Hz), 7.58(2H,
d, J=8.1Hz), 9.84(1H, br s), 10.98(1H, br s)
ピリジン溶液(5ml) に0 ℃でトリフルオロメタンスルホ
ン酸無水物 128μl(0.76ミリモル）を加え、そのまま終
夜攪拌した。減圧下に反応液を濃縮し、pH7 のリン酸緩
衝液を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表
題化合物20mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.79(1H, d, J=7.7Hz), 6.
94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.16(2H, d, J=8.6Hz), 7.
23(1H, d, J=7.9Hz), 7.46(1H, d, J=2.7Hz), 7.58(2H,
d, J=8.1Hz), 9.84(1H, br s), 10.98(1H, br s)
【０３５７】実施例８３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチル］ベン
ゼンスルホンアミド
−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチル］ベン
ゼンスルホンアミド
【０３５８】
【化１１６】
【０３５９】実施例１および２と同様にして表題化合物
を得た。 融点： 200.5-202℃（エタノールから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.63(3H, s), 2.94(3H,
s), 4.27(2H, s), 6.80(1H, d, J=7.3Hz), 6.95(1H, d
d, J=8.1, 7.5Hz), 7.25(1H, d, J=7.9Hz), 7.45(2H,
d, J=8.2Hz), 7.47(1H, d, J=2.7Hz), 7.74(2H, d, J=
8.2Hz), 10.00(1H, s),11.00(1H, br s) 実施例８４３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−ピロロ［２，３
−ｃ］ピリジン−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
を得た。 融点： 200.5-202℃（エタノールから再結晶）1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 2.63(3H, s), 2.94(3H,
s), 4.27(2H, s), 6.80(1H, d, J=7.3Hz), 6.95(1H, d
d, J=8.1, 7.5Hz), 7.25(1H, d, J=7.9Hz), 7.45(2H,
d, J=8.2Hz), 7.47(1H, d, J=2.7Hz), 7.74(2H, d, J=
8.2Hz), 10.00(1H, s),11.00(1H, br s) 実施例８４３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−ピロロ［２，３
−ｃ］ピリジン−７−イル）ベンゼンスルホンアミド
【０３６０】
【化１１７】
【０３６１】２−ブロモ−３−ニトロピリジンから製造
例１と同様にして合成した７−ブロモ−１Ｈ−ピロロ
［２，３−ｃ］ピリジン600mg(3.05ミリモル）、銅粉19
4mg および塩化第一銅 603mgを濃アンモニア水84mlに加
え、封管中120 ℃で１５時間加熱後、処理し、７−アミ
ノ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］ピリジン170mg を得
た。これを実施例１および２と同様に反応、処理し、表
題化合物57mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.93(1H, d, J=6.6Hz),
7.45(1H, dd, J=6.6, 5.8Hz), 7.53(1H, dd, J=8.0, 7.
6Hz), 7.61(1H, d, J=7.6Hz), 7.73(1H, d, J=2.8Hz),
7.85(1H, d, J=8.0Hz), 7.96(1H, d, J=1.2Hz), 11.90-
12.10(1H, m), 12.72(1H, br s)
例１と同様にして合成した７−ブロモ−１Ｈ−ピロロ
［２，３−ｃ］ピリジン600mg(3.05ミリモル）、銅粉19
4mg および塩化第一銅 603mgを濃アンモニア水84mlに加
え、封管中120 ℃で１５時間加熱後、処理し、７−アミ
ノ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］ピリジン170mg を得
た。これを実施例１および２と同様に反応、処理し、表
題化合物57mgを得た。1 H-NMR(DMSO-d6) δ(ppm) : 6.93(1H, d, J=6.6Hz),
7.45(1H, dd, J=6.6, 5.8Hz), 7.53(1H, dd, J=8.0, 7.
6Hz), 7.61(1H, d, J=7.6Hz), 7.73(1H, d, J=2.8Hz),
7.85(1H, d, J=8.0Hz), 7.96(1H, d, J=1.2Hz), 11.90-
12.10(1H, m), 12.72(1H, br s)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/635 Ｃ０７Ｄ 209/08 8217−4Ｃ 209/12 8217−4Ｃ 209/42 8217−4Ｃ 231/56 Ｚ 401/12 ２０９ 403/12 ２０９ 405/12 ２０９ 409/12 ２０９ 471/04 １０４ １０８ Ｘ //(Ｃ０７Ｄ 401/12 209:04 213:60） (Ｃ０７Ｄ 403/12 209:04 233:84） (Ｃ０７Ｄ 405/12 209:04 307:64） (Ｃ０７Ｄ 409/12 209:04 333:34） (72)発明者 杉 直子 茨城県つくば市稲荷前９−７、つくばね第 二寮110号 (72)発明者 長洲 毅志 茨城県土浦市永国852−13 (72)発明者 小澤 陽一 茨城県つくば市上広岡576−10、サンヴィ レッジ山田 Ａ−101 (72)発明者 小柳 望 茨城県つくば市東光台１−10−５ (72)発明者 紀藤 恭輔 茨城県つくば市東光台１−10−８
Claims (13)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａ環は置換基を有していてもよい、単環式また
は二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有していてもよい、
６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原子として窒素原
子を１個含む不飽和６員ヘテロ環を、Ｃ環は置換基を有
していてもよい、窒素原子を１または２個含む５員ヘテ
ロ環を、Ｗは単結合または−ＣＨ＝ＣＨ−を、Ｘは−Ｎ
（Ｒ1 ）−または酸素原子を、Ｙは炭素原子または窒素
原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ2 ）−または窒素原子を、Ｒ1 お
よびＲ2 は同一または異なって水素原子または低級アル
キル基を、意味する。但し、（１）Ａ環が４−メチルベ
ンゼンであり、Ｗが単結合であり、Ｘが−ＮＨ−であ
り、Ｂ環がメトキシベンゼンであり、かつＣ環が無置換
のイミダゾールである組み合わせ、（２）Ａ環が４−
（アセトアミド）ベンゼンまたは４−アミノベンゼンで
あり、Ｗが単結合であり、Ｘが−ＮＨ−であり、Ｂ環が
無置換のベンゼンであり、かつＣ環が無置換のピラゾー
ルである組み合わせ、を除く）で表わされるスルホンア
ミド誘導体およびスルホン酸エステル誘導体またはそれ
らの薬理学的に許容される塩。 - 【請求項２】 Ｗが単結合である請求項１記載の化合物
またはその薬理学的に許容される塩。 - 【請求項３】 Ｗが単結合であり、ＸおよびＺがいずれ
も−ＮＨ−であり、かつＹが炭素原子である請求項１記
載の化合物またはその薬理学的に許容される塩。 - 【請求項４】 Ｂ環が置換基を有していてもよい、ベン
ゼンまたはピリジンである請求項１〜３記載の化合物ま
たはその薬理学的に許容される塩。 - 【請求項５】 Ｃ環が置換基を有していてもよいピロー
ルである請求項１〜４記載の化合物またはその薬理学的
に許容される塩。 - 【請求項６】 Ａ環が置換基を有していてもよい、ベン
ゼンまたはピリジンであり、Ｂ環が置換基を有していて
もよいベンゼンであり、Ｃ環が置換基を有していてもよ
いピロールであり、Ｗが単結合であり、かつＸおよびＺ
がいずれも−ＮＨ−である請求項１記載の化合物または
その薬理学的に許容される塩。 - 【請求項７】 下記の群から選ばれる請求項１記載の化
合物またはその薬理学的に許容される塩。 １）４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル
−７−イル）ベンゼンスルホンアミド ２）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）
−４−（メタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミ
ド ３）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イル）
−４−シアノベンゼンスルホンアミド ４）６−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール
−７−イル）−３−ピリジンスルホンアミド ５）３−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インド−ル
−７−イル）ベンゼンスルホンアミド ６）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）
−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミド ７）Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インド−ル−７−
イル）−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミド ８）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）
−４−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド ９）４−シアノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インド−ル
−７−イル）ベンゼンスルホンアミド １０）４−カルバモイル−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド １１）６−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−
ル−７−イル）−３−ピリジンスルホンアミド １２）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスル
ホンアミド １３）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼ
ンスルホンアミド １４）６−アミノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドー
ル−７−イル）−３−ピリジンスルホンアミド １５）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−６−イソプロピルアミノ−３−ピリジンスルホン
アミド １６）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−６−［［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミ
ノ］−３−ピリジンスルホンアミド １７）３−シアノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インド−
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド １８）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼ
ンスルホンアミド １９）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼ
ンスルホンアミド ２０）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−６−シクロプロピルアミノ−３−ピリジンスルホ
ンアミド ２１）Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−５−メチル−３−ピリジンスルホンアミド ２２）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼンスル
ホンアミド ２３）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベ
ンゼンスルホンアミド ２４）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホン
アミド ２５）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−チオカルバモイルベンゼンスルホンアミド ２６）５−ブロモ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドー
ル−７−イル）−２−ピリジンスルホンアミド ２７）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスル
ホンアミド ２８）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（エタンスルホンアミド）ベンゼンスルホン
アミド ２９）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゼンスルホ
ンアミド ３０）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（メチルスルホニルメチル）ベンゼンスルホ
ンアミド ３１）Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インド−ル−７
−イル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスル
ホンアミド ３２）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（Ｎ−メチルアセトアミド）ベンゼンスルホ
ンアミド ３３）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−６−ヒドロキシ−３−ピリジンスルホンアミド ３４）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）
エチル］ベンゼンスルホンアミド ３５）４−カルバモイルメチル−Ｎ−（３−クロロ−１
Ｈ−インド−ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド ３６）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インド−ル−７−イ
ル）−４−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチ
ル］ベンゼンスルホンアミド ３７）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド ３８）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−５−スルファモイル−２−ピリジンスルホンアミ
ド ３９）６−アセトアミド−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）−３−ピリジンスルホンアミド ４０）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−１−メチル−４−イミダゾールスルホンアミド ４１）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−６−ホルムアミド−３−ピリジンスルホンアミド ４２）Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−５−スルファモイルメチル−２−ピリジンスルホ
ンアミド - 【請求項８】 一般式（II） 【化２】 （式中、Ａａ環は保護されていてもよい請求項１記載の
Ａ環を意味し、Ｗは請求項１記載と同じ意味を示す）で
表わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と一般式
（III ） 【化３】 （式中、Ｘ、ＹおよびＺは請求項１記載と同じ意味を示
し、Ｂａ環は保護されていてもよい請求項１記載のＢ環
を、Ｃａ環は保護されていてもよい請求項１記載のＣ環
を意味する）で表わされる化合物を反応させ、得られた
生成物が保護基を有する場合は所望により該保護基を除
去する方法。 - 【請求項９】 一般式（IV） 【化４】 （式中、Ａａ環およびＢａ環は請求項８記載と同じ意味
を示し、Ｗ、ＸおよびＺは請求項１記載と同じ意味を示
す）で表わされる化合物をハロゲン化剤と反応させ、得
られた生成物が保護基を有する場合は所望により該保護
基を除去する方法。 - 【請求項１０】 一般式（Ｖ） 【化５】 （式中、Ａａ環およびＢａ環は請求項８記載と同じ意味
を、Ｗ、ＸおよびＺは請求項１記載と同じ意味を示し、
Ｅは脱水によりシアノ基へ変換可能な置換基を意味す
る）で表わされる化合物を脱水剤と反応させ、得られた
生成物が保護基を有する場合は所望により該保護基を除
去する方法。 - 【請求項１１】 一般式（VI） 【化６】 （式中、Ａｂ環は還元によりアミノ基へ変換可能な置換
基を有する、保護されていてもよい請求項１記載のＡ環
を意味し、Ｂａ環およびＣａ環は請求項８記載と同じ意
味を、Ｗ、Ｘ、ＹおよびＺは請求項１記載と同じ意味を
示す）で表わされる化合物を還元剤と反応させ、得られ
た生成物が保護基を有する場合は所望により該保護基を
除去する方法。 - 【請求項１２】 一般式（VII ） 【化７】 （式中、Ａｃ環は脱離基を環上または置換基中に有す
る、保護されていてもよい請求項１記載のＡ環を意味
し、Ｂａ環およびＣａ環は請求項８記載と同じ意味を、
Ｗ、Ｘ、ＹおよびＺは請求項１記載と同じ意味を示す）
で表わされる化合物を求核剤と反応させ、得られた生成
物が保護基を有する場合は所望により該保護基を除去す
る方法。 - 【請求項１３】 請求項１記載のスルホンアミド誘導体
またはスルホン酸エステル誘導体、あるいはその薬理学
的に許容される塩を有効成分とする抗腫瘍剤。
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|---|---|---|---|
| JP20756894A JP3545461B2 (ja) | 1993-09-10 | 1994-08-31 | 二環式ヘテロ環含有スルホンアミド誘導体 |
| US08/433,493 US5721246A (en) | 1993-09-10 | 1994-09-08 | Heterobicyclic sulfonamide and sulfonic ester derivatives |
| FI952272A FI109690B (fi) | 1993-09-10 | 1995-05-10 | Menetelmä farmakologisesti aktiivisten sulfonamidien valmistamiseksi |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24861493 | 1993-09-10 | ||
| JP5-248614 | 1993-09-10 | ||
| JP20756894A JP3545461B2 (ja) | 1993-09-10 | 1994-08-31 | 二環式ヘテロ環含有スルホンアミド誘導体 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPH07165708A true JPH07165708A (ja) | 1995-06-27 |
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Family
ID=26516331
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|---|---|---|---|
| JP20756894A Expired - Fee Related JP3545461B2 (ja) | 1993-09-10 | 1994-08-31 | 二環式ヘテロ環含有スルホンアミド誘導体 |
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|---|---|
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| JP (1) | JP3545461B2 (ja) |
| FI (1) | FI109690B (ja) |
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997030706A1 (fr) * | 1996-02-26 | 1997-08-28 | Eisai Co., Ltd. | Compositions contenant un agent antitumoral |
| WO2004091664A1 (ja) * | 2003-04-18 | 2004-10-28 | Eisai Co., Ltd. | 細胞質リンゴ酸脱水素酵素阻害剤 |
| WO2006090928A1 (ja) * | 2005-02-28 | 2006-08-31 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | スルホンアミド化合物の血管新生阻害物質との新規併用 |
| WO2006090930A1 (ja) | 2005-02-28 | 2006-08-31 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | スルホンアミド化合物の新規併用 |
| JPWO2005054216A1 (ja) * | 2003-12-01 | 2007-06-28 | 株式会社リバース・プロテオミクス研究所 | 新規抗癌剤「スルコキシン」 |
| WO2007123274A1 (ja) | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | スルホンアミド化合物の新規感受性マーカー |
| CN100352446C (zh) * | 2003-05-08 | 2007-12-05 | 卫材R&D管理有限公司 | 含有n－(3－氯－1h－吲哚－7－基)－4－氨磺酰基苯磺酰胺和另一种细胞毒药物的药物组合 |
| EP1430894A4 (en) * | 2001-09-05 | 2007-12-12 | Eisai R&D Man Co Ltd | LYMPHOCYTE ACTIVATION INHIBITOR AND REMEDY FOR AUTOIMMUNE DISEASE |
| JP2009515916A (ja) * | 2005-11-25 | 2009-04-16 | エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | ピリジルスルホンアミド誘導体、その製造法、及び薬剤としての使用 |
| JP2010506825A (ja) * | 2006-10-19 | 2010-03-04 | 武田薬品工業株式会社 | インドール化合物 |
| JP2010524956A (ja) * | 2007-04-16 | 2010-07-22 | アボット・ラボラトリーズ | ７−置換インドールＭｃｌ−１阻害薬 |
| US7834049B2 (en) | 2000-02-03 | 2010-11-16 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Integrin expression inhibitor |
| JP2010536845A (ja) * | 2007-08-17 | 2010-12-02 | エルジー・ライフ・サイエンシーズ・リミテッド | 細胞壊死阻害剤としてのインドール化合物 |
| EP2306198A1 (en) | 2004-07-02 | 2011-04-06 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Method of analyzing protein structural affinity relationship |
| US7989498B2 (en) | 1999-04-26 | 2011-08-02 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Inhibitors of IMPDH enzyme |
| EP2364699A1 (en) | 2004-09-13 | 2011-09-14 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Joint use of sulfonamide based compound with angiogenesis inhibitor |
| JP2011190261A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Purzer Pharmaceutical Co Ltd | ベンゼンスルホンアミド誘導体およびその医薬組成物 |
| JP2013545823A (ja) * | 2010-12-17 | 2013-12-26 | アジオス ファーマシューティカルズ， インコーポレイテッド | ピルビン酸キナーゼｍ２（ｐｍｋ２）調節剤としての新規ｎ−（４−（アゼチジン−１−カルボニル）フェニル）−（ヘテロ−）アリールスルホンアミド誘導体 |
| US8772269B2 (en) | 2004-09-13 | 2014-07-08 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Use of sulfonamide-including compounds in combination with angiogenesis inhibitors |
| US9328077B2 (en) | 2010-12-21 | 2016-05-03 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Bicyclic PKM2 activators |
| US9388164B2 (en) | 2011-05-03 | 2016-07-12 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Methods of using pyruvate kinase activators |
| US9458132B2 (en) | 2012-11-08 | 2016-10-04 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Therapeutic compounds and compositions and their use as PKM2 modulators |
| US9657004B2 (en) | 2009-04-06 | 2017-05-23 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Pyruvate kinase M2 modulators, therapeutic compositions and related methods of use |
| US9980961B2 (en) | 2011-05-03 | 2018-05-29 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Pyruvate kinase activators for use in therapy |
| US10029987B2 (en) | 2009-06-29 | 2018-07-24 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
| US11234976B2 (en) | 2015-06-11 | 2022-02-01 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Methods of using pyruvate kinase activators |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5939451A (en) * | 1996-06-28 | 1999-08-17 | Hoffmann-La Roche Inc. | Use of sulfonamides |
| JP2000247949A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Eisai Co Ltd | スルホンアミド含有インドール化合物 |
| US6521658B1 (en) * | 1999-05-28 | 2003-02-18 | Abbott Laboratories | Cell proliferation inhibitors |
| DE60034963D1 (de) * | 1999-12-14 | 2007-07-05 | Nippon Shinyaku Co Ltd | Heterocyclische derivate und arzneistoffe |
| TWI283575B (en) * | 2000-10-31 | 2007-07-11 | Eisai Co Ltd | Medicinal compositions for concomitant use as anticancer agent |
| US7122318B2 (en) * | 2001-02-21 | 2006-10-17 | Eisai Co., Ltd. | Method for testing effect of angiogenesis inhibitor via integrin expression inhibition |
| ATE380028T1 (de) * | 2001-09-05 | 2007-12-15 | Eisai R&D Man Co Ltd | Mittel zur anregung des appetits und mittel zur behandlung von anorexie |
| EP1481678A4 (en) * | 2002-03-05 | 2009-12-30 | Eisai R&D Man Co Ltd | ANTITUMORAL AGENT CONTAINING A SULFONAMIDE-CONTAINING HETEROCYCLIC COMPOUND AND AN ANGIOGENESIS INHIBITOR |
| GB0215650D0 (en) * | 2002-07-05 | 2002-08-14 | Cyclacel Ltd | Bisarylsufonamide compounds |
| GB0224830D0 (en) * | 2002-10-24 | 2002-12-04 | Sterix Ltd | Compound |
| JPWO2006054456A1 (ja) * | 2004-11-17 | 2008-05-29 | エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 | 二環式へテロ環含有スルホンアミド化合物の結晶 |
| US20080286282A1 (en) * | 2005-02-28 | 2008-11-20 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | Novel Use of Sulfonamide Compound in Combination with Angiogenesis Inhibitor |
| JP5094394B2 (ja) * | 2005-04-20 | 2012-12-12 | 武田薬品工業株式会社 | 縮合複素環化合物 |
| US7601715B2 (en) * | 2005-06-22 | 2009-10-13 | Bristol-Myers Squibb Company | Process for preparing triazole substituted azaindoleoxoacetic piperazine derivatives and novel salt forms produced therein |
| TWI522337B (zh) | 2005-06-22 | 2016-02-21 | 普雷辛肯公司 | 用於激酶調節的化合物及方法及其適應症 |
| AU2008350907A1 (en) | 2007-12-11 | 2009-08-27 | Viamet Pharmaceuticals, Inc. | Metalloenzyme inhibitors using metal binding moieties in combination with targeting moieties |
| KR101229822B1 (ko) | 2008-03-04 | 2013-02-05 | 연세대학교 산학협력단 | 혈관신생 억제용 약제학적 조성물 |
| US8329724B2 (en) | 2009-08-03 | 2012-12-11 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for the manufacture of pharmaceutically active compounds |
| US11623932B2 (en) | 2017-09-22 | 2023-04-11 | Kymera Therapeutics, Inc. | Protein degraders and uses thereof |
| US11358948B2 (en) | 2017-09-22 | 2022-06-14 | Kymera Therapeutics, Inc. | CRBN ligands and uses thereof |
| WO2019133531A1 (en) | 2017-12-26 | 2019-07-04 | Kymera Therapeutics, Inc. | Irak degraders and uses thereof |
| WO2019140387A1 (en) | 2018-01-12 | 2019-07-18 | Kymera Therapeutics, Inc. | Crbn ligands and uses thereof |
| WO2019140380A1 (en) | 2018-01-12 | 2019-07-18 | Kymera Therapeutics, Inc. | Protein degraders and uses thereof |
| JP2021511290A (ja) | 2018-01-25 | 2021-05-06 | デイナ ファーバー キャンサー インスティチュート，インコーポレイテッド | タンパク質分解のためのスルホンアミド誘導体 |
| US11292792B2 (en) | 2018-07-06 | 2022-04-05 | Kymera Therapeutics, Inc. | Tricyclic CRBN ligands and uses thereof |
| US11352350B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-06-07 | Kymera Therapeutics, Inc. | IRAK degraders and uses thereof |
| CN113939300A (zh) | 2019-04-05 | 2022-01-14 | 凯麦拉医疗公司 | Stat降解剂和其用途 |
| MX2021015995A (es) | 2019-06-28 | 2022-03-11 | Kymera Therapeutics Inc | Degradadores de cinasas asociadas al receptor de interleucina-1 (irak) y usos de los mismos. |
| EP4076524A4 (en) | 2019-12-17 | 2023-11-29 | Kymera Therapeutics, Inc. | IRAQ DEGRADERS AND USES THEREOF |
| IL293917A (en) | 2019-12-17 | 2022-08-01 | Kymera Therapeutics Inc | Iraq joints and their uses |
| KR20220151160A (ko) | 2019-12-23 | 2022-11-14 | 카이메라 쎄라퓨틱스 인코포레이티드 | Smarca 분해제 및 이의 용도 |
| BR112022018678A2 (pt) | 2020-03-19 | 2022-11-01 | Kymera Therapeutics Inc | Degradadores de mdm2 e usos dos mesmos |
| TW202210483A (zh) | 2020-06-03 | 2022-03-16 | 美商凱麥拉醫療公司 | Irak降解劑之結晶型 |
| WO2022120355A1 (en) | 2020-12-02 | 2022-06-09 | Ikena Oncology, Inc. | Tead degraders and uses thereof |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2773765A (en) * | 1952-08-16 | 1956-12-11 | Azoplate Corp | Light sensitive material for photomechanical reproduction |
| JPS61215388A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-25 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 置換ベンズイミダゾール誘導体 |
| JPH01308249A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-12-12 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | ７―ヒドロキシインドール―２―カルボン酸化合物の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ATE119774T1 (de) * | 1990-07-30 | 1995-04-15 | Takeda Chemical Industries Ltd | Imidazopyridinderivate und ihre verwendung. |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP20756894A patent/JP3545461B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-09-08 US US08/433,493 patent/US5721246A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-05-10 FI FI952272A patent/FI109690B/fi not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2773765A (en) * | 1952-08-16 | 1956-12-11 | Azoplate Corp | Light sensitive material for photomechanical reproduction |
| JPS61215388A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-25 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 置換ベンズイミダゾール誘導体 |
| JPH01308249A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-12-12 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | ７―ヒドロキシインドール―２―カルボン酸化合物の製造方法 |
Cited By (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997030706A1 (fr) * | 1996-02-26 | 1997-08-28 | Eisai Co., Ltd. | Compositions contenant un agent antitumoral |
| US6060498A (en) * | 1996-02-26 | 2000-05-09 | Eisai Co., Ltd. | Composition containing antitumor agent |
| US7989498B2 (en) | 1999-04-26 | 2011-08-02 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Inhibitors of IMPDH enzyme |
| US7834049B2 (en) | 2000-02-03 | 2010-11-16 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Integrin expression inhibitor |
| EP1430894A4 (en) * | 2001-09-05 | 2007-12-12 | Eisai R&D Man Co Ltd | LYMPHOCYTE ACTIVATION INHIBITOR AND REMEDY FOR AUTOIMMUNE DISEASE |
| WO2004091664A1 (ja) * | 2003-04-18 | 2004-10-28 | Eisai Co., Ltd. | 細胞質リンゴ酸脱水素酵素阻害剤 |
| CN100352446C (zh) * | 2003-05-08 | 2007-12-05 | 卫材R&D管理有限公司 | 含有n－(3－氯－1h－吲哚－7－基)－4－氨磺酰基苯磺酰胺和另一种细胞毒药物的药物组合 |
| JPWO2005054216A1 (ja) * | 2003-12-01 | 2007-06-28 | 株式会社リバース・プロテオミクス研究所 | 新規抗癌剤「スルコキシン」 |
| EP2306198A1 (en) | 2004-07-02 | 2011-04-06 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Method of analyzing protein structural affinity relationship |
| US8772269B2 (en) | 2004-09-13 | 2014-07-08 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Use of sulfonamide-including compounds in combination with angiogenesis inhibitors |
| EP2364699A1 (en) | 2004-09-13 | 2011-09-14 | Eisai R&D Management Co., Ltd. | Joint use of sulfonamide based compound with angiogenesis inhibitor |
| WO2006090928A1 (ja) * | 2005-02-28 | 2006-08-31 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | スルホンアミド化合物の血管新生阻害物質との新規併用 |
| JPWO2006090930A1 (ja) * | 2005-02-28 | 2008-07-24 | エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 | スルホンアミド化合物の新規併用 |
| WO2006090930A1 (ja) | 2005-02-28 | 2006-08-31 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | スルホンアミド化合物の新規併用 |
| JP2009515916A (ja) * | 2005-11-25 | 2009-04-16 | エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー | ピリジルスルホンアミド誘導体、その製造法、及び薬剤としての使用 |
| WO2007123274A1 (ja) | 2006-04-20 | 2007-11-01 | Eisai R & D Management Co., Ltd. | スルホンアミド化合物の新規感受性マーカー |
| JP2010506825A (ja) * | 2006-10-19 | 2010-03-04 | 武田薬品工業株式会社 | インドール化合物 |
| JP2010524956A (ja) * | 2007-04-16 | 2010-07-22 | アボット・ラボラトリーズ | ７−置換インドールＭｃｌ−１阻害薬 |
| JP2010536845A (ja) * | 2007-08-17 | 2010-12-02 | エルジー・ライフ・サイエンシーズ・リミテッド | 細胞壊死阻害剤としてのインドール化合物 |
| US9657004B2 (en) | 2009-04-06 | 2017-05-23 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Pyruvate kinase M2 modulators, therapeutic compositions and related methods of use |
| US9938259B2 (en) | 2009-04-06 | 2018-04-10 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compositions and related methods of use |
| US11866411B2 (en) | 2009-06-29 | 2024-01-09 | Agios Pharmaceutical, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
| USRE49582E1 (en) | 2009-06-29 | 2023-07-18 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
| US10988448B2 (en) | 2009-06-29 | 2021-04-27 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
| US10029987B2 (en) | 2009-06-29 | 2018-07-24 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Therapeutic compounds and compositions |
| JP2011190261A (ja) * | 2010-03-16 | 2011-09-29 | Purzer Pharmaceutical Co Ltd | ベンゼンスルホンアミド誘導体およびその医薬組成物 |
| US9221792B2 (en) | 2010-12-17 | 2015-12-29 | Agios Pharmaceuticals, Inc | N-(4-(azetidine-1-carbonyl) phenyl)-(hetero-) arylsulfonamide derivatives as pyruvate kinase M2 (PMK2) modulators |
| JP2013545823A (ja) * | 2010-12-17 | 2013-12-26 | アジオス ファーマシューティカルズ， インコーポレイテッド | ピルビン酸キナーゼｍ２（ｐｍｋ２）調節剤としての新規ｎ−（４−（アゼチジン−１−カルボニル）フェニル）−（ヘテロ−）アリールスルホンアミド誘導体 |
| US10087169B2 (en) | 2010-12-21 | 2018-10-02 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Bicyclic PKM2 activators |
| US9328077B2 (en) | 2010-12-21 | 2016-05-03 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Bicyclic PKM2 activators |
| US9980961B2 (en) | 2011-05-03 | 2018-05-29 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Pyruvate kinase activators for use in therapy |
| US9388164B2 (en) | 2011-05-03 | 2016-07-12 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Methods of using pyruvate kinase activators |
| US10632114B2 (en) | 2011-05-03 | 2020-04-28 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Pyruvate kinase activators for use in therapy |
| US11793806B2 (en) | 2011-05-03 | 2023-10-24 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Pyruvate kinase activators for use in therapy |
| US9458132B2 (en) | 2012-11-08 | 2016-10-04 | Agios Pharmaceuticals, Inc | Therapeutic compounds and compositions and their use as PKM2 modulators |
| US11234976B2 (en) | 2015-06-11 | 2022-02-01 | Agios Pharmaceuticals, Inc. | Methods of using pyruvate kinase activators |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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