JPH07123110B2 - Ｘ線転写装置及び方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、回路が高度に集積され
た半導体デバイスを製造するためのリソグラフィ工程、
特に転写工程において使用されるＸ線転写装置及び方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】回路の集積度合いが高まるに従って回路
パターンを構成する線の幅はミクロンそしてサブミクロ
ンのオーダーが要求される様になって来ており、これを
達成するため回路パターンを転写するための照射エネル
ギーも紫外、遠紫外そして軟Ｘ線と波長が増々短いもの
が使用されている。

【０００３】軟Ｘ線を使用したリソグラフィ装置は既に
１０年以上に渡って実用化の努力がなされているが、今
日になっても未だ実用的な半導体デバイス生産用のＸ線
転写装置は完成していない。この原因は実用化の要件で
ある焼付分解能、アライメント精度、スループット、装
置の信頼性、操作性、装置価格等のバラスン又は適正化
が不十分なためであると考えられる。

【０００４】しかしながらＸ線転写装置を実現するため
要件をより詳細に検討すると、問題の１つはパターンの
転写を終了したウエハにエッチング等の化学処理を施し
た時にウエハに伸縮が起きることである。特に、最近ウ
エハ径の拡大化が著しく、６インチあるいは８インチの
直径のウエハに転写が行われることが要望されており、
ウエハの伸縮を無視することはできない。このためパタ
ーン像に及ぼすウエハの伸縮の影響をできる限り少なく
する必要がある。

【０００５】本発明の目的は、Ｘ線源からのエネルギを
効果的に利用することができるＸ線転写装置及び方法を
提供することにある。

【０００６】本発明の更なる目的は、一回の焼付けでパ
ターンを転写されるウエハの区域を縮小することによっ
てパターン像に及ぼすウエハへの伸縮の影響を可能な限
り少なくすることができるＸ線転写装置及び方法を提供
することにある。

【０００７】

【実施例】次に添付の図面を参照して本発明の好ましい
実施例を説明する。図１は本発明に従って構成されたＸ
線転写装置を全体的に示した図である。このＸ線転写装
置は、メインチャンバ１と、メインチャンバ１の両側に
それぞれ配置されたウエハロードカセット収納チャンバ
２およびウエハアンロードカセット収納チャンバ３と、
同じくメインチャンバ１の片側にウエハアンロードカセ
ット収納チャンバ３と並んで配置されたマスクカセット
収納チャンバ４と、照射チャンバ５ａ、５ｂと、サブチ
ャンバ６とから構成されている。

【０００８】メインチャンバ１は、両側にロード用収納
チャンバ２およびアンロード用収納チャンバ３がそれぞ
れ連結されている第１のメインチャンバ部分７と、マス
ク用収納チャンバ４が片側に連結されている第２のメイ
ンチャンバ部分８とから構成されている。第１のメイン
チャンバ部分７とロード用収納チャンバ２およびアンロ
ード用収納チャンバ３の各々との連結部、並びに第２の
チャンバ部分８とマスク用収納チャンバ４との連結部は
それぞれが独立して真空状態を維持できるように構成さ
れている。

【０００９】照射チャンバ５ａ、５ｂとメインチャンバ
１およびサブチャンバ６の各々との連結部もそれぞれ真
空状態を維持できるように構成されており、又両者の間
には都合に応じて各チャンバをお互いに隔離するための
仕切弁９が配置されている。例えば照射チャンバ５ａ、
５ｂ内のＸ線管球を取り替え又は修理等の必要が生じた
場合には、仕切弁９を閉じてから作業をおこなうことに
より他のチャンバ１、６内の真空状態を維持することが
できる。これにより作業後Ｘ線転写装置の作動を再び開
始する前に照射チャンバ５ａ、５ｂだけを排気すれば良
く、必要な排気時間を極めて短縮することができる。な
お各チャンバ１、２、３、４、５ａ、５ｂ、６の好適面
には排気用真空ポンプ（図示せず）と各チャンバを接続
するための管１０が取り付けられている。

【００１０】ここで前述したチャンバ内に収容されいる
装置並びにチャンバ内で行なわれる作業を主要なものに
ついて図２、図３および図４を参照して概略的に説明す
る。図４に示されているようにウエハロードカセット収
納チャンバ２には、Ｘ線転写装置によって回路パターン
を転写するために予め面上にフォトレジストを塗布され
た複数枚のウエハ１２を収納したカセット１３を載置さ
せるための装置が設けられている。この装置はカセット
１３を上下方向へ昇格させることができ、複数枚のウエ
ハを第１のメインチャンバ部分７内へ順次搬入するのに
寄与する。

【００１１】第１のメインチャンバ部分７内には、チャ
ンバ２内のカセット１３からウエハを一枚ずつチャンバ
７内へ搬入するための搬入装置がチャンバ２に近接して
配置されている。更にメインチャンバ部分７の長さ方向
中央付近にはウエハの平行平面出し装置が配置されてお
り、ここで照射台上に支持されたウエハホルダの基準面
に対してウエハの表面が平行になるようにウエハの位置
を調整し固定する。又ウエハアンロードカセット収納チ
ャンバ３に近接した第１のメインチャンバ部分７内の位
置には、ウエハの全面に回路パターンを転写する工程を
終了したウエハを、チャンバ３内へ搬出するための搬出
装置が設けられている。

【００１２】ここでチャンバ３にはチャンバ２と同じ
く、ウエハを収納するカセット１４を載置させるための
装置が配置されている。この装置はカセット１４を上下
方向へ昇降させることができ、照射作業を終えたウエハ
を一枚ずつカセットに収容するのに寄与する。

【００１３】次に図３を参照してマスク収納チャンバ４
および第２のメインチャンバ部分８に関連した主要な装
置、作業について説明する。マスク収納チャンバ４はそ
の内部にマスクカセット１５を有し、一方このマスクカ
セット１５内には複数のマスク１６が保持されている。
更に転写工程に従って複数のマスクのうちの任意のマス
ク１６をマスク取り出し位置へ割り出すためにマスクカ
セット１５を回転させる装置も設けられている。

【００１４】第２のメインチャンバ部分８内にはマスク
チャンバ４に近接した位置に、マスクをカセットから取
り出すあるいはマスクをカセットへ戻すときに使用され
るマスク移動装置が配置されている。そして第２のチャ
ンバ部分８の内部上方にはマスクホルダーを保持するた
めの上下動可能なマスクハンドラがある。第２のチャン
バ部分８の長さ方向中央付近上部にはマスクとウエハの
粗い位置合わせを行なうためのプリアライメント用光学
顕微鏡１７が取り付けられている。一方第２のチャンバ
部分８の上部にはプリアライメント用光学顕微鏡１７と
近接した位置に、マスクとウエハの精密な位置合わせを
行なうためのファインアライメント用電子顕微鏡１８が
取り付けられている。更に第２のチャンバ部分８の内側
にはチャンバ部分８の長さ方向に亘って移動できる粗微
動装置が配置され、プリアライメントおよびファインア
ライメントの際にはこの粗微動装置を使用してマスクお
よびウエハの位置を移動させる。

【００１５】サブチャンバ６には関連した主要な装置お
よび作業については、マスクをカセットから取り出すあ
るいはマスクをカセットへ戻すときに使用されるマスク
移動装置を有していない点を除き、第２のメインチャン
バ部分８に関連して上述した説明と同様である。

【００１６】図２に示されているとおり照射チャンバ５
ａ、５ｂは内部にＸ線管球を有しており、マスクおよび
ウエハは台にのせられてこのチャンバを通過するとき移
動しながら照射される。このときマスクのパターンはウ
エハに転写される。

【００１７】ここでウエハを４つの照射区域に分割した
場合を例にとって、Ｘ線転写装置の全体的な作動を概略
的に説明する。

【００１８】図５にはマスク１６の平面図が示されてい
るが、このマスク１６はＸ線透過性の基板に回路パター
ン２０および一組のアライメントマーク２１をＸ線非透
過性物質によって形成したものである。図６に示された
ウエハは直交する破線２２、２３によって照射区域を４
つに分割されている。照射は４つの分割されたウエハの
照射区域のうちの一つとマスク１６とを重ね合わせた状
態で行なわれ、従ってウエハの全面を照射するために照
射工程を４回実施しなければならない。なおウエハ側に
もアライメントマークを予め形成しておいても良く、ア
ライメントマーク２４、２５、２６は各照射区域に一組
ずつ形成されている。

【００１９】このようにアライメントマーク２４、２
５、２６を形成されたウエハ１２はウエハロードカセッ
ト１３に複数枚重ねて収容されている。ウエハ１２は搬
入装置によってチャンバ７内へ一枚ずつ引き取られた
後、ウエハのオリフラ部２７が所定の方向を向くように
位置調整される。次にウエハを照射台上に支持されたウ
エハホルダ内へ移し替え、平行平面出し装置によってウ
エハホルダの基準面に対してウエハの表面が平行で所定
の高さになるようにウエハ１２の位置を調整する。その
結果ウエハホルダに載せられるマスクホルダによって保
持されたマスク１６とウエハ１２とは対向する面が平行
で所定の間隔になる。

【００２０】ここでウエハを載せた照射台を第２のチャ
ンバ部分８の中央部プリアライメント位置へ移動させ
る。

【００２１】一方、マスクカセット１５から取り出さ
れ、マスクハンドラによって狹持されたマスクホルダー
に固着されたマスク１６は、粗微動装置によってマスク
ハンドラからマスクホルダとともに受け取られる。粗微
動装置はマスクホルダをプリアライメント位置に待機し
ている照射台上のウエハホルダ上へ持っていき両者を重
ね合わせる。ここでマスク１６とウエハ１２の第１の照
射域との粗い位置合わせを行ない、続いて一層精密な位
置合わせを行なうために隣接したファインアライメント
位置へ照射台を移動させる。

【００２２】このようにして精密に位置合わせされたマ
スク１６とウエハ１２は照射台に乗せられて照射チャン
バ５ａ内へ移送され、Ｘ線によって走査照射される。な
おこのときウエハ１２は第１の照射域以外が照射される
ことのないように、第２、第３および第４の照射域は遮
へいされている。

【００２３】照射台が照射チャンバ５ａを通過してサブ
チャンバ６へ移送されたところで、ウエハの照射域を切
り換える。照射域の切り換えを操作によってマスクとウ
エハの第２の照射域とを重ね合わせたら、照射台をプリ
アライメント位置およびファインアライメント位置へ順
次移動させる。これによってマスクとウエアの第２照射
域との粗い位置合わせおよび精密な位置合わせがおこな
われる。

【００２４】次に前述したのと同様にマスクとウエハは
照射台にのせられて照射チャンバ５ｂ内へ移送され、Ｘ
線によって走査照射される。このとき第１、第３および
第４の照射域は遮へいされており、第２の照射域以外が
照射されることはない。

【００２５】照射台が照射チャンバ５ｂを通過して第２
のメインチャンバ部分８へ移送されたところで、ウエハ
の照射域を再び切り換える。このようにして前述の操作
を繰り返し、ウエハの第３および第４の照射域も照射し
終わり、ウエハ全面の照射が完了したら、第２のメイン
チャンバ部分８から第１のチャンバ部分７へ照射台を移
動させる。そしてウエハの全面に回路パターンを転写さ
れたウエハ１２は、搬出装置によってチャンバ３内のウ
エハアンロードカセツト１４に一枚ずつ収容される。な
おマスク１６の交換の必要があればマスク移動装置によ
ってマスクをカセツト１５へ戻し、別のマスクをカセッ
トから取り出すことができる。

【００２６】以上一枚のウエハの照射処理について説明
したが、本発明のＸ線転写装置においては、複数の照射
台を使用して複数枚のウエハ１２を平行して照射処理す
ることができる。

【００２７】続いて前述したＸ線転写装置の全体的な作
動を一層明確に理解するため、重要な項目について以下
に詳細に説明する。

【００２８】（１）ウエハのロード、平行平面出しおよ
びアンロード 図４に示されているように第１のメインチャンバ部分７
の両側部に、ウエハロードカセット収納チャンバ２およ
びウエハアンロードカセット収納チャンバ３がそれぞれ
連結されている。ロード用チャンバ２の内部には、予め
Ｘ線に反応するレジストを塗布した複数枚のウエハ１２
を収容したウエハカセット１３を載置するための台３０
が設けられており、この台３０は昇格装置３１によって
支持されている。台上は支持されたカセット１３は、ウ
エハを第１のメインチャンバ部分７内へ一枚搬入したら
その都度順次垂直方向下方へ昇降装置３１によって降下
される。

【００２９】カセット１３から第１のメインチャンバ部
分７内へのウエハの搬入は図７に示されたウエハ搬入装
置３２によって行なわれる。搬入装置３２はウエハ１２
を上面に載せてカセット１３から引き出す台３３および
この台３３をガイド３４に沿って水平方向へ摺動させる
ための摺動部３５を有している。台３３上に載置された
ウエハ１２は、摺動部３５を移動させることによってウ
エハ押上げ装置３６の上方まで移される。押上げ装置３
６は、回転可能なウエハ支承面３７およびこの面から一
段下がった位置に取り付けられたオリフラ検出器３８を
有している。ここで押上げ装置３６を駆動させてウエハ
支承面３７を上昇させ、この支承面３７によって台３３
からウエハ１２を受けとる。このときウエハ１２の位置
は、オリフラ検出器３８を使用しオリフラ２７を所定の
方向に向けるように支承面３７を回転させて位置決めさ
れる。

【００３０】押し上げ装置３６を駆動させて、上昇した
位置に面３７によって支承されたウエハ１２は、図８に
示されたウエハハンド４０によって周囲を狹持される。
このハンド４０は、ガイド４１に沿って摺動する摺動部
４２に連結されており、又同じく上下動可能な上下シリ
ンダー４３にも連結されている。

【００３１】ハンド４０はウエハ支承面３７上方の位置
まで摺動部４２をガイド４１に沿って摺動させることに
より移動し、この位置で上下シリンダー４３を作動させ
ることにより降下させられる。そしてハンド４０はウエ
ハ１２を支承面３７から受けとった後再びシリンダー４
３を作動させて上昇し、同じく摺動部４２をガイド４１
に沿って移動させることにより、ウエハの平行平面出し
位置４４（図４）まで動かされる。

【００３２】この平行平面出し位置４４には、レール４
５、４５に沿って移動する照射台４６が待機している。
図９に示されている様にこの照射台４６にはその上面に
ウエルホルダー４７が取り付けられており、一方ホルダ
ー４７の内部にはその底面から上方に向かい順次、照射
域移動台４８、球面座４９、ウエハチャック５０が配置
されている。

【００３３】照射台４６およびホルダー４７の底部には
ピエゾ素子５１を挿通させるための開口５２、５３がそ
れぞれ形成されている。この開口５２、５３は好ましく
は３個形成される。ピエゾ素子５１は上下動可能な素子
支持台５４の上面に好ましくは３本前述の開口に対向し
て垂直に取りつけられている。

【００３４】一方チャック５０の底部には棒状突起５５
が保持されており、開口５２、５３を通してホルダー４
７内へ挿通された素子５１の上端と当接するようになっ
ている。又球面座４９はチャック５０に固定されてお
り、その周囲には球面座４９の位置を固定するためのピ
エゾ素子５６が当接している。

【００３５】平行平面出し位置４４にはメインチャンバ
一部分７の上面に設置された昇降装置５７によって上下
動するキャリブレーター５８が配置されている。このキ
ャリブレーター５８は底板５９を有し、底板５９にはギ
ャップセンサー６０挿通用開口６１およびチャック賦勢
段６２挿通用開口６３が形成されている。

【００３６】ここで前述したように平行平面出し位置４
４までハンド４０によって運ばれたウエハ１２は、同じ
く位置４４に待機しているウエハホルダー４７とキャリ
ブレーター５８との間に位置することになる。次に上下
シリンダーを作動させてウエハハンド４０をチャック５
０へ向けて降下させ、ウエハがチャック５０の上面付近
に達したらハンド４０を作動させてウエハを解放し、チ
ャック５０の面上に載せる。ウエハ１２は静電方式によ
ってチャック５０に固着される。

【００３７】ハンド４０はウエハ１２をチャック５０へ
受け渡した後上下シリンダー４３の作動により上昇し、
摺動部４２をガイド４１に沿って移動させることにより
チャンバ２の方向へ移される。

【００３８】このようにしてチャック５０の上に固着さ
れたウエハ１２の平行平面出しの機構について説明す
る。まず昇降装置５７を作動させてキャリブレーター５
８をその底板５９の下面がホルダー４７の上端基準面６
５と当接するまで降下させる。

【００３９】次に素子支持台５４を駆動してピエゾ素子
５１を開口５２、５３を通して上昇させ、棒状突起５５
の下端面を突きあげる。このときギャップセンサー６０
を用いて、ウエハ１２の上面とホルダー４７の上端基準
面６５との間隔を測定する。測定の結果に応じて素子５
１の上下微調整をおこない、ウエハの平行平面出し作業
が終わったら、素子５６を作動させて球面座４９の周囲
に突き当て球面座４９、従ってチャック５０の位置を固
定する。

【００４０】続いて昇降装置５７を作動させてキャリブ
レーター５８を上昇位置に、また素子支持台５４を作動
させてピエゾ素子を降下位置まで移動させる。しかる後
にホルダー４７をのせた照射台４６は、駆動装置（図示
せず）を作動させることによりレール４５、４５に沿っ
て平行平面出し位置４４からプリアライメント位置へ移
動する。

【００４１】次に照射を終了したウエハのアンロードに
ついて説明する。ウエハアンロードカセット収納チャン
バ３にはウエハロードカセット収納チャンバ２と同じく
ウエハを収納するカセット１４を載置するための台３０
が設けられており、この台３０は昇降装置３１によって
支持されている。台３０上に支持されたカセット１４
は、第１のメインチャンバ部分７からウエハを収納した
後垂直上方へ昇降装置３１によって順次上昇される。

【００４２】第１のメインチャンバ部分７からカセット
１４へのウエハの収容は、図８に示されたのと同じ構成
を有するウエハハンドおよび図１０に示されたウエハ搬
出装置６６を使用することによっておこなわれる。装置
６６は、台６７および摺動部６８を有している。

【００４３】図１１に示されているように照射を終了し
た照射台４６上からマスクホルダー７０をホルダーハン
ダー７１によって取り除いた後、照射台４６はレール４
５、４５に沿ってウエハハンドに向かって進み停止す
る。ここでハンドによってウエハチャック５０上に載置
されたウエハ１２の周囲を狹持し、ウエハ搬出装置６６
の台６７上へ移し代える。台６７上にウエハをのせた状
態で摺動部６８はガイド６９に沿ってチャンバ３内のカ
セット１４に向かって進む。以上の手順は繰り返すこと
により照射を終えたウエハは順次アンロードカセット収
納チャンバ３内のカセット１４に収容される。

【００４４】（２）マスクのロードおよびアンロード 次にマスクのロード、アンロードを図３および図１１を
参照して説明する。

【００４５】マスクカセット収納チャンバ４内へ収納さ
れたマスクカセット１５ａ、１５ｂを、カセットふたあ
け装置７２を作動させてカセット１５の下ぶた１５ｂを
降下させる。

【００４６】カセット１５は上ぶた１５ａと下ぶた１５
ｂを組み合わせた構成を有し、その内部に複数のマスク
１６を上ぶた１５ａ側に磁力で保持している。

【００４７】マスクの上ぶた１５ａは回転装置７４を駆
動することにより回転可能であり、前述した複数のマス
ク１６のうち所望のものを取り出し位置、収納位置へ割
り出すことができる。

【００４８】チャンバ４の排気は、チャンバ４ふた７５
をあけてカセット１５をチャンバ４内へ収納しふた７５
を閉じた後排気装置（図示せず）を作動させることによ
って行なわれる。チャンバ４内の真空度が所定の値に達
したら、閉じていたスライド弁７６をあけてマスク移動
部材を第２のメインチェンバー部分８側よりチャンバ４
内へ挿通させる。マスク移動部材の先端には、カセット
の上ぶた１５ａ側に磁力で保持されたマスク１６を引き
出すつめが形成されている。前記つめを選択された任意
のマスク１６に当接させたら上ぶた１５ａを上ぶた昇降
機７４ｂを作動させて上昇させマスク１６を上ぶた１５
ａから取り外し、第２のメインチャンバ部分８内に向か
ってマスク移動部材を引込め、マスク１６をチャンバ４
内からメインチャンバ部分８内のマスクステージ７７へ
移動させる。

【００４９】マスクステージ７７には、マスク１６を保
持するためのマスクハンドラ７８およびマスクの位置を
検知するためのマスク位置センサ７９、更にはマスクハ
ンドラ７８によって保持されたマスクをその状態で垂直
上方へ押し上げるためのマスク押し上げ装置８０が設け
られている。

【００５０】マスクハンドラ７８は移動部材上に載せら
れてステージ７７に位置したマスクを保持し、又一方セ
ンサ７９によりマスクの位置を検知した結果に応じてマ
スクの位置ぎめをおこなうべく回転することができる。

【００５１】このようにしてマスクの正確な位置決めが
終了したらマスクハンドラ７８によってマスク１６を保
持し、押し上げ装置８０を作動させて、マスクハンドラ
７８を垂直上方へ移動させる。

【００５２】ここでセンサ７９は水平方向に移動でき、
マスクの位置を検知する際にはハンドラ７８によって保
持されたマスクの上方に位置し、マスクの正確な位置ぎ
めが終了した後には再びもとの位置へ引込み、マスクハ
ンドラ７８の垂直方向への移動にあたって障害とはなら
ない。

【００５３】マスクステージ７７の垂直上方にはマスク
ホルダーハンド７１が配置されている。このマスクホル
ダーハンド７１は、マスクホルダー７０を両側からはさ
みつけるための当接部材８１、８１と、マスクホルダ７
０を当接部材８１、８１の間にはさみつけた状態で上下
に移動させるための軸部材８２、８２とから構成されて
いる。この軸部材８２、８２はメインチャンバ一部分８
の上部に設置された昇降装置８３によって上下動させら
れる。又当接部材８１、８１は軸部材８２、８２に対し
て回動自在に連結されており、照射を終了して送られて
くるマスクホルダー７０を受けとる際に回動して、いっ
たんホルダー７０を一方の当接部材８１に対して当接す
る位置まで通過させる。しかる後、前述のとおり回動し
てマスクホルダ７０の移動径路から離れていた当接部材
８１を、再び回動させてホルダ７０を２つの当接部材８
１、８１によって狹持する。

【００５４】このようにしてハンド７１によって狹持さ
れるマスクホルダ７０には、マスクハンドラ７８によっ
て保持された状態で垂直上方へ移動してくるマスクを部
分的に収容するための開口部８４と、マスクを磁力で保
持するために底部に埋設された磁性体とを有している。
従ってハンドラ７８によって保持された状態でマスク押
し上げ装置８０によって垂直上方へ移動してきたマスク
は、マスクホルダ７０によって保持され、一方ハンドラ
７８はマスクを解放して後マスク押し上げ装置８０の作
動により垂直下方へ降下する。

【００５５】次に前述したのとは反対にマスクホルダ７
０によって保持されているマスク１６をマスクカセット
１５内へ収納する手順について説明する。

【００５６】まず押上げ装置８０を作動させてマスクハ
ンドラ７８をマスクホルダ７０の下側に保持されている
マスク１６の近傍まで移動させる。そしてハンドラ７８
を作動させマスクの周囲を狹持させる。ここでホルダ７
０の底部に設けられた磁性体を消磁する。このようにし
てホルダ７０からマスクを引きはなしてから押上げ装置
８０を駆動させて、ハンドラ７８によって狹持した状態
でマスクを垂直下方に移動させる。

【００５７】次にマスク移動部材の先端に形成されたつ
めによって、ハンドラ７８により狹持されマスクステー
ジ７７に位置しているマスクを受けとる。このときつめ
がマスクを受けとったらハンドラ７８を作動させてマス
クからはなれるようにする。この後マスク移動部材をチ
ャンバ４内へ挿通するように移動し、カセット１５の上
ぶた１５ａと下ぶた１５ｂの間に先端を位置させる。こ
こでカセットの上ぶた１５ａに設けられた磁性体を使っ
てマスク移動部材の先端に位置したマスク１６を上ぶた
１５ａの下面に吸着、保持する。

【００５８】（３）照射台および移動台 図１２を使って移動台および照射台を説明する。図中、
８５は移動台で、縦移動レール８６、８６上を不図示の
駆動装置により自由に移動する。縦移動レール８６、８
６は移動台８５がファインアライメント位置Ａとマスク
着脱位置Ｃを移動できる長さになっている。移動台８５
上には横移動レール４５、４５が固設され、横移動レー
ル４５、４５上を照射台４６が自由に移動する。横移動
レール４５、４５の一端は、照射台４６がファインアラ
イメント位置Ａに在る時、中継レール８７、８７に接続
され、他端は、照射台４６が横移動レール上を移動した
時、ウエハロード位置Ｄおよびウエハアンロード位置Ｅ
を占める様に決められている。即ち、移動台８５がプリ
アライメント位置Ｂに在り、その位置から照射台４６が
横移動レール４５、４５上を移動するとウエハロード位
置Ｄに達することができる。又移動台８５がマスク着脱
位置Ｃにあり、その位置から照射台４６がレール４５、
４５を移動するとウエハアンロード位置Ｅに達する。照
射台４６上にマグネットチャックで保持される部材４７
はウエルホルダで、正方形の窪みが設けられており、照
射域移動台４８が窪み中を移動し得る。ウエハホルダ４
７と照射域移動台４８の相対移動については後述する。
台４８上にはウエハチャック５０が設けられていて、ウ
エハをチャッキングする。

【００５９】図６（Ａ）移動台８５と照射台４６の上方
には図１３に示す横方向に移動可能な粗微動装置８８が
配置される。この粗微動装置８８はマスクとウエハをア
ライメントするために使用するもので、横移動レール８
６、８６と平行に設けられた別の横移動レール８９、８
９に案内されて移動する。

【００６０】図１４は粗微動装置８８の詳細を描いてい
る。９０は粗微動粋で、横移動レール８９、８９が貫通
する梁から４ヶ所で釣り下げられ、両者の間には衝突エ
ネルギー吸収用圧縮バネが挿入されていて枠を下方で固
定している。そして枠の内部にマスクホルダ７０とウエ
ハホルダ４７が不図示の移動台押上げ機構（詳細は後
述）で押上げられて進入する。粗微動枠９０の外側には
積層されたピエゾ素子で支えられた粗動機構９１ａ、９
１ｂ等が設けられており、粗動機構９１ａ…のプッシュ
ロッド９２ａは枠９０の内部へ突出している。粗動機構
９１ａは図１５に示されているように粗動モータ９３ａ
の回転力が例えばラック・ピニオンの組合せによりプッ
シュロッド９２ａの直線移動に変換される構造となって
いる。プッシュロッド９２ａの軸承は、Ｖ字カットのな
されたブロック９４ａとプッシュロッド９２ａを上側か
ら押圧する片持ち状の板バネ９５ａから形成されてい
る。板バネ９５ａは更にピエゾ素子棒９６ａで加圧され
る構成となっており、ピエゾ素子棒９６ａに通電される
と、プッシュロッド９２ａは板バネ９５ａを介して押圧
され、ブロック９４ａにクランプされる。９７、９７は
積層されたピエゾ素子で、粗動機構９１ａを微小量前後
させる機能を持ち、一端は粗動機構９１ａに固定され、
他端は粗微動枠９０の外部に固定される。又以上と同様
の粗動機構９１ｂ…が積層されたピエゾ素子で粗微動枠
９０の外部に固定される。

【００６１】次に図１６を使って粗微動調整について説
明する。図中、９２ａ〜９２ｅは粗微動枠９０の上段か
ら突出したプッシュロッドでマスクホルダ７０に当接
し、９２ｆ〜９２ｊは下段から突出したプッシュロッド
でウエハホルダ４７に当接する。即ちプッシュロッド９
２ａと９２ｂはマスクホルダ７０の一辺に当接し、その
対辺にはプッシュロッド９２ｄが当接してマスクホルダ
７０を狹持し、左右の辺には各々９２ｃと９２ｅが当接
して狹持する。ウエハホルダ４７も同様にプッシュロッ
ド９２ｆとプシュロッド９２ｈと９２ｉが対向し、又プ
ッシュロッド９２ｇとプッシュロッド９２ｊが対向して
狹持する。例えばマスクホルダ７０のＸ、Ｙ、θの調整
をする場合、Ｘ方向の調整ではプッシュロッド９２ｃと
９２ｅを若干緩めてプッシュロッド９２ａと９２ｂの組
及びプッシュロッド９２ｄを相互に押出し、引き込むこ
とで実現する。その際、初期状態では粗動モータ９３ａ
を駆動してプッシュロッド９２ａを前後させて粗い調整
を行った後、ピエゾ素子棒９６ａを駆動してプッシュロ
ッド９２ａをクランプする。次いで積層されたピエゾ素
子９７へ通電すると粗動機構９１ａ全体が微細に前後し
てマスクホルダ７０の位置を精密に位置決めすることが
できる。またＹ方向の調整ではプッシュロッド９２ｅと
プッシュロッド９２ｃを相互に押し引きして位置決めす
ることができる。

【００６２】一方、θ方向の調整の際はプッシュロッド
９２ｃと９２ｅを若干緩め、プッシュロッド９２ａとプ
ッシユロッド９２ｂの突出量を変えればプッシュロッド
９２ｄの先端を中心にマスクホルダ７０は回転すること
になる。ウエルホルダ４７についても上述と同様の操作
で位置調整が可能である。

【００６３】（４）プリアライメントおよびファインア
ライメント 図１２へ戻ってプリアライメント及びファインアライメ
ントの説明を行う。まず、マスク着脱位置Ｃで、マスク
を装着されたマスクホルダ７０を粗微動装置８８に取付
ける工程が行われる。そのためマスクホルダーハンド７
１を一旦下降させた後、粗微動装置８８をマスク着脱位
置Ｃまで移動させて、粗微動装置８８をマスクホルダ７
０の上方に整合させる。次いでマスクホルダーハンド７
１を上昇させてマスクホルダ７０を粗微動装置８８の粗
微動枠９０にはめ込み、各プッシュロッド９２ａ〜９２
ｅを突出させてマスクホルダ７０を狹持する。

【００６４】一方、ウエハロード位置Ｄでウエハチャッ
ク５０にウエハが装着され、また前述の平行平面出し工
程が終了すると、照射台４６は横移動レール４５、４５
上を移動してプリアライメント位置Ｂに位置する。この
時、粗微動装置８８は縦移動レール８９、８９（図１
３）に沿って移動し、プリアライメント位置Ｂで停止
し、ウエハホルダ４７と整合される。

【００６５】図３に示された照射台押上げ機構９８で、
移動台８５の中央に開けられた図示されない開口を通し
て３本の爪をもつ押上げ棒で照射台４６を押上げ、照射
台４６の基準面４６ａ、４６ｂを粗微動装置の枠９０の
基準下面に押付けて高さを定めるとともにイコライジン
グを行う。

【００６６】図１７はマスクホルダ７０とウエハホルダ
４７を図示されない静電チャックで結合した様子を描い
ており、前述した通りウエハ表面の平行平面出し及びウ
エハホルダ４７の上端面６５（基準面）からの間隔決定
がなされているから、マスクホルダ７０の下端面（基準
面）と正確に当接させればマスク１６の下面とウエハ１
２の表面は数ミクロン程度の間隔を置いて極近接設定さ
れる。ここで照射台４６とウエハホルダ４７間のマグネ
ットチャック９９は解除され、図１６を使って前述した
操作に従ってマスクとウエハのアライメントが行われ
る。

【００６７】ウエハ上のアライメントマークは、ウエハ
を有効に利用するためにスクライブ線上に配置される
が、一方、マスクとウエハの最終アライメントは０．１
ミクロンあるいはそれ以上の精度が要求されるため、本
例では走査型電子顕微鏡を使用して実現される。従っ
て、アライメントを行う際に電子線でウエハ上のアライ
メントマークを走査することになるが、もし電子線がス
クライブ線幅より大きく振れると実素子の形成される領
域を照射する不都合がある。従って、アライメントマー
クを占有の区域に配置する場合、あるいは機械的初期設
定精度に比べて実素子間隔が大きく取れる場合を除け
ば、マスクとウエハのアライメント度合を１０ミクロン
オーダーの誤差に追い込んでおくのが望ましい。

【００６８】図１８および図１９はプリアライメント用
の光学顕微鏡１７の構成を概略的に示した図である。こ
の光学顕微鏡１７は、マスク１６のアライメントマーク
２１、２１を検知する２本の顕微鏡とウエハ１２上のア
ライメントマーク２６、２６を検知する２本の顕微鏡と
から構成されている。（図１８では各々１つのみ図
示）。４本の顕微鏡はそれぞれ対物レンズ系１００、結
像レンズ系１０２、ＴＶ撮像装置１０３を有している。
前述したようにマスクホルダ７０とウエハホルダ４７は
粗微動装置８８によってそれぞれ独立に位置調整がおこ
なわれ、マスク１６のアライメントマーク２１、２１と
ウエハ１２のアライメントマークは目盛板１０１の基準
マークに合わされる。マスクとウエハのプリアライメン
トが終了するとマスクホルダ７０とウエハホルダ４７は
静電チャックによって一且結合され、粗微動装置８８の
プッシュロード９２ａ〜９２ｊはマスクホルダ７０とウ
エハホルダ４７から離れてこれらを解放する。続いて照
射台押上げ機構９８の押上げ棒は下降し、照射台４６を
移動台８５上に接地させる。

【００６９】ここで移動台８５が照射台４６をチャック
すると、移動台８５はファインアライメント位置Ａまで
移動する。その際、粗微動装置８８はアインアライメン
ト位置Ａに移動しており、ファインアライメント位置Ａ
の照射台押上げ機構１０４が作動して照射台４６を押上
げる。押上げ機構１０４は例えばカムにより上下する構
造を採用するのが好ましく、そうすれば最も上昇した位
置で加速度が零になるからマスクホルダ７０とウエハホ
ルダ４７が急激に衝突することは避けられる。

【００７０】粗微動装置８８のプッシュロッド９２ａ〜
９２ｊが再びマスクホルダ７０とウエハホルダ４７を把
持し、マスクホルダ７０とウエハホルダ４７間及びウエ
ハホルダ４７と照射台４６間の固着用磁力が消去される
と、ファインアライメント用電子顕微鏡１８によるアラ
イメントマークの検知が行われる。

【００７１】図２０にファインアライメント用電子顕微
鏡１８の概略図を示す。ファインアライメント用電子顕
微鏡１８は独立に作動する４本の走査型電子顕微鏡を有
し、このうち２本はマスク１６のアライメントマーク２
１、２１を検知し、他の２本はマスクホルダ７０の窓１
０５を通してウエハ１２のアライメントマーク２６、２
６を検知する（図２０には各々１本のみ図示）。なおこ
の窓１０５は照射チャンバ５ａ、５ｂでウエハを照射す
るときには閉じられるようになっている。

【００７２】１０６は電子銃で電子ビームを発生する。
１０７はコンデンサーレンズ、１０８は対物レンズ、１
０９は２次元方向に電子ビームを振る静電偏向機であ
る。二次元走査電子ビームは基準プレート１１０のスリ
ットを通してマスク１６およびウエハ１２上のアライメ
ントマークへ向けられる。マスク、ウエハからの反射電
子は反射電子検出器１１１によって検出され、この検出
信号に基づいてマスク、ウエハのアライメントマークが
基準プレート１１０のスリット中央に位置するように移
動される。

【００７３】この際も、粗微動装置８８のプッシュロッ
ド９２ａ〜９２ｊがマスクホルダ７０及びウエハホルダ
４７の位置を規制し、各アライメントマークが夫々対応
する電子顕微鏡の軸に一致させられ、ファインアライメ
ントが終了する。

【００７４】マスクとウエハのファインアライメントが
終了するとマスクホルダ７０とウエハホルダ４７はマグ
ネットチャックによって結合される。粗微動装置８８の
プッシュロッド９２ａ〜９２ｊはマスクホルダ７０とウ
エハホルダ４７から離れてこれらを解放する。ウエハホ
ルダ４７と照射台４６のチャッキングもおわったら照射
台押上げ機構１０４の押上げ棒は下降し、照射台４６を
移動台８５上に接地させ両者をチャックする。

【００７５】（５）照射 次に図１と図２を使って照射部を説明する。照射部は他
から独立した真空チャンバ中に設置されており、メンイ
チャンバ１、サブチャンバ６とは気密仕切弁９、９とベ
ローズ様の自在継手１１２、１１２を介して結合されて
いる。仕切弁９は通常解放されているが、例えば照射部
内を修理する必要がある場合、メインチャンバ１等の他
のチャンバの真空を維持するために閉鎖される。

【００７６】Ｘ線照射系はＸ線管１１３とソーラースリ
ット１１４ａ、１１４ｂから成り、Ｘ線管１１３は図２
の面面に垂直に延びたターゲット１１５とその両側斜め
上方に配された長い電子銃１１６、１１６そして偏向板
１１７から成る。偏向板１１７は電子銃１１６、１１６
で発生した電子線を偏向させてターゲット１１５の底部
へ誘導する機能を持つ。尚、電子銃とターゲットの長さ
は照射されるマスクの幅より若干長くなる様に決定され
ている。

【００７７】１１４ａと１１４ｂはそれぞれソーラース
リットで、ターゲット１１５から発生した放射状軟Ｘ線
の内、平行な成分を取り出すコリメータの作用を持つ。
このソーラースリットは、例えばミリメーター・オーダ
ーの厚さを持ち、１０ミクロンオーダーの微細穴を無数
に具えたガラスあるいは金属板で、発生した軟Ｘ線束の
内、微細穴を通過する平行成分以外の成分を遮断する。
ソーラースリットは平行の度合に応じて複数個配置さ
れ、高解像力が要求されるマスク程平行性の良い軟Ｘ線
で照射する様にし、あまり高い解像力が要求されないマ
スクを使用する場合は多少平行度を落しても照射量の増
加を計り、照明時間の短縮を計ることができる。１１８
はソーラースリットの切替機構で、ハウジングの外か
ら、高い平行度の軟Ｘ線が得られるソーラースリット１
１４ａと通常の平行度の得られるソーラースリット１１
４ｂを真空を低下させることなく切替えられる様にして
いる。

【００７８】次に８７は図１２に描いた中継レールで、
仕切弁９と９の内側で延びており、照射台４６がウエハ
ホルダとマスクホルダを乗せたまま定速で移動するのに
役立つ、つまりマスクとウエハは極近接状態に保持され
たまま、図面に垂直な方向へ延びた軟Ｘ線の平行束を横
切って走査されることになり、マスクは全面照射され
る。

【００７９】（６）照射域移動 照射が完了すると照射台４６は照射域移動位置Ｆへ向
う。図１２に示す様にもう一つの移動台８５が配置され
ており、縦移動レール１１９、１１９上を移動し得る様
になっている。移動台８５の上には横移動レール１２
０、１２０が設けられており、移動台８５が移動すれば
それと共に移動する。これら部材は気密性のサブチャン
バ６内に収納されている。このサブチャンバ６には他に
プリアライメント装置およびファインアライメント装置
等が設けられており、マスクやウエハの着脱部を除けば
メインチャンバ１と類似の構造になっている。

【００８０】図１２の第２の移動台８５は、照射台４６
が中継レール８７、８７の端末に来た時、これらレール
の延長上に横移動レール１２０、１２０が整列する位置
に静止している。７１は第２のマスクホルダーハンド
で、前述したマスクホルダーハンドと同様にマスクホル
ダ７０を把持し、ウエハホルダ４７から持ち上げる機能
を持つ。

【００８１】照射域移動位置Ｆには第２のマスクホルダ
ーハンド７１の他に照射域移動リフトが配置されてい
る。図２１において照射台４６、横移動レール１２０、
１２０、移動台８５、縦移動レール１１９、１１９は前
述の通りである。これに対し第２の移動台８５には中央
に開口があり、その部分に凹状の取付具１２１が設けら
れている。そしてこの取付具１２１には積層されたピエ
ゾ素子１２２ａと１２２ｂが取付けられており、その上
部には更にソレノイド１２３ａと１２３ｂが夫々設けら
れている。

【００８２】一方、照射域移動台４８の底には下面が磁
性を有する材料で作られた吸着板１２４が支柱を介して
固定されており、支柱はウエハホルダ４７と照射台４６
の底部にあけられた開口を貫通し、また吸着板１２４は
開口中を移動し得る。照射域移動台４８とウエハホルダ
４７間の着磁力を消去した後、ピエゾ素子１２２ａに通
電するとピエゾ素子は伸長し、ソレノイド１２３ａの頭
部は吸着板１２４を押し上げるので、照射域移動台４８
はウエハホルダ４７から１００分の２、３ミリメートル
程度離間する。この段階で、ソレノイド１２３ａを作動
させて照射域移動台４８を移動台８５に固定し、照射台
４６を横移動レール１２０、１２０に沿って規定量送れ
ば、ウエハホルダ４７も照射台４６と伴に移動するか
ら、照射域移動台４８はウエハホルダ４７に対して移動
したことになる。即ち照射域が変更されたわけである。

【００８３】その後、ソレノイド１２３ａへの通電を停
止し、次いでピエゾ素子１２２ａへの給電をやめれば、
ピエゾ素子１２２ａは収縮し、照射域移動台４８はウエ
ハホルダ４７上に接地する。再び照射域移動台４８とウ
エハホルダ４７を吸着させれば、第２のプリアライメン
ト位置Ｇへの移動準備が終了する。尚、もう一組のピエ
ゾ素子１２２ｂとソレノイド１２３ｂは照射台が２回目
に回ってきた時の照射域移動に使用される。以後前述し
たのと同じ作業が繰り返される。即ち、マスクホルダ７
０を不図示の第２の粗微動装置が把持してプリアライメ
ント位置Ｇに移動し、その位置で移動台８５に乗せられ
たウエハホルダ４７と合体されてプリアライメントさ
れ、ファインアライメントの後、照射が行われる。

【００８４】照射域の移動はウエハアンロード位置Ｅに
おいても行なわれる。図４に示された１２５は照射域移
動リフトで、操作は前述したリフトと同様である。図２
２Ａにおいてチャンバ７の下面に取付けられた軸１２６
上には積層されたピエゾ素子１２７とソレノイド１２８
が積み重ねて取付けられている。ピエゾ素子１２７の伸
長でソレノイド１２８は吸着板１２４を押上げる。しか
る後図２２Ｂに示す様に照射台４６とウエハホルダ４７
そして移動台８５を縦移動レール８６に沿って移動させ
る。その結果、照射域移動台４８の位置をウエハホルダ
４７に対して変位させることができる。次にソレノイド
１２８、ピエゾ素子１２７への給電を断ち、照射域移動
台４８とウエハホルダ４７との結合を行なう。

【００８５】前述の実施例では循環路に沿って配置され
た照射チャンバ５ａと５ｂはそれぞれ固有のＸ線管を具
備していたが、１つのＸ線管から複数の方向を照射し得
る構成を具えた照射チャンバに替えることもできる。

【００８６】図２３Ａ、図２３Ｂに於いて、１１５′は
ターゲット、１１６′・１１６′は電子銃である。電子
銃１１６′・１１６′を発した電子線はターゲット１１
５′に当り、軟Ｘ線を発散する。１１４′と１１４″は
Ｘ線発散角内に配置されたソーラースリットで、その作
用は前述と同様である。但し、ソーラースリット１１
４′、１１４″の軸は傾斜しているから、照射台４６を
内向きに傾斜させた状態で走査する必要がある。

【００８７】本例では中継レール８７、８７の内、内側
のレールを中心に全体を傾斜させられる傾斜台１３０を
設け、照射台４６が横移動レール４５から中継レール８
７に乗り移った処でこれらを傾ける。走査が終了すると
再び水平状態に戻して照射台４６が次の横移動レール１
２０に乗移るのを可能にする。尚、残りのソーラースリ
ツト１１４″の下を通る搬送路も同様の構成となってお
り、これらを収容した照射チャンバをメインチャンバ１
とサブチャンバ６の間に連結すれば転写装置を構成する
ことができる。

【００８８】又、図１に示す実施例では、メインチャン
バ１とサブチャンバ６の間に１個ずつ照射チャンバを配
したが、各々２個あるいはそれ以上並べて配置しても良
い。この様にすれば走査速度を速めることが可能であ
り、あるいは仮にＸ線管の１本が故障しても、残りを使
って照射工程を続けることができる。

【００８９】更にウエハロードカセット収納チャンバ２
は外界に対してメインチャンバ１内の高真空を破らない
為のみならず、外界から搬入されるウエハ表面に吸蔵さ
れていたガスを十分に放出させるに十分な時間だけ待機
させている。しかしながら、ウエハが前工程のレジスト
塗布装置から、内部を真空に維持された大型管内を搬送
されて来るのであれば、チャンバ２は搬送管とメインチ
ャンバ内の真空度の相違を調定するために使用される
か、あるいは省略され得る。

【００９０】

【発明の効果】以上説明したとおり本発明のＸ線転写装
置及び方法においては、減圧雰囲気下において、マスク
とウエハの位置合わせ及びウエハの複数の領域へ順次露
光転写をするから、Ｘ線の減衰が小さく有効利用するこ
とができると共に、スループットの向上やウエハのプロ
セス歪み等の悪影響を受け難くなる。そして、露光転写
前にマスク又はウエハが露光雰囲気とは別の減圧雰囲気
中に置かれるので、マスク又はウエハの吸蔵ガスはここ
で放出され、従って露光雰囲気が乱されることがなく極
めて高精度な露光転写が可能となる。

【００９１】

【００９２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に従って構成されたＸ線転写装置の平面
図。

【図２】図１のＩ−Ｉ線に沿った図。

【図３】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った図。

【図４】図１のＩＩＩ−ＩＩＩに沿った図。

【図５】マスクの平面図。

【図６】マスクとウエハを重ねた状態を示した図。

【図７】ウエハ搬入装置の概略図。

【図８】ウエハハンドの概略図。

【図９】ウエハの平行平面出し機構を説明するための
図。

【図１０】ウエハ搬出装置の概略図。

【図１１】ウエハのアンロードを説明するための図。

【図１２】移動台および照射台を説明するための図。

【図１３】粗微動装置の斜視図。

【図１４】粗微動装置の詳細図。

【図１５】粗微動機構の詳細図。

【図１６】粗微動調整を説明するための図。

【図１７】マスクホルダとウエハホルダを重ね合せた状
態を示した図。

【図１８】プリアライメント用の光学顕微鏡の光学系の
概略図。

【図１９】プリアライメント用の光学顕微鏡でマスクと
ウエハのアライメントをしている状態を示した図。

【図２０】ファインアライメント用電子顕微鏡の概略
図。

【図２１】照射域移動位置Ｆにおける照射域移動を説明
するための図。

【図２２】ＡおよびＢはそれぞれ、照射域移動リフトに
よるウエハの照射域移動を説明するための図。

【図２３】ＡおよびＢはそれぞれ、１つのＸ線源によっ
て複数のマスクを照射するための構成を示した図。

【符号の説明】

１ メインチャンバ ２ ウエハロードカセット収納チャンバ ３ ウエハアンロードカセット収納チャンバ ４ マスクカセット収納チャンバ ５ａ、５ｂ 照射チャンバ ６ サブチャンバ １２ ウエハ １６ マスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 進 神奈川県川崎市中原区今井上町53番地キヤ ノン株式会社小杉事業所内 (56)参考文献 特開 昭57−169242（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−69739（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスク及びウエハにＸ線を照射すること
   によって、マスクに形成されたパターンをウエハに露光
   転写するように構成されたＸ線転写装置であって、露光使用前のマスク又はウエハを収納して内部を減圧雰
   囲気にする収納装置と、 露光を行うマスク及びウエハを内部に保持すると共に、
   前記収納装置とは独立して内部を減圧雰囲気にする露光
   装置と、 前記収納装置から前記露光装置にマスク又はウエハの搬
   送を行う搬送装置と、 前記露光装置内の 減圧雰囲気下において、複数の転写領
   域を有するウエハの該転写領域のうちの一つとマスクと
   を位置合わせする位置合わせ手段と、前記露光装置内の 減圧雰囲気下において、前記位置合わ
   せされたマスク及びウエハに対してＸ線を照射すること
   によって、前記マスクのパターンを前記ウエハの位置合
   わせされた一つの転写領域に露光転写する露光手段と、 前記ウエハの複数の転写領域の各々について、前記位置
   合わせ手段による位置合わせと前記露光手段による露光
   転写を行うように制御することで、前記ウエハの各転写
   領域にマスクパターンを順次転写する制御手段と、 を有することを特徴とするＸ線転写装置。
2. 【請求項２】 マスクおよびウエハにＸ線を照射するこ
   とによって、マスクに形成されたパターンをウエハに露
   光転写するＸ線転写方法であって、露光使用前のマスク又はウエハを収納装置内に減圧雰囲
   気下で収納する工程と、 該収納装置から、該収納装置とは独立して内部を減圧雰
   囲気にする露光装置にマスク又はウエハの搬送を行う工
   程と、 前記露光装置内の 減圧雰囲気下において、複数の転写領
   域を有するウエハの該転写領域のうちの一つとマスクと
   を位置合わせする位置合わせ工程と、前記露光装置内の 減圧雰囲気下において、前記位置合わ
   せされたマスク及びウエハに対してＸ線を照射すること
   によって、前記マスクのパターンを前記ウエハの位置合
   わせされた一つの転写領域に露光転写する露光転写工程
   と、 前記ウエハの複数の転写領域の各々について、前記位置
   合わせ工程と前記露光転写工程を行うことで、前記ウエ
   ハの各転写領域に前記マスクのパターンを順次転写する
   工程と、 を有することを特徴とするＸ線転写方法。