JP3218825B2 - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、より高感度で安定性が
高く、かつ製造品質の安定性に優れた電子写真感光体を
製造するための方法に関する。より具体的には塗布工程
の間に、塗布層に熱風による加湿処理を施す工程を設け
て電子写真感光体を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真装置は、高速でかつ高印字品質
が得られ、複写機およびレーザービームプリンター等の
分野において利用されている。電子写真装置に用いられ
る感光体としては、有機の光導電材料を用いた有機感光
体（ＯＰＣ）の開発が進められ、普及してきている。ま
た、感光体の構成についても、電荷移動錯体構造や電荷
発生材料を結着樹脂中に分散させた多層型の感光体か
ら、電荷発生層と電荷輸送層とに分離した機能分離型の
感光体へと変遷し、性能が向上してきている。この機能
分離型感光体については、現在ではアルミニウム基体の
上に、下引き層を先ず形成し、その上に電荷発生層およ
び電荷輸送層を形成する構成のものが主流となってきて
いる。ところで、電子写真装置の進歩に伴い、感光体に
ついても性能においてより高品位な画質が要求されるよ
うになってきた。感光体の繰り返し安定性や環境安定性
の改善に対しては、電荷発生層、電荷輸送層および下引
き層のいずれの層も、感度、画質或いは繰り返し安定性
等の電子写真特性に対して、それぞれ重要な影響を与え
ている。

【０００３】本発明者等による検討の結果、下引き層に
関しては、シランカップリング剤等の加水分解により縮
重合する化合物を用いて乾燥硬化した膜が、下引き層と
して優れた電子写真特性を有することを見出だし、実用
化に至っている。シランカップリング剤等の加水分解に
より縮重合する化合物を用いて下引き層或いは中間層を
形成することについては、例えば、特開昭５９−２２３
４３８号、同６１−９４０５７号、特開平２−５９７６
７号、同３−１８８５８号、同４−１２４６７３号、同
４−１２４６７４号、同４−１４５４１６号、同４−１
６２０４７号公報等に記載されている。これらの加水分
解により縮重合する化合物は、硬化反応に際して適量の
水を必要とし、まず加水分解反応により、例えば、メト
キシ基、ブトキシ基等のアルコキシド基が脱アルコール
反応を行った後、縮合反応を行うという反応形態を示す
ものである。したがって、これらの化合物を有する層に
ついて、効率よく硬化反応を促進させるためには、水分
の存在が欠かせない。この水分は、通常は塗布液中に存
在する水分が利用されたり、指触乾燥時に空気中から供
給されたり、或いは乾燥時に乾燥機内に含まれる空気か
ら供給が行われ、それにより硬化反応が進行する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塗布や
指触乾燥時および乾燥機内に存在する水分量は、硬化反
応を促進するためには必ずしも十分な量ではなく、ま
た、季節や天候等の気象条件により変動するために、乾
燥後の塗膜の硬化が不完全になり、硬化状態に多くのば
らつきが生じるようになる。このため、これら加水分解
により縮重合する化合物を用いた感光体では、製造後の
品質ばらつきを多く生じる結果となっている。特に冬季
の乾燥した時期に形成された硬化膜は、加水分解を伴う
縮重合反応が十分でないために、残留電位の上昇や画質
欠陥の発生を招いている。他方、水分量を多くした塗布
液を用いた場合には、塗布液の保管時に加水分解反応が
進行し、塗布液の経時変化が極めて大きくなり、塗布液
のポットライフが極めて短くなるという問題があった。
本発明は、従来の技術における上記のような問題点を解
決することを目的としてなされたものである。すなわ
ち、本発明の目的は、高感度で安定性が高く、かつ製造
品質の安定性に優れた電子写真感光体を製造するための
方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の点
を鑑みて検討を行った結果、これ等の加水分解により縮
重合する化合物を有する塗布液を塗布した後、塗膜を湿
潤熱風加湿処理することにより、効率よく塗膜中に水分
を供給することができ、その後の硬化反応が飛躍的に促
進され、極めて優れた電子写真特性が得られることを見
出だし、本発明を完成するに至った。本発明は、基材上
に機能層形成用塗布液を塗布する電子写真感光体の製造
方法において、加水分解により縮重合する化合物を含有
する塗布液を用い、該塗布液を塗布した後、塗布層を３
０℃以上かつ絶対湿度２０ｇ／ｋｇ以上の湿度に保持し
て加湿処理を行い、その後加熱乾燥することを特徴とす
る。なお、本明細書において、絶対湿度とは、大気中に
含有される水分の空気に対する重量（水分のｇ数／空気
のｋｇ数）を意味する。

【０００６】本発明において、機能層とは、下引き層、
単層構造の感光層、電荷発生層、電荷輸送層、表面層
等、電子写真感光体を構成する層を意味する。したがっ
て、本発明による硬化反応の促進法は、その層が加水分
解により縮重合する化合物を含有する限りにおいて、下
引き層のみならず、電荷発生層や電荷輸送層あるいは表
面保護層のいずれの層に適用しても同等の効果が得られ
る。また、本発明は、電荷発生材料や電荷輸送材料を同
一層中に含有する単層構造の感光層、或いはその類似構
造を有する感光体にも適用しうる。

【０００７】本発明において、加水分解により縮重合す
る化合物としては、シランカップリング剤、および、ジ
ルコニウム、チタン、アルミニウム、マンガン等の金属
を含む有機金属化合物、特に有機金属アルコキシドがあ
げられる。シランカップリング剤としては、例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ
−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシ
シラン等があげられる。特に好ましく用いられるシラン
化合物は、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス
（２−メトキシエトキシシラン）、３−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、
Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
３−クロロプロピルトリメトキシシラン等である。

【０００８】有機ジルコニウム化合物としては、例え
ば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムイソプロポ
キシド、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチル
アセトンジジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチル
ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムオキサレート、
ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、
オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラ
ウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イ
ソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニ
ウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシ
ド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等があげ
られる。有機チタン化合物としては、例えば、テトライ
ソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネー
ト、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘ
キシル）チタネート、チタンオクチレングリコレート、
チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノー
ルアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が
あげられる。有機アルミニウム化合物としては、例え
ば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアル
ミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレー
ト、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロ
ピレート等があげられる。

【０００９】これら加水分解により縮重合する化合物
は、下引き層形成用塗布液、感光層形成用塗布液、或い
は表面層形成用塗布液中に含有させて塗布工程に供され
る。塗布工程においては、塗布液を浸漬塗布法、スプレ
ー塗布法、ビード塗布法、ブレード塗布法、ローラー塗
布法等の塗布法によって塗布し、形成された塗布層を乾
燥させるが、乾燥は、室温での指触乾燥の後に、加熱乾
燥するのが好ましい。本発明においては、加熱乾燥する
前に、硬化反応を促進させる目的で加湿処理を行うが、
この加湿処理は、絶対湿度２０ｇ／ｋｇ以上、好ましく
は２０〜７００ｇ／ｋｇの湿度に保持して３０℃以上、
好ましくは３０〜１９０℃の高温で行われ、それにより
多くの水分を含有させることができる。加湿処理時間
は、適宜設定することができ、塗膜が十分に水分を吸収
しうる時間があれば十分であるが、一般には、３分〜６
０分である。加湿処理後における加熱乾燥は、３０℃〜
２００℃の温度で５分〜２時間の範囲の時間で行うのが
望ましい。

【００１０】なお、本発明において、複数の層に加水分
解により縮重合する化合物が含有されている場合には、
それぞれの層の塗布工程において加湿処理を行ってもよ
いが、各層を塗布した後、最後に一括して加湿処理を行
っても構わない。また、感光層の硬化反応を促進するた
めに、上記の加湿処理後に高温加熱硬化処理を行うこと
が望ましいが、高温加熱硬化処理を行わなくても、加湿
処理を行えば、その後は室温で或る程度の硬化反応を進
行させることができる。

【００１１】本発明の電子写真感光体の製造方法は、ど
のような層構成を有するものに対しても適用することが
できるが、以下、電荷輸送層を表面層とする積層型感光
体が繰り返し安定性や環境変動等の性能面で優れている
ので、積層型感光体の場合を例にして説明する。基体と
しては、導電性支持体が使用される。導電性支持体とし
ては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄等の金属の外
に、表面に金属を蒸着するか或いは導電粉を分散した塗
膜を形成する等により導電化処理されたプラスチック或
いは紙等の筒状、ベルト状あるいはシート状の基体を用
いることができる。干渉縞防止のために、基材表面に
は、エッチング、陽極酸化、ウエットブラスティング
法、サンドブラスティング法、粗切削、センタレス研削
等の方法を用いて粗面化処理を施すことができる。基体
の表面には画質欠陥の防止、帯電性の向上、密着性の向
上等の目的で下引き層を形成することができる。

【００１２】下引き層に用いられる結着剤として、ポリ
ビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアル
コール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹
脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−
無水マレイン酸共重合体樹脂、シリコーン樹脂、シリコ
ーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂の外に、シランカッ
プリング剤やジルコニウム、チタニウム、アルミニウ
ム、マンガン等を含有する有機金属化合物等の加水分解
により縮重合反応をする化合物が主として用いられる。
これらの化合物は単独にあるいは複数の化合物の混合物
或いは重縮合物として用いることができる。中でも、シ
ランカップリング剤およびジルコニウムを含有する有機
金属化合物は高い成膜性を有し、また、残留電位が低く
環境による変化が少なく、また、繰り返し使用による電
位の変化が少ない等、性能上優れているので好ましい。

【００１３】下引き層中には、干渉縞の防止目的や電気
特性の向上の目的等により、各種の無機または有機微粉
末を添加することができる。特に、酸化チタン、酸化亜
鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料、
アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔
料、テフロン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、ス
チレン樹脂粒子等の樹脂微粒子があげられる。これら微
粉末は、粒径０．０１μｍ〜２μｍの範囲のものが使用
される。粒径が上記範囲よりも大きすぎると、下引き層
の凹凸が激しくなり、また電気的に部分的な不均一性が
大きくなるために、画質欠陥を生じやすくなる。また、
小粒径すぎると十分な光散乱効果が得られない。上記微
粉末が使用される場合、その添加量は、下引き層の固形
分に対して重量比で１０〜８０重量％、より好ましくは
３０〜７０重量％の範囲である。下引き層形成用塗布液
の作製において、微粉末が使用される場合、それら微粉
末は樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散処理が行
われる。微粉末を樹脂中に分散させるためには、ロール
ミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サ
ンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等を用い
ることができる。下引き層は膜厚を厚くすることによ
り、基材の凹凸の隠蔽性が高まるため、一般に膜厚を厚
くすると画質欠陥の発生は低減するが、電気的な繰り返
し安定性も悪くなる。したがって、膜厚としては０．１
〜５μｍの範囲にあることが望ましい。

【００１４】形成された下引き層上に形成される感光層
は、基本的には単層構造であっても、電荷発生層と電荷
輸送層とに機能分離された積層構造であってもよい。積
層構造の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序は、
いずれが上層であってもよい。また、必要に応じて表面
保護層を形成することも可能である。電荷発生層は、電
荷発生材料を真空蒸着により形成するか、結着樹脂の有
機溶剤溶液中に分散させ、塗布することにより形成され
る。電荷発生材料としては、非晶質セレン、結晶性セレ
ン、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金，その他の
セレン化合物およびセレン合金、酸化亜鉛、酸化チタン
等の無機系光導電体、無金属フタロシアニン、チタニル
フタロシアニン、銅フタロシアニン、錫フタロシアニ
ン、ガリウムフタロシアニン等の各種フタロシアニン顔
料、スクエアリウム系、アントアントロン系、ペリレン
系、アソ系、アントラキノン系、ピレン系、ピリリウム
塩、チアピリリウム塩等の各種有機顔料および染料が用
いられる。また、これらの有機顔料は一般に数種の結晶
型を有しており、特にフタロシアニン顔料ではα、β型
等をはじめとして各種の結晶型が知られているが、目的
に応じた感度が得られる顔料であるならば、これらのい
ずれの結晶型でも用いてもよい。これらは、電荷発生材
料との間で予め表面処理を行った後、分散調液処理を行
ってもよく、或いは塗布液中にシランカップリング剤や
有機金属アルコキシドを添加して塗布乾燥処理を行うこ
とも可能である。これらシランカップリング剤や有機金
属アルコキシド等の加水分解により縮重合反応をする化
合物を使用する場合には、その硬化反応を促進させるた
めに、電荷発生層形成用塗布液を塗布した後、上記した
加湿処理が行われる。

【００１５】電荷発生層における結着樹脂としては、以
下のものを例示することができる。すなわち、ビスフェ
ノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプ等のポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエ
ン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共
重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド
樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等である。これら
の結着樹脂は、単独或いは２種以上混合して用いること
が可能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比（重
量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が望ましい。ま
た、電荷発生層の厚みは、一般には０．０１〜５μｍ、
好ましくは０．０５〜２．０μｍの範囲に設定される。
電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、ロー
ルミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、
サンドミル、コロイドミル等を用いる方法が採用でき
る。

【００１６】電荷輸送層に用いられる電荷輸送材料とし
ては、下記に示すものが例示できる。２，５−ビス（ｐ
−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジア
ゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリ
フェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３
−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチ
ルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、
トリフェニルアミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）フェ
ニルアミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミ
ノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３
−メチルフェニル）−［１，１−ビフェニル］−４，
４′−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−
（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−
（４′−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン
等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミ
ノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等
のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キ
ナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，
３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベン
ゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−
Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導
体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカル
バゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよび
その誘導体等の正孔輸送物質；クロラニル、ブロモアニ
ル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノ
キノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオ
レノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレ
ノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チ
オフェン化合物等の電子輸送物質；或いは以上に示した
化合物からなる基を主鎖または側鎖に有する重合体等が
あげられる。これらの電荷輸送材料は、１種または２種
以上を組み合わせて使用することができる。

【００１７】電荷輸送層に用いられる結着樹脂の例とし
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル、
ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイ
プ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリア
ミド、塩素化ゴム等の絶縁性樹脂、或いはポリビニルカ
ルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレ
ン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。電荷輸送
層は、上記した電荷輸送材料および結着樹脂を適当な溶
媒に溶解させた溶液を塗布し、乾燥することによって形
成することができる。電荷輸送層の形成に使用される溶
媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等
のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレ
ン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテ
ル等の環状あるいは直鎖状エーテル類、或いはこれらの
混合溶剤等を用いることができる。電荷輸送材料と上記
結着樹脂との配合比は１０：１〜１：５が好ましい。ま
た、電荷輸送層の膜厚は一般に５〜５０μｍ、好ましく
は１０〜４０μｍの範囲に設定される。

【００１８】本発明において、電子写真装置中で発生す
るオゾンや酸化性ガス、或いは光・熱による感光体の劣
化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定
剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。例え
ば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒン
ダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアル
カン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダ
ノンおよびそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化
合物等があげられる。光安定剤の例としては、ベンゾフ
ェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テ
トラメチルピペリジン等の誘導体があげられる。また、
感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低
減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を含
有させることができる。本発明において使用可能な電子
受容性物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレ
イン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テト
ラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニ
トロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、
トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息
香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等をあげることが
できる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、
Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ₂等の電子吸引性置換基を有するベン
ゼン誘導体が特に好ましい。

【００１９】感光層の上には必要に応じ表面保護層を形
成することができる。表面保護層としては、絶縁性樹脂
保護層、或いは絶縁性樹脂の中に抵抗調整剤を添加した
低抵抗保護層があげられる。低抵抗保護層の場合には、
例えば絶縁性樹脂中に導電性微粒子を分散した層をあげ
ることができる。導電性微粒子としては、電気抵抗が１
０⁹ Ω・ｃｍ以下で、白色、灰色もしくは青白色を呈す
る平均粒径が０．３μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以
下の微粒子が適当であり、例えば、酸化モリブデン、酸
化タングステン、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタ
ン、酸化インジウム、酸化錫とアンチモン或いは酸化ア
ンチモンとの固溶体の単体またはこれらの混合物、或い
は単一粒子中にこれらの金属酸化物を混合したもの、或
いは被覆したものがあげられる。中でも、酸化錫、酸化
錫とアンチモン或いは酸化アンチモンとの固溶体は、電
気抵抗を適切に調節することが可能であり、かつ、保護
層を実質的に透明にすることが可能であるので、好まし
く用いられる（特開昭５７−３０８４７号、特開昭５７
−１２８３４４号参照）。絶縁性樹脂としては、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポ
リケトン、ポリカーボネート等の縮合樹脂や、ポリビニ
ルケトン、ポリスチレン、ポリアクリルアミドのような
ビニル重合体等があげられる。表面保護層においては、
上記導電性微粒子の凝集防止、分散性向上、電気特性の
向上等の各種の目的でシランカップリング剤や金属アル
コキシドを用いることができる。これらは、導電性微粒
子との間で予め表面処理を行ったのち分散調液処理を行
ってもよい。これらの加水分解により縮重合する化合物
を用いる場合には、本発明に従って、前記したように加
湿処理が行われる。なお、複数の層にシランカップリン
グ剤や金属アルコキシド化合物を含有する場合には、そ
れぞれの層の塗布後に熱風加湿硬化処理を行っても、最
後に一括して熱風加湿硬化処理を行っても構わない。

【００２０】本発明により得られた感光体は、ライトレ
ンズ系複写機、近赤外光もしくは可視光に感光するレー
ザービームプリンター、デイジタル複写機、ＬＥＤプリ
ンター、レーザーファクシミリ等の電子写真装置に用い
ることができる。また、本発明により製造される電子写
真感光体は、一成分系、二成分系の正規現像剤或いは反
転現像剤とも合わせて用いることができる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。 実施例１ ４重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＭ
−Ｓ、積水化学社製）を溶解したｎ−ブチルアルコール
１７０重量部に、有機ジルコニウム化合物（アセチルア
セトンジルコニウムブチレート）３０重量部および有機
シラン化合物（γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン）３重量部を追加混合し、撹拌して下引き層形成用の
塗布液を得た。この塗布液を、４０ｍｍΦのアルミニウ
ム基材の上に塗布し、室温で５分間風乾を行った後、硬
化促進のために８０℃にて絶対湿度１４４ｇ／ｋｇ（相
対湿度６０％ＲＨ）の恒温恒湿槽を用いて２０分間加湿
処理を行った。その後１７０℃絶対湿度４ｇ／ｋｇで１
０分間の硬化処理を行った。電荷発生材料としてｘ−型
無金属フタロシアニン１５重量部、ポリビニルブチラー
ル樹脂（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１０重量
部、ｎ−ブチルアルコール３００重量部からなる混合物
をサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液を、
上記下引き層の上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚０．２
μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−ジフェ
ニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，
１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン４重量部とビ
スフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）６
重量部とをクロルベンゼン８０重量部を加えて溶解し
た。得られた溶液を用いて、塗布乾燥することにより膜
厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層からなる電子写
真感光体を作製した。得られた電子写真感光体を、レー
ザービームプリンター（ＸＰ−１１、富士ゼロックス社
製）に装着し、−７００Ｖの帯電を行った後、所定の光
量にて露光を行い、電位の測定を行うと共に、低温低湿
下で１０Ｋサイクルの走行試験を行った後の画質を調べ
た。それらの結果を表１に示す。

【００２２】比較例１ 実施例１に示す電子写真感光体において、下引き層の塗
布を行い、室温で５分間の風乾を行った後、１７０℃絶
対湿度４ｇ／ｋｇで１０分間の乾燥を行った。形成され
た下引き層の上に実施例１と同様の条件で電荷発生層お
よび電荷輸送層を積層し、三層からなる電子写真感光体
を作製した。 比較例２ 実施例１に示す電子写真感光体において、下引き層の塗
布を行い、室温で５分間の風乾を行った後、８０℃で２
０分間、絶対湿度４ｇ／ｋｇ（相対湿度１．７％ＲＨ）
の乾燥機中で加熱した。その後、１７０℃において絶対
湿度４ｇ／ｋｇの下で１０分間の硬化処理を行った。形
成された下引き層の上に、実施例１と同様の条件で電荷
発生層および電荷輸送層を積層し、三層からなる電子写
真感光体を作製した。それらの結果を表１に示す。

【００２３】

【表１】 表１における比較から分かるように、実施例１に示す下
引き層の塗布後に高温加湿処理を行った電子写真感光体
は、暗減衰が大きくて残留電位が低く、より良好な光減
衰特性を示した。また、繰り返し使用による画質欠陥の
発生も少なかった。

【００２４】実施例２〜５、比較例３〜６ ３重量部のポリビニルブチラール樹脂（エスレックＢＸ
−１、積水化学社製）をエチルアルコール１９０重量部
に溶解した溶液に、有機ジルコニウム化合物（アセチル
アセトンジルコニウムブチレート）３０重量部を追加混
合し、撹拌して下引き層形成用の塗布液を得た。この塗
布液を４０ｍｍΦのアルミニウム基材の上に、乾燥後の
膜厚が１μｍとなるように塗布し、下記表２に示す乾燥
硬化条件で加湿処理および乾燥硬化を行った。電荷発生
材料であるチタニルフタロシアニン１５重量部、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（日本ユニカーＶＭＣ
Ｈ）１０重量部、ｎ−ブチルアルコール３００重量部か
らなる混合物をサンドミルにて４時間分散した。得られ
た分散液を上記下引き層上に塗布し、乾燥して、膜厚
０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、Ｎ，Ｎ′−
ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−
［１，１′−ビフェニル］−４，４′−ジアミン４重量
部とビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４
万）６重量部とをクロルベンゼン８０重量部を加えて溶
解した。得られた溶液を用いて、塗布乾燥することによ
り、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成し、三層からなる
電子写真感光体を作製した。このようにして得られた電
子写真感光体を、レーザービームプリンター（ＸＰ−１
１、富士ゼロックス社製）に装着し、−７００Ｖの帯電
を行った後、所定の光量にて露光を行い、電位の測定を
行う共に、低温低湿下で１０Ｋサイクルの走行試験を行
った後の画質を調べた。得られた結果を表２に示す。

【００２５】

【表２】

【００２６】実施例６ アルキッド樹脂（Ｍ−６４０６−５０、大日本インキ社製） ２３重量部 メラミン樹脂（スーパーベッカミンＬ−１１７−６０、 大日本インキ社製） ５重量部 メチルエチルケトン ４１重量部 上記成分からなる混合物を、８４ｍｍΦのアルミニウム
パイプ上に塗布し乾燥して、厚さ１．５μｍの下引き層
を形成した。三方晶セレン１３重量部、ブチラール樹脂
（ＸＹＨＬ ＵＣＬ社製）３重量部およびシクロヘキサ
ノン１９０重量部からなる混合物をボールポットに取
り、ＳＵＳボール（１０ｍｍΦ）を使用して、４８時間
ボールミリングした後、シランカップリング剤（メチル
トリエトキシシラン）１重量部およびシクロヘキサノン
３００重量部を加えて１時間ミリングした。ミリング
後、ミルベースを取り出し、固形分濃度が１．８重量％
になるようにシクロヘキサノンを加え、希釈撹拌して電
荷発生層形成用塗布液を調製した。得られた塗布液を上
記下引き層上に塗布した後、１００℃で１０分間乾燥し
て、厚さ約０．２μｍの電荷発生層を形成した。下引き
層および電荷発生層までが形成されたアルミニウムパイ
プを９０℃において６％ＲＨ（絶対湿度２７ｇ／ｋｇ）
の下で加湿処理を行って乾燥した。続いて、電荷輸送物
質：トリ（ｐ−メチルフェニル）アミン９０重量部、ポ
リカーボネート樹脂（Ｃ−１４００帝人化成社製）１０
０重量部、シリコーンオイル（ＫＦ−５４、信越化学社
製）０．００２重量部、およびテトラヒドロフラン８７
０重量部よりなる組成の電荷輸送層形成用塗布液を調製
し、前記電荷発生層上に塗布し乾燥して、厚さ２４μｍ
の電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作製した。こ
のようにして得られた電子写真感光体を、複写機（Ｖｉ
ｖａｃｅ５００、富士ゼロックス社製）に装着し、露光
後の電位変化と画質を調べた。その結果を表３に示す。

【００２７】比較例７ 実施例６に示す電子写真感光体において、電荷発生層形
成後、９０℃において１．２％ＲＨ（絶対湿度５ｇ／ｋ
ｇ）の下で乾燥処理のみを行い、三層からなる電子写真
感光体を作製し、露光後の電位変化と画質を同様に評価
した。その結果を表３に示す。

【００２８】

【表３】

【００２９】

【発明の効果】本発明は、加水分解により縮重合する化
合物を含有する塗布液を用い、その塗布液を塗布した
後、塗布層に加湿処理を行い、その後加熱乾燥するか
ら、塗布層の硬化反応が促進され、電気特性上および画
質上良好な電子写真感光体が得られる。さらに得られた
電子写真感光体は、品質のばらつきが低減したものにな
り、信頼性を向上させることができる。

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−290766（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−273649（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−162047（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−223438（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−253067（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/05

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材上に機能層形成用塗布液を塗布する電
   子写真感光体の製造方法において、加水分解により縮重
   合する化合物を含有する塗布液を用い、該塗布液を塗布
   した後、塗布層を３０℃以上かつ絶対湿度２０ｇ／ｋｇ
   以上の湿度に保持して加湿処理を行い、その後加熱乾燥
   することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。