JPH07128848A - ポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法 - Google Patents
ポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法Info
- Publication number
- JPH07128848A JPH07128848A JP5331068A JP33106893A JPH07128848A JP H07128848 A JPH07128848 A JP H07128848A JP 5331068 A JP5331068 A JP 5331068A JP 33106893 A JP33106893 A JP 33106893A JP H07128848 A JPH07128848 A JP H07128848A
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- JP
- Japan
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- resin composition
- photosensitive resin
- resin
- solvent
- resist image
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- Pending
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高感度で、保存安定性に優れ、微細なレジス
ト像を形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 （Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）ナ
フトキノンジアジド基を有する感光剤および溶剤として
（Ｃ）ジアセトンアルコールを含有してなるポジ型感光
性樹脂組成物およびこの組成物を用いたレジスト像の製
造法。
ト像を形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 【構成】 （Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、（Ｂ）ナ
フトキノンジアジド基を有する感光剤および溶剤として
（Ｃ）ジアセトンアルコールを含有してなるポジ型感光
性樹脂組成物およびこの組成物を用いたレジスト像の製
造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポジ型感光性樹脂組成物
およびレジスト像の製造法に関し、さらに詳しくは紫外
線等の活性放射線を照射して高感度で微細なレジスト像
を得るためのポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像
の製造法に関する。
およびレジスト像の製造法に関し、さらに詳しくは紫外
線等の活性放射線を照射して高感度で微細なレジスト像
を得るためのポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像
の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、感光性樹脂組成物には、フェノー
ルやクレゾールをモノマーに用いたノボラック樹脂と、
１，２−ナフトキノン−（２）−ジアジド−４または５
−スルホニルクロリドとポリヒドロキシベンゾフェノ
ン、ナフトール、没食子酸エステルなどの水酸基を有す
る化合物とのエステルの感光剤が用いられている。例え
ば特公昭５４−２０３３０号公報には、アルキル基がエ
チル基以上の没食子酸エステルと１，２−ナフトキノン
−（２）−ジアジド−４または５−スルホニルクロリド
とを反応させた感光剤を用いた感光性樹脂組成物が示さ
れている。また、特開昭６０−４２７５３号公報、特開
昭６０−１５８４４０号公報、特開昭６１−８６７４９
号公報、特公昭３７−１８０１５号公報、特開昭６１−
１１８７４４号公報および特開昭６１−１８５７４１号
公報にも同様な組成物が示されている。また、上記の感
光性樹脂組成物の溶剤としては、酢酸２−エトキシエチ
ルまたは酢酸２−エトキシエチルとキシレンと酢酸ブチ
ルとの混合溶剤が用いられている。また最近では、３−
オクタノンを用いた例が特開平４−２９１４６号公報、
モノオキシカルボン酸エステルを用いた例が特公平３−
２２６１９号公報、混合溶剤を用いた例が特開平５−３
４９１９号公報に記載されている。上記の感光性樹脂組
成物は、解像度が優れているために波長３００〜５００
ｎｍの紫外線を使用した露光装置と組み合わせて半導体
装置などの製造に使用されている。半導体装置は、高性
能化のために、ますます微細化され、半導体装置の線幅
は０．５ミクロン以下の物も試作されつつある。このよ
うな微細なレジスト線幅を得るためには、一般に感度が
低下する問題を伴うため、高感度で高生産性が可能なレ
ジストが望まれる。そのために高感度化を達成するため
の感光性樹脂組成物として種々の材料が検討されてい
る。
ルやクレゾールをモノマーに用いたノボラック樹脂と、
１，２−ナフトキノン−（２）−ジアジド−４または５
−スルホニルクロリドとポリヒドロキシベンゾフェノ
ン、ナフトール、没食子酸エステルなどの水酸基を有す
る化合物とのエステルの感光剤が用いられている。例え
ば特公昭５４−２０３３０号公報には、アルキル基がエ
チル基以上の没食子酸エステルと１，２−ナフトキノン
−（２）−ジアジド−４または５−スルホニルクロリド
とを反応させた感光剤を用いた感光性樹脂組成物が示さ
れている。また、特開昭６０−４２７５３号公報、特開
昭６０−１５８４４０号公報、特開昭６１−８６７４９
号公報、特公昭３７−１８０１５号公報、特開昭６１−
１１８７４４号公報および特開昭６１−１８５７４１号
公報にも同様な組成物が示されている。また、上記の感
光性樹脂組成物の溶剤としては、酢酸２−エトキシエチ
ルまたは酢酸２−エトキシエチルとキシレンと酢酸ブチ
ルとの混合溶剤が用いられている。また最近では、３−
オクタノンを用いた例が特開平４−２９１４６号公報、
モノオキシカルボン酸エステルを用いた例が特公平３−
２２６１９号公報、混合溶剤を用いた例が特開平５−３
４９１９号公報に記載されている。上記の感光性樹脂組
成物は、解像度が優れているために波長３００〜５００
ｎｍの紫外線を使用した露光装置と組み合わせて半導体
装置などの製造に使用されている。半導体装置は、高性
能化のために、ますます微細化され、半導体装置の線幅
は０．５ミクロン以下の物も試作されつつある。このよ
うな微細なレジスト線幅を得るためには、一般に感度が
低下する問題を伴うため、高感度で高生産性が可能なレ
ジストが望まれる。そのために高感度化を達成するため
の感光性樹脂組成物として種々の材料が検討されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高感度で解
像度が高いポジ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた
レジスト像の製造法に関する。
像度が高いポジ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた
レジスト像の製造法に関する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、ポジ型感光性組成物の紫外線などの露光に対
し感度および解像度を高める溶剤を見いだし、本発明に
到達した。すなわち本発明は、（Ａ）アルカリ水溶液可
溶性樹脂、（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光
剤および溶剤として（Ｃ）ジアセトンアルコールを含有
してなるポジ型感光性樹脂組成物およびこの感光性樹脂
組成物を基板上に塗布、乾燥した後、露光、現像するレ
ジスト像の製造法に関する。
した結果、ポジ型感光性組成物の紫外線などの露光に対
し感度および解像度を高める溶剤を見いだし、本発明に
到達した。すなわち本発明は、（Ａ）アルカリ水溶液可
溶性樹脂、（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光
剤および溶剤として（Ｃ）ジアセトンアルコールを含有
してなるポジ型感光性樹脂組成物およびこの感光性樹脂
組成物を基板上に塗布、乾燥した後、露光、現像するレ
ジスト像の製造法に関する。
【０００５】本発明に用いられるアルカリ水溶液可溶性
樹脂は、アルカリ水溶液に可溶である樹脂であれば使用
することができる。特にフェノール類とアルデヒド類と
を縮合させたノボラック樹脂が好ましい。フェノール類
としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、ト
リメチルフェノール、ブチルフェノール、ナフトール、
レゾルシノール、カテコール、ピロガノールなどがあ
り、これらは、一種類でまたは二種類以上を組み合わせ
て用いることができる。アルデヒド類としては、ホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド等が用いられる。ノ
ボラック樹脂の合成触媒には、塩酸や蓚酸などを用い、
通常６０〜１２０℃の温度で数時間反応させた後、減圧
下で加熱して、水および未反応のフェノール類が除去さ
れる。
樹脂は、アルカリ水溶液に可溶である樹脂であれば使用
することができる。特にフェノール類とアルデヒド類と
を縮合させたノボラック樹脂が好ましい。フェノール類
としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、ト
リメチルフェノール、ブチルフェノール、ナフトール、
レゾルシノール、カテコール、ピロガノールなどがあ
り、これらは、一種類でまたは二種類以上を組み合わせ
て用いることができる。アルデヒド類としては、ホルム
アルデヒド、パラホルムアルデヒド等が用いられる。ノ
ボラック樹脂の合成触媒には、塩酸や蓚酸などを用い、
通常６０〜１２０℃の温度で数時間反応させた後、減圧
下で加熱して、水および未反応のフェノール類が除去さ
れる。
【０００６】本発明に使用するナフトキノンジアジド基
を有する感光剤は、公知の感光剤が使用できる。トリヒ
ドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドエステ
ル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジ
アジドエステルなどのポリヒドロキシベンゾフェノンの
ナフトキノンジアジドエステル、ナフトール、没食子酸
エステル、４ｂ，５，９ｂ，１０ｂ−テトラヒドロ−
２，３，４，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチ
ルインデノ〔２，１−ａ〕インデンなどの水酸基を有す
る化合物とのナフトキノンジアジドエステルなどが用い
られる。４ｂ，５，９ｂ，１０ｂ−テトラヒドロ−２，
３，４，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチルイ
ンデノ〔２，１−ａ〕インデンは、公知の化合物で、カ
テコールとアセトニルアセトンとを硫酸中で７０〜８０
℃で反応させて得ることができる。
を有する感光剤は、公知の感光剤が使用できる。トリヒ
ドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジアジドエステ
ル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノンジ
アジドエステルなどのポリヒドロキシベンゾフェノンの
ナフトキノンジアジドエステル、ナフトール、没食子酸
エステル、４ｂ，５，９ｂ，１０ｂ−テトラヒドロ−
２，３，４，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチ
ルインデノ〔２，１−ａ〕インデンなどの水酸基を有す
る化合物とのナフトキノンジアジドエステルなどが用い
られる。４ｂ，５，９ｂ，１０ｂ−テトラヒドロ−２，
３，４，８−テトラヒドロキシ−５，１０−ジメチルイ
ンデノ〔２，１−ａ〕インデンは、公知の化合物で、カ
テコールとアセトニルアセトンとを硫酸中で７０〜８０
℃で反応させて得ることができる。
【０００７】本発明になるポジ型感光性樹脂組成物は溶
剤としてジアセトンアルコールが用いられる。ジアセト
ンアルコールはポジ型感光性樹脂組成物の感度を高め、
上記の感光剤はこのアルコールに対して高い溶解性を示
すために、このアルコールによって感度が高く、保存安
定性にすぐれたポジ型感光性樹脂組成物を得ることがで
きる。
剤としてジアセトンアルコールが用いられる。ジアセト
ンアルコールはポジ型感光性樹脂組成物の感度を高め、
上記の感光剤はこのアルコールに対して高い溶解性を示
すために、このアルコールによって感度が高く、保存安
定性にすぐれたポジ型感光性樹脂組成物を得ることがで
きる。
【０００８】（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂および
（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光剤の好まし
い割合は、（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂１００重量
部に対し、（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光
剤を１０〜３０重量部とされ、これらが、好ましくはジ
アセトンアルコール２００〜１０００重量部に溶解され
る。（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光剤量が
１０重量部未満では現像時の膜減り量が大きく、３０重
量部を超えると組成物としての感度が低くなる傾向にあ
る。
（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光剤の好まし
い割合は、（Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂１００重量
部に対し、（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光
剤を１０〜３０重量部とされ、これらが、好ましくはジ
アセトンアルコール２００〜１０００重量部に溶解され
る。（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光剤量が
１０重量部未満では現像時の膜減り量が大きく、３０重
量部を超えると組成物としての感度が低くなる傾向にあ
る。
【０００９】本発明になるポジ型感光性樹脂組成物を基
板上に塗布、乾燥して得られる感光膜を活性エネルギー
線で露光し、アルカリ水溶液で現像してレジスト像が製
造される。この塗膜に照射する活性エネルギー線として
は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等が使われ、照射
は公知の手段により行われる。アルカリ水溶液として
は、通常水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テ
トラメチルアンモニウム、コリン等の５重量％以下、好
ましくは１．５〜３．０重量％の水溶液が用いられる。
露光後に６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１３０℃
で、３０秒〜５分間、好ましくは１〜２分間加熱するこ
とが好ましい。塗布する基板としては、シリコン、アル
ミニウム、ガラス、石英、クロム、酸化クロムなどがあ
る。
板上に塗布、乾燥して得られる感光膜を活性エネルギー
線で露光し、アルカリ水溶液で現像してレジスト像が製
造される。この塗膜に照射する活性エネルギー線として
は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線等が使われ、照射
は公知の手段により行われる。アルカリ水溶液として
は、通常水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化テ
トラメチルアンモニウム、コリン等の５重量％以下、好
ましくは１．５〜３．０重量％の水溶液が用いられる。
露光後に６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１３０℃
で、３０秒〜５分間、好ましくは１〜２分間加熱するこ
とが好ましい。塗布する基板としては、シリコン、アル
ミニウム、ガラス、石英、クロム、酸化クロムなどがあ
る。
【００１０】本発明になる感光性樹脂組成物は、目的に
応じて副次的な成分を含有してもよい。これらの例とし
ては、例えば貯蔵安定性を図るための熱重合防止剤、塗
布膜厚を均一にする界面活性剤、基板との密着性を向上
させるための密着性向上剤等が挙げられる。
応じて副次的な成分を含有してもよい。これらの例とし
ては、例えば貯蔵安定性を図るための熱重合防止剤、塗
布膜厚を均一にする界面活性剤、基板との密着性を向上
させるための密着性向上剤等が挙げられる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳しく説明す
る。 （１）感光剤（１）の合成 下記の構造を有する４ｂ，５，９ｂ，１０ｂ−テトラヒ
ドロ−２，３，４，８−テトラヒドロキシ−５，１０−
ジメチルインデノ〔２，１−ａ〕インデン１１．４重量
部およびナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホ
ニルクロリド３６．０重量部（３．５モル比）をジオキ
サン２００重量部とアセトン２００重量部の混合溶剤中
に仕込み、撹拌下にトリエチルアミン１３．７重量部、
ジオキサン２５．０重量部およびアセトン２５重量部と
の混合液を徐々に滴下し４時間反応させた。反応終了
後、内容物を１重量％塩酸水溶液中に滴下し、生じた沈
殿を濾別後、水洗しメタノールで洗浄、４０℃で１０mm
Hg下１０時間真空乾燥して感光剤（１）を得た。
る。 （１）感光剤（１）の合成 下記の構造を有する４ｂ，５，９ｂ，１０ｂ−テトラヒ
ドロ−２，３，４，８−テトラヒドロキシ−５，１０−
ジメチルインデノ〔２，１−ａ〕インデン１１．４重量
部およびナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホ
ニルクロリド３６．０重量部（３．５モル比）をジオキ
サン２００重量部とアセトン２００重量部の混合溶剤中
に仕込み、撹拌下にトリエチルアミン１３．７重量部、
ジオキサン２５．０重量部およびアセトン２５重量部と
の混合液を徐々に滴下し４時間反応させた。反応終了
後、内容物を１重量％塩酸水溶液中に滴下し、生じた沈
殿を濾別後、水洗しメタノールで洗浄、４０℃で１０mm
Hg下１０時間真空乾燥して感光剤（１）を得た。
【００１２】
【化１】
【００１３】実施例１ メタパラクレゾールノボラック樹脂（仕込みのメタクレ
ゾール／パラクレゾール＝５５／４５重量比、ポリスチ
レン換算分子量＝１０，０００）９０ｇ、２，３，４，
４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン
ジアジドエステル（東洋合成工業株式会社製；品名４Ｎ
Ｔ−３５０）１８ｇ、界面活性剤（住友３Ｍ株式会社
製；品名ＦＣ−４３１）０．１ｇをジアセトンアルコー
ル２７０ｇに溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブラ
ンフィルターで濾過してポジ型感光性樹脂組成物を得
た。得られた組成物をＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザ
ン）で処理したシリコン基板上に回転塗布し、８０℃、
９０秒間ホットプレートで乾燥して２．０７μｍ厚の感
光膜を得た。ついで、塗膜を日立製作所製ｉ線縮小露光
装置（ＬＤ−５０１０ｉ）を使用し、フォトマスクを介
して露光して、その後１１０℃、９０秒間加熱後、水酸
化テトラメチルアンモニウムの２．３８重量％水溶液で
６０秒間現像した。得られた像を観察したところ、０．
７μｍのパターンが膜べりなく得られ、露光量は、１９
０mJ/cm2と高感度であった。
ゾール／パラクレゾール＝５５／４５重量比、ポリスチ
レン換算分子量＝１０，０００）９０ｇ、２，３，４，
４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンのナフトキノン
ジアジドエステル（東洋合成工業株式会社製；品名４Ｎ
Ｔ−３５０）１８ｇ、界面活性剤（住友３Ｍ株式会社
製；品名ＦＣ−４３１）０．１ｇをジアセトンアルコー
ル２７０ｇに溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブラ
ンフィルターで濾過してポジ型感光性樹脂組成物を得
た。得られた組成物をＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザ
ン）で処理したシリコン基板上に回転塗布し、８０℃、
９０秒間ホットプレートで乾燥して２．０７μｍ厚の感
光膜を得た。ついで、塗膜を日立製作所製ｉ線縮小露光
装置（ＬＤ−５０１０ｉ）を使用し、フォトマスクを介
して露光して、その後１１０℃、９０秒間加熱後、水酸
化テトラメチルアンモニウムの２．３８重量％水溶液で
６０秒間現像した。得られた像を観察したところ、０．
７μｍのパターンが膜べりなく得られ、露光量は、１９
０mJ/cm2と高感度であった。
【００１４】比較例１ ジアセトンアルコールの効果を確認するために、実施例
１で使用した溶剤を酢酸２−エトキシエチルに変えて実
施例１と同様にしてポジ型感光性樹脂組成物を得た。得
られた組成物を実施例１と同じ方法で露光、加熱、現像
して０．７μｍの像を得たが、露光量は２９０mJ/cm2と
感度は低かった。また断面形状を観察したところ膜べり
が認められた。
１で使用した溶剤を酢酸２−エトキシエチルに変えて実
施例１と同様にしてポジ型感光性樹脂組成物を得た。得
られた組成物を実施例１と同じ方法で露光、加熱、現像
して０．７μｍの像を得たが、露光量は２９０mJ/cm2と
感度は低かった。また断面形状を観察したところ膜べり
が認められた。
【００１５】実施例２ 実施例１において、ナフトキノンジアジド基を有する感
光剤を前記合成で得た感光剤（１）２２．５ｇに変えて
実施例１と同様にしてジアセトンアルコール２７０ｇに
溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルター
で濾過してポジ型感光性樹脂組成物を得た。得られた組
成物を実施例１と同じ方法で露光、加熱、現像して０．
７μｍの像を得たが、露光量は２００mJ/cm2と高感度
で、膜べりも認められなかった。
光剤を前記合成で得た感光剤（１）２２．５ｇに変えて
実施例１と同様にしてジアセトンアルコール２７０ｇに
溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルター
で濾過してポジ型感光性樹脂組成物を得た。得られた組
成物を実施例１と同じ方法で露光、加熱、現像して０．
７μｍの像を得たが、露光量は２００mJ/cm2と高感度
で、膜べりも認められなかった。
【００１６】比較例２ ジアセトンアルコールの効果を確認するために、実施例
２で使用した溶剤を酢酸２−エトキシエチルに変えて実
施例２と同様にしてポジ型感光性樹脂組成物を得た。得
られた組成物を実施例１と同じ方法で露光、加熱、現像
して０．７μｍの像を得たが、露光量は３００mJ/cm2と
感度は低かった。
２で使用した溶剤を酢酸２−エトキシエチルに変えて実
施例２と同様にしてポジ型感光性樹脂組成物を得た。得
られた組成物を実施例１と同じ方法で露光、加熱、現像
して０．７μｍの像を得たが、露光量は３００mJ/cm2と
感度は低かった。
【００１７】比較例３、４ 溶剤であるジアセトンアルコールに変えて表１のアルコ
ール系溶剤を使用して実施例１で使用した感光剤５ｇを
各々の溶剤１００ｇに室温で溶解させようと試みたが、
いずれも溶解せず、感光性樹脂の溶剤には適さなかっ
た。なお、同一条件でジアセトンアルコールには溶解し
た。
ール系溶剤を使用して実施例１で使用した感光剤５ｇを
各々の溶剤１００ｇに室温で溶解させようと試みたが、
いずれも溶解せず、感光性樹脂の溶剤には適さなかっ
た。なお、同一条件でジアセトンアルコールには溶解し
た。
【表１】
【００１８】
【発明の効果】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、感
度が高く、保存安定性に優れ、写真工業、電子工業、印
刷工業等の分野に広く使用することが可能である。
度が高く、保存安定性に優れ、写真工業、電子工業、印
刷工業等の分野に広く使用することが可能である。
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）アルカリ水溶液可溶性樹脂、
（Ｂ）ナフトキノンジアジド基を有する感光剤および溶
剤として（Ｃ）ジアセトンアルコールを含有してなるポ
ジ型感光性樹脂組成物。 - 【請求項２】 請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成
物を基板上に塗布、乾燥した後、露光、現像するレジス
ト像の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5331068A JPH07128848A (ja) | 1993-09-08 | 1993-12-27 | ポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-223310 | 1993-09-08 | ||
| JP22331093 | 1993-09-08 | ||
| JP5331068A JPH07128848A (ja) | 1993-09-08 | 1993-12-27 | ポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07128848A true JPH07128848A (ja) | 1995-05-19 |
Family
ID=26525398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5331068A Pending JPH07128848A (ja) | 1993-09-08 | 1993-12-27 | ポジ型感光性樹脂組成物およびレジスト像の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07128848A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1388758A1 (en) | 2002-08-05 | 2004-02-11 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive heat resistant resin precursor composition |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP5331068A patent/JPH07128848A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1388758A1 (en) | 2002-08-05 | 2004-02-11 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive heat resistant resin precursor composition |
| KR101012569B1 (ko) * | 2002-08-05 | 2011-02-07 | 도레이 카부시키가이샤 | 감광성 수지 전구체 조성물 |
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