JPH07128893A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 安定性の優れた下引き層形成用塗布液を用い
て形成された下引き層を有する優れた電気特性を有し、
優れた画質のコピー画像を形成することが可能な電子写
真感光体を提供する。 【構成】 導電性基体上に、下引き層および感光層を積
層してなる電子写真感光体において、下引き層中に少な
くとも非晶質の酸化チタンを含有することを特徴とす
る。下引き層において、非晶質の酸化チタンを分散させ
る結着剤としては、ポリブチラール等のポリビニルアセ
タール樹脂、有機ジルコニウム化合物等の有機金属化合
物、またはシランカップリング剤を使用することが好ま
しい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、導電性基体上に下引き
層および感光層を順次積層してなる電子写真感光体に関
する。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】電子写真装置は、高速
でかつ高印字品質が得られ、複写機及びレーザービーム
プリンター等の分野において利用されている。電子写真
装置に用いられる感光体として、有機の光導電材料を用
いた有機感光体（ＯＰＣ）の開発が進められ、次第に普
及してきた。また感光体の構成も電荷移動型錯体構造や
電荷発生材料を結着樹脂中に分散した単層型の感光体か
ら、電荷発生層と電荷輸送層とを分離した機能分離型の
感光体構成へと変遷し、性能が向上してきている。この
機能分離型感光体の場合、現在では、アルミニウム基体
の上に、下引き層をまず形成しその後電荷発生層および
電荷輸送層を形成する層構成のものが主流となってきて
いる。ところで、電子写真装置の進歩に伴い、感光体の
性能においてより高品位な画質が要求されるようになっ
てきた。感光体の繰り返し安定性や環境安定性の改善に
対しては、電荷発生層および電荷輸送層のみならず下引
き層にも依存する部分が多く、繰り返し使用による電荷
の蓄積性の少ない下引き層が要求されている。この要求
を満たすために、下引き層中に酸化チタンを添加するこ
とにより感光体の残留電位を低減させ、繰り返しや環境
安定性を向上させることが試みられている。例えば、特
開平４−１７２３６１号および同４−１９９０５９号公
報には、下引き層にアナターゼ型酸化チタンを含有させ
ることが記載されている。また、高解像度のプリンター
やカラー複写装置においてはレーザーを露光源とするデ
ジタル記録方式が主流であるが、レーザーのような可干
渉性の光を用いた場合に感光層のなかで光が干渉現象を
生じ、電荷輸送層の膜厚分布にしたがって場所による露
光量の差異を生じるため、プリントに木目上の干渉模様
を発生することが問題となっている。この問題を改善す
るために、基体を粗面化したり、感光層中に光散乱性の
粉体を混入するなどの検討がなされてきているが、中間
層や下引き層についても、酸化チタンを主とする白色顔
料を混入することにより干渉縞の低減をすることが試み
られてきている。（例えば、特開昭６３−２９８２５１
号、特開平１−１５８４５６号、同１−２０６３５８
号、同３−２６９５４０号公報）

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来提案されている上
記のような電子写真感光体において、下引き層に含有さ
せる酸化チタン微粒子としては、アナターゼ型やルチル
型に分類される結晶型を有するものが用いられている。
しかしながら、これらの結晶型を有する酸化チタンは、
比重が大きく、したがって、これらの結晶型を有する酸
化チタン顔料を分散した下引き層形成用塗布液は、液の
安定性が必ずしも十分ではなく、場合によっては酸化チ
タン微粒子の沈降が起こり、結果として、優れた特性を
有する電子写真感光体を得ることができなかった。本発
明は、従来の技術における上記のような問題点を解決す
ることを目的としてなされたものである。すなわち、本
発明の目的は、安定性の優れた下引き層形成用塗布液を
用いて形成された下引き層を有する、優れた電気特性を
有し、優れた画質のコピー画像を形成することが可能な
電子写真感光体を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者等は各種の酸化
チタンについて検討を加えてきた結果、酸化チタンとし
て非晶質の酸化チタンを用いることにより液安定性の高
い下引き層形成用塗布液が得られ、また電子写真感光体
としても優れた特性を有するものが得られることを見い
だし、本発明を完成した。本発明は、導電性基体上に、
下引き層および感光層を積層してなる電子写真感光体に
おいて、下引き層中に少なくとも非晶質の酸化チタンを
含有させることを特徴とする。

【０００５】以下本発明の感光体の構成について説明す
る。本発明の電子写真感光体において用いられる導電性
基体として、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄等の金属
のほかに、表面に金属を蒸着するか、導電粉を分散した
塗膜を形成する等により導電化処理されたプラスチック
または紙等で形成されたものがあげられ、それらを筒
状、ベルト状あるいはシート状にして用いることができ
る。

【０００６】導電性基体の表面には下引き層が形成され
るが、下引き層には、少なくとも非晶質の酸化チタンが
結着剤中に分散混合される。従来より知られている酸化
チタンにおいては、アナターゼ型のものは比重が３．９
であり、また、ルチル型のものは比重が４．２であるの
に比べ、本発明に用いられる非晶質の酸化チタンは比重
が３．１程度であり、低い値となっている。したがっ
て、下引き層形成用塗布液中で、酸化チタンの分散状態
が安定したものになり、液中での酸化チタンの自然沈降
による劣化が低減する。一方、酸化チタンは優れた電子
写真的特性を有するため、酸化チタンを入れない場合に
比べて安定した特性を有する電子写真感光体を得ること
ができる。本発明において、非晶質の酸化チタンは、１
０⁴ 〜１０¹¹Ω・ｃｍの範囲の抵抗を有するものが望ま
しい。酸化チタンの抵抗が低すぎると、導電性基体から
の電荷注入が促進されて画質欠陥を引き起こすため、抵
抗が上記の範囲になるように調整される必要がある。抵
抗を調整すると共に、分散性の向上のために、本発明に
おける非晶質の酸化チタンは、表面処理を施すことも可
能である。表面コート剤としてシリカ、アルミナ、ジル
コニア等が用いられる。

【０００７】酸化チタンの粒径は０．０１μｍ〜１μｍ
のものが好ましく用いられる。粒径が大きすぎると、下
引き層の凹凸が激しくなるために電気的に部分的な不均
一性が生じて、画質欠陥を生じやすくなる。また、小さ
くなり過ぎると凝集が生じやすくなり、分散が不安定に
なる。一般に、下引き層は膜厚を厚くすると、導電性基
体の凹凸の隠蔽性が高まるため、画質欠陥は低減する方
向にあるが、他方、電気的な繰り返し安定性が悪くな
る。したがって、下引き層の膜厚としては０．２〜５μ
ｍの範囲にあることが望ましい。

【０００８】下引き層において、上記非晶質の酸化チタ
ンは結着剤に分散されるが、結着剤としては、ポリビニ
ルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、
ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタ
クリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
ビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水
マレイン酸樹脂、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド
樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹
脂等の高分子樹脂化合物のほかに、シランカップリング
剤やジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガ
ン等を含有する有機金属化合物等が主として用いられ
る。これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混
合物あるいは重縮合物として用いることができる。なか
でも、シランカップリング剤またはジルコニウムを含有
する有機金属化合物は、高い成膜性を有し、また、残留
電位が低くて環境による変化が少なく、また繰り返し使
用による電位の変化が少ない等、性能上優れているので
好ましい。

【０００９】シランカップリング剤の例としては、ビニ
ルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル
−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，
４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス
（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン
等があげられる。これらのなかでも特に好ましく用いら
れるシラン化合物は、ビニルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２
−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等であ
る。

【００１０】有機ジルコニウム化合物の例としては、ジ
ルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチ
ル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセ
トンジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコ
ニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニ
ウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニ
ウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン
酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン
酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、ジル
コニウムメタクリレートブトキシド、ジルコニウムステ
アレートブトキシド、ジルコニウムイソステアレートブ
トキシド等があげられる。

【００１１】有機チタン化合物の例としては、テトライ
ソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネー
ト、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘ
キシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポ
リチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリ
コレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラ
クテート、チタンラクテートエチルエステル、チタント
リエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステア
レート等があげられる。有機アルミニウム化合物の例と
しては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシ
アルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレ
ート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテ
ート）等があげられる。

【００１２】本発明において、上記非晶質の酸化チタン
は、下引き層の固形分に対して、重量比で１０〜８０重
量％添加される。好ましくは３０〜７０重量％添加され
る。下引き層形成用塗布液を作製するためには、上記の
非晶質の酸化チタンを結着剤を溶解した溶液中に添加し
て分散処理すればよい。酸化チタンを結着剤中に分散さ
せる方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボー
ルミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペ
イントシェーカー等を用いる方法が採用できる。

【００１３】上記の下引き層上に形成される感光層は、
基本的には単層構造であっても、電荷発生層と電荷輸送
層とに機能分離された積層構造であってもよい。積層構
造の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれ
が上層であってもよい。また、必要に応じて表面保護層
を形成することも可能である。本発明の電子写真感光体
は、どのような層構成のものでも有効であるが、以下、
電荷輸送層を表面層とする積層型感光体が、繰り返し安
定性や環境変動等の性能面で優れているので、この層構
成を有する場合を例として取り上げて説明する。

【００１４】電荷発生層は、電荷発生物質を真空蒸着に
より形成するか、有機溶剤及び結着樹脂とともに分散し
塗布することにより形成される。電荷発生物質として
は、非晶質セレン、結晶性セレン、セレン−テルル合
金、セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物及びセレ
ン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電体、無
金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フタ
ロシアニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシアニ
ン等の各種フタロシアニン顔料、スクエアリウム系、ア
ントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントロキノ
ン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の
各種有機顔料及び染料が用いられる。また、これらの有
機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフタロ
シアニン顔料ではα、β等をはじめとして各種の結晶型
が知られているが、目的にあった感度が得られる顔料で
あるならば、如何なる結晶型のものでも用いることがで
きる。

【００１５】電荷発生層における結着樹脂としては、以
下のものを例示することができる。すなわち、ビスフェ
ノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプ等のポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエ
ン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹
脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−ア
ルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等であ
る。これらの結着樹脂は、単独あるいは２種以上混合し
て用いることが可能である。電荷発生材料と結着樹脂と
の配合比（重量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が望
ましい。また、電荷発生層の厚みは、一般には０．０１
〜５μｍ、好ましくは０．０５〜２．０μｍの範囲に設
定される。電荷発生物質を樹脂中に分散させるために
は、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトラ
イター、サンドミル、コロイドミル等を用いることがで
きる。

【００１６】電荷輸送物質としては、下記に示すものが
例示できる。２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾ
ール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、
１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノ
スチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラ
ゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、ト
リ（Ｐ−メチル）フェニルアミン、ジベンジルアニリン
等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′
−ビフェニル］−４，４′−ジアミン等の芳香族第３級
ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニ
ル）−５，６−ジ−（４′−メトキシフェニル）−１，
２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導
体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジ
フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニ
ル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、
６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）
ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−
ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等の
α−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカ
ルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾールおよびその誘導体等の正孔輸送物質。クロ
ラニル、ブロモアニル、アントラキノン等のキノン系化
合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７
−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニ
トロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサ
ントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質。
また、上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有す
る重合体等があげられる。これらの電荷輸送材料は、１
種又は２種以上を組み合せて使用することができる。

【００１７】電荷輸送層に用いられる結着樹脂の例とし
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹
脂、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺ
タイプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アク
リロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−
ブタジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポ
リアミド、塩素化ゴム等の絶縁性樹脂あるいはポリビニ
ルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニル
ピレン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。

【００１８】電荷輸送層は、上記した電荷輸送物質およ
び結着樹脂とを適当な溶媒に溶解させた溶液を塗布し、
乾燥することによって形成することができる。電荷輸送
層の形成に使用される溶媒としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素系、
アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、
クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化
水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレング
リコール、ジエチルエーテル等の環状あるいは直鎖状エ
ーテル、あるいはこれらの混合溶剤等を用いることがで
きる。電荷輸送物質と上記ポリカーボネート樹脂との配
合比は１０：１〜１：５が好ましい。また電荷輸送層の
膜厚は一般に５〜５０μｍ、好ましくは１０〜４０μｍ
の範囲に設定される。

【００１９】電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性
ガス、あるいは光・熱による感光体の劣化を防止する目
的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の
添加剤を添加することができる。酸化防止剤としては、
例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パ
ラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの
誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられ
る。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾト
リアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリ
ジン等の誘導体があげられる。また、感度の向上、残留
電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として
少なくとも１種の電子受容性物質を含有せしめることが
できる。本発明の電子写真感光体に使用可能な電子受容
性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン
酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブ
ロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシア
ノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロ
ベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリ
ニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香
酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげることがで
きる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃ
ｌ，ＣＮ，ＮＯ₂ 等の電子吸引性置換基を有するベンゼ
ン誘導体が特に好ましい。

【００２０】上記した各層を塗布によって形成する場
合、塗布液の塗工は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、ビ
ード塗布法、ブレード塗布法、ローラー塗布法等の塗布
法を用いて行うことができる。乾燥は、室温での指触乾
燥の後に、加熱乾燥するのが好ましい。加熱乾燥は、３
０°Ｃ〜２００°Ｃの温度で５分〜２時間の範囲の時間
で行うことが望ましい。

【００２１】感光層の上には必要に応じ表面保護層を形
成することができる。表面保護層としては、絶縁性樹脂
保護層、あるいは絶縁性樹脂の中に抵抗調整剤を添加し
た低抵抗保護層がある。低抵抗保護層の場合には、例え
ば絶縁性樹脂中に導電性微粒子を分散した層があげられ
る。導電性微粒子として電気抵抗が１０⁹ Ω・ｃｍ以下
で白色、灰色もしくは青白色を呈する平均粒径が０．３
μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の微粒子が適当で
あり、例えば、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸
化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化インジウム、
酸化錫とアンチモンあるいは酸化アンチモンとの固溶
体、またはこれらの混合物、あるいは単一粒子中にこれ
らの金属酸化物を混合したもの、あるいは被覆したもの
があげられる。中でも、酸化錫、酸化錫とアンチモンま
たは酸化アンチモンとの固溶体は電気抵抗を適切に調節
することが可能で、かつ、保護層を実質的に透明にする
ことが可能であるので、好ましく用いられる（特開昭５
７−３０８４７号、特開昭５７−１２８３４４号公報参
照）。絶縁性樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタ
ン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカ
ーボネート等の縮合樹脂や、ポリビニルケトン、ポリス
チレン、ポリアクリルアミドのようなビニル重合体等が
あげられる。本発明の電子写真感光体は、ライトレンズ
系複写機、近赤外光ないし可視光に感光するレーザービ
ームプリンター、デイジタル複写機、ＬＥＤプリンタ
ー、レーザーファクシミリ等の電子写真装置に用いるこ
とができる。また、本発明の電子写真感光体は、一成分
系または二成分系の正規現像剤あるいは反転現像剤とも
合わせて用いることができる。

【００２２】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明がこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例１ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール
１３０重量部の溶液に非晶質の酸化チタン４０重量部を
混合し超音波分散器で分散処理してミルベースを得た。
このミルベースにｎ−ブチルアルコール４０部、有機ジ
ルコニウム化合物（アセチルアセトンジルコニウムブチ
レート）３０重量部および有機シラン化合物の混合物
（γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）３重量部を
追加混合し攪拌して、下引き層形成用塗布液を得た。こ
の塗布液を４０ｍｍφのアルミニウム基体の上に、塗布
し乾燥して、膜厚１μｍの下引き層を形成した。 電荷発生物質：無金属フタロシアニン１５重量部、ポリ
ビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学
社製）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量部
からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得ら
れた分散液を上記下引き層上に浸漬塗布し乾燥して、膜
厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′
−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）
−［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン４重
量部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量
４万）６重量部とをクロルベンゼン８０重量部を加えて
溶解した。得られた溶液を用いて、塗布乾燥することに
より、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層からな
る電子写真感光体を作製した。このときに用いた下引き
層形成用塗布液を１週間放置した後、粒度分布計により
液の凝集度合いを調べた。また、得られた電子写真感光
体を、富士ゼロックス社製レーザービームプリンターＸ
Ｐ−１１に装着し、−７００Ｖの帯電を行ったのち所定
の光量にて露光を行い電位の測定を行うとともに画質を
調べた。それらの結果を表１に示す。

【００２３】比較例１ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール
１３０重量部の溶液に、ルチル型酸化チタン（Ｒ３１
０、堺化学社製）４０重量部を混合し、超音波分散器で
分散処理してミルベースを得た。このミルベースに、ｎ
−ブチルアルコール４０部、有機ジルコニウム化合物
（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０重量
部および有機シラン化合物の混合物（γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン）３重量部を追加混合し撹拌し
て、下引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を４０ｍ
ｍφのアルミニウム基材の上に塗布し乾燥して、膜厚１
μｍの下引き層を形成した。この上に実施例１と同様の
条件で電荷発生層および電荷輸送層を積層し、三層から
なる電子写真感光体を作製した。評価した結果を表１に
示す。

【００２４】比較例２ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール
１５０重量部の溶液に、有機ジルコニウム化合物（アセ
チルアセトンジルコニウムブチレート）３０重量部およ
び有機シラン化合物の混合物 （γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン）３重量部を追加混合し撹拌して、下
引き層形成用塗布液を得た。この塗布液を４０ｍｍφの
アルミニウム基材の上に、塗布し乾燥して、膜厚１μｍ
の下引き層を形成した。この上に実施例１と同様の条件
で電荷発生層および電荷輸送層を積層し、三層からなる
電子写真感光体を作製した。評価した結果を表１に示
す。

【００２５】

【表１】 表１から明らかなように、下引き層に酸化チタンを用い
た電子写真感光体は、電位の減衰がシャープでより好ま
しい光減衰特性が得られる。また、非晶質の酸化チタン
を用いた塗布液は、１週間後でも安定であったが、他の
酸化チタンを用いた塗布液では液の凝集を生じた。

【００２６】実施例２ ３重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ
−１、積水化学社製）を溶解したエチルアルコール１５
０重量部の溶液に、非晶質酸化チタン４０部を超音波分
散器で分散処理してミルベースを得た。このミルベース
に、ｎ−ブチルアルコール４０部、有機ジルコニウム化
合物（アセチルアセトンジルコニウムブチレート）３０
重量部を追加混合し、撹拌して、下引き層形成用塗布液
を得た。この塗布液を４０ｍｍφのアルミニウム基材の
上に、塗布乾燥して膜厚１μｍの下引き層を形成した。
電荷発生物質：チタニルフタロシアニン１５重量部、塩
化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（日本ユニカーＶＭ
ＣＨ）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量部
からなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得ら
れた分散液を上記下引き層上に塗布し乾燥して、膜厚
０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−
ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン４重量
部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４
万）６重量部とをクロルベンゼン８０重量部を加えて溶
解した。得られた溶液を用いて、塗布乾燥することによ
り、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層からなる
電子写真感光体を作製した。このようして得られた電子
写真感光体を、富士ゼロックス社製レーザービームプリ
ンターＸＰ−１１に装着し、露光後の電位変化と画質を
調べた。実施例１と同様にして評価した。その結果を表
２に示す。

【００２７】比較例３ ３重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ
−１、積水化学社製）を溶解したエチルアルコール１０
０重量部の溶液に、アナターゼ型酸化チタン（ＴＡ３０
０、富士チタン社製）４０部を混合し、超音波分散期で
分散処理してミルベースを得た。このミルベースにｎ−
ブチルアルコール４０部、有機ジルコニウム化合物（ア
セチルアセトンジルコニウムブチレート）３０重量部を
追加混合し撹拌して、下引き層形成用塗布液を得た。こ
の塗布液を４０ｍｍφのアルミニウム基材の上に、塗布
乾燥して膜厚１μｍの下引き層を形成した。この下引き
層の上に実施例２と同じ条件にて電荷発生層と電荷輸送
層を積層して電子写真感光体を作製した。実施例１と同
様にして評価した。その結果を表２に示す。

【００２８】

【表２】

【００２９】実施例３ 非晶質酸化チタン７０重量部、アルキッド樹脂（Ｍ−６
４０６−５０、大日本インキ社製）２３重量部、メラミ
ン樹脂（スーパーベッカミンＬ−１１７−６０、大日本
インキ社製）５重量部、およびメチルエチルケトン４１
重量部からなる混合物をボールミルポットに採り、ミル
部材として１０ｍｍφのアルミナボールを使用し、４８
時間ボールミリングを行って下引き層形成用塗布液を作
製した。これを８４ｍｍφのアルミニウムパイプ上に塗
布乾燥して、厚さ８μｍの下引き層を形成した。三方晶
セレン１３重量部、ブチラール樹脂（ＸＹＨＬ、ＵＣＬ
社製）２重量部およびシクロヘキサノン１９０重量部か
らなる混合物をボールポットに採り、１０ｍｍφＳＵＳ
ボールを使用して４８時間ボールミリングした後、さら
にシクロヘキサノン３００重量部を加えて１時間ミリン
グした。その後、ミルベースを取り出し、固形分濃度が
１．８ｗｔ％になるようにシクロヘキサノンを加えて希
釈撹拌して電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を
前記下引き層に塗布し乾燥して、厚さ約０．２μｍの電
荷発生層を作製した。続いて、電荷輸送物質：トリ（ｐ
−メチルフェニル）アミン９０重量部，ポリカーボネー
ト樹脂（Ｃ−１４００、帝人化成社製）１００重量部、
シリコーンオイル（ＫＦ−５４、信越化学社製）０．０
０２重量部、およびジクロルメタン８７０重量部よりな
る電荷輸送層塗布液を調製し、前記電荷発生層上に塗布
し乾燥して、膜厚２４μｍの電荷輸送層を形成し、電子
写真感光体を作製した。実施例１におけると同様に評価
した。結果を表３に示す。

【００３０】比較例４ ルチル型酸化チタン（ＴＭ−１、富士チタン工業社製）
７０重量部、アルキッド樹脂（Ｍ−６４０６−５０、大
日本インキ社製）２３重量部、メラミン樹脂（スーパー
ベッカミンＬ−１１７−６０、大日本インキ社製）５重
量部、およびメチルエチルケトン４１重量部からなる混
合物をボールミルポットに採り、ミル部材として１０ｍ
ｍφアルミナボールを使用して４８時間ボールミリング
を行い、下引き層形成用塗布液を作製した。これをアル
ミニウムパイプ上に塗布し乾燥して、膜厚８μｍの下引
き層を形成した。この下引き層の上に、実施例３と同じ
条件にて電荷発生層と電荷輸送層を積層して電子写真感
光体を作製した。このようして得られた電子写真感光体
を、複写機（Ｖｉｖａｃｅ ５００、富士ゼロックス社
製）に装着し、露光後の電位変化と画質を調べた。実施
例１におけると同様に評価した。結果を表３に示す。

【００３１】

【表３】

【００３２】

【発明の効果】下引き層形成用塗布液中に非晶質の酸化
チタンを含有させることにより、下引き層形成用塗布液
の安定性が向上し、したがってこの下引き層形成用塗布
液を用いて形成された下引き層を有する本発明の電子写
真感光体は、その電気特性が良好で、コピー画像の画質
も良好である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体上に、下引き層および感光層
   を積層してなる電子写真感光体において、該下引き層中
   に少なくとも非晶質の酸化チタンを含有させたことを特
   徴とする電子写真感光体。