JPH07145143A - アルキルスルフィニルベンズアミド類の製造方法 - Google Patents
アルキルスルフィニルベンズアミド類の製造方法Info
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- JPH07145143A JPH07145143A JP5319179A JP31917993A JPH07145143A JP H07145143 A JPH07145143 A JP H07145143A JP 5319179 A JP5319179 A JP 5319179A JP 31917993 A JP31917993 A JP 31917993A JP H07145143 A JPH07145143 A JP H07145143A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】ハロベンズアミド類とアルカンチオールとを、
塩基の存在下、不均一溶媒系で反応させることを特徴と
するアルキルチオベンズアミド類の製造方法、並びに該
アルキルチオベンズアミド類とハロゲンとを、不均一溶
媒系で反応させることを特徴とするアルキルスルフィニ
ルベンズアミド類の製造方法。 【効果】本発明の方法によれば、工業的に容易に入手で
きるハロベンズアミド類を原料とし、アルキルチオベン
ズアミド類を経由して、ワンポットで容易にアルキルス
ルフィニルベンズアミド類が得られる。このように本発
明では廃棄物の排出が少なく、高価で取扱い上危険性の
高い物質を原料として使用することなく、しかも高収率
で、目的とするアルキルスルフィニルベンズアミド類が
容易に得られるため、経済的にも工業的にも有用な方法
である。
塩基の存在下、不均一溶媒系で反応させることを特徴と
するアルキルチオベンズアミド類の製造方法、並びに該
アルキルチオベンズアミド類とハロゲンとを、不均一溶
媒系で反応させることを特徴とするアルキルスルフィニ
ルベンズアミド類の製造方法。 【効果】本発明の方法によれば、工業的に容易に入手で
きるハロベンズアミド類を原料とし、アルキルチオベン
ズアミド類を経由して、ワンポットで容易にアルキルス
ルフィニルベンズアミド類が得られる。このように本発
明では廃棄物の排出が少なく、高価で取扱い上危険性の
高い物質を原料として使用することなく、しかも高収率
で、目的とするアルキルスルフィニルベンズアミド類が
容易に得られるため、経済的にも工業的にも有用な方法
である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルキルスルフィニル
ベンズアミド類の製造方法に関する。さらに詳しくは、
抗菌剤、抗かび剤として有用な２−置換−１，２−ベン
ズイソチアゾール−３−オン等の中間体として有用なア
ルキルスルフィニルベンズアミド類の製造方法に関す
る。
ベンズアミド類の製造方法に関する。さらに詳しくは、
抗菌剤、抗かび剤として有用な２−置換−１，２−ベン
ズイソチアゾール−３−オン等の中間体として有用なア
ルキルスルフィニルベンズアミド類の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、アルキルスルフィニルベンズアミ
ド類、例えば２−（アルキルスルフィニル）ベンズアミ
ド類の製造方法としては、下記の方法などが知られてい
る。
ド類、例えば２−（アルキルスルフィニル）ベンズアミ
ド類の製造方法としては、下記の方法などが知られてい
る。
【０００３】（Ａ）Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐ
ｎ．，５５，１１８３−７（1982）
ｎ．，５５，１１８３−７（1982）
【０００４】
【化７】
【０００５】（Ｂ）Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔ．，３３，１５３−６（1992）
ｔ．，３３，１５３−６（1992）
【０００６】
【化８】
【０００７】しかし、これらの公知の製造方法は、次の
ような点から工業上有利な方法とはいえない。すなわち
（Ａ）の方法は、原料として用いる２−（メチルチオ）
ベンゾイルクロライドの安定性およびその製造方法に問
題がある。また、高価で、取扱い上危険性の高い過よう
素酸を用いている。（Ｂ）の方法もまた、原料として用
いるＮ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズアミドの
製造方法が記載されていないために原料供給に問題があ
る。しかも、取扱い上危険性の高いｍ−クロロ過安息香
酸（ｍ−ＣＰＢＡ）を用いている。
ような点から工業上有利な方法とはいえない。すなわち
（Ａ）の方法は、原料として用いる２−（メチルチオ）
ベンゾイルクロライドの安定性およびその製造方法に問
題がある。また、高価で、取扱い上危険性の高い過よう
素酸を用いている。（Ｂ）の方法もまた、原料として用
いるＮ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズアミドの
製造方法が記載されていないために原料供給に問題があ
る。しかも、取扱い上危険性の高いｍ−クロロ過安息香
酸（ｍ−ＣＰＢＡ）を用いている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の状況に鑑み、高価で取扱い上危険性の高い物質を原料
として使用することなくアルキルスルフィニルベンズア
ミド類を工業的に有利に製造する方法を提供することに
ある。さらに、本発明の他の目的は、該アルキルスルフ
ィニルベンズアミド類を製造するために有用な中間体で
あるアルキルチオベンズアミド類を製造する方法を提供
することにある。
の状況に鑑み、高価で取扱い上危険性の高い物質を原料
として使用することなくアルキルスルフィニルベンズア
ミド類を工業的に有利に製造する方法を提供することに
ある。さらに、本発明の他の目的は、該アルキルスルフ
ィニルベンズアミド類を製造するために有用な中間体で
あるアルキルチオベンズアミド類を製造する方法を提供
することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため、簡易かつ経済的に有利にアルキルスル
フィニルベンズアミド類を製造する方法を提供すべく鋭
意検討した。その結果、一般式（Ｉ）で表わされるハロ
ベンズアミド類と一般式（II）で表わされるアルカンチ
オールとを、塩基の存在下、不均一溶媒系で反応させる
ことにより、一般式（III)で表わされるアルキルチオベ
ンズアミド類、すなわち中間体を製造し、さらにこのア
ルキルチオベンズアミド類とハロゲンとを、不均一溶媒
系でさらに反応させることにより、一般式（IV）で表わ
されるアルキルスルフィニルベンズアミド類が簡易かつ
高収率で得られることを見出し、本発明を完成するに至
った。
を達成するため、簡易かつ経済的に有利にアルキルスル
フィニルベンズアミド類を製造する方法を提供すべく鋭
意検討した。その結果、一般式（Ｉ）で表わされるハロ
ベンズアミド類と一般式（II）で表わされるアルカンチ
オールとを、塩基の存在下、不均一溶媒系で反応させる
ことにより、一般式（III)で表わされるアルキルチオベ
ンズアミド類、すなわち中間体を製造し、さらにこのア
ルキルチオベンズアミド類とハロゲンとを、不均一溶媒
系でさらに反応させることにより、一般式（IV）で表わ
されるアルキルスルフィニルベンズアミド類が簡易かつ
高収率で得られることを見出し、本発明を完成するに至
った。
【００１０】
【化９】
【００１１】（式中、ＸはＣｌまたはＢｒを表わし、Ｒ
1 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール
基、またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜４
のアルキル基を表わす。）
1 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール
基、またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素数１〜４
のアルキル基を表わす。）
【００１２】すなわち、本発明の要旨は、 （１）一般式（Ｉ）で表わされるハロベンズアミド類と
一般式（II）で表わされるアルカンチオールとを、塩基
の存在下、不均一溶媒系で反応させることを特徴とする
一般式（III)で表わされるアルキルチオベンズアミド類
の製造方法、
一般式（II）で表わされるアルカンチオールとを、塩基
の存在下、不均一溶媒系で反応させることを特徴とする
一般式（III)で表わされるアルキルチオベンズアミド類
の製造方法、
【００１３】
【化１０】
【００１４】（式中、ＸはＣｌまたはＢｒを表わし、Ｒ
1 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール
基、またはアラルキル基を表わす。） Ｒ2 ＳＨ （II） （式中、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
1 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール
基、またはアラルキル基を表わす。） Ｒ2 ＳＨ （II） （式中、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。）
【００１５】
【化１１】
【００１６】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同様であ
る。） （２）一般式（III)で表わされるアルキルチオベンズア
ミド類とハロゲンとを、不均一溶媒系で反応させること
を特徴とする一般式（IV) で表わされるアルキルスルフ
ィニルベンズアミド類の製造方法、並びに
る。） （２）一般式（III)で表わされるアルキルチオベンズア
ミド類とハロゲンとを、不均一溶媒系で反応させること
を特徴とする一般式（IV) で表わされるアルキルスルフ
ィニルベンズアミド類の製造方法、並びに
【００１７】
【化１２】
【００１８】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同様であ
る。） （３）一般式（Ｉ）で表わされるハロベンズアミド類と
一般式（II）で表わされるアルカンチオールとを、塩基
の存在下、不均一溶媒系で反応させ、続いて、この反応
系にハロゲンを添加して反応を行わせることを特徴とす
る一般式（IV）で表わされるアルキルスルフィニルベン
ズアミド類の製造方法に関する。
る。） （３）一般式（Ｉ）で表わされるハロベンズアミド類と
一般式（II）で表わされるアルカンチオールとを、塩基
の存在下、不均一溶媒系で反応させ、続いて、この反応
系にハロゲンを添加して反応を行わせることを特徴とす
る一般式（IV）で表わされるアルキルスルフィニルベン
ズアミド類の製造方法に関する。
【００１９】本発明によるアルキルスルフィニルベンズ
アミド類の製造方法の特徴は、工業的に安価に入手でき
るハロベンズアミド類を原料とし、新規な反応により一
旦アルキルチオベンズアミド類に誘導することにより、
比較的温和な条件でしかも簡易かつ高収率に目的化合物
であるアルキルスルフィニルベンズアミド類を製造する
ことができる点にある。
アミド類の製造方法の特徴は、工業的に安価に入手でき
るハロベンズアミド類を原料とし、新規な反応により一
旦アルキルチオベンズアミド類に誘導することにより、
比較的温和な条件でしかも簡易かつ高収率に目的化合物
であるアルキルスルフィニルベンズアミド類を製造する
ことができる点にある。
【００２０】上記の一般式（Ｉ）、（II）、（III)およ
び（IV）において、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表わし、
Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。これらのア
ルキル基は直鎖状でも分岐状でも良い。かかるアルキル
基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチルお
よびｔ−ブチルを挙げることができる。また、かかるア
リール基の具体例としては、フェニル、４−トルイル、
１−ナフチル等を挙げることができる。また、かかるア
ラルキル基の具体例としては、ベンジル、フェネチル等
を挙げることができる。
び（IV）において、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜４のア
ルキル基、アリール基、またはアラルキル基を表わし、
Ｒ2は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。これらのア
ルキル基は直鎖状でも分岐状でも良い。かかるアルキル
基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチルお
よびｔ−ブチルを挙げることができる。また、かかるア
リール基の具体例としては、フェニル、４−トルイル、
１−ナフチル等を挙げることができる。また、かかるア
ラルキル基の具体例としては、ベンジル、フェネチル等
を挙げることができる。
【００２１】本発明で使用する原料の一般式（Ｉ）で表
わされるハロベンズアミド類としては、特に限定される
ものではなく、例えば２−クロロベンズアミド、Ｎ−エ
チル−２−クロロベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−ク
ロロベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−２−クロロベン
ズアミド、Ｎ−ベンジル−２−クロロベンズアミド、２
−ブロモベンズアミド、Ｎ−エチル−２−ブロモベンズ
アミド、Ｎ−フェニル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ−
４−トルイル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ−ベンジル
−２−ブロモベンズアミド、４−クロロベンズアミド、
Ｎ−エチル−４−クロロベンズアミド、Ｎ−フェニル−
４−クロロベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−４−クロ
ロベンズアミド、Ｎ−ベンジル−４−クロロベンズアミ
ド、４−ブロモベンズアミド、Ｎ−エチル−４−ブロモ
ベンズアミド、Ｎ−フェニル−４−ブロモベンズアミ
ド、Ｎ−４−トルイル−４−ブロモベンズアミド、Ｎ−
ベンジル−４−ブロモベンズアミド、等を挙げることが
できる。
わされるハロベンズアミド類としては、特に限定される
ものではなく、例えば２−クロロベンズアミド、Ｎ−エ
チル−２−クロロベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−ク
ロロベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−２−クロロベン
ズアミド、Ｎ−ベンジル−２−クロロベンズアミド、２
−ブロモベンズアミド、Ｎ−エチル−２−ブロモベンズ
アミド、Ｎ−フェニル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ−
４−トルイル−２−ブロモベンズアミド、Ｎ−ベンジル
−２−ブロモベンズアミド、４−クロロベンズアミド、
Ｎ−エチル−４−クロロベンズアミド、Ｎ−フェニル−
４−クロロベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−４−クロ
ロベンズアミド、Ｎ−ベンジル−４−クロロベンズアミ
ド、４−ブロモベンズアミド、Ｎ−エチル−４−ブロモ
ベンズアミド、Ｎ−フェニル−４−ブロモベンズアミ
ド、Ｎ−４−トルイル−４−ブロモベンズアミド、Ｎ−
ベンジル−４−ブロモベンズアミド、等を挙げることが
できる。
【００２２】一般式（II）で表わされるアルカンチオー
ルとしては、メタンチオール、エタンチオール、１−プ
ロパンチオール、１−ブタンチオール、２−ブタンチオ
ール等が使用可能であり、その使用量は、ハロベンズア
ミド類に対して、通常０．８〜３．０倍モル、好ましく
は１．０〜２．０倍モルの範囲である。アルカンチオー
ルの使用量が、０．８倍モル未満の場合には、未反応の
ハロベンズアミド類が多くなり、一方、３．０倍モルを
超えて用いても、それに見合う効果が得られず経済的に
不利である。
ルとしては、メタンチオール、エタンチオール、１−プ
ロパンチオール、１−ブタンチオール、２−ブタンチオ
ール等が使用可能であり、その使用量は、ハロベンズア
ミド類に対して、通常０．８〜３．０倍モル、好ましく
は１．０〜２．０倍モルの範囲である。アルカンチオー
ルの使用量が、０．８倍モル未満の場合には、未反応の
ハロベンズアミド類が多くなり、一方、３．０倍モルを
超えて用いても、それに見合う効果が得られず経済的に
不利である。
【００２３】ハロベンズアミド類とアルカンチオールと
の反応で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属；ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
等が挙げられる。中でも、経済的見地から水酸化ナトリ
ウムが好ましく用いられる。また、塩基の使用量は、ハ
ロベンズアミド類に対し、通常０．８〜３．５倍モル、
好ましくは、１．０〜２．５倍モルの範囲である。塩基
の使用量が、０．８倍モル未満の場合には、未反応のハ
ロベンズアミド類が多くなり、一方、３．５倍モルを超
えて用いても、それに見合う効果が得られず経済的に不
利である。
の反応で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属；ナトリウムメ
チラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート
等が挙げられる。中でも、経済的見地から水酸化ナトリ
ウムが好ましく用いられる。また、塩基の使用量は、ハ
ロベンズアミド類に対し、通常０．８〜３．５倍モル、
好ましくは、１．０〜２．５倍モルの範囲である。塩基
の使用量が、０．８倍モル未満の場合には、未反応のハ
ロベンズアミド類が多くなり、一方、３．５倍モルを超
えて用いても、それに見合う効果が得られず経済的に不
利である。
【００２４】本発明の一般式（III)で表わされるアルキ
ルチオベンズアミド類の製造方法においては、反応を水
の存在下で不均一溶媒系で行なうことを特徴とする。反
応原料であるハロベンズアミド類とアルカンチオールと
の反応は、ハロベンズアミド類が水不溶性であるため二
相系での反応となる。この場合、相間移動触媒を添加す
ると反応が円滑に進行することが多く、好適である。こ
こで使用する相間移動触媒としては、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウ
ムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オクチルトリエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニ
ウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロ
ライド等の４級のアンモニウム塩；ヘキサデシルトリエ
チルホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチル
ホスホニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニ
ウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロ
ライド、トリオクチルエチルホスホニウムブロマイド、
テトラフェニルホスホニウムブロマイド等の４級ホスホ
ニウム塩；１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラ
ウン−６、ジシクロヘキシル−１８−クラウン−６等の
クラウンエーテル等が挙げられる。中でも、経済的見地
から、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アン
モニウム塩が好ましく用いられる。
ルチオベンズアミド類の製造方法においては、反応を水
の存在下で不均一溶媒系で行なうことを特徴とする。反
応原料であるハロベンズアミド類とアルカンチオールと
の反応は、ハロベンズアミド類が水不溶性であるため二
相系での反応となる。この場合、相間移動触媒を添加す
ると反応が円滑に進行することが多く、好適である。こ
こで使用する相間移動触媒としては、ベンジルトリエチ
ルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、ヘキサデシルトリエチルアンモニウ
ムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムク
ロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オクチルトリエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニ
ウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロ
ライド等の４級のアンモニウム塩；ヘキサデシルトリエ
チルホスホニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチル
ホスホニウムクロライド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニ
ウムブロマイド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロ
ライド、トリオクチルエチルホスホニウムブロマイド、
テトラフェニルホスホニウムブロマイド等の４級ホスホ
ニウム塩；１８−クラウン−６、ジベンゾ−１８−クラ
ウン−６、ジシクロヘキシル−１８−クラウン−６等の
クラウンエーテル等が挙げられる。中でも、経済的見地
から、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロライド等の４級アン
モニウム塩が好ましく用いられる。
【００２５】また、相間移動触媒を使用する場合の使用
量は、ハロベンズアミド類の重量に対し、通常、０．０
０５〜０．５倍重量、好ましくは、０．０１〜０．２倍
重量の範囲である。相間移動触媒の使用量が、０．００
５倍重量未満の場合には、触媒効果が十分あらわれず、
一方、０．５倍重量を超えて用いても、それに見合う効
果が得られず経済的に不利である。
量は、ハロベンズアミド類の重量に対し、通常、０．０
０５〜０．５倍重量、好ましくは、０．０１〜０．２倍
重量の範囲である。相間移動触媒の使用量が、０．００
５倍重量未満の場合には、触媒効果が十分あらわれず、
一方、０．５倍重量を超えて用いても、それに見合う効
果が得られず経済的に不利である。
【００２６】本発明で用いる反応溶媒としては、反応を
容易にするため、および反応後の生成物の分液を容易に
するため、通常、水１重量部に対して非水溶性有機溶媒
１〜１０重量部からなる不均一溶媒を用いる。非水溶性
有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、ｎ−
ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素；塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることができ
る。不均一溶媒の使用量は、ハロベンズアミド類に対し
て、通常１〜３０倍重量である。
容易にするため、および反応後の生成物の分液を容易に
するため、通常、水１重量部に対して非水溶性有機溶媒
１〜１０重量部からなる不均一溶媒を用いる。非水溶性
有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、ｎ−
ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水
素；塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素等を挙げることができ
る。不均一溶媒の使用量は、ハロベンズアミド類に対し
て、通常１〜３０倍重量である。
【００２７】反応温度は、通常０〜１５０℃、好ましく
は２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が、１５０℃
を超えると副反応が起こり、他方、０℃未満だと反応速
度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間は、反
応温度、相間移動触媒種および反応溶媒種により異な
り、一概には言えないが、通常１〜４０時間の範囲であ
る。
は２０〜１２０℃の範囲である。反応温度が、１５０℃
を超えると副反応が起こり、他方、０℃未満だと反応速
度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間は、反
応温度、相間移動触媒種および反応溶媒種により異な
り、一概には言えないが、通常１〜４０時間の範囲であ
る。
【００２８】反応終了後、分液されたアルキルチオベン
ズアミド類は、有機溶媒層より晶析等の通常の処理で、
単離精製することができる。また、水層は、相間移動触
媒を含んだまま分液されるため、次の反応に引き続き使
用することが可能であり、反復使用される。そのため、
系外にはほとんど水性の廃棄物が排出されることがな
い。さらに、分液されたアルキルチオベンズアミド類を
含む有機溶媒層は、そのまま次の反応に用いることもで
きる。
ズアミド類は、有機溶媒層より晶析等の通常の処理で、
単離精製することができる。また、水層は、相間移動触
媒を含んだまま分液されるため、次の反応に引き続き使
用することが可能であり、反復使用される。そのため、
系外にはほとんど水性の廃棄物が排出されることがな
い。さらに、分液されたアルキルチオベンズアミド類を
含む有機溶媒層は、そのまま次の反応に用いることもで
きる。
【００２９】次に、このようにして得られる一般式（II
I)で表わされるアルキルチオベンズアミド類を、ハロゲ
ンとさらに不均一溶媒系で反応させることにより、一般
式（IV) で表わされるアルキルスルフィニルベンズアミ
ド類を製造することができる。ここで用いるハロゲンと
しては、塩素、臭素等を使用することができる。反応選
択性の見地からみると臭素が好ましい。また、ハロゲン
の使用量は、アルキルチオベンズアミド類に対し、通常
０．８〜２．０倍モル、好ましくは、１．０〜１．３倍
モルの範囲である。ハロゲンの使用量が０．８倍モル未
満では、未反応のアルキルチオベンズアミド類が多くな
り、２．０倍モルを超えて用いる場合は、副反応が起こ
り収率が低下する。
I)で表わされるアルキルチオベンズアミド類を、ハロゲ
ンとさらに不均一溶媒系で反応させることにより、一般
式（IV) で表わされるアルキルスルフィニルベンズアミ
ド類を製造することができる。ここで用いるハロゲンと
しては、塩素、臭素等を使用することができる。反応選
択性の見地からみると臭素が好ましい。また、ハロゲン
の使用量は、アルキルチオベンズアミド類に対し、通常
０．８〜２．０倍モル、好ましくは、１．０〜１．３倍
モルの範囲である。ハロゲンの使用量が０．８倍モル未
満では、未反応のアルキルチオベンズアミド類が多くな
り、２．０倍モルを超えて用いる場合は、副反応が起こ
り収率が低下する。
【００３０】アルキルチオベンズアミド類とハロゲンと
の反応で副生するハロゲン化水素を反応系内で中和する
ことも可能である。使用できる塩基としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等の炭酸アルカリ金属；ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート；
トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン等が挙げら
れる。中でも、経済的見地から水酸化ナトリウム、炭酸
水素ナトリウムが好ましく用いられる。
の反応で副生するハロゲン化水素を反応系内で中和する
ことも可能である。使用できる塩基としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属；炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等の炭酸アルカリ金属；ナトリウムメチ
ラート、ナトリウムエチラート等の金属アルコラート；
トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン等が挙げら
れる。中でも、経済的見地から水酸化ナトリウム、炭酸
水素ナトリウムが好ましく用いられる。
【００３１】アルキルチオベンズアミド類とハロゲンと
の反応で使用する溶媒としては、反応を容易にするた
め、および反応後の生成物の単離を容易にするため、通
常、水１重量部に対して非水溶性有機溶媒１〜１０重量
部からなる不均一溶媒を用いる。非水溶性有機溶媒とし
ては、特に限定されるものではなく、ｎ−ヘキサン、ｎ
−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；塩化メ
チレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素類等を挙げることができる。不均一
溶媒の使用量は、アルキルチオベンズアミド類に対し
て、通常１〜３０倍重量である。
の反応で使用する溶媒としては、反応を容易にするた
め、および反応後の生成物の単離を容易にするため、通
常、水１重量部に対して非水溶性有機溶媒１〜１０重量
部からなる不均一溶媒を用いる。非水溶性有機溶媒とし
ては、特に限定されるものではなく、ｎ−ヘキサン、ｎ
−ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素類；塩化メ
チレン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等の
ハロゲン化炭化水素類等を挙げることができる。不均一
溶媒の使用量は、アルキルチオベンズアミド類に対し
て、通常１〜３０倍重量である。
【００３２】アルキルチオベンズアミド類とハロゲンと
の反応温度は、通常−１０〜１００℃、好ましくは０〜
５０℃の範囲である。反応温度が、１００℃を超える
と、副反応が起こり、他方、−１０℃未満だと、反応速
度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間は、反
応温度、反応溶媒種により異なり、一概には言えない
が、通常１〜４０時間の範囲である。
の反応温度は、通常−１０〜１００℃、好ましくは０〜
５０℃の範囲である。反応温度が、１００℃を超える
と、副反応が起こり、他方、−１０℃未満だと、反応速
度が実用上遅すぎるので好ましくない。反応時間は、反
応温度、反応溶媒種により異なり、一概には言えない
が、通常１〜４０時間の範囲である。
【００３３】本発明においては、このように一般式
（Ｉ）で表わされるハロベンズアミド類、一般式（II）
で表わされるアルカンチオールを原料として、まず一般
式（III)で表わされるアルキルチオベンズアミド類を製
造し、次の工程で単離されたアルキルチオベンズアミド
類とハロゲンとの反応により目的とするアルキルスルフ
ィニルベンズアミド類を製造することができる。本発明
においては、このように２つの工程で行う方法の他に、
ハロベンズアミド類、アルカンチオール、ハロゲン等を
原料として、ワンポット反応でアルキルスルフィニルベ
ンズアミド類を得ることができる。即ち、この場合、反
応の中間生成物であるアルキルチオベンズアミド類は単
離することなくアルキルチオベンズアミド類を含む有機
溶媒層を分液してハロゲンとの反応に供される。ワンポ
ット反応でアルキルスルフィニルベンズアミド類を得る
場合、溶媒としては、中でもトルエンと水との不均一溶
媒系で行うのが好ましい。このように、２つの工程ある
いはワンポット反応で得られるアルキルスルフィニルベ
ンズアミド類の反応液からの単離は、通常、分液した有
機溶媒層から晶析または再結晶等の操作により行なうこ
とができる。
（Ｉ）で表わされるハロベンズアミド類、一般式（II）
で表わされるアルカンチオールを原料として、まず一般
式（III)で表わされるアルキルチオベンズアミド類を製
造し、次の工程で単離されたアルキルチオベンズアミド
類とハロゲンとの反応により目的とするアルキルスルフ
ィニルベンズアミド類を製造することができる。本発明
においては、このように２つの工程で行う方法の他に、
ハロベンズアミド類、アルカンチオール、ハロゲン等を
原料として、ワンポット反応でアルキルスルフィニルベ
ンズアミド類を得ることができる。即ち、この場合、反
応の中間生成物であるアルキルチオベンズアミド類は単
離することなくアルキルチオベンズアミド類を含む有機
溶媒層を分液してハロゲンとの反応に供される。ワンポ
ット反応でアルキルスルフィニルベンズアミド類を得る
場合、溶媒としては、中でもトルエンと水との不均一溶
媒系で行うのが好ましい。このように、２つの工程ある
いはワンポット反応で得られるアルキルスルフィニルベ
ンズアミド類の反応液からの単離は、通常、分液した有
機溶媒層から晶析または再結晶等の操作により行なうこ
とができる。
【００３４】このようにして得られるアルキルスルフィ
ニルベンズアミド類は、一般式（IV)で表され、その具
体例としては、２−（アルキルスルフィニル）ベンズア
ミド類の具体例として、２−（メチルスルフィニル）ベ
ンズアミド、２−（エチルスルフィニル）ベンズアミ
ド、２−（ｎ−プロピルスルフィニル）ベンズアミド、
２−（イソプロピルスルフィニル）ベンズアミド、２−
（ｎ−ブチルスルフィニル）ベンズアミド、２−（イソ
ブチルスルフィニル）ベンズアミド、２−（ｓ−ブチル
スルフィニル）ベンズアミド、２−（ｔ−ブチルスルフ
ィニル）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（メチルスル
フィニル）ベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−（メチル
スルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−２−
（メチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−
２−（メチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−エチル
−２−（エチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−フェ
ニル−２−（エチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−
４−トルイル−２−（エチルスルフィニル）ベンズアミ
ド、Ｎ−ベンジル−２−（エチルスルフィニル）ベンズ
アミド等を、また４−（アルキルスルフィニル）ベンズ
アミド類の具体例として、４−（メチルスルフィニル）
ベンズアミド、４−（エチルスルフィニル）ベンズアミ
ド、Ｎ−エチル−４−（メチルスルフィニル）ベンズア
ミド、Ｎ−フェニル−４−（メチルスルフィニル）ベン
ズアミド、Ｎ−４−トルイル−４−（メチルスルフィニ
ル）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−４−（メチルスルフ
ィニル）ベンズアミド等を挙げることができる。
ニルベンズアミド類は、一般式（IV)で表され、その具
体例としては、２−（アルキルスルフィニル）ベンズア
ミド類の具体例として、２−（メチルスルフィニル）ベ
ンズアミド、２−（エチルスルフィニル）ベンズアミ
ド、２−（ｎ−プロピルスルフィニル）ベンズアミド、
２−（イソプロピルスルフィニル）ベンズアミド、２−
（ｎ−ブチルスルフィニル）ベンズアミド、２−（イソ
ブチルスルフィニル）ベンズアミド、２−（ｓ−ブチル
スルフィニル）ベンズアミド、２−（ｔ−ブチルスルフ
ィニル）ベンズアミド、Ｎ−エチル−２−（メチルスル
フィニル）ベンズアミド、Ｎ−フェニル−２−（メチル
スルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−４−トルイル−２−
（メチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−
２−（メチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−エチル
−２−（エチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−フェ
ニル−２−（エチルスルフィニル）ベンズアミド、Ｎ−
４−トルイル−２−（エチルスルフィニル）ベンズアミ
ド、Ｎ−ベンジル−２−（エチルスルフィニル）ベンズ
アミド等を、また４−（アルキルスルフィニル）ベンズ
アミド類の具体例として、４−（メチルスルフィニル）
ベンズアミド、４−（エチルスルフィニル）ベンズアミ
ド、Ｎ−エチル−４−（メチルスルフィニル）ベンズア
ミド、Ｎ−フェニル−４−（メチルスルフィニル）ベン
ズアミド、Ｎ−４−トルイル−４−（メチルスルフィニ
ル）ベンズアミド、Ｎ−ベンジル−４−（メチルスルフ
ィニル）ベンズアミド等を挙げることができる。
【００３５】
【実施例】以下、実施例および製造例により本発明をさ
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例等によ
りなんら限定されるものではない。
らに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例等によ
りなんら限定されるものではない。
【００３６】製造例１ Ｎ−フェニル−２−クロロベンズアミドの合成 撹拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、２−クロロ安息香酸３１．３ｇ（０．２モ
ル）、トルエン１８０ｇを仕込み、撹拌下で、塩化チオ
ニル２５．０ｇ（０．２１モル）を６０〜６５℃にて約
３０分間かけて滴下し、約３０分間反応させた。この溶
液にアニリン２７．９ｇ（０．３モル）をトルエン１０
０ｇに溶解させた溶液を滴下し、７０〜７５℃で３０分
間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、
５％塩酸７０ｇを添加し抽出分液した。トルエン層を濃
縮し、析出した白色結晶を再結晶（水：メタノール＝
３：７）することによりＮ−フェニル−２−クロロベン
ズアミド４３．１ｇ（融点１１６〜１１７℃）を得た。
２−クロロ安息香酸に対する収率は９３％であった。
フラスコに、２−クロロ安息香酸３１．３ｇ（０．２モ
ル）、トルエン１８０ｇを仕込み、撹拌下で、塩化チオ
ニル２５．０ｇ（０．２１モル）を６０〜６５℃にて約
３０分間かけて滴下し、約３０分間反応させた。この溶
液にアニリン２７．９ｇ（０．３モル）をトルエン１０
０ｇに溶解させた溶液を滴下し、７０〜７５℃で３０分
間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、
５％塩酸７０ｇを添加し抽出分液した。トルエン層を濃
縮し、析出した白色結晶を再結晶（水：メタノール＝
３：７）することによりＮ−フェニル−２−クロロベン
ズアミド４３．１ｇ（融点１１６〜１１７℃）を得た。
２−クロロ安息香酸に対する収率は９３％であった。
【００３７】実施例１ Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズアミドの合成 撹拌機、温度計、冷却器を備え付けた５００ｍｌ四つ口
フラスコに、Ｎ−フェニル−２−クロロベンズアミド４
６．３ｇ（０．２モル）、トルエン１００ｇ、５０％テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド水溶液９．３
ｇを仕込んだ。一方、別途、水酸化ナトリウム１２．０
ｇ（０．３０モル）と水１１３．７ｇを窒素雰囲気下で
別の容器に仕込み、攪拌下でメタンチオール１４．５ｇ
（０．３０モル）を室温にて約１時間かけて仕込んで、
メタンチオールのナトリウム塩水溶液１４０．２ｇを調
製した。こうして得たメチルメルカプタンナトリウム水
溶液１４０．２ｇ（０．３モル）を攪拌下８０℃で添加
し、還流下で１時間反応させた。反応終了後、反応液を
室温まで冷却し、析出した白色結晶を水、トルエンで洗
浄後、乾燥させるとＮ−フェニル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド４６．２ｇ（融点１４８〜１４９℃）を得
た。Ｎ−フェニル−２−クロロベンズアミドに対する収
率は９５％であった。
フラスコに、Ｎ−フェニル−２−クロロベンズアミド４
６．３ｇ（０．２モル）、トルエン１００ｇ、５０％テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロマイド水溶液９．３
ｇを仕込んだ。一方、別途、水酸化ナトリウム１２．０
ｇ（０．３０モル）と水１１３．７ｇを窒素雰囲気下で
別の容器に仕込み、攪拌下でメタンチオール１４．５ｇ
（０．３０モル）を室温にて約１時間かけて仕込んで、
メタンチオールのナトリウム塩水溶液１４０．２ｇを調
製した。こうして得たメチルメルカプタンナトリウム水
溶液１４０．２ｇ（０．３モル）を攪拌下８０℃で添加
し、還流下で１時間反応させた。反応終了後、反応液を
室温まで冷却し、析出した白色結晶を水、トルエンで洗
浄後、乾燥させるとＮ−フェニル−２−（メチルチオ）
ベンズアミド４６．２ｇ（融点１４８〜１４９℃）を得
た。Ｎ−フェニル−２−クロロベンズアミドに対する収
率は９５％であった。
【００３８】実施例２ Ｎ−フェニル−２−（メチルスルフィニル）ベンズアミ
ドの合成 撹拌機、温度計、冷却器を備え付けた１０００ｍｌ四つ
口フラスコに、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベン
ズアミド４８．６ｇ（０．２モル）、トルエン３００
ｇ、１０％炭酸水素カリウム水溶液２００ｇを仕込み、
撹拌下で、臭素３２．０ｇ（０．２モル）を１０〜１５
℃で滴下し、１０分間反応させた。反応終了後、生成し
た白色結晶を濾過し、再結晶（水：メタノール＝１：
９）することによりＮ−フェニル−２−（メチルスルフ
ィニル）ベンズアミド４８．７ｇ（融点１９４〜１９５
℃）を得た。Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズ
アミドに対する収率は９４％であった。
ドの合成 撹拌機、温度計、冷却器を備え付けた１０００ｍｌ四つ
口フラスコに、Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベン
ズアミド４８．６ｇ（０．２モル）、トルエン３００
ｇ、１０％炭酸水素カリウム水溶液２００ｇを仕込み、
撹拌下で、臭素３２．０ｇ（０．２モル）を１０〜１５
℃で滴下し、１０分間反応させた。反応終了後、生成し
た白色結晶を濾過し、再結晶（水：メタノール＝１：
９）することによりＮ−フェニル−２−（メチルスルフ
ィニル）ベンズアミド４８．７ｇ（融点１９４〜１９５
℃）を得た。Ｎ−フェニル−２−（メチルチオ）ベンズ
アミドに対する収率は９４％であった。
【００３９】実施例３ ２−クロロ安息香酸からＮ−フェニル−２−（メチルス
ルフィニル）ベンズアミドへの連続合成 撹拌機、温度計、冷却器を備え付けた１０００ｍｌ四つ
口フラスコに、２−クロロ安息香酸３１．３ｇ（０．２
モル）、トルエン３００ｇを仕込み、製造例１に従い反
応を行った。抽出したトルエン層に５０％テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムブロマイド水溶液９．３ｇを添加
し、前述の方法により得られたメチルメルカプタンナト
リウム水溶液１４０．２ｇ（０．３モル）を添加し、実
施例１に従い反応を行った。反応終了後、反応液を熱分
液し、取得したトルエン層に１０％炭酸水素カリウム水
溶液２００ｇを添加し、撹拌下、臭素３８．４ｇ（０．
２４モル）を１０〜１５℃で滴下し、実施例２に従い反
応を行った。上記一連の操作をワンポットで行ったとこ
ろ、Ｎ−フェニル−２−（メチルスルフィニル）ベンズ
アミドが２−クロロ安息香酸に対し８１％の収率で得ら
れた。
ルフィニル）ベンズアミドへの連続合成 撹拌機、温度計、冷却器を備え付けた１０００ｍｌ四つ
口フラスコに、２−クロロ安息香酸３１．３ｇ（０．２
モル）、トルエン３００ｇを仕込み、製造例１に従い反
応を行った。抽出したトルエン層に５０％テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムブロマイド水溶液９．３ｇを添加
し、前述の方法により得られたメチルメルカプタンナト
リウム水溶液１４０．２ｇ（０．３モル）を添加し、実
施例１に従い反応を行った。反応終了後、反応液を熱分
液し、取得したトルエン層に１０％炭酸水素カリウム水
溶液２００ｇを添加し、撹拌下、臭素３８．４ｇ（０．
２４モル）を１０〜１５℃で滴下し、実施例２に従い反
応を行った。上記一連の操作をワンポットで行ったとこ
ろ、Ｎ−フェニル−２−（メチルスルフィニル）ベンズ
アミドが２−クロロ安息香酸に対し８１％の収率で得ら
れた。
【００４０】
【発明の効果】本発明の方法によれば、工業的に容易に
入手できるハロベンズアミド類を原料とし、アルキルチ
オベンズアミド類を経由して、ワンポットで容易にアル
キルスルフィニルベンズアミド類が得られる。このよう
に本発明では廃棄物の排出が少なく、高価で取扱い上危
険性の高い物質を原料として使用することなく、しかも
高収率で、目的とするアルキルスルフィニルベンズアミ
ド類が容易に得られるため、経済的にも工業的にも有用
な方法である。
入手できるハロベンズアミド類を原料とし、アルキルチ
オベンズアミド類を経由して、ワンポットで容易にアル
キルスルフィニルベンズアミド類が得られる。このよう
に本発明では廃棄物の排出が少なく、高価で取扱い上危
険性の高い物質を原料として使用することなく、しかも
高収率で、目的とするアルキルスルフィニルベンズアミ
ド類が容易に得られるため、経済的にも工業的にも有用
な方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂上 茂樹 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住 友精化株式会社第１研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表わされるハロベンズア
ミド類と一般式（II）で表わされるアルカンチオールと
を、塩基の存在下、不均一溶媒系で反応させることを特
徴とする一般式（III)で表わされるアルキルチオベンズ
アミド類の製造方法。 【化１】 （式中、ＸはＣｌまたはＢｒを表わし、Ｒ1 は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール基、またはア
ラルキル基を表わす。） Ｒ2 ＳＨ （II） （式中、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同様である。） - 【請求項２】 相間移動触媒の存在下で反応を行なう請
求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 相間移動触媒が４級アンモニウム塩また
は４級ホスホニウム塩である請求項２記載の製造方法。 - 【請求項４】 一般式（Ｉ）の化合物がＮ−フェニル−
２−クロロベンズアミドである請求項１〜３のいずれか
１項に記載の製造方法。 - 【請求項５】 一般式（III)の化合物がＮ−フェニル−
２−（メチルチオ）ベンズアミドである請求項１〜３の
いずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項６】 塩基が水酸化アルカリ金属である請求項
１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。 - 【請求項７】 一般式（III)で表わされるアルキルチオ
ベンズアミド類とハロゲンとを、不均一溶媒系で反応さ
せることを特徴とする一般式（IV) で表わされるアルキ
ルスルフィニルベンズアミド類の製造方法。 【化３】 （式中、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、
アリール基、またはアラルキル基を表わし、Ｒ2 は炭素
数１〜４のアルキル基を表わす。） 【化４】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同様である。） - 【請求項８】 一般式（IV）の化合物がＮ−フェニル−
２−（メチルスルフィニル）ベンズアミドである請求項
７記載の製造方法。 - 【請求項９】 一般式（Ｉ）で表わされるハロベンズア
ミド類と一般式（II）で表わされるアルカンチオールと
を、塩基の存在下、不均一溶媒系で反応させ、続いて、
この反応系にハロゲンを添加して反応を行わせることを
特徴とする一般式（IV）で表わされるアルキルスルフィ
ニルベンズアミド類の製造方法。 【化５】 （式中、ＸはＣｌまたはＢｒを表わし、Ｒ1 は水素原
子、炭素数１〜４のアルキル基、アリール基、またはア
ラルキル基を表わす。） Ｒ2 ＳＨ （II） （式中、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。） 【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同様である。） - 【請求項１０】 トルエンと水との不均一溶媒系におい
てワンポットで反応させることを特徴とする請求項９記
載の製造方法。
Priority Applications (15)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31917993A JP3373271B2 (ja) | 1993-11-24 | 1993-11-24 | アルキルチオベンズアミド類の製造方法 |
| TW083110546A TW402585B (en) | 1993-11-24 | 1994-11-15 | Method for producing alkylsulfinylbenzamides and 1, 2-benzisothiazol-3-ones |
| US08/342,038 US5508416A (en) | 1993-11-24 | 1994-11-17 | Method for producing alkylsulfinylbenzamides and 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| CA002136167A CA2136167C (en) | 1993-11-24 | 1994-11-18 | Method for producing alkylsulfinylbenzamides and 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| KR1019940031079A KR100219893B1 (ko) | 1993-11-24 | 1994-11-24 | 알킬술피닐 벤즈 아미드류 및 1,2-벤즈 이소티아졸-3-온류의 제조방법 |
| EP96202500A EP0751123B1 (en) | 1993-11-24 | 1994-11-24 | Method for producing alkylsulfinylbenzamides |
| DE69404615T DE69404615T2 (de) | 1993-11-24 | 1994-11-24 | Verfahren zur Herstellung 1,2-Benzisothiazol-3-one |
| DE69424446T DE69424446T2 (de) | 1993-11-24 | 1994-11-24 | Verfahren zur Herstellung von Alkylsulfinylbenzamiden |
| CN94118812A CN1042530C (zh) | 1993-11-24 | 1994-11-24 | 生产烷基亚磺酰基苯甲酰胺的方法 |
| EP94308699A EP0657438B1 (en) | 1993-11-24 | 1994-11-24 | Method for producing 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| US08/581,109 US5672751A (en) | 1993-11-24 | 1995-12-29 | Method for producing alkylsulfinylbenzamides and 1,2-benzisothiazol-3-ones |
| US08/831,533 US5744609A (en) | 1993-11-24 | 1997-04-07 | Method for producing alkylsulfinylbenzamides and 1-2 benzisothiazol-3-ones |
| CN98116709A CN1215721A (zh) | 1993-11-24 | 1998-07-25 | 生产烷基亚磺酰基苯甲酰胺和1,2－苯并异噻唑－3－酮类的方法 |
| CN98116707A CN1086693C (zh) | 1993-11-24 | 1998-07-25 | 生产烷基亚磺酰基苯甲酰胺和1,2－苯并异噻唑－3－酮类的方法 |
| KR1019990006471A KR100220661B1 (ko) | 1993-11-24 | 1999-02-26 | 알킬술피닐벤즈아미드의제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
| WO2009102057A1 (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | 酸化型環状フェノール硫化物の連続製造方法 |
-
1993
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009102057A1 (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | 酸化型環状フェノール硫化物の連続製造方法 |
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