JPS60178627A - Ｘ線転写装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、回路が高度に集積された半導体デバイスを製
造するためのりソゲラフイエ程、特に転写工程において
使用されるＸ線転写装置に関する０回路の集積度合が高
まるに従って回路パターンを構成する線の幅はミクロン
そしてサブミクロンのオーダーが要求される様になって
来ており、これを達成するため回路パターンを転写する
ための照射エネルギーも紫外、遠紫外そして軟Ｘ線と波
長が増々短いものが使用されている０ 軟Ｘ線を使用したりソグラフイ装置Ｆｉ既に１０年以上
に渡って実用化の努力がなされているが、今日になって
も未だ実用的な半導体デバイス生産用のＸ線転写装置は
完成していない。この原因は実用化の要件である焼付分
解能、アライメント精度、スループット、装置の信頼性
、操作性、装置価格等のバランス又轄適正化が不十分な
ためであると考えられる。

しかしながらＸ線転写装置を実現するため要件をより詳
細に検討すると、問題の１つは軟Ｘ線の取扱いが可視光
あるい祉紫外光に比べて遥かに困難な点にある。周知の
通り軟Ｘ線は真空容器中で発生させなければならないか
ら、極近接もしくは密着状態に置かれたマスクとウェハ
上へ軟Ｘ＠を照射するために真空容器にべ１７　’＋７
ユウム箔の窓を通して軟Ｘ線を導出させる。ベリリュウ
ムは軟Ｘ線を吸収する比率が極めて小さいため選ばれた
ものではあるが、容器内の高真空とマスク及びウェハの
置かれた大気圧との気圧差に耐えられる様に５０ミクロ
ン程度の厚さが要求される０ベリリウム箔祉この程度の
厚さになると軟Ｘ線の吸収率が５０チにもなってしまい
不利である。

更にこれに加えて以下の様な難点が本件の発明者達によ
って注目された。第２４図は加速した電子線をターゲッ
トに照射して発生させた軟Ｘ線の強度（縦軸）とエネル
ギとの関係を示したものである。なめらかな右下がりの
曲線は連続線で、途中突出したピークが特性線である。

特性線はターゲットの材質に関係する。

ここで約４Ｋｅ■よシ小さい方の側が感材の照射に利用
されるが、破線より左側の領域はべりリュクムで吸収さ
れてしま５ため、実際に照射に利用されるエネルギは約
４　ＫｅＶの位置と破線で挾まれた領域に過ぎない。

即ち、軟Ｘ線を真空部分から取出す際に大きなエネルギ
ー損失を伴うわけである。

また別の自照の１つは発散性の軟Ｘ線でマスクを照射す
ることから生じる。マスクとウェハが極近接状態で維持
され、これに発散性の軟Ｘ線が当たる場合、もし仮りに
ウェハが傾いたとすると、マスクとウェハが近づいた部
位と遠ざかった部位ではマスク像の寸法が変化する。従
って、マスクとウェハの平行度を厳密に維持する必要は
あるが、機械的に実現するのは著しく困難である。また
、発散束で照射した場合、中心部と周辺部でマスク像の
寸法が異なる特性があるから、転写の度にマスクとウェ
ハの整合のみならず、マスクの中心とＸ線源の軸とを正
確に合わせる必要がある。

更に他の問題の１つはパターンの転写を終了したウェハ
にエツチング等の化学処理を施した時にウェハに伸縮が
起きることである。特に、最近ウェハ径の拡大化が著し
く、６インチあるいは８インチの直径のウェハに転写が
行われることが要望されており、ウェハの伸縮を無視す
ることはできない。このためパターン像に及ぼすウェハ
の伸縮の影響をできる限り少なくする必要がある。

それ数本発明の主要な目的は、Ｘ線源からのエネルギを
マスクの照射に効果的に利用することができるＸ線転写
装置を提供することにある。

本発明の他の目的は、マスクのパターンをウェハへ正確
に転写する際に不都合を及ぼすＸ線の発散性部分を除去
することができるＸ線転写装置を提供することにある。

本発明の他の目的は、−回の焼付けでパターンを転写さ
れるウェハの区域を縮小することによってパターン像に
及ぼすウェハへの伸縮の影響を可能な限り少なくするこ
とができるＸ線転写装置を提供することにある。

一方、真空中に物質を放置した場合、その物質の表面層
に吸蔵されていたガスが放出されるため真空度を著しく
損ない、あるいはＸ線発生源のターゲット部で発生した
ガスが他の部所に悪影響を与える恐れがあるが、本発明
はこの種の難点を除去することをも更なる目的としてい
る。

次に添付の図面を参照して本発明の好ましい実施例を説
明する。第１図は本発明に従って構成されたＸ線転写装
置を全体的に示した図である。このＸ＃！転写装置は、
メインチャンバ１と、メインチャンバｌの両側にそれぞ
れ配置されたウェハロードカセット収納チャンバ２およ
びウェハアンロードカセット収納チャンバ３と、同じく
メインチャンバｌの片側にウェハアンロードカセット収
納チャンバ３と並んで配置されたマスクカセット収納チ
ャンバ４と、照射チャンバ５ａ、５ｂと、サブチャンバ
６とから構成されている。

メインチャンバ１は、両側にロード用収納チャンバ２お
よびアンロード用収納チャンバ３がそ九ぞれ連結されて
いるｍｌのメインチャンバ部′＋７と、マスク用収納チ
ャンバ４が片側に連結されている第２のメインチャンバ
部分８とから構成されている。第１のメインチャンバ部
分７とロード用収納チャンバ２およびアンロード用収＜
１’ｌチヤンバ３の各々との連結部、並びＫｐｐ。

うに構成されている。

＃判真空状態を維持できるように構成されており、又両
者の間には都合に応じて各チャンバをお互いに隔離する
ための仕切弁９が配置されている。例えば照射チャンバ
５ａ、５ｂ内のＸ線管球を取り替え又は修理等の必要が
生じた場合には、仕切弁９を閉じてから作業をおこなう
ことにより他のチャンバｌ、６内の真空状態を維持する
ことができる。これにより作業後Ｘ線転写装置の作動を
再び開始する前に照射チャンバ５ａ、５ｂだけを排気す
れば良く、必要な排気空ポンプ（図示せず）と各チャン
バを接続するための管１０が取り付けられている。

ここで前述したチャンバ内に収容されている装置、１し
びにチャンバ内で行なわれる作業を主要なものについて
第２図、第３図および第４図を参照して概略的に説明す
る。第４図に示されているようにウエノ・ロードカセッ
ト収納チャンノ（２には、Ｘ線転写装置によって回路パ
ターンを転写するためにＦめ面上にフォトレジストを塗
＜ｔｉされた複数枚のウェハ１２を収納したカセット１
３をｊｌｅ、　Ｒさせるだめの装置が設けられている。

この装（預はカ七ツ）１３を上下方向へ昇降させること
ができ、複数枚のウエノ・を７ｆ、ｔのメインチャンバ
部分７内へ順次搬入するのに寄与する。

ｌｌＬ　１のメインチャンバ部分７内には、チャンバ２
内のカセットＩ３からウエノ・を一枚ずつチャンバ７内
へ搬入するだめの搬入装］ｄがチャンバ２に近接して配
置されている。史にメインチャンバ部分７の長さ方向中
央イ；Ｊ近にはウエノ・のＩＶ・行・拍面出し装置が配
置されており、ここで照射台ヒに支持され〆こウェハホ
ルダの基準面に対してウェハの表面が平ｒテになるよう
にウエノ・の（１γ１滲を、凋甲乏し固定する。又ウェ
ハアンロードカセット収納チャンバ３に近接した第１の
メインチャンバ部分７内の位置には、ウェハの全面に回
路パターンを転写する工程を終了したウェハを、チャン
バ３内へ搬出するだめの搬出装置が設けられている。

ここでチャンバ３にはチャンバ２と同じく、ウェハを収
納するカセツ）１４を載置させるだめの装置が配置され
ている。この装置はカセツ）１４を上下方向へ昇降させ
ることができ、照射作業を終えたウェハを一枚ずつカセ
ツＨ７Ｃ収容するのに寄与する。

次に第３図を参照してマスク収納チャンバ４および第２
のメインチャンバ部分８に関連した主要な装置４、作業
について説明する。マスク収納チャンバ４はその内部に
マスフカセラ）１５を有し、一方このマスクカセット１
５内にハ複数のマスク１６が保持されている。更に転写
工程に従って複数のマスクのうちの任意のマスク】６を
マスク取り出し位１σへ割り出すためにマスクカセット
１５を回転させる装置も設けられている。

第２のメインチャンバ部分８内にはマスクチ　。

ヤンバ４に近接した位（６に、マスクをカセットから１
反り出すあるいはマスクをカセットへ戻すときに使用さ
れるマスク（多動装置が配置されている。そして第２の
チャンバ部分８の内部上方にはマスクボルダ−を保持す
るだめの上下１１ｉ１＋　ｉｆ能なマスクハンドラがあ
る。第２のチャンバ部分８の長さ方向中央付近上部には
マスクとウェハの粗い位置合わせを行なうためのプリア
ライメント用光学顕微鏡１７が取り（＝Ｊけられている
。

一方第２のチャンバ部分８の上部にはプリアライメント
用光学顕＃鏡１７と近接した位置に、マスクとウェハの
精密な位１６合わせを行なうだめのファインアライメン
ト用１毬子顕微鏡１８が取り付＆Ｊられている。更に第
２のチャンバ部分８の内側にはチャンバ部分８の長さ方
向に亘って４．８動できる徂微動装置が配置され、プリ
アライメントおよびファインアライメントの１祭にはの
位置を移動させる。

サブチャンバ６に関連した主要な装置および作業につい
ては、マスクをカセットから取り出すあるいはマスクを
カセットへ戻すときに使用されるマスク移動装置を有し
ていない点を除き。

第２のメインチャンバ部分８に関連して上述した説明と
同様である。

第２図に示されているとおり照射チャンバ５　ａ　＋５
ｂは内部にＸ森管球を有しており、マスクおよびウェハ
は台にのせられてこのチャンバを通過するとき移動しな
がら照射される。このときマスクのパターンはウェハに
転写される。

ここでウェハを４つの照射区域に分割した場合を例にと
って、Ｘ、％１転写装置の全体的な作動を概略的に説明
する。

第５図にはマスク１６の平面図が示されているが、この
マスク１６はＸ線透過性の基板に回路パターン２０およ
び一組のアライメントマーク２１をＸ線非透過性物質に
よって形成したも破線２２．２３によって照射区域を４
つに分割されている。照射は４つに分割されたウェハの
照射区域のうちの一つとマスク１６とを重ね台わせた状
態で行なわれ、従ってウェハの全面を照射するために照
射工程を４回実施しなければトマーク２４．２５．２６
は各照射区域に一組ずつ形成されている。

このようにアライメントマーク２４　、２５　、２６　
’ｃ影形成れたウェハ１２はウェハロードカセット１３
に複数枚重ねて収容されている。ウェハ１２は搬入装置
によってチャンバ７内へ一枚スつ引き取られた後、ウェ
ハのオリフラ部２７が所定の方向を向くように位１６調
整される。次にウェハを照射台上に支持されたウェハホ
ルダ内へ移ようにウェハ１２の位１４を１整する。その
結果ウェハホルダに載せられるマスクホルダにょっここ
でウェハを載せた照射台を第２のチャンバ部分８の中央
部プリアライメント位置へ移動させる。

一方、マスクカセット１５から取り出され、マスクハン
ドラによって挾持されたマスクボルダ−に固着されたマ
スク１６は、粗微動装置によってマスクハンドラからマ
スクホルダとともに受け取られる。粗微動装＃はマスク
ボルダをプリアライメント位置に時期している照射台上
のウェハホルダ上へ持っていき両者を重ね合わせる。こ
仁でマスク１６とウェハ１２の第１の照射域との粗い位
置合わせを行ない、続いて一／ｄ精密軽位置合わせを行
なうために隣接したファインアライメント位置へ照射台
を移動させる。

このようにして精密に位置合わせされたマスク１６とウ
ェハ１２は照射台に乗せられて照射チャンバ５ａ内へ移
送され、Ｘ線にょっ゛て走査照射される。なおこのとき
ウェハ１２け第１の照射域以外が照射されるととのない
ように、′Ｍｃ２、第３および第４の照射域は遮へいさ
れている０ 照射台が照射チャンバ５ａを通過してサブチャンバ６へ
移送されたところで、ウェハの照射域を切り換える。照
射域の切り換え操作によってマスクとウェハの第２の照
射域とを重ね合わせ／こら、照射台をプリアライメント
位置およびファインアライメント位１丘へ順次移動させ
る。

これによってマスクとウェアの第２照射域との狙い位置
合わせおよび精密な位置合わせがおこなわれる。

次に＋ｍ述し／このと同様にマスクとウェハは照射台に
のすられて１ｉｆｔ射チヤンバ５ｂ内へ移送され、Ｘ線
によって短連照射される。このとき第１、ｆ：４↓３お
よび第４の照射域は遮へいされており、第２の照射域以
外が照射されることはない。

照射台が照射チャンバ５ｂをＪ１１１過して第２のメイ
ンチャンバ部分８へ移送されたところで、ウェハの照射
域を再び切り喚える。このようにして前述の操作を繰り
返し、ウニノーの第３および第４の照射域も照射し終わ
り、ウェハ全面の照射が完ｒしたら、第２のメインチャ
ンバ部分８から第１のチャンバ部分７へ照射台を移動さ
せる。そしてウェハの全面に回路パターンを転写された
ウェハ１２は、搬出装置によってチャンバ３内のウェハ
アンロードカセット１４に一枚ずつ収容される。なおマ
スク１６の交換の必要があればマスク移動装置によって
マスクをカセット１５へ戻し、別のマスクをカセットか
ら取り出すことができる。

以上一枚のウェハの照射処理について説明しだが、本発
明のＸ線転写装置におりては、複数の照射台を使用して
複数枚のウェハ１２を平行して照射処理することができ
る。

続いて前述したＸ線転写装置の全体的な作動を−ｊ―明
確に理解するため１重要な項目について以下に詳細に説
明する。

（１１ウェハのロード、平行平面出しおよびアンロード
第４図に示されているように第１のメインチャンバ部分
７０両側部Ｋ、ウェハロードカセット収納チャンバ２お
よびウェハアンロードカセット収納チャンバ３がそれぞ
れ連結さハ１２を収容したウエノ・カセット１３を載置
するための台３０が設けられており、この台３０は昇降
装置１３１によって支持されている。

台上は支持されたカ七ツ）１３は、ウェハを第１のメイ
ンチャンバ部分７内へ一枚ｃつ搬入したらその都度順次
垂直方向Ｆ方へ昇降装置附３１によって降ドされる。

カセット１３から第１のメインチャンバ部分７内へのウ
ェハの搬入は第７図に示されたウェハ搬入装置３２によ
って行なわれる。搬入−Ｊｋｉｔ３２は、ウェハ１２を
Ｌ面に載せてカセット１３から引き出す台３３およびこ
の鈴３３をガイド３４に沿って水平方向へ摺動させるだ
めの摺動部３５を有している。台３３上に載１道された
ウェハ１２は、摺−動部：！５を移動させることによっ
てウェハ押上げ装置３６の上方まで移される。押上げ装
置３６は５回転可能なウェハ支承面３７およびこの面か
ら一段下がった位ｉｆ　Ｋ取り付けられたオリフラ検出
器３８を有している。ここで押上げ装置３６を駆動させ
てウェハ支承面３７を上昇させ、との支承面３７によっ
て台３３からウェハ１２を受けとる。このときウェハ１
２の位置は、オリフラ検出器３８を使用しオリフラ２７
を所定の方向に向けるように支承面３７を回転させて位
置決めされる。

押し上げ装置３６を駆動させて、上昇した位置に面３７
によって支承されたウェハ１２は、第８図に示されたウ
ェハハンド４０によって周囲を挾持される。このハンド
４ｏけ、ガイド４１に沿って摺動する摺動部４２に連結
されており、又同じく上下動可能な上下シリンダー４３
にも連結されている。

ハンド４０はウェハ支承面３７上方の位置まで摺動部４
２をガイド４１に沿って摺動させることにより移動し、
この位置で上下シリンダー４３を作動させることにより
降下させられる。そしてハンド４０はウェハ１２を支承
面３７から受けとっだ後再びシリンダー４３を作動させ
て上昇し、同じく摺動部４２をガイド４］Ｋ沿ってイ多
動させること姉より、ウェハの平行平面出し位置４４（
第４図）まで動かされる。

この平行平面出し位置４４には、レール４５゜４５に沿
って移動する照射台４６が時期している。第９図に示さ
れている様にこの照射台４６にはその上面にウェルホル
ダー４７が取り（＝Ｊけられており、一方ホルダー４７
の内部にはその底面から上方に向かい順次、ビｆｉわ照
射１ｊｌｊ移動台４８、球面座４９、ウェハチャック５
０が配置されている。

照射台４６およびホルダー４７の底部にはピエゾ素子５
１を挿通させるための開口５２゜５３がそれぞれ形成さ
れている。この開口５２゜５３は好ましくは３個形成さ
れる。ピエゾ素一方チャック５０の底部には棒状突起５
５が保持されており、開口５２．５３を通してホルダー
４７内へ挿通された素子５１の上端と当接するようにな
っている０又球面座４９はチャック５０に固定されてお
り、その周囲には球面座４９の位置を固定するためのピ
エゾ素子５６が当接している。

平行平面出し位置４４にはメインチャンバ一部分７の上
面に設置された昇降装置５７によって上下動するキャリ
ブレータ−５８が配置されている。このキャリブレータ
−５８は底板５９を有し１底板５９蹟はギャップセンサ
−６０挿通用開口６１およびチャック賦勢段６２挿通用
開口６３が形成されている。

ここで前述したように平行平面出し位置４４までハンド
４０によって運ばれたウェハ１２は、同じく位置４４に
時期しているウェハホルダー４７とキャリブレータ−５
８との間に位置することになる。次に上下シリンダー４
３を作動させてウェハハンド４０をチャック５０へ向け
て降下させ、ウエノ・がチャック５０の上面付近に達し
たらノ・ンド４０を作動させてウェハを解放し、チャッ
ク５０の面上に載せる。ウェハ１２は静電方式によって
チャック５０に固着される。

ハンド４０はウェハ１２をチャック５０へ受け渡した後
上下シリンダー４３の作動により上昇し、摺動部４２を
ガイド４１に沿って移動させることによりチャンバ２の
方向へ移される。

このようにしてチャック５０の上に固着されたウェハ１
２の平行平面出しの機構について説明する。まず昇降装
置５７を作動させてキャリブレータ−５８をその底板５
９の下面がホルダー４７の上端基準面６５と当接するま
で降ドさせる。

次に素子支持台５４を駆動してピエゾ素子５１を開口５
２，５３を通して上昇させ、棒状突起５５の下端面を突
きあげる。仁のときギャップセンサー６０を用いて、ウ
ェハ１２の上面とホルダー４７の上端基準面６５との間
隔を測定する。測定の結果に応じて素子５１の上下微調
整をおこない、ウェハの平行平面出し作業が終わったら
、素子５６を作動させて球面座４９の周囲に突き当て球
面座４９、従ってチャック５０の位置を固定する。

かる後ホルダー４７をのせた照射台４６は、駆動装置（
図示せず）を作動させる仁とによりレール４５．４５に
沿って平行平面出し位置４４からプリアライメント位置
へ移動する。

次に照射を終了したウェハのアンロードについて説明す
る。ウェハアンロードカセット収納チャンバ３にはウェ
ハロードカセット収納チャンバ２と同じくウェハを収納
するカセツ）１４を載置するための台３０が設けられて
おり、この台３０は昇降装置３１によって支持されてい
る。台３０上に支持されたカセット１４は、第１のメイ
ンチャンバ部分７からウェハを収納した後垂直上方へ昇
降装置３１によって順次上昇される。

第１のメインチャンバ部分７からカセット１４へのウェ
ハの収容は、第８図に示されたのと同じ構成を有するウ
ェハハンドおよび第１０図に示されたウェハ搬出装置６
６を使用することによっておこなわれる。装置６６は、
台６７および摺動部６８を有している。

第１１図に示されているように照射を終ｒした照射台４
６上からマスクホルダー７０をホルダーハンド７１によ
って取り除いた後、照射台４６はレール４５．４５に沿
ってウェハハンドに向かって進み停止する。ここでハン
ドによってウェハチャック５０上に載置されたウェハ１
２の周囲を挾持し、ウェハ搬出装置１１ｉ６６の台６７
上へ移し代える。台６７上にウェハをのせた状態で摺動
部６８はガイド６９に沿ってチャンバ３内のカセット１
４に向かつて進む。以上の手順を繰り返すことにより照
射を終えたウエノ・は順次アンロードカセット収納チャ
ンバ３内のカ七ツ１−１４に収容される。

（２）　マスクのロードおよびアンロード次にマスクの
ロード、アンロードを第３図および第１１図を参照して
説明する。

マスクカセット収納チャンバ４内へ収納されたマスクカ
セット１５ａ、１５ｂを、カセットふたあけ装置７２を
作動させてカセツ）１５の下ぶた１５ｂを降下させる。

カセツ）１５は上ぶた１５ａと下ぶた１５ｂを組み合わ
せた構成を有し、その内部に複数のマスク１６を上ぶた
１５ａ側に磁力で保持している。

マスクの上ぶた１５ａけ回転装置１７４を駆動する仁と
により回転可能であり、前述した複数のマスク１６のう
ち所望のものを取り出し位ｌｊｉ％収納位置へ割り出す
ことができる。

チャンバ４の排気は、チャンバ４ふた７５とによって行
なわれる。チャンバ４内の真空度がノブ「定の値に達し
たら、閉じていたスライド弁７６をあけてマスク移動部
材’ｋｉ２のメインチェンバ一部分８側よりチャンバ４
内へ伸通させる。マスク移動部材の先端には、カセット
の上ぶたｌ　５ａ　１ｋｌｌｌ　Ｋ　ｍ力で保持された
マスク１６を引き出すつめが形成されている。

向かつ一〇マスク移動部材を引込め、マスク１６をチャ
ンバ４内からメインチャンバ部分８内のマスクステージ
７７へ移動はせる。

マスクステージ７７には、マスク１６を保持するだめの
マスクハンドラ７８およびマスクの位１ａを「ｙ＜知す
るためのマスク位置センサ７９、（にはマスクハンドラ
７８によって保持されたマスクをその状〃、鴫で４に直
上方へ押し上げるだめのマスク押し上げ装置８ｏが設け
られている。　特開昭ＧＯ−１７８Ｇ２７　（８）マス
クハンドラ７８け移動部材上に載せられてステージ７７
に位置したマスクを保持し、又一方センサ７９によりマ
スクの位置を検知した結果に応じてマスクの位置ぎめを
おこなうべく回転することができる。

このようにしてマスクの正確な位置決めが終了したらマ
スクハンドラ７８によってマスク１６を国ミ保持し、　
′ 押し上げ装置８０を作動さ せて、マスクハンドラ７８を垂直上方へ移動させる。

ここでセンサ７９は水平方向に移動でき、マスクの位置
を検知する際にはハンドラ７８によって保持されたマス
クの上方に位置し、マスクの正確な位置ぎめが終了した
後には再びもとの位置へ引込み、マスクハンドラ７８の
垂直方向への移動にあたって障害とはならない。

マスクステージ７７の垂直上方にはマスクホルダーハン
ド７１が配置されている。このマスクホルダーハンド７
１は、マスクホルダ７０を両側からはさみつけるための
当接部材８１．８１と、マスクホルダ７０を当接部材８
１゜８１の間にはさみつけた状態で上下に移動させるだ
めの軸部材８２．８２とから構成されている。この軸部
材８２．８２はメインチャンバ一部分８の上部拠設置さ
れた昇降装置８３によって上下動させられる。又当接部
材８１゜８１は軸部材８２．８２に対して回動自在に連
結されており、照射を終了して送られてくるマスクホル
ダー７０を受けとる際に回動して、いったんホルダー７
０を一方の当接部材８１に対して当接する位置まで通過
させる。しかる陵、前述のとおり回動じてマスクホルダ
７０の移動径路から離れていた当接部材８１を、ｔすび
回動させてホルダ７０を２つの当接部側８１．８１によ
って挾持する。

このようにしてハンド７１によって挾持されるマスクホ
ルダ７０には、マスクハンドラ７８によって保持された
状態で垂直上方へ移動してくるマスクを部分的に収容す
るための開口部８４と、マスクを磁力で保持するために
底部に埋設された磁性体とを有している。

従ってハンドラ７８によって保持された状態でマスク押
し上げ装［８０によって垂直上方へ移動してきたマスク
は、マスクホルダ７０によって保持され、一方ハンドラ
７８はマスクを解放して後マスク押し上げ装置８０の作
動により垂直丁方へ降下する。

次に前述したのとは反対にマスクホルダ７０によって保
持されているマスク１６をマスフカセラ）１５内へ収納
する手順について説明する。

まず押上げ装置８０を作動させてマスクハンドラ７８を
マスクホルダ７０の下側に保持されているマスク−１６
の近傍まで移動させる。

そしてハンドラ７８を作動させマスクの周囲を挾持させ
る。ここでホルダ７０の底部に設けられた磁性体を消磁
する。このようにしてホルダ７０からマスクを引きはな
してから押上げ装置８０を駆動させて、ハンドラ７８に
よって挾持した状態でマスクを垂直下方に移動させる。

次にマスク移動部材の先端に形成されたつめによって、
ハンドラ７８により挾持されマスクステージ７７に位置
しているマスクを受けとる。このときつめがマスクを受
けとったらハンドラ７８を作動させてマスクからはなれ
るようにする。この後マスク移動部材をチャンバ４内へ
挿通するように移動し、カセッ）１５の上ぶた１５ａと
Ｆぶた１５ｂの間に先端を位置させる。ここでカセット
の上ぶた１５ａに設けられた磁性体を使ってマスク移動
部材の先端に位置したマスク１６を上ぶた１５ａの下＋
Ｍに吸着、保持する。

（３）照射台および移動ｆ″！ ｉ：ｌＷ　１２図を使って移動台および照射台を説明す
る。図中、８５は移Ｒｉｂ台で、縦移動レール８６，８
６．ｈを不図示の駆動装置により自由忙移動する。縦移
動レール８６．８６は移動台８５がファインアライメン
ト位置人とマスク着脱位置Ｃを移動できる長さ釦なって
いる。

移動台８５上には横移動レール４５．４５が固設され、
横移動レール４５．４５上を照射台４６が自由に移動す
る。横移動レール４５．４５の一端は、照射台４６がフ
ァインアライメント位置ＡＫ在る時、中継レール８７．
８７に接続され、他端は、照射台４６が横移動レール上
を移動した時、ウェハロード位置りおよびウェハアンロ
ード位＋ｖｔ　Ｅを占める様に決められている。即ち、
移動台８５がプリアライメント位置ＢＫ在り、その位置
から照射台４６が横移動レール４５．４５上を移動する
とウェハロード位置ＤｌＣ達することができる。又移動
台８５がマスク着脱位置ＣＫあり、その位置から照射台
４６がレール４５．４５を移動するとウェハアンロード
位置ＥＶｃ達する。照射台４６上にマグネットチャック
で保持される部材４７はウェルホルダで、正方形の窪み
が設けられており、照射域移動台４８が挿み中を移動し
くする。ウェハホルダ４７と照射域移動台４８の相対移
動については後述する。台４８上にはウェハチャック５
０が設けられていて、ウェハをチャラギングする。

第６図（Ａ）Ｓ動台８５と照射台４６の」三方にはｇｊ
　１３図に示す横方向に移動可能な粗微動装置８８が配
置σされる。この粗微動装置８８はマスクとウェハをア
ライメントするために使用するもので、横移動レール８
６．８６と平行に設けられた別の横移動レール８９．８
９ｔＣ案内されて移動する。

第１４図は＋１４微動装置８８のｉト細を描いている。

９０は粗微動枠で、横移動レール８９゜８９が１通する
梁から４ケ所で釣り下けられ、両者の間には衝突エネル
ギー吸収用圧縮バネが挿入されていて枠をＦ方で固定し
ている。

そして枠の内Ｉ＄にマスクホルダ７０とウェハホルダ４
７が不図示の移動台押上げ４ｍ構（詐細は後述）で押上
げられて進入する。粗微動枠９０の外側には積層された
ピエゾ素子で支えられた粗動機構９１ａ、９１ｂ等が設
けられており、粗動機構９１ａ・・・のブツシュロッド
９２ａは枠９０の内部へ突出している。粗動機構１ ９１ａは第１５図に示されているように精動モータ９３
ａの回転力が例えばラック・ビニオンの組合せによりブ
ツシュロッド９２ａの直線移動に変換される構造となっ
ている。ブツシュロッド９２ａの軸承は、７字カットの
なされたブロック９４ａとブツシュロッド９２ａを上側
から押圧する片持ち状の板バネ９５ａから形成さ　〜れ
ている。板バネ９５ａは更にピエゾ素子棒９６ａで加圧
される構成となっており、ピエゾ素子棒９６ａ　Ｋ通電
されると、ブツシュロッド９２ａは板バネ９５ａを介し
て押圧され、ブロック９４８　Ｋクランプされる。９７
．９７は積層されたピエゾ素子で、粗動機構９１ａを微
小量前後させる機能を持ち、一端は粗動機構９１ａ　Ｉ
ｃ同定され、他端は粗微動枠９０の外部処固定される。

又以上と同様の粗動機構９１ｂ・・・が積層されたピエ
ゾ素子で粗微動枠９０の外部に固定される。

次に第１６図を使って＋ｌ−を微動調整について説明す
る。図中、９２ａ〜９２ｅは粗微動枠９０の上段から突
出したブツシュロッドでマスクホルダ７０に当接し、９
２ｆ〜９２ＪはＦ段から突出したブツシュロッドでウェ
ハホルダ４７に当接する。即ちブツシュロッド９２ａ　
＋！＝　９２ｂけマスクホルダ７０の一辺に当接し、そ
の対辺にはブツシュロッド９２ｄが当接してマスクホル
ダ７０を挾持し、左右の辺には各々９２Ｃと９２ｅが当
接して挾持する。ウェハホルダ４７モ同様にブツシュロ
ッド９２ｆとブツシュロッド９２１１と９２１が対向し
、又ブツシュロッド９２ｇとブツシュロッド９２Ｊが対
向しで挟持する。

例工ばマスクホルダ７０のｘ、　ｙ、θの調整をする場
合、Ｘ方向の調整ではブツシュロッド９２Ｃと９２６を
若干緩めてブツシュロッド９２ａと９２ｂの組及びブツ
シュロッド９２ｄを相互に押出し、引き込むことで実現
する。その際、初期状態では粗動モータ９３ａを駆動し
てブツシュロッド９２ａを前後させて粗い調整を行った
後、ピエゾ素子棒９６ａを駆動しブツシュロッド９２ａ
をクランプする。次いで積層されたピエゾ素子９７へ通
電すると粗動機構９１ａ全体が微細に前後してマスクホ
ルダ７０の位置を精密に位置決めすることができる。ま
たＹ方向の調整ではブツシュロッド９２ｅとブツシュロ
ッド９２Ｃを相互に押し引きして位置決めすることがで
きる。

一方、θ方向の調整の際はブツシュロッド９２ｃと９２
ｅを若干緩め、ブツシュロッド９２ａとブツシュロッド
９２ｂの突出量を変えればブツシュロッド９２ｄの先端
を中心にマスクホルダ７０は回転するととになる。ウェ
ハホルダ４７についても上述と同様の操作で位置調整が
可能である。

（４）　プリアライメントおよびファインアライメント
第１２図へ戻ってプリアライメント及びファインアライ
メントの説明を行う。まず、マスク着脱位置Ｃで、マス
クを装着されたマスクホルダ７０を粗微動装置８８に取
付ける工程が行われる。そのためマスクホルダー・＼ン
ド７１を一旦）′降させた陵、租做動装は８８をマスク
着脱位置Ｃまで移動させて、粗微動装置８８をマスクホ
ルダ７０の上方に整合させる。次いでマスクホルダーハ
ンド７１をヒ昇させてマスクホルダ７０を粗微動装置１
１８８の粗微動枠９０にはめ込み、各ブツシュロッド９
２ａ〜９２ｅを突出させてマスクホルダ７０を挾持する
。

一方、ウェハロード位置りでウェハチャック５０にウェ
ハが装着され、また前述の平行平面出し工僅が終了する
と、照射台４６は横移！助し−ル４５．４５上を移Ｊ助
してプリアライメント位置Ｂに位置する。この時、粗微
動装（樅８８は縦移動レール８９．８９（第１３図）に
沿って移動し、プリアライメント位１σＢで停［ヒし、
ウェハホルダ４７と整合される。

第３図に示された照射台押上げ機構９８で。

移動台８５の中央に開けられた図示されない開口を通し
て３本の爪をもつ押上げ棒で照射台４６を押上げ、照射
台４６の基準面４６ａ。

４６ｂを粗微動装置の枠９０の基準下面に押付けて高さ
を定めるとともにイコライジングを行う。

第１７図はマスクホルダ７・０とウェハホルダ４７を図
示されない静電チャックで結合した様子を描いており、
前述した通９ウェハ表面の平行平面出し及びウェハホル
ダ４７の上端面６５（基準面）からの間隔決定が成され
ているから、マスクホルダ７０の下端面（基準面）と正
確に当接させればマスク１６の下面とウェハ１２０表面
は数ミクロン程度の間隔を置いて極ぜｔ接設定される。

ここで照射台４６とウェハホルダ４７間のマグネットチ
ャック９９は解除され、第１６図を使って前述した操作
に従ってマスクとウェハのアライメントが行われる。

ウェハ上のアライメントマークは、ウエハを有効Ｋ　：
、ｌ−！Ｉ用するためにスクライプ線上に配置されるが
、一方、マスクとウェハの最終アライメントは０．１ミ
クロンあるいはそれ以上の精度が要求されるため、本例
では走査型電子顕微鏡を使用して実現される。従って、
アライメントを行う際に電子線でウェハ上のアライメン
トマークを走査することになるが、もし電子線がスクラ
イプ線幅より大きく振れると実素子の形成される領域を
照射する不都合がある。従って、アライメントマークを
占有の区域に配置する場合、あるいは機械的初期設定精
度に比べて実素子間隔が大きく取れる用台を除けば、マ
スクとウェハのアライメント度合を１０ミクロンオーダ
ーの誤差に追い込んでおくのが望ましい。

第１８図およびｄ４　ｔ　９図はダリアライメント用の
光学顕微ｇ１１７の構成を概略的に示した図である。こ
の光学顕微＠ｌ　７は、マスク１６のアライメントマー
ク２１．２１を検知する２本の顕微鏡と、ウェハ１２上
のアライメントマーク２６．２６を検知する２本の顕微
鏡とから構成されている（第１８図では各々１つのみ図
示）ｏ４本の顕微鏡はそれぞれ対物レンズ系１００．結
像レンズ系１０２．ＴＶ撮像装置１０３を有している。

前述したようにマスクホルダ７０とウェハホルダ４７は
粗微動装置ｉ８８によってそれぞれ独、立に位置調整が
おこなわれ、′−／スク１６のアライメントマーク２１
．２１とウェハ１２のアライメントマークは目盛板１０
１の基準マークに合わされる。マスクとウェハのプリア
ライメントが終了するとマスクホルダ７０とウェハホル
ダ４７は靜′シチャックによって一旦結合され、粗微動
装置８８のブツシュロード９２８〜９２ｊケマスクホル
ダ７０とウェハホルダ４７から離れてこれらを解放する
。続いて照射台押上げ機構９８の押上げ棒は下降し、照
射台４６を移動台８５上に接地させる。

ここで移動台８５が照射台４６をチャックすると、移動
台８５はファインアライメント位置Ａまで移動する。そ
の際、粗微動装置８８もファインアライメント位置Ａに
移動しており、フーアインアライメント位置Ａの照射台
押上げ機構１０４が作動して照射台４６を押上げる。押
上げ機構１０４は例えばカムにより上下する構造を採用
するのが好ましく、そうすれば最も上昇した位置で加速
度が零になるからマスクホルダ７０とウェハホルダ４７
が急激に衝突することは避けられる。

粗微動装置〃８８のブツシュロッド９２８〜９２ｊが再
びマスクホルダ７０とウェハホルダ４７ヲ把持し、マス
クホルダ７０とウエノ・ホルダ４７間及びウエノ・ホル
ダ４７と照射計４６間の固着用磁力が消去されると、フ
ァインアライメント用電子顕微鏡１８によるアライメン
トマークの検知が行われる。

第２０図にファインアライメント用日り子顕微鏡１８の
概略図を示す。ファインアライメント用電子顕微境１８
は独立に作動する４本の走査型電子顕微鏡を有し、この
うち２本はマスク１６のアライメントマーク２１．２１
を検知し、他の２本はマスクホルダ７０の窓１０５を通
してウェハ１２のアライメントマーク２６．２６を検知
する（第２０図には各々１本のみ図示）。なおこの窓１
０５は照射チャンバ５ａ、５ｂでウェハを照射するとき
には閉じられるよう罠なっている。

１０６は電子銃で電子ビームを発生する。１０７はコン
デンザーレンズ、１０８４”ｉ：対物レンズ。

１０９は２次元方向に電子ビームを振る静電偏向機であ
る。二次元走査電子ビームは基準プレート１１０のスリ
ットを１１シてマスク１６おは反射成子検出器Ｉｌｌ　
Ｋよつ−Ｃ検出され、この検出信号に基いてマスク、ウ
ェハのアライメントマークが基準プレート１１０のスリ
ット中央に位置す０るよう忙移動される。

この際も、粗微動装置８８のブツシュロッド９２ａ〜９
２ｊがマスクホルダ７０及びウエハホルダ４７の位置を
規制し、各アライメントマークが夫々対応する亀子顕微
鏡の軸に一致させられ、ファインアライメントが終了す
る。

マスクとウェハのファインアライメントが微動装置ｉ８
８のダッシュロッド９２８〜９２ｊはマスクホルダ７０
とウェハホルダ４７かう離れてこれらを解放する。ウェ
ハホルダ４７と照射台４６のチャッキングもおわったら
照射台押上は機構１０４の押上げ棒は丁降し、照射台４
６を移動台８５上に接地させ両者をチャックする。

（５）照射 次に第１図と第２図を便って照射部を説明する。照射部
は他から独立した真空チャンバ中に設置されており、メ
インチャンバ１．サブチャンバ６とは気密仕切弁９，９
とベローズ様の自在継手１１２．１１２を介して結合さ
れている。仕切弁９は、１丘常゛開放されているが、例
えば照射部内を修理する必要がある場合、メインチャン
バ１等の他のチャンバの真空を）　１１４ａ、　１１４
ｂから成り、Ｘ＃ＭＷｌ１３は第２図の部面に垂直に延
びたターゲラ）　１１５とその両側斜め上方に配された
長い電子銃１１６゜１１６そし７て偏向板１１７から成
る０偏向板１１７／ｆｉ電子銃１１６．１１６で発生し
た電子線を偏向させてターゲラ）　１１５の底部へ誘導
する機能を持つ。尚、電子銃とターゲットの長さは照射
されるマスクの幅より若干長くなる様に決定されている
。

１１４ａと１１４ｂはそれぞれソーラースリットで、タ
ーゲラ）　１１５から発生した放射状軟Ｘ線の内、平行
な成分を取り出すコリメータの作用を持つ。このソーラ
ースリットは、例えばミリメーター・オーダーの厚さを
持ち。

１０ミクロンオーダーの微細穴を無数に具えたガラスあ
るいは金属板で、発生した軟Ｘ４Ｉ束の内、微細穴を通
過する平行成分以外の成分を遮断する。ソーラースリッ
トは平行の度合に応じて複数個配置され、高解像力が便
求されるマスク程平行性の良い軟Ｘ線で照射する様にし
、あまり高い解像力が要５にされないマスクを使用する
扇合は多少平行度を落しても照射部の増加を計り、照明
時間の短縮を計ることができる。１１８はソーラースリ
ットの切替機構で、ハウジングの外から、高い平行度の
軟Ｘ線か得られるソーラースリットｌ　１４ａと通常の
平行度の得られるソーラースリット１１４ｂを真空を低
下させることなく切替えられる様にしている。

次に８７は第１２図に描いた中継レールで、仕切弁９と
９の内側で延びており、照射台４６がウェハホルダとマ
スクホルダを栄せた豊ま定速で８＠するのに役立つ、つ
まりマスクとウェハは極近接状態に保持されたまま、図
］ｎｉに垂直な方向へ延びた軟Ｘ線の平行束を横切−−
Ｊ＝　ａ−−＞　１−−１−１１−　、ｘ　＋ｋ　７二
り１．へ、−一。

射される。

（６）　照射域移動 照射が完了すると照射台４６は照射域移動位１１　Ｆへ
向う。第１２図に示す様にもう一つの移動台８５が配置
されており、縦拶動レール１１９．１１９上を移動し得
る様になっている。

移動台８５の上には横移動レール１２０．　１２０が設
けられており、移動台８５が移動すればそれと共に移動
する。これら部材は気密性のサブチャンバ６内に収納さ
れている０このサブチャンバ６には池にプリアライメン
ト装置およびファインアライメント装置等が設けられて
おり、マスクやウェハの着脱部を除けばメインチャンバ
ｌと類似の構造になっている。

第１２図の第２の移動台８５は、照射台４６が中継レー
ル８７．８７の端末に来た時、これらレールの延長上に
横移動レール１２０．１２０が整列する位置に静止して
いる。７１は第２のマスクホルダーハンドで、前述した
マスクホルダーハント”　Ｊ−ＩＮＩ　ｊｍ　Ｖマス々
衆ルｉ゛７０を把持し、ウェハホルダ４７から持ち上げ
る機能を持つ。

照射域移動台ｆｔｆｆ１　Ｆには第２のマスクホルダー
ハンド７１の池に照射域移動リフトが配置されている。

第２１図において照射台４６゜横移動レール１２０．１
２０　、　＃動台８５．縦移動レール１１９，１１９は
前述の４りである。これに対し第２の移動台８５には中
央に開口があり。

その部分に凹状の取付具１２１が設けられている。そし
てこの取付具１２１には積層されたピエゾ素子１２２ａ
と１２２ｂが取付けられており、その上部には更にソレ
ノイド１２３ａと１２３ｂが夫々設けられている。

一方、照射域移動台４Ｂの底には下面が磁性を有する材
料で作られた吸着＆１２４が支柱、を介して固定されて
おり、支柱はウェハホルダ４７と照射台４６の底部にあ
けられた開口を直ｌ酉し、まだ吸７ｉＩｆ版１２４は開
口中を移動し得る。１１μ射域移動台４８とウェハホル
ダ４７間の４磁力を消去した後、ピエゾ素子１２２ａに
連載するとピエゾ素子は伸長し、ソレノイド１２３ａの
頭部は吸着板１２４を押し上げるので、照射域移動台４
８はウェハホルダ４７から１００分の２．３ミｌＪメー
トル程度離間する。

この段階で、ソレノイド１２３ａを作動させて照射域移
動台４８を移動台８５に固定し、照射台４６を横移動レ
ール１２０．１２０に沿って規定電送れば、ウェハホル
ダ４７も照射台４６と伴に移動するから、照射域移動台
４８はウェハホルダ４７に対して移動したことＫなる。

・即ち照射域が変更されたわけである。

その債、ソレノイド１２３ａへの通献を停止し、次いで
ピエゾ素子１２２ａへの給電をやめれば、ピエゾ素子１
２２ａは収縮し、照射域移動台４８はウェハホルダ４７
上に接地する。

再び照射域移動台４８とウェハホルダ４７を吸着させれ
ば、第２のプリアライメント位置Ｇへの移動準備が終了
する。尚、もう−組のピエゾ素子１２２ｂとソレノイド
ｌ　２３ｂは照射台が２回目に回って来た時の照射域移
動に使用される。以後前述したのと同じ作業が繰り返さ
れる。即ち、マスクホルダ７０を不図示の第２の粗微動
装置が把持してプリアライメント位１１Ｇに移動し、そ
の位置で移動台８５に果せられたウェハホルダ４７と合
体されてプリアライメントされ、ファインアライメント
の後、照射が行われる。

照射域の移動はウェハアンロード位ｌｆＨにおいても行
なわれる。第４図に示された１２５は照射域移動リフト
で、操作は前述したリフトと同様である。第２２図Ａに
おいてチャンバ７の１面に取付けられた軸１２６上には
積層されたピエゾ素子１２７とソレノイド１２８が債み
ＩＩＩ（ねて取付けられている。ピエゾ素子１２７の伸
長でソレノイド１２Ｂは吸着板１２４を押上げる。しか
る後車２２図Ｂに示す様に照射台４６とウェハホルダ４
７そして移動台８５を縦移動レール８６に沿って移動さ
せる。その結果、照射！ｒｌｌ　ｇ　ｌｌｌｂ台４８の
位１４をウェハホルダ４７に対して変位させることがで
負る。〃にソレノイド１２８、ピエゾ素子１２７への給
電を断ち、照射域移動台４８とウニノーホルダ４７との
結合を行なう。

前述の実施例では循環路に沿って配置された照射チャン
バ５ａと５ｂはそれぞれ固有のＸ線管を具備していたが
、１つのＸ線管から複数の方向を照射し得る構成を備え
た照射チャンバに替えることもできる。

第２３図Ａ、Ｂに於いて、１１５′はターゲット、１１
６′・１１６′は電子銃である。電子銃１１６′・１１
６′を発した電子線はターゲラ）　１１５’に当り、軟
Ｘ線を発散する。１１４１と１１４“はＸ線発散角内に
配置されたソーラースリットで、その作用は前述と同様
である。但し、ソーラースリット１１４’。

１１４′の軸は傾斜しているから、照射台４６を内向き
に傾斜させた状態で走査する必要がある。

本例では中継レール８７．８７の内、内側のレールを中
心に全体を傾斜させられる傾斜台１３０を設け、照射台
４６が横移動レール４５から中継レール８７に乗り移っ
た処でこれらを傾ける。走査が終了すると再び水平状態
に戻して照射台４６が次の横移動レール１２０に乗務る
のを可能にす＆尚、残りのソーラースリット１１４′の
下を通る搬送路も同様の構成となっており、これらを収
容した照射チャンバをメインチャンバ１とサブチャンバ
６の間に連結すれば転写装置を構成することができる。

又、第１図に示す実施例では、メインチャンバ１とサブ
チャンバ６の間に１個づつ照射チャンバを配したが、各
々２個あるいはそれ以上並べて配置しても良い。この様
にすれば走査速度を速めることが可能であり、あるいは
仮にＸ線管の１本が故障しても、残りを使って照射工程
を続けることができる。

更にウニ八ロードカセット収納チャンバ２は外界に対し
てメインチャンバ１内の高真空を破らない為のみならず
、外界から搬入されるウェハ表面に吸蔵されていたガス
を十分に放出させるに十分な時間だけ待機させている。

しかしながら、ウェハが前工程のレジスト塗布装置から
、内部を真空に維持され慶大型管内を搬送されて来るの
であれば、チャンバ２は搬送管とメインチャンバ内の真
空度の相違を調定するために使用されるか、あるいは省
略され得る。

以上説明したとおり本発明のＸ線転写装置においては、
エネルギ発生源とマスクとの間にエネルギを導出させる
窓の様な部材か無いからマスクは極めて有効に照射され
、Ｘ線発生源の給電量を減少させあるいは照射時間を短
縮して高スループツトを達成することができる。

他方、本発明ではマスクがＸ線の平行束で照射されるか
ら、マスクとウェハを平行に維持した状態で照射する場
合でも平行度の設定は著しく緩和され、またマスクの中
心とＸ線発生源の軸との整合を不要にすることができる
。

マスクとウェハを一体に保持した状態で走査露光する場
合、複数のマスクを次々に送り込むことができる。特に
複数の照射系を並べて配置し、この照射系の下を順次走
査すれに、走査スピードを増加させ得るなどスループッ
トの向上に効果がある。

また複数の照射系を並べた場合、照射系の一方が故障し
ても、走査速度を低下させれば所定の照射量を与えるこ
とができるから、Ｘ線転写装置全体を停止させなくても
済む利点がある。

加うるに１枚のウェハを分割焼付をするから、ウェハの
プロセス歪の悪影響を受け難くなり、またマスクが小型
で済みあるいはエネルギ発生源を小型化し得る効果があ
る。

尚、上述の実施例ではメインチャンバに搬入される前に
、マスクおよびウェハはカセット収納チーＶンバの真空
中に電相放置されるから、マスクおよびウェハの吸蔵ガ
スはこのチャンバ内で放出され、従ってメインチャンバ
の真空度が乱されることはない。また、マスクと照射系
のターゲットとの間にはソーラースリットを有する隔壁
が配され、ソーラースリットの開口は極めて微細である
から、ターゲット附近で生じたガスがマスク側に悪影響
を与えることはない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従って構成されたＸ線転写装置の平
面図、 第２図は、第１図のＩ−■線に沿った図、第６図は、第
１図のト１線に沿った図、第４図は第１図の■−■線に
沿った図、第５図はマスクの平面図、 第６図はマスクとウェハを重ねた状態を示した図、 第７図はウェハ搬入装置の概略図、 Ｍ８図はウェハハンドの概略図、 第９図はウェハの平行平面出し機構を説明するための図
、 第１０図はウェハ搬出装置の概略図。 第１１図はウェハのアンロードを説明するための図、 第１２図は移動台および照射台を説明するための図、 第１６図は粗微動装置の斜視図、 第１４図は粗微動装置の詳細図、 第１５図は粗動機構の詳細図、 第１６図は粗微動調整を説明するための図、第１７図は
マスクホルダとウエハホルダヲ重ネ合せた状態を示した
図、 第１８図はプリアライメント用の光学顕微鏡の光学系の
概略図、 第１９図はプリアライメント用の光学顕微鏡でマスクと
ウェハのアライメントをしている状態を示した図、 第２０図はファインアライメント用電子顕微鏡の概略図
、 第２１図は照射域移動位置Ｆにおける照射域移動を説明
するための図、 第２２図ＡおよびＢはそれぞれ、照射域移動リフトによ
るウェハの照射域移動を説明するための図、 第２６図ＡおよびＢはそれぞれ、１つのＸ線源によって
複数のマスクを照射するための構成を示した図、 第２４図はＸ線の強度とエネルギとの関係を示した図で
ある。 １・・−メインチャンノく、２・・・ウェハロードカセ
ット収納チャンバ、６・・・ウェハアンロードカセット
収納チャンバ、４・・・マスクカセット収納チャンバ、
５ａ、ｓｂ−・・照射チャンバ、６・・−サブチャンバ
、１２＠・−ウェハ、１６・・−マスク。 出願人　キャノン株式会社 第５図 第ら図 兜／７図 ４＆Ｉ ・策Ｈ８図 第１ｑ図 第２０図 ×荊１１ネル’ｖ’ａωＶ）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）マスクおよび感応体にＸ線を照射することによっ
   て、マスクに形成されたパターンを感応体に転写するよ
   ５に構成されたＸ線転写装置であって、 マスクおよび感応体に照射すべきＸ線をだすＸ線源と、 前記Ｘ線源からでたＸ線をマスクおよび感応体に照射す
   るために、内部にマスクおよび感応体を収容する照射チ
   ャンバと、 真空状態でマスクおよび感応体にＸ１１Ｍを照射するた
   めに、前記照射チャンバの内部を排気するための排気手
   段と、 を有することを％徴とするＸ線転写装置。
2. （２）マスクおよび感応体にＸ線を照射することによっ
   て、マスクに形成されたパターンを感応体に転写するよ
   ５に構成されたＸ線転写装置であって、 マスクおよび感応体に照射すべきｘ５をだすＸ線源と、 前記Ｘ線源からでたＸ線をマスクおよび感応に 体に照射するために、内部マスクおよび感応体へ を収容する照射チャンバと、 真空状態でマスクおよび感応体にＸ線を照射するために
   、前記照射チャンバの内部を排気するための排気手段と
   、 を有することを特徴とするＸ線転写装置。
3. （３）Ｘ線のひろがりを制限するための前記手段は１ｘ
   ５束の形状を平行になるように制限すること・を特徴と
   する特許請求の範囲第２項記載のＸ線転写装置。
4. （４）マスクおよび感応体ＫＸ線を照射することによっ
   て、マスクに形成されたパターンを感応体に転写するよ
   ５に構成されたＸ線転写装置であって、 マスクおよび感応体に照射すべきＸ線をだすＸ線源と、 前記Ｘ線源からでたＸ線をマスクおよび感応体に照射す
   るために、内部にマスクおよび感応体を収容する照射チ
   ャンバと、 マスクおよび感応体を照射するＸ＋１ｉ１のひろがりを
   制限するための手段と、 マスクを感応体の一部分に重ね合わせた状態に保持する
   ための手段と） 真空状態でマスクおよび感応体にＸ線を照射するために
   、前記照射チャンバの内部を排気するための排気手段と
   、 を有することを特徴とするＸ線転写装置η。
5. （５）マスクおよび感応体にＸ線を照射することによっ
   て、マスクに形成されたパターンを感応体に転写するよ
   うに構成されたＸ線転写装置であらて、 マスクおよび感応体に照射すべきＸ線をだすＸ線源と、 前記Ｘ線源からでたＸ線をマスクおよび感応体に照射す
   るために、内部にマスクおよび感応体を収容する照射チ
   ャンバと、 マスクおよび感応体を照射するＸ線のひろがりを制限す
   るための手段と、 マスクを感応体の一部分に重ね合わせた状態に保持する
   ための手段と、 真空状態でマスクおよび感応体°にＸ線を照射するため
   に、前記照射チャンバの内部を排気するための排気手段
   と、 マスクおよび感応体にＸ線を照射させた状態でマスクお
   よび感応体の被照射区域を変えるための手段と、 を有することを特徴とするＸ線転写装置〇